JP2000040660A - 光リソグラフィ装置及び方法 - Google Patents

光リソグラフィ装置及び方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 フォトマスクを使用せずに光パターンを与え
る光リソグラフィーシステムを提供する。 【解決手段】 直接書込システムが、コンピュータ制御
の空間光変調器を使用して、予め設定した光パターンを
基材（例えばウエハ）表面に供給する。画像パターンは
コンピュータに格納され、空間光変調器の画素の電子制
御を介して直接ウエハを照射し、ポリマーアレイの一部
を定める。例えば微小鏡アレイを空間光変調器として使
用した直接書き込みシステムでは、微小鏡アレイの各画
素の角度を適切な強度の光線を反射したり反射しないよ
うにするためにコンピュータ制御することによって、各
光リソグラフィーステップにおいて基材上の個々のフィ
ーチャーの結像（焼付）がフォトマスクを使用せずに行
われる。空間光変調器を含む直接書込システムは、ポリ
マーアレイ合成（例えばＤＮＡアレイ合成）におけるフ
ィーチャー脱保護に特に有用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光リソグラフィー
に関し、さらに詳細には直接書き込み光リソグラフィー
に関する。
【０００２】
【従来の技術】ジーンチップ（Gene Chip （登録商
標））プローブアレイ（Affymetrix, Inc., Santa Clar
a, CA）などのポリマーアレイは、光誘導法を用いて合
成することができ、この方法は例えば、米国特許第５，
１４３，８５４号、第５，４２４，１８６号、第５，５
１０，２７０号、第５，８００，９９２号、第５，４４
５，９３４号、第５，７４４，３０５号、第５，３８
４，２６１号、および第５，６７７，１９５号、および
ＰＣＴ特許出願ＷＯ９５／１１９９５号に記載されてお
り、これらの記載内容全体を本明細書に引用する。一例
を挙げると、オリゴヌクレオチドの光誘導合成には、
５’末端保護ヌクレオシドホスホロアミダイト「部分構
造」を使用する。５’末端の保護基は、感光性または酸
反応性のいずれでもよい。予め定めた領域の複数のポリ
マー配列を、保護基の除去（保護基の選択的除去）と連
結のサイクルを繰り返すことで合成する。連結（すなわ
ち、ヌクレオチドまたはモノマーの付加）は、保護基が
外された部位のみに起こる。光誘導合成には３つの方法
がある。感光性保護基と直接的光保護基除去（ＤＰＤ）
の使用、酸反応性４，４’−ジメトキシトリチル（ＤＭ
Ｔ）保護基およびフォトレジストの使用、ＤＭＴ保護基
と光酸発生物質（ＰＡＧ）含有ポリマーフィルムの使
用、の３つである。
【０００３】これらの方法は、半導体集積回路に使用さ
れるものと同様の数多くの製造ステップを有する。また
これらの方法は、予め規定したポリマーアレイ合成のた
めに使用する光が、基材のある領域に到達し他の領域に
は到達しないようにする画像パターンを有するフォトマ
スク（マスク）の使用も含む。基材は、非多孔性、硬
質、半硬質、等であってもよい。基材は、ウェル、溝、
平らな表面、等に成形することができる。基材には、シ
リコン、ガラス、石英ガラス、石英などのシリカ含有基
材、およびポリアクリルアミド、ポリスチレン、ポリカ
ーボネート、等のなどのプラスチックおよびポリマーな
ど、の固体を含むことができる。通常は、固体基材は、
ウエハと呼ばれ、これより個々のチップが作られる（前
述の本明細書に引用の米国特許を参照にされたい）。従
って、マスク上に形成されたパターンをウエハ上に投影
することで、ウエハのどの位置で保護基を除去してどの
位置で保護したままとするかを定める。例えば、米国特
許第５，５９３，８３９号および第５，５７１，６３９
号を参照にされたい。これらの記載内容全体を本明細書
に引用する。
【０００４】核酸アレイの合成におけるリソグラフィー
的または光化学的段階は、フォトマスクを使用した密着
焼付法(contact printing)または近接焼付法(proximity
printing)により行うことができる。例えば、エマルジ
ョンまたはクロム処理ガラスマスクを、ウエハと接触さ
せて置くか、またはウエハと接触しそうな位置に置き、
次にウエハに適当な波長を有する光をマスクを通して照
射する。しかしながら、マスクの作製および使用は高価
となることがあり、破損したり紛失したりすることがあ
る。
【０００５】多くの場合、特定の予め設定した画像パタ
ーンを有するいろいろなマスクがそれぞれ別々のフォト
マスク段階で使用され、多くのチップを含むウエハの合
成には、異なる画像パターンの複数のフォトマスク段階
が必要となる。例えば、２０量体のアレイの合成には、
ほぼ７０の光リソグラフィー段階と関連する特有のフォ
トマスクが必要である。
【０００６】従って、現在の光リソグラフィーシステム
および方法の使用には、複数の異なる画像パターンマス
クを予め作製し、フォトマスク段階ごとに光リソグラフ
ィーシステム内で交換する必要がある。この複数の異な
るパターンマスクのため、準備時間が必要となり、また
光リソグラフィーシステムおよび方法が複雑かつ非効率
的となる。さらに、マスクを使用する密着焼付は、ウエ
ハ上に欠陥を引き起こすことがあり、これによって反応
部位の一部に欠陥が生じる。従って、このようなマスク
を必要とせずこれらの困難をなくすことのできる光リソ
グラフィーシステムおよび方法が概して有用であり、よ
り効率的で簡略化されたリソグラフィー処理を提供する
ことになる。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前述を考慮すると、本発
明の優位点の一つは、改良され簡略化された光リソグラ
フィシステムおよび方法を提供することである。
【０００８】本発明の別の優位点は、コンピュータと再
設定可能な光変調器を使用して画像を動的に作成する光
リソグラフィーシステムおよび方法を提供することであ
る。
【０００９】本発明のさらに別の優位点は、フォトマス
クを使用しない光リソグラフィーシステムおよび方法を
提供することである。
【００１０】本発明のさらに別の優位点は、ポリマーア
レイの各領域の脱保護（ディプロテクト）のために、コ
ンピュータで生成した電子制御信号および空間光変調器
を使用して、フォトマスクを使用せずに、予め設定した
光パターンを基材表面に照射する光リソグラフィーシス
テムおよび方法を提供することである。
【００１１】本発明の第一の側面によれば、ポリマーア
レイ合成は、フォトマスクを使用しないシステムを用い
て行われる。
【００１２】本発明の第二の側面によれば、ポリマーア
レイ合成は、透過型空間光変調器を使用するがレンズお
よびフォトマスクは使用しないシステムを用いて行われ
る。
【００１３】本発明のもう一つの側面によれば、直接書
き込みシステム(Direct Write System) が、基材（例え
ばウエハ）表面に形成されるべき画像パターンを発す
る。この画像パターンはコンピュータに格納される。直
接書き込みシステムは、画像パターンから生成される光
パターンを、光誘導ポリマー合成（例えば、オリゴヌク
レオチド）のための基材表面に投影する。この光パター
ンは、フォトマスク上のパターンで定められるのではな
く、コンピュータによって制御された空間光変調器によ
って生成される。従って、直接書き込みシステムにおい
ては、各画素は適当な強度の光線によって照射され、基
材上への個々のフィーチャーの結像（焼付）は、コンピ
ュータ制御によって動的に決定される。
【００１４】本発明のさらに別の側面によれば、ポリマ
ーアレイ合成は、空間光変調器として知られる機器を使
用して、脱保護しようとするポリマーアレイの画像パタ
ーンを定めることによって行われる。
【００１５】本発明のさらに別の側面では、空間光変調
器を使用してポリマーアレイを合成する方法と、ここで
教示する方法を使用して合成したポリマーアレイが提供
される。
【００１６】当業者であれば理解できるように、本発明
は、一般的には光リソグラフィーに関し、特に光リソグ
ラフィ・プロセスを使用したポリマーアレイ合成のため
の光学リソグラフィーに関する。しかしながら本発明
は、本来的に、光リソグラフィーにおいてフォトマスク
を不必要化するために一般に適用可能なものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明では、有用な補助的情報を
含む物品および特許を参照している。これら参考資料の
記載内容全体を、本明細書に引用する。
【００１８】好ましい本発明は、直接書き込み光リソグ
ラフィーシステムが、光リソグラフィー工程中に予め設
定した画像パターンを動的に交換することができるマス
ク不要の光リソグラフィーシステムおよび方法を用いる
ことで、ポリマーアレイ合成の費用、品質、および効率
を顕著に改良できる、という原則に基づいている。よっ
て、本発明は、フォトマスクを使用せずに意図する画像
パターンを動的に交換する手段を含む光リソグラフィー
システムを提供する。このような手段の一つとして、コ
ンピュータにより電子制御され、ポリマーアレイ合成の
各光リソグラフィー段階において予め設定した固有の画
像パターンを作成する空間光変調器が含まれる。空間光
変調器は、例えば、微細機械加工による機械的変調器や
超小型電子素子（例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ））であってもよい。このような空間光変調器を使用
した本発明の直接書き込みシステムは、ポリペプチド、
炭水化物、および核酸のアレイなどのポリマーアレイの
合成において特に有用である。通常、核酸アレイには、
ガラスに付着させたポリヌクレオチドまたはオリゴヌク
レオチド、例えば、デオキシリボ核酸（ＤＮＡ）アレ
イ、が含まれる。
【００１９】本発明のいくつかの好ましい実施例は、微
小機械加工による機械的変調器を使用して、ポリマーが
合成される基材上の予め設定した領域（すなわち、フォ
トリソグラフィー工程前に予め定めた基材上の既知の領
域）に光を照射することを含む。基材の予め設定した領
域と、これと関連する、例えば、微小機械加工による機
械的変調器の一区分（すなわち、微小鏡アレイ）とを、
本明細書ではフィーチャー（feature）と呼ぶ。予め設
定した各領域、すなわちフィーチャーにおいて、例え
ば、特定のオリゴヌクレオチド配列が合成される。機械
的変調器は、種々のタイプのものが販売されているが、
そのうちの２種類について以下に少し詳細に述べる。
【００２０】機械的変調器の種類の１つには、微小鏡ア
レイがあり、これは小さな金属製鏡を使用して光線を選
択的に特定の個々のフィーチャーに反射し、これによっ
て各フィーチャーが光源からの光を選択的に受ける（す
なわち、各フィーチャーがオンおよびオフの状態にな
る）。一例として、テキサス・インストルメンツ社（Te
xas Instruments, Inc., Dallas, Texas, USA）製のプ
ログラム可能な微小鏡アレイのデジタル・マイクロミラ
ー・デバイス（ＤＭＤＴＭ）が挙げられる。テキサス・
インストルメンツ社は、主として投影式ディスプレイ
（例えば、大型スクリーンビデオ）アレイを販売してお
り、これはアレイの画像を非常に拡大して壁やスクリー
ンに投影するものである。しかしながら本発明は、適当
な光学系および適当な光源とともに、プログラム可能な
微小鏡アレイを、光リソグラフィー合成、特にポリマー
アレイ合成に使用することができる。
【００２１】テキサス・インストルメンツ社のＤＭＤ
ＴＭアレイは、６４０×４８０個の鏡（ＶＧＡ型）また
は８００×６００個の鏡（スーパーＶＧＡ（ＳＶＧＡ）
型）で構成される。より多くの鏡を有する装置は開発中
である。各鏡は、１６μｍ×１６μｍであり、鏡の間に
は１μｍの間隙がある。このアレイは、軸から２０度離
れた角度から照射されるように設計されている。各鏡
は、オン状態（一方向に１０度傾く）またはオフ状態
（別の方向に１０度傾く）となることができる。レンズ
