JP2000029214A - 赤外線及び紫外線感受性組成物及び平版印刷版 - Google Patents

赤外線及び紫外線感受性組成物及び平版印刷版

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JP2000029214A
JP2000029214A JP11131407A JP13140799A JP2000029214A JP 2000029214 A JP2000029214 A JP 2000029214A JP 11131407 A JP11131407 A JP 11131407A JP 13140799 A JP13140799 A JP 13140799A JP 2000029214 A JP2000029214 A JP 2000029214A
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resin
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Angelo Bolli
ボーリ アンジェロ
Paolo Peveri
ペヴェリ パオロ
Andrea Tettamanti
テッタマンティ アンドレア
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の目的は、1)赤外線及び紫外線照射
の両方に感受性の組成物の提供、2)画像を固着(im
print)するのに使用するシステム(紫外又は赤
外)の如何に関わらず、アルカリ現像中に良好な結果を
示す組成物の提供、3)現像後も、印刷工程で使用され
る溶剤、特に、イソプロピルアルコールに対して優れた
抵抗性を有する組成物の提供、4)上記の特性を有する
組成物からなる平板印刷板の提供、である。 【解決手段】 本発明はジアゾ樹脂、ジアジエステル、
少なくとも一種のノボラック樹脂及び赤外線吸収剤から
なる赤外線及び紫外線感受性組成物、及び前記光感受性
組成物で被覆された支持体を具備する平版印刷版であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、赤外線及び紫外線
感受性組成物、及び平版印刷版に関する。詳しくは、本
発明は、ポジ型の平版印刷版に有用な赤外線及び紫外線
感受性組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】公知のように、平版印刷版を使用する印
刷技術は、識別できる区画の脂肪質物質と水を基本とし
たものである。脂肪質物質、即ち、インクは、好ましく
は、画像領域に保持され、水は、好ましくは、非画像領
域に保持される。適正に作成された平版印刷版の表面を
水で湿潤させ、次にインクを被覆すると、非画像領域は
水を保持してインクをはじき、一方、画像領域はインク
を受け入れ、水をはじく。次いで、画像領域上のインク
は、画像を再生したい材料、例えば、カード、布帛及び
インク等の表面に移動する。
【0003】一般に、印刷工程で使用される平版印刷版
は、光感受性組成物を被覆したアルミニウム支持体で形
成されている。この組成物が、適当な波長の光により反
応すると、露光された部分が可溶性になり、その結果、
現像工程で除去することができる。この工程は、ポジ工
程と呼ばれている。これとは逆に、露光部分が不溶性に
なる場合、その印刷工程は、ネガ工程と呼ばれている。
両工程ともに、残留している画像領域は脂肪質親和性で
あるためにインクを受け入れるのに対して、非画像領域
は親水性であり、水を受け入れる。
【0004】平版分野における最近の開発は、コンピュ
ータによって形成された像を版の表面に直接転写するた
めに、レーザー光、好ましくは近赤外域において、特
に、ソフトウエアによって制御されたレーザー光に対し
て光感受性のある組成物の探索に向けられている。この
技術によって写真フィルムが不要になるという利点があ
り、その結果、これらフィルムを準備し、製造するのに
使用する化学物質から生ずる汚染物が減少し、かつ、写
真フィルムを介して版上に画像を転写する際に遭遇する
あらゆる問題が取り除かれる。
【0005】第一に、レーザーから発する赤外線に感受
性のある組成物は、システムをより信頼性のあるものに
する。第二に、この組成物は周辺光のもとで作用するこ
とができるので自動充填システムや暗室が不要である。
【0006】国際特許出願第96/20429号明細書
には、熱印刷法による平版印刷マトリックスの形成方法
が記載されている。この方法は、以下の工程を含んでい
る: (1)平版支持体として使用することのできる支持体
に、フェノール樹脂のナフトキノンジアジドエステル又
はナフトキノンジアジドエステルとフェノール樹脂、及
び赤外域で吸収可能な少なくとも一種の物質を含んでな
るポジ型光感受性組成物を被覆する、(2)このシステ
ムに紫外線を露光して、光感受性組成物を現像できるよ
うにする、(3)レーザーによって放出される赤外線に
よって、版に固着する(imprinting)、
(4)版を現像してレーザーに露出されなかった光感受
性組成物の非画像領域を除去する。更に、本文に記載の
中に、光(紫外線)露出工程と加熱(赤外線による)工
程の組み合わせが画像形成に重要であることが述べられ
ている(7頁、1〜3行)。
【0007】国際特許出願第97/39894号明細書
には、水性現像液に可溶な重合体物質と、水性現像液中
の重合体物質の溶解性を減少させる化合物