（軸上）は、アレイを標的上に投影する。微小鏡がオン
状態になると、微小鏡によって反射した光はレンズを通
過して、微小鏡の像が明るく見える。微小鏡がオフ状態
になると、微小鏡によって反射した光はレンズから外れ
て、微小鏡の像は暗く見える。ソフトウェアによってア
レイを瞬間的に再編成することができる（すなわち、ア
レイ中の各微小鏡は、要望どおりにオン状態またはオフ
状態とすることができる）。
【００２２】微小鏡アレイ１を含み本発明の実施例によ
る空間光変調器を基礎とする光リソグラフィーシステム
を図１に示す。この実施例は、微小鏡アレイ１より作ら
れた空間光変調器、アーク燈３、予め設定した画像パタ
ーンをチップまたはウエハ（数多くのチップを含む）４
上に投影するためのレンズ２を含む。操作の際には、平
行にして、フィルターに通し、均質にしたランプ３から
の光５が、微小鏡アレイ１内の動的にオン状態となった
微小鏡によって光線６のように選択的に反射され、レン
ズ２を透過して、反射光線８となってチップまたはウエ
ハ４上に達する。オフ状態の微小鏡からの反射光７は、
レンズ２から離れた方向に反射され、このためこれらの
領域はレンズ２およびチップまたはウエハ４からは暗く
見える。したがって、空間光変調器である微小鏡アレイ
１は、反射光（６または７）の方向を変えることで、チ
ップまたはウエハ４上に投影される予め設定した光画像
８を定める。反射光の方向は、各画素から各フィーチャ
ーに伝達する光の強度によって変化する。基本的に、空
間光変調器は、方向および強度変調器として作動する。
【００２３】微小鏡アレイ１は、例えば、テキサス・イ
ンストルメンツ（ＴＩ）社のＤＭＤ、特に、ＴＩ社製
「ＳＶＧＡ ＤＬＰＴＭ」サブシステムにより提供する
ことができる。テキサス・インストルメンツ社の「ＳＶ
ＧＡ ＤＬＰＴＭ」サブシステムに光学系を備え付けた
ものを、本発明における使用のために改良することがで
きる。テキサス・インストルメンツ社の「ＳＶＧＡ Ｄ
ＬＰＴＭ」サブシステムは、微小鏡アレイ（図１に示さ
れる微小鏡アレイ１）、光源、カラーフィルターホイー
ル、投影レンズ、アレイを駆動させコンピュータと接続
する電子機器を含む。カラーフィルターホイールは、例
えば、通過帯域が３６５〜４１０ｎｍの帯域フィルター
で置きかえられる（波長は工程で使用するために選択し
た光化学物質に依存する）。さらに波長、例えば４００
〜４１０ｎｍで輝度を上げるために、光源をアーク燈３
と適当な均一化および平行化光学系に交換することがで
きる。装置に含まれるレンズは、非常に大きな共役比で
の使用を意図しており、望ましい拡大率でチップまたは
ウエハ４上に微小鏡アレイ１が投影されるために、適当
なレンズ２またはレンズの組と交換される。適当なレン
ズおよび帯域フィルタは、特に、システムおよび工程で
使用される、チップ上に形成されるために必要な画像サ
イズ、空間光変調器の種類、光源の種類、およびフォト
レジストおよび光化学物質の種類に依存する。
【００２４】対称レンズ系（例えば、Ａ−Ｂ−Ｃ−Ｃ−
Ｂ−Ａ型にレンズが配置）を１：１の拡大率（目的物サ
イズが画像サイズと同一）で使用することが望ましく、
その理由はある種の収差（歪み、横方向の色、コマ）が
対称性によって最小限に押さえることができるからであ
る。さらに対称レンズ系は、同数の表面を有する非対象
系の半分の数の変数しかないため、比較的簡単なレンズ
設計となる。しかしながら、１：１の拡大率では、可能
と思われる最大チップサイズが、ＶＧＡ装置で１０．８
８ｍｍ×８．１６ｍｍ、またＳＶＧＡ装置で１０．２ｍ
ｍ×１３．６ｍｍである。例えば、標準的ジーンチップ
（登録商標）の１２．８ｍｍ×１２．８ｍｍチップで
は、非対称光学系（例えば、ＳＶＧＡ装置を使用して拡
大率約１．２５：１）、または鏡のサイズが一定の場合
でより大きな微小鏡アレイ（例えば、１０２８×７６８
個の鏡）が使用される。基本的に、レンズの拡大率は１
より大きくも小さくもすることができ、これはチップに
要求されるサイズに依存する。
【００２５】本発明のある種の用途では、比較的簡単な
レンズ系、例えば、色消しレンズまたはカメラレンズの
連続したもののようなものであれば十分である。本発明
のいくつかの用途に特に有用なレンズには、Rodenstock
（Rockford, IL）Apo-Rodagon Dがある。このレンズ
は、１：１の投影に最適化されており、約１．３：１ま
での拡大率で良好な性能を示す。同様のレンズが、他の
製造元より入手可能である。このようなレンズを使用す
る場合には、エアリーの円板の直径または錯乱円の直径
のいずれかがかなり大きくなる（おそらく１０μｍ以
上）。Modern Optical Engineering, 2d Edition, Smit
h, W.J., ed., McGraw-Hill, Inc., New York（１９９
０）を参照にされたい。より高品質の合成のためには、
フィーチャーサイズは、エアリーの円板または錯乱円の
数倍大きくなる。従って、１２．８ｍｍ×１２．８ｍｍ
の視野を有し解像度約１〜２μｍである注文製作のレン
ズが特に望ましい。
【００２６】ＤＭＴ法とフォトレジストを使用したプロ
グラム可能な微小鏡アレイを用いたポリマーアレイ合成
の好ましい実施例について以下に説明する。まず、コン
ピュータファイルを作成し、特定の予め設定した画像パ
ターン作成のために、微小鏡アレイ１中のどの鏡がオン
状態になるべきでどれがオフ状態となるべきかを、各光
リソグラフィー段階について指定する。次に、４の作製
される各チップまたはウエハの合成を行う面上にフォト
レジストをコーティングして、光リソグラフィー装置上
のホルダーまたはフローセル（図には示していない）に
搭載し、合成を行う面が微小鏡アレイ１の画像が形成さ
れる面内に位置するようにする。フォトレジストは、ポ
ジティブ型またはネガティブ型のどちらでも良く、従っ
て、それぞれ、光にさらされる位置で保護基が除去され
るか、または光にさらされない位置で保護基が除去され
ることになる（フォトレジストの例には、ネガティブ色
調ＳＵ−８エポキシ樹脂（シェル・ケミカル（Shell Ch
emical））、および前述の特許および米国特許出願番号
第０８／６３４，０５３号記載のものが挙げられる）。
チップまたはウエハの位置合わせおよび焦点合わせのた
めの機構として、ｘ−ｙ並進ステージなどが備えられて
いる。次に、微小鏡アレイ１を、要求する予め設定した
画像パターンによる適切な配置となるようにプログラム
して、アーク燈３のシャッターを開き、チップまたはウ
エハ４を要求される時間の間照射し、それからシャッタ
ーを閉じる。ウエハ（チップではなく）が合成される場
合は、ステッピングモーターで駆動する並進ステージに
よって、チップ間に要求される中心間距離に等しい距離
だけウエハを移動させ、アーク燈３のシャッターの開閉
を再び行い、これら二つの段階をウエハの各チップに光
が照射されるまで繰り返す。
【００２７】次に、フォトレジストを現像してエッチン
グを行う。次に、ウエハ４を酸にさらし、フォトレジス
トが除去されたウエハ領域からＤＭＴ保護基を切断す
る。次いで、残りのフォトレジストを取り除く。次に、
要望する塩基（アデニン（Ａ）、シトシン（Ｃ）、グア
ニン（Ｇ）、チミン（Ｔ））を含みＤＭＴで保護したヌ
クレオチドを、保護基を除去したオリゴヌクレオチドと
結合させる。
【００２８】引き続き、チップまたはウエハ４に、再び
フォトレジストをコーティングする。フォトレジストを
コーティングしたチップまたはウエハ４をホルダーに搭
載することから、再びチップまたはウエハ４にフォトレ
ジストをコーティングすることまでを、ポリマーアレイ
合成が終了するまで繰り返す。
【００２９】例えば、１−（６−ニトロ−１，３−ベン
ゾジオキソル−５−イル）エチルオキシカルボニル（Ｍ
ｅＮＰＯＣ）の性質を利用したＤＰＤ法の場合、または
光酸発生物質を含むポリマーフィルムを使用したＰＡＧ
法をポリマーアレイ合成に使用した場合には無意味であ
って、フォトレジストは使用されず、工程が多少簡略化
される。しかしながら、空間光変調器を備えた直接書き
込み光リソグラフィーシステムを使用すれば、ＤＰＤ法
およびＰＡＧ法を使用しフォトレジストは使用しない反
応部位の保護基除去工程の実施にも適用できる。
【００３０】前述のポリマーアレイ合成方法から明らか
なように、フォトマスクは必要としない。このため、光
リソグラフィーシステムにおけるマスクの交換に伴う工
程時間の短縮、およびマスクの費用およびマスクの使用
に伴う工程の不良をなくすことによるポリマーアレイ合
成のための製造費用の削減によって工程が単純化され
る。さらに、リソグラフィーシステムプログラムを別の
ものに書き換えることによって新しいフォトマスクが作
成および点検できるため、この工程は改良された自由度
を有し、従って画像パターンコンピュータファイルをＣ
ＡＤまたは同様のシステムから光リソグラフィーシステ
ムに転送することや、ＣＡＤシステムから直接電子信号
を供給して動的に要求される光パターンを作成する光リ
ソグラフィーシステムの手段（例えば、空間光変調器）
を駆動させることができる。このように、光リソグラフ
ィーシステムは、従来のフォトマスクを主とした光リソ
グラフィーシステムよりも簡略化されより効率的であ
る。この光リソグラフィーシステムは、複雑な多段階光
リソグラフィー工程において特に有用であり、例えば７
０以上のサイクルを有するジーンチップ（登録商標）プ
ローブアレイのポリマーアレイ合成で、特に多種の生成
物が生成および修正される場合に有用である。
【００３１】前述のように、フォトレジストをコーティ
ングした基材を、本発明の好ましい実施例、例えばフォ
トレジストを伴うＤＭＴ法で使用する。ポリマーアレイ
製造のためのフォトレジストを使用する光リソグラフィ
ー法の使用については、McGall et al., Chemtech, pp.
22-32（Feb. 1997）、McGall et al., Proc, Natl.Aca
d. Sci., U.S.A., Vol. 93, pp. 13555-13560（Nov. 19
96）、および前述の種々の特許に記載されており、これ
らすべての記載内容全体を本明細書に引用する。別の方
法として、ポリマーアレイ製造工程は、例えばＰＡＧ法
の使用など通常のフォトレジストを用いずに光酸発生物
質を使用したり、または例えばＤＰＤ法の使用などあら
ゆるフォトレジストを使用しない直接保護基除去の使用
によって行うことができる。光酸発生物質の使用につい
ては、１９９７年１１月１３日出願の米国特許出願番号
第０８／９６９，２２７号において教示している。しか
しながら、本発明は、ポリマーアレイ合成のためにＤＭ
Ｔ法およびＰＡＧ法を使用した場合に特に有用となる。
【００３２】核酸アレイを合成する場合は、アレイを製
造するために使用される光化学的工程は、好ましくは波
長が３６５ｎｍを超える光を用いて活性化することで、
ポリマーアレイ生成に使用されるポリヌクレオチドの光
化学的分解を回避する。他のプローブの場合には他の波
長が望ましいこともある。ｏ−ニトロベンジル化合物を
主とした多くの光酸発生物質（ＰＡＧ）は３６５ｎｍが
有用である。さらに、前述のテキサス・インストルメン
ツ社製鏡アレイを使用した場合は、鏡アレイの損傷を回
避するためにＰＡＧの感受性が４００ｎｍを超えること
が好ましい。このためには、ｐ−ニトロベンジルエステ
ルを光増感剤と併せて使用することができる。例えば、
ｐ−ニトロベンジルトシレートと２−エチル−９，１０
−ジメトキシアントラセンを、４０５ｎｍで光化学的に
トルエンスルホン酸を生成するために使用することがで
きる。S.C. Busman and J.E. Trend, J. Imag. Techno
l.,1985, 11, 191; A. Nishida, T. Hamada, and O. Yo
memitsu, J. Org. Chem.,1988, 53, 3386、を参照にさ
れたい。このシステムでは、増感剤は光を吸収して、次
にこのエネルギーをｐ−ニトロベンジルトシレートに伝
達し、この結果解離が起こり、続いてトルエンスルホン
酸が放出される。ピレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルナフチルア
ミン、ペリレン、フェノチアジン、カントン、チオカン
トン、アクトフェノン（actophenine）、ベンゾフェノ
ンなどの他の波長の光を吸収する別の増感剤も有用であ
る。
【００３３】４３６ｎｍの光に敏感な種々のフォトレジ
ストが、ポリマーアレイ合成への使用のため入手可能で
あり、ポリヌクレオチドの光化学的分解を回避すること
ができる。
【００３４】本発明で使用できる第２の好ましい機械的
変調器は、シリコン・ライトマシンズ社（Silicon Ligh
tmachines, Sunnyvale, CA, USA）より入手可能な、グ
レーティング・ライト・バルブ（Grating Light Valve
ＴＭ）（ＧＬＶＴＭ）である。ＧＬＶＴＭは、反射また
は回折のいずれかが起こるようにプログラムすることが
できる微細機械加工された画素に基づくものである。本
明細書で検討した機械的変調器に関するある程度の情報
は、http://www.ti.com（テキサス・インストルメンツ
社）およびhttp://siliconlight.com（シリコン・ライ
トマシンズ社）より得られる。
【００３５】好ましい空間光変調器には、テキサス・イ
ンストルメンツ社より入手できるＤＭＤＴＭ、およびシ
リコン・ライトマシンズ社より入手できるＧＬＶＴＭの
機械的変調器が含まれるが、種々のタイプの空間光変調
器が存在し、これらを本発明の実施に使用することがで
きる。Electronic Engineers' Handbook, 3rd Ed., Fin
k, D.G. and Christiansen, D. Eds., Mcgraw Hill Boo
k Co., New York（１９８９）を参照にされたい。変形
可能膜鏡アレイは、オプトロン・システムズ社（Optron
Systems Inc.）（Bedford, MA）より入手可能である。
液晶空間光変調器は、ハママツ社（Bridgewater, N
J）、スペイシャライト社（Novato, CA）、その他より
入手可能である。しかしながら、当業者は、これらの装
置は種々の紫外（ＵＶ）光により損傷を受けやすいの
で、液晶空間光変調器が損傷を受けないように、適切な
光源、処理化学反応系の選択には注意しなければならな
い。液晶ディスプレイ（ＬＣＤ；例えば、計算機および
ノートブックコンピュータに含まれる）も、特に大きな
フィーチャーの合成するための光リソグラフィーに有用
な空間光変調器となる。しかしながら、ＬＣＤを使用し
てより小さいフィーチャーを合成するためには、縮小光
学系が必要となる。
【００３６】ある種の空間光変調器は、ＵＶ光を使用す
る場合には、テキサス・インストルメンツ社の装置より
も適しており、より広い範囲のフォトレジスト化学物質
とともに使用できる。当業者は、照射する波長と合成に
使用する化学物質と適合した空間変調器を選択できる。
例えば、テキサス・インストルメンツ社の装置ＤＭＤ
ＴＭは、微小鏡アレイがＵＶ光により損傷を受ける可能
性があるので、ＵＶ照射する場合には使用すべきではな
い。しかしながら、微小鏡アレイの不活性層を改良した
り除去したりすれば、テキサス・インストルメンツ社の
ＤＭＤＴＭをＵＶ光を用いた本発明に使用できる可能性
がある。
【００３７】高解像度が要求される場合に特に有用な実
施例には、図２に示されるタイプのシステムを使用した
微小鏡アレイによる結像が含まれる。このシステムで
は、レンズ１２は、微小鏡アレイ１１（例えば、ＤＭＤ
ＴＭまたはＧＬＶＴＭ）の像を、微小レンズアレイ１５
または非結像光集中器を有するアレイ１０上に投影す
る。アレイ１０の各素子は、チップまたはウエハ例えば
ジーンチップアレイ１４上に光を集束させる。各微小レ
ンズ１５は、微小鏡アレイ１１の１画素の画像を発生す
る。成形レンズ１７を含む光学系１６は、光源１３から
の光を微小鏡アレイ１１上に移動させるために含むこと
ができる。
【００３８】例えば、ＳＶＧＡ ＤＬＰＴＭ装置が１：
１の拡大率で微小レンズアレイ１０上に投影する場合、
適当な微小レンズアレイ１０は、８００×６００個のレ
ンズ（微小レンズ１５）が１７μｍの中心間距離で構成
することができる。別の方法では、微小レンズアレイ
は、４００×３００個の直径１７μｍのレンズが中心間
距離３４μｍの間隔で配列し、微小レンズ１５間には不
透明材料（例えば、クロム）で構成することもできる。
この別の方法の利点は、画素間のクロストークを減少さ
せることである。各微小レンズ１５に入射する光は、ス
ポットサイズを１〜２μｍに集束させることができる。
スポットサイズが微小レンズ間の間隔よりもずっと小さ
いため、チップまたはウエハ１４を全体を有効範囲とし
たい場合は、２軸並進ステージ（これらの実施例では、
少なくとも移動範囲が１７μｍ×１７μｍまたは３４μ
ｍ×３４μｍである）が必要である。
【００３９】微小レンズ１５は、回折性、屈折性、また
は混成（回折性で屈折性）であってもよい。屈折性微小
レンズは、従来型または屈折率分布型であってもよい。
回折性微小レンズアレイ１０の一部を図３に示し、フレ
ネルゾーンプレート２０として公知の円として形成され
た個々の微小レンズを有する。別の方法として、非結像
光集中器のアレイを使用することができる。この方法の
例として、小さな先端に先細りさせることができる光フ
ァイバーの短い断片が含まれる。
【００４０】さらに、一部の空間光変調器は、反射光よ
りも透過光を変調するように設計されている。透過型空
間光変調器の例は液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）であり、
別の実施例で図４に示している。この実施例は、光３５
を供給する光源３３、透過型空間光変調器３１および、
電子制御信号をケーブル４０を通して透過型空間光変調
器３１に送りチップまたはウエハ３４上の要求通りの光
画像３８を伝達するコンピュータ３９を備える。コンピ
ュータ３９は、例えば、独自のプログラムが可能な制御
装置、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、または要求す
る画像パターンを設計するために使用するＣＡＤシステ
ムを使用することができる。
【００４１】透過型空間光変調器の使用は、通常の光リ
ソグラフィーシステムに対してさらなる利点を有する。
反射型空間光変調器は、レンズが入射光をさえぎらない
ようにするため、変調器とレンズの間に大きな作動距離
が必要である。大きな作動距離を有する高性能レンズの
設計は、作動距離の制限のない同性能のレンズの設計よ
りも困難となる。透過型空間光変調器を使用する場合
は、作動距離を長くする必要がないので、設計がより簡
単となる。実際に、図４に示されるように、ある種の透
過型空間光変調器３１は、変調器をチップまたはウエハ
３４の非常に近くに設置することで、全くレンズを使用
せずに行う近接または密着焼付に有用となりうる。
【００４２】実際は、図４の実施例における透過型空間
光変調器は、適当な波長の光を放出するＬＥＤアレイま
たは半導体レーザーアレイに置きかえることが可能であ
り、どちらも動的に要求する画像を定めるために操作で
きるだけでなく、分離型光源として作用することができ
る。従って、変更を行えば、この実施例は、分離型光源
を必要としないために簡略化することができる。
【００４３】本明細書の引用文献ではポリマーアレイ合
成について検討したが、当業者であれば、本発明が、特
に微細加工およびカスタム半導体チップ製造を含む種々
の用途に有することが理解できることと思う。しかしな
がら、本発明におけるある種の空間光変調器の使用は、
シリコンの微細加工やカスタム半導体チップ製造用途に
有用な形状の種類を限定する結果となることもある。本
明細書における実例および実施例は、ただ説明を目的と
したものであって、これらを考慮に入れた種々の修正や
変更は当業者であれば提案されるものであり、これらも
本明細書および添付した請求の範囲の精神および範囲内
に含まれる。
【００４４】本明細書で引用したすべての出版物、特許
および特許出願書類については、その記載内容全体を本
明細書に引用する。特許出願番号第０８／４２６，２０
２号（１９９５年４月２１日出願）は本発明と関連して
おり、この記載内容全体を本明細書に引用する。
【図面の簡単な説明】
【図１】光源、微小鏡アレイなどの反射型空間光変調
器、およびレンズを有する本発明の第１の実施例を示し
た図である。
【図２】例えば微小レンズアレイなどを使用した本発明
の第２の実施例を示した線図である。
【図３】本発明で使用することができる、フレネルゾー
ンプレートの形態のマイクロレンズアレイを示した図で
ある。
【図４】透過型空間光変調器を有する本発明の第３の実
施例を示した図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デイヴィッド スターン アメリカ合衆国 94043 カリフォルニア 州 マウンテン ヴュー ナンバー１ モ ンテチート アヴェニュー 1912

Claims (24)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 保護された反応部位を有する基材を用意
    するステップと、前記保護された反応部位のうち選択さ
    れた部分を脱保護するよう使用する、予め設定された光
    パターンを発生させるべく、空間光変調器を用いて光の
    方向を変調するステップとから成る、基材上の反応部位
    を脱保護する方法。
  2. 【請求項２】 光源からの光を前記空間光変調器に向け
    るステップをさらに含む、請求項１の方法。
  3. 【請求項３】 保護された反応部位を有する基材を用意
    するステップと、光源を用意するステップと、空間光変
    調器を用意するステップと、前記光源が発光したとき前
    記光源からの照明強度が前記空間光変調器によって変調
    されて予め設定された光画像パターンを発生するよう
    に、前記基材と前記光源と前記空間光変調器との方向を
    合わせるステップと、前記保護された反応部位の少なく
    とも１つが脱保護されるよう前記基材において前記予め
    設定された光画像パターンを前記基材に照射するステッ
    プとから成る、基材上の反応部位を脱保護する方法。
  4. 【請求項４】 前記予め設定された光パターンをレンズ
    を用いて前記基材上に投影するステップをさらに含む、
    請求項２又は３の方法。
  5. 【請求項５】 前記予め設定された光パターンを前記レ
    ンズから微小レンズアレイを通して送るステップをさら
    に含む、請求項４の方法。
  6. 【請求項６】 前記予め設定された光パターンを非結像
    光コンセントレイターのアレイを通して伝達させるステ
    ップをさらに含む、請求項４の方法。
  7. 【請求項７】 前記基材を並進ステージを用いて移動さ
    せるステップをさらに含む、請求項５の方法。
  8. 【請求項８】 前記空間光変調器が微小鏡アレイであ
    る、請求項２又は３の方法。
  9. 【請求項９】 前記空間光変調器がＤＭＤＴＭである、
    請求項８の方法。
  10. 【請求項１０】 前記空間光変調器がＧＬＶＴＭであ
    る、請求項２または３の方法。
  11. 【請求項１１】 前記空間光変調器がＳＶＧＡ ＤＬＰ
    ＴＭである、請求項５の方法。
  12. 【請求項１２】 前記空間変調器のどの部分が前記保護
    された反応部位のどの部分を有効に照射するかを各光リ
    ソグラフィーステップ毎に規定したコンピュータファイ
    ルを作成するステップをさらに含む、請求項１又は３の
    方法。
  13. 【請求項１３】 前記コンピュータファイルに含まれる
    情報を用いて、前記空間光変調器を要求される配置にプ
    ログラムするステップをさらに含む、請求項１２の方
    法。
  14. 【請求項１４】 光源と、基材取り付け部と、フォトマ
    スクを使用せずに前記光源からのパターン化されていな
    い光を用いて動的に光パターンを定める手段とから本質
    的に構成される光リソグラフィーシステム。
  15. 【請求項１５】 前記動的に光パターンを定める手段
    が、光の方向または光の強度を変調して予め設定した光
    の像を発生する空間光変調器モジュールを含む、請求項
    １４に記載の光リソグラフィーシステム。
  16. 【請求項１６】 フォトマスクやホログラフィー画像を
    使用せずに予め設定した二次元光パターンを基材上に供
    給する空間光変調器を含む光リソグラフィーシステム。
  17. 【請求項１７】 前記予め設定した二次元光パターンを
    ポリマーアレイの反応部位の保護を除去するために使用
    する、請求項１６に記載の光リソグラフィーシステム。
  18. 【請求項１８】 光源をさらに含む、請求項１７に記載
    の光リソグラフィーシステム。
  19. 【請求項１９】 前記空間光変調器が微小鏡アレイを含
    み、前記微小鏡アレイ中の微小鏡の角位置を変化させる
    ことで光を変調させる、請求項１５または１６に記載の
    光リソグラフィーシステム。
  20. 【請求項２０】 前記空間光変調器がＤＭＤＴＭであ
    る、請求項１５または１６に記載の光リソグラフィーシ
    ステム。
  21. 【請求項２１】 前記空間光変調器がＧＬＶＴＭであ
    る、請求項１５または１６に記載の光リソグラフィーシ
    ステム。
  22. 【請求項２２】 前記空間光変調器がＳＶＧＡ ＤＬＰ
    ＴＭである、請求項１５または１６に記載の光リソグラ
    フィーシステム。
  23. 【請求項２３】 前記光源がアーク燈を含む、請求項１
    ４または１８に記載の光リソグラフィーシステム。
  24. 【請求項２４】 前記微小鏡アレイが複数の微小鏡を含
    み、前記基材に向けた光の鏡面反射（オン状態）を使用
    して前記微小鏡のそれぞれが選択的に一つの基材上のフ
    ィーチャーを照射し、前記基材から外れた方向への光の
    鏡面反射（オフ状態）により前記一つのフィーチャーを
    選択的に照射しない、請求項１９に記載の光リソグラフ
    ィーシステム。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004017069A1 (ja) * 2002-08-16 2004-02-26 Kabushiki Kaisha Hayashi Soken バイオチップ分析装置およびオンライン分析システム
JP2006513442A (ja) * 2003-01-02 2006-04-20 マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット 微小電気機械素子と共に使用される高エネルギー、低エネルギー密度の放射抵抗光学素子
JP2006519494A (ja) * 2003-02-28 2006-08-24 マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット Ｓｌｍ直接書き込み装置
JP2007500366A (ja) * 2003-07-29 2007-01-11 コダック グラフィック コミュニケーションズ カナダ カンパニー 不均一な光弁
JP2010109220A (ja) * 2008-10-31 2010-05-13 Nikon Corp マスクレス露光装置およびマスクレス露光方法
JP2011054960A (ja) * 2009-08-19 2011-03-17 Lawrence Livermore National Security Llc ダイオードレーザポンプアレイを均一化する方法及びシステム
WO2011058721A1 (ja) * 2009-11-13 2011-05-19 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 細胞接着性光制御基材，細胞の解析分別方法及び細胞の解析分別装置
JP2011522289A (ja) * 2008-05-30 2011-07-28 コーニング インコーポレイテッド マスクレスリソグラフィ用パターニングシステムの集束スポット寸法整定のための照明システム
US9331452B2 (en) 2009-08-19 2016-05-03 Lawrence Livermore National Security, Llc Method and system for homogenizing diode laser pump arrays
JP2017129888A (ja) * 2012-01-18 2017-07-27 株式会社ニコン 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法

Families Citing this family (97)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6558979B2 (en) 1996-05-21 2003-05-06 Micron Technology, Inc. Use of palladium in IC manufacturing with conductive polymer bump
US20040035690A1 (en) * 1998-02-11 2004-02-26 The Regents Of The University Of Michigan Method and apparatus for chemical and biochemical reactions using photo-generated reagents
DE69909972T2 (de) * 1998-02-11 2004-05-13 University Of Houston, Houston Vorrichtung zur durchführung chemischer und biochemischer reaktionen unter anwendung von photoerzeugten reagenzien
DE69942272D1 (de) 1998-02-23 2010-06-02 Wisconsin Alumni Res Found Deranordnungen
US6271957B1 (en) * 1998-05-29 2001-08-07 Affymetrix, Inc. Methods involving direct write optical lithography
WO1999063385A1 (en) * 1998-06-04 1999-12-09 Board Of Regents, The University Of Texas System Digital optical chemistry micromirror imager
JP2002523781A (ja) 1998-08-28 2002-07-30 フェビット フェラリウス バイオテクノロジー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 生化学的反応支持体の製造および／または製造のための方法および装置
EP1180111A4 (en) * 1999-02-10 2003-03-26 Macrogen Inc METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING CONNECTION LIBRARIES BY MEANS OF OPTICAL MODULATOR
US7144700B1 (en) * 1999-07-23 2006-12-05 Affymetrix, Inc. Photolithographic solid-phase polymer synthesis
US6713309B1 (en) 1999-07-30 2004-03-30 Large Scale Proteomics Corporation Microarrays and their manufacture
US6653151B2 (en) 1999-07-30 2003-11-25 Large Scale Proteomics Corporation Dry deposition of materials for microarrays using matrix displacement
DE19962803A1 (de) * 1999-12-23 2001-07-05 Basf Ag Verfahren und Vorrichtung zur maskenfreien Herstellung von Biopolymeren
US7019376B2 (en) * 2000-08-11 2006-03-28 Reflectivity, Inc Micromirror array device with a small pitch size
DE10051396A1 (de) * 2000-10-17 2002-04-18 Febit Ferrarius Biotech Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur integrierten Synthese und Analytbestimmung an einem Träger
US20020075490A1 (en) * 2000-12-20 2002-06-20 Affymetrix, Inc. System and method for addressable light-directed microarray printing
EP2295971B1 (en) * 2001-03-09 2016-09-07 TrovaGene, Inc. Conjugate probes and optical detection of analytes
DE20106887U1 (de) * 2001-04-20 2001-09-06 Envision Technologies Gmbh Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts
US20020160427A1 (en) * 2001-04-27 2002-10-31 Febit Ag Methods and apparatuses for electronic determination of analytes
US6703235B2 (en) * 2001-06-25 2004-03-09 Board Of Regents, The University Of Texas System Complex multicellular assemblies ex vivo
US10272409B2 (en) 2001-07-11 2019-04-30 Michael E. Hogan Methods and devices based upon a novel form of nucleic acid duplex on a surface
EP1417337B1 (en) * 2001-07-11 2009-03-04 Baylor College of Medicine Methods and devices based upon a novel form of nucleic acid duplex on a surface
US7297553B2 (en) * 2002-05-28 2007-11-20 Nanosphere, Inc. Method for attachment of silylated molecules to glass surfaces
WO2003006676A2 (en) 2001-07-13 2003-01-23 Nanosphere, Inc. Method for immobilizing molecules onto surfaces
US6686602B2 (en) * 2002-01-15 2004-02-03 Applied Materials, Inc. Patterned wafer inspection using spatial filtering
US7037659B2 (en) * 2002-01-31 2006-05-02 Nimblegen Systems Inc. Apparatus for constructing DNA probes having a prismatic and kaleidoscopic light homogenizer
US20040126757A1 (en) * 2002-01-31 2004-07-01 Francesco Cerrina Method and apparatus for synthesis of arrays of DNA probes
US7422851B2 (en) * 2002-01-31 2008-09-09 Nimblegen Systems, Inc. Correction for illumination non-uniformity during the synthesis of arrays of oligomers
US6855482B2 (en) * 2002-04-09 2005-02-15 Day International, Inc. Liquid transfer articles and method for producing the same using digital imaging photopolymerization
US7165566B2 (en) * 2002-04-24 2007-01-23 Wisconsin Alumni Research Foundation Method of forming a microstructure using maskless lithography
KR100451663B1 (ko) * 2002-05-15 2004-10-08 한국전자통신연구원 프로그래머블 마스크 및 이를 이용한 생체분자 어레이형성 방법
EP1369731A3 (en) * 2002-06-07 2008-02-13 FUJIFILM Corporation Exposure head and exposure apparatus
DE10230320A1 (de) * 2002-07-05 2004-02-05 Marcel Rogalla Programmierbare Beleuchtungsvorrichtung zur hochauflösenden, massiv parallelen, räumlichen Systhese und Analyse von Microarrays
US20040023367A1 (en) * 2002-07-31 2004-02-05 Affymetrix, Inc. Method of photolithographic production of polymer arrays
KR101087930B1 (ko) * 2002-08-24 2011-11-28 매스크리스 리소그래피 인코퍼레이티드 연속적인 직접-기록 광 리소그래피 장치 및 방법
US20050032074A1 (en) * 2002-09-09 2005-02-10 Affymetrix, Inc. Custom design method for resequencing arrays
US7563600B2 (en) 2002-09-12 2009-07-21 Combimatrix Corporation Microarray synthesis and assembly of gene-length polynucleotides
KR100475307B1 (ko) * 2002-11-12 2005-03-11 한국전자통신연구원 생체 분자 또는 고분자 어레이 형성용 프로그래머블마스크 및 이를 이용한 생체 분자 또는 고분자 어레이형성 방법
KR100479265B1 (ko) * 2002-11-14 2005-03-28 한국전자통신연구원 생체 고분자 어레이 형성을 위한 패턴 광 발생 장치 및이를 이용한 생체 고분자 어레이 형성 장치
US20040137606A1 (en) * 2002-12-11 2004-07-15 Jung Moon Youn Programmable mask for forming biomolecule or polymer array and fabrication method of biomolecule or polymer array using the same
US20040115654A1 (en) * 2002-12-16 2004-06-17 Intel Corporation Laser exposure of photosensitive masks for DNA microarray fabrication
EP1602974A1 (en) * 2003-01-28 2005-12-07 Ball Semiconductor Inc. Mask making method, mask making device, and mask drawing device
US7016018B2 (en) * 2003-06-04 2006-03-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure device
US7286111B2 (en) * 2003-11-13 2007-10-23 Eastman Kodak Company Apparatus for electro-optically writing a display
US6995830B2 (en) * 2003-12-22 2006-02-07 Asml Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and device manufacturing method
US7016014B2 (en) * 2004-02-27 2006-03-21 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
USRE43515E1 (en) * 2004-03-09 2012-07-17 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
DE102004022606A1 (de) * 2004-05-07 2005-12-15 Envisiontec Gmbh Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts mit verbesserter Trennung ausgehärteter Materialschichten von einer Bauebene
DE502005004008D1 (de) 2004-05-10 2008-06-19 Envisiontec Gmbh Verfahren zur herstellung eines dreidimensionalen objekts mit auflösungsverbesserung mittels pixel-shift
DE102004022961B4 (de) * 2004-05-10 2008-11-20 Envisiontec Gmbh Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts mit Auflösungsverbesserung mittels Pixel-Shift
GB0411348D0 (en) * 2004-05-21 2004-06-23 Univ Cranfield Fabrication of polymeric structures using laser initiated polymerisation
KR20060012686A (ko) 2004-08-04 2006-02-09 한국전자통신연구원 프로그래머블 마스크 및 이를 이용한 생체분자 어레이형성방법
US7274502B2 (en) * 2004-12-22 2007-09-25 Asml Holding N.V. System, apparatus and method for maskless lithography that emulates binary, attenuating phase-shift and alternating phase-shift masks
KR101131442B1 (ko) * 2005-04-18 2012-03-30 엘지전자 주식회사 마스크리스 노광기의 디지털 미러 디바이스 정렬방법
WO2007016502A2 (en) 2005-08-02 2007-02-08 Wisconsin Alumni Research Foundation Synthesis of arrays of oligonucleotides and other chain molecules
US20070048628A1 (en) * 2005-09-01 2007-03-01 Mackey Jeffrey L Plasmonic array for maskless lithography
US7368246B2 (en) * 2005-09-15 2008-05-06 Primera Biosystems, Inc. Quantitative gene expression profiling
KR100655165B1 (ko) * 2005-11-28 2007-02-28 서만승 마스크리스 리소그래피를 위한 점유면적기반 패턴 생성방법
KR100785779B1 (ko) * 2005-12-08 2007-12-13 한국전자통신연구원 생체분자 또는 고분자 어레이 형성용 프로그래머블 마스크,그를 포함하는 생체분자 또는 고분자 어레이 형성용 장치,및 그를 이용한 생체분자 또는 고분자 어레이 형성 방법
EP1795965B1 (en) * 2005-12-08 2012-05-16 Electronics and Telecommunications Research Institute Programmable mask for fabricating biomolecule array or polymer array
US20090023609A1 (en) * 2005-12-08 2009-01-22 Moon Youn Jung Programmable mask for fabricating biomolecule array or polymer array, apparatus for fabricating biomolecule array or polymer array including the programmable mask, and method of fabricating biomolecule array or polymer array using the programmable mask and photochemical synthesis apparatus
US20070148558A1 (en) * 2005-12-27 2007-06-28 Shahzad Akbar Double metal collimated photo masks, diffraction gratings, optics system, and method related thereto
US7862996B2 (en) 2005-12-29 2011-01-04 Affymetrix, Inc. Use of acid scavengers for the synthesis of standard length and long-mer nucleic acid arrays
US7538858B2 (en) * 2006-01-11 2009-05-26 Micron Technology, Inc. Photolithographic systems and methods for producing sub-diffraction-limited features
JP2007245364A (ja) * 2006-03-13 2007-09-27 Fujifilm Corp ノズルプレートの製造方法及び液滴吐出ヘッド並びに画像形成装置
US20070224616A1 (en) * 2006-03-24 2007-09-27 Erdogan Gulari Method for forming molecular sequences on surfaces
DE102006019963B4 (de) * 2006-04-28 2023-12-07 Envisiontec Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts durch schichtweises Verfestigen eines unter Einwirkung von elektromagnetischer Strahlung verfestigbaren Materials mittels Maskenbelichtung
DE102006019964C5 (de) 2006-04-28 2021-08-26 Envisiontec Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts mittels Maskenbelichtung
KR100782468B1 (ko) * 2006-05-22 2007-12-05 삼성에스디아이 주식회사 레이저 조사장치 및 그를 이용한 유기전계발광소자의제조방법
US7751695B2 (en) * 2006-06-12 2010-07-06 Lawrence Livermore National Security, Llc High-speed massively parallel scanning
DE112007001551T5 (de) * 2006-06-30 2009-05-14 Kodak Graphic Communications Canada Co., Burnaby Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen von Mustern aus nicht zusammenhängenden Merkmalen
US7636610B2 (en) * 2006-07-19 2009-12-22 Envisiontec Gmbh Method and device for producing a three-dimensional object, and computer and data carrier useful therefor
US8053191B2 (en) 2006-08-31 2011-11-08 Westend Asset Clearinghouse Company, Llc Iterative nucleic acid assembly using activation of vector-encoded traits
US7892474B2 (en) 2006-11-15 2011-02-22 Envisiontec Gmbh Continuous generative process for producing a three-dimensional object
US8003039B2 (en) 2007-01-17 2011-08-23 3D Systems, Inc. Method for tilting solid image build platform for reducing air entrainment and for build release
DK2011631T3 (da) 2007-07-04 2012-06-25 Envisiontec Gmbh Fremgangsmåde og indretning til fremstilling af et tre-dimensionelt objekt
US7778512B2 (en) * 2007-08-28 2010-08-17 Scenterra, Inc. Light-pipe array system
EP2052693B2 (en) 2007-10-26 2021-02-17 Envisiontec GmbH Process and freeform fabrication system for producing a three-dimensional object
US8796011B2 (en) * 2008-10-20 2014-08-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus for fabricating and optically detecting biochip
US8372330B2 (en) * 2009-10-19 2013-02-12 Global Filtration Systems Resin solidification substrate and assembly
WO2011056872A2 (en) 2009-11-03 2011-05-12 Gen9, Inc. Methods and microfluidic devices for the manipulation of droplets in high fidelity polynucleotide assembly
US9216414B2 (en) 2009-11-25 2015-12-22 Gen9, Inc. Microfluidic devices and methods for gene synthesis
WO2011085075A2 (en) 2010-01-07 2011-07-14 Gen9, Inc. Assembly of high fidelity polynucleotides
CA2817697C (en) 2010-11-12 2021-11-16 Gen9, Inc. Methods and devices for nucleic acids synthesis
EP4039363A1 (en) 2010-11-12 2022-08-10 Gen9, Inc. Protein arrays and methods of using and making the same
JP2012210158A (ja) 2011-03-30 2012-11-01 Univ Of Tokyo 細胞接着性光制御基材
JPWO2012141202A1 (ja) 2011-04-11 2014-07-28 学校法人東邦大学 細胞接着性光制御基材
ES2737957T3 (es) 2011-08-26 2020-01-17 Gen9 Inc Composiciones y métodos para el ensamblaje de alta fidelidad de ácidos nucleicos
US9150853B2 (en) 2012-03-21 2015-10-06 Gen9, Inc. Methods for screening proteins using DNA encoded chemical libraries as templates for enzyme catalysis
EP4001427A1 (en) 2012-04-24 2022-05-25 Gen9, Inc. Methods for sorting nucleic acids and multiplexed preparative in vitro cloning
LT2864531T (lt) 2012-06-25 2019-03-12 Gen9, Inc. Nukleorūgšties konstravimo ir aukšto produktyvumo sekvenavimo būdai
CN103226294A (zh) * 2013-04-27 2013-07-31 苏州微影光电科技有限公司 一种提高曝光图形位置精度的光刻系统及方法
US9639003B2 (en) 2013-10-24 2017-05-02 Nikon Corporation Programmable imaging assembly for manufacturing biotest post arrays
US9527244B2 (en) 2014-02-10 2016-12-27 Global Filtration Systems Apparatus and method for forming three-dimensional objects from solidifiable paste
US10737479B2 (en) 2017-01-12 2020-08-11 Global Filtration Systems Method of making three-dimensional objects using both continuous and discontinuous solidification
US10459341B2 (en) * 2018-01-30 2019-10-29 Applied Materials, Inc. Multi-configuration digital lithography system
US10976666B1 (en) 2019-10-23 2021-04-13 Globalfoundries U.S. Inc. Apparatus and related method to control radiation transmission through mask pattern
CN117055308B (zh) * 2023-10-12 2024-01-30 浙江大学 一种基于光子筛的无掩模直写euv光刻装置与方法

Family Cites Families (85)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US143131A (en) * 1873-09-23 Improvement in watchmakers chain-clamps
US138363A (en) * 1873-04-29 Improvement in cotton-choppers
US3032A (en) * 1843-04-06 Lard-lamp
US10843A (en) * 1854-05-02 pateht office
US23368A (en) * 1859-03-29 Hose-coupling
US35690A (en) * 1862-06-24 Improved self-setting head-block for saw-mills
US126757A (en) * 1872-05-14 Improvement in street-cars
US186427A (en) * 1877-01-23 Improvement in apparatus for signaling by means of reflected light
US81582A (en) * 1868-09-01 David baker
US41420A (en) * 1864-02-02 Improved book-holding stand
US657758A (en) * 1900-02-23 1900-09-11 Earl V Coulston Lining for fire-boxes of stoves or ranges.
DE2644341C2 (de) 1976-10-01 1984-08-02 Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar Verfahren und Anordnungen zur automatischen Verwirklichung des Köhler'schen Beleuchtungsprinzipes
US4146329A (en) * 1977-09-14 1979-03-27 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Autoalignment system for high power laser
JPS5534490A (en) * 1978-09-01 1980-03-11 Canon Inc Alignment device
US4571603A (en) * 1981-11-03 1986-02-18 Texas Instruments Incorporated Deformable mirror electrostatic printer
US5096279A (en) * 1984-08-31 1992-03-17 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4662746A (en) 1985-10-30 1987-05-05 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4596992A (en) * 1984-08-31 1986-06-24 Texas Instruments Incorporated Linear spatial light modulator and printer
US4615595A (en) * 1984-10-10 1986-10-07 Texas Instruments Incorporated Frame addressed spatial light modulator
US5202231A (en) * 1987-04-01 1993-04-13 Drmanac Radoje T Method of sequencing of genomes by hybridization of oligonucleotide probes
US5525464A (en) * 1987-04-01 1996-06-11 Hyseq, Inc. Method of sequencing by hybridization of oligonucleotide probes
US5028939A (en) * 1988-08-23 1991-07-02 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator system
US5424186A (en) 1989-06-07 1995-06-13 Affymax Technologies N.V. Very large scale immobilized polymer synthesis
US5744101A (en) * 1989-06-07 1998-04-28 Affymax Technologies N.V. Photolabile nucleoside protecting groups
US5800992A (en) * 1989-06-07 1998-09-01 Fodor; Stephen P.A. Method of detecting nucleic acids
US5143854A (en) 1989-06-07 1992-09-01 Affymax Technologies N.V. Large scale photolithographic solid phase synthesis of polypeptides and receptor binding screening thereof
US5252743A (en) * 1989-11-13 1993-10-12 Affymax Technologies N.V. Spatially-addressable immobilization of anti-ligands on surfaces
US5083857A (en) * 1990-06-29 1992-01-28 Texas Instruments Incorporated Multi-level deformable mirror device
US5784162A (en) * 1993-08-18 1998-07-21 Applied Spectral Imaging Ltd. Spectral bio-imaging methods for biological research, medical diagnostics and therapy
US5817462A (en) * 1995-02-21 1998-10-06 Applied Spectral Imaging Method for simultaneous detection of multiple fluorophores for in situ hybridization and multicolor chromosome painting and banding
US5872655A (en) * 1991-07-10 1999-02-16 Optical Coating Laboratory, Inc. Monolithic linear variable filter and method of manufacture
AU2422492A (en) 1991-08-07 1993-03-02 H & N Instruments, Inc. Synthesis of chain chemical compounds
US5846708A (en) 1991-11-19 1998-12-08 Massachusetts Institiute Of Technology Optical and electrical methods and apparatus for molecule detection
WO1993009668A1 (en) 1991-11-22 1993-05-27 Affymax Technology N.V. Combinatorial strategies for polymer synthesis
US5384261A (en) 1991-11-22 1995-01-24 Affymax Technologies N.V. Very large scale immobilized polymer synthesis using mechanically directed flow paths
US5412087A (en) * 1992-04-24 1995-05-02 Affymax Technologies N.V. Spatially-addressable immobilization of oligonucleotides and other biological polymers on surfaces
US5333034A (en) * 1992-01-31 1994-07-26 Bremson Data Systems, Inc. System for selectively controlling the spectral make-up of visible light from a source thereof
US6219015B1 (en) * 1992-04-28 2001-04-17 The Board Of Directors Of The Leland Stanford, Junior University Method and apparatus for using an array of grating light valves to produce multicolor optical images
JPH06214169A (ja) * 1992-06-08 1994-08-05 Texas Instr Inc <Ti> 制御可能な光学的周期的表面フィルタ
US5324483B1 (en) * 1992-10-08 1996-09-24 Warner Lambert Co Apparatus for multiple simultaneous synthesis
US5552922A (en) * 1993-04-12 1996-09-03 Corning Incorporated Optical system for projection display
EP0767361B1 (en) * 1993-07-22 2000-02-23 Applied Spectral Imaging Ltd. Method and apparatus for spectral imaging
US5587832A (en) * 1993-10-20 1996-12-24 Biophysica Technologies, Inc. Spatially light modulated confocal microscope and method
US5583688A (en) * 1993-12-21 1996-12-10 Texas Instruments Incorporated Multi-level digital micromirror device
US5578832A (en) * 1994-09-02 1996-11-26 Affymetrix, Inc. Method and apparatus for imaging a sample on a device
US5631734A (en) * 1994-02-10 1997-05-20 Affymetrix, Inc. Method and apparatus for detection of fluorescently labeled materials
US5883705A (en) 1994-04-12 1999-03-16 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Jr. University Atomic force microscope for high speed imaging including integral actuator and sensor
US5666190A (en) 1994-04-12 1997-09-09 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Jr. University Method of performing lithography using cantilever array
US5517280A (en) 1994-04-12 1996-05-14 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Jr. University Photolithography system
DE4416314C2 (de) * 1994-05-09 1997-06-12 Agfa Gevaert Ag Verfahren und Vorrichtung zur Aufnahme einer Bildszene und Verwendung der Vorrichtung in einem Kopiergerät
US5571639A (en) 1994-05-24 1996-11-05 Affymax Technologies N.V. Computer-aided engineering system for design of sequence arrays and lithographic masks
US5539567A (en) 1994-06-16 1996-07-23 Texas Instruments Incorporated Photolithographic technique and illuminator using real-time addressable phase shift light shift
US5726718A (en) * 1994-09-30 1998-03-10 Texas Instruments Incorporated Error diffusion filter for DMD display
US5623281A (en) * 1994-09-30 1997-04-22 Texas Instruments Incorporated Error diffusion filter for DMD display
US5556752A (en) * 1994-10-24 1996-09-17 Affymetrix, Inc. Surface-bound, unimolecular, double-stranded DNA
US5844588A (en) * 1995-01-11 1998-12-01 Texas Instruments Incorporated DMD modulated continuous wave light source for xerographic printer
US5504614A (en) * 1995-01-31 1996-04-02 Texas Instruments Incorporated Method for fabricating a DMD spatial light modulator with a hardened hinge
US5959098A (en) * 1996-04-17 1999-09-28 Affymetrix, Inc. Substrate preparation process
US5599695A (en) * 1995-02-27 1997-02-04 Affymetrix, Inc. Printing molecular library arrays using deprotection agents solely in the vapor phase
US5535047A (en) * 1995-04-18 1996-07-09 Texas Instruments Incorporated Active yoke hidden hinge digital micromirror device
US5835256A (en) * 1995-06-19 1998-11-10 Reflectivity, Inc. Reflective spatial light modulator with encapsulated micro-mechanical elements
US5870176A (en) * 1996-06-19 1999-02-09 Sandia Corporation Maskless lithography
US5824897A (en) * 1996-08-15 1998-10-20 Avion, Inc. Blade static balancing fixture
US5833360A (en) * 1996-10-17 1998-11-10 Compaq Computer Corporation High efficiency lamp apparatus for producing a beam of polarized light
US5953153A (en) * 1996-10-29 1999-09-14 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator with improved light shield
DE69720041T2 (de) * 1996-11-14 2004-01-08 Affymetrix, Inc., Santa Clara Chemische amplifizierung zur synthese von musterordnungen
DE19707432A1 (de) * 1997-02-25 1998-08-27 Bodenseewerk Geraetetech Vorrichtung zur Umschaltung von optischen Bildern zwischen verschiedenen Kanälen
US5768009A (en) 1997-04-18 1998-06-16 E-Beam Light valve target comprising electrostatically-repelled micro-mirrors
US5912181A (en) * 1997-12-23 1999-06-15 Petcavich; Robert J. Method for molecule detection utilizing digital micromirror technology
DE69909972T2 (de) * 1998-02-11 2004-05-13 University Of Houston, Houston Vorrichtung zur durchführung chemischer und biochemischer reaktionen unter anwendung von photoerzeugten reagenzien
US20040035690A1 (en) * 1998-02-11 2004-02-26 The Regents Of The University Of Michigan Method and apparatus for chemical and biochemical reactions using photo-generated reagents
US5930027A (en) * 1998-02-12 1999-07-27 Mcdonnell Douglas Corporation Digitally controlled fiber optic light modulation system
DE69942272D1 (de) 1998-02-23 2010-06-02 Wisconsin Alumni Res Found Deranordnungen
US6318679B1 (en) * 1998-04-06 2001-11-20 Hon Hai Precision Ind. Co., Ltd. Apparatus for mounting computer peripheral equipment
US6271957B1 (en) 1998-05-29 2001-08-07 Affymetrix, Inc. Methods involving direct write optical lithography
WO1999063385A1 (en) * 1998-06-04 1999-12-09 Board Of Regents, The University Of Texas System Digital optical chemistry micromirror imager
US6657758B1 (en) * 1998-06-04 2003-12-02 Board Of Regents, The University Of Texas System Variable spectrum generator system
US6160618A (en) * 1998-06-19 2000-12-12 Board Of Regents, The University Of Texas System Hyperspectral slide reader
US6215579B1 (en) * 1998-06-24 2001-04-10 Silicon Light Machines Method and apparatus for modulating an incident light beam for forming a two-dimensional image
JP2002523781A (ja) * 1998-08-28 2002-07-30 フェビット フェラリウス バイオテクノロジー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 生化学的反応支持体の製造および／または製造のための方法および装置
EP1180111A4 (en) * 1999-02-10 2003-03-26 Macrogen Inc METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING CONNECTION LIBRARIES BY MEANS OF OPTICAL MODULATOR
TW548454B (en) * 1999-09-07 2003-08-21 Ind Tech Res Inst Method of using low voltage to manufacture bulk ferroelectric material reverse region
JP4199385B2 (ja) * 1999-09-20 2008-12-17 久光製薬株式会社 イオントフォレーシスシステム
US6985655B2 (en) * 2002-01-30 2006-01-10 Affymetrix, Inc. Compositions and methods involving direct write optical lithography
US20040126757A1 (en) * 2002-01-31 2004-07-01 Francesco Cerrina Method and apparatus for synthesis of arrays of DNA probes

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004017069A1 (ja) * 2002-08-16 2004-02-26 Kabushiki Kaisha Hayashi Soken バイオチップ分析装置およびオンライン分析システム
JPWO2004017069A1 (ja) * 2002-08-16 2005-12-08 株式会社林創研 バイオチップ分析装置
JP2006513442A (ja) * 2003-01-02 2006-04-20 マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット 微小電気機械素子と共に使用される高エネルギー、低エネルギー密度の放射抵抗光学素子
JP2006519494A (ja) * 2003-02-28 2006-08-24 マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット Ｓｌｍ直接書き込み装置
JP2007500366A (ja) * 2003-07-29 2007-01-11 コダック グラフィック コミュニケーションズ カナダ カンパニー 不均一な光弁
JP2011522289A (ja) * 2008-05-30 2011-07-28 コーニング インコーポレイテッド マスクレスリソグラフィ用パターニングシステムの集束スポット寸法整定のための照明システム
JP2010109220A (ja) * 2008-10-31 2010-05-13 Nikon Corp マスクレス露光装置およびマスクレス露光方法
JP2011054960A (ja) * 2009-08-19 2011-03-17 Lawrence Livermore National Security Llc ダイオードレーザポンプアレイを均一化する方法及びシステム
US9331452B2 (en) 2009-08-19 2016-05-03 Lawrence Livermore National Security, Llc Method and system for homogenizing diode laser pump arrays
WO2011058721A1 (ja) * 2009-11-13 2011-05-19 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 細胞接着性光制御基材，細胞の解析分別方法及び細胞の解析分別装置
JP2017129888A (ja) * 2012-01-18 2017-07-27 株式会社ニコン 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法

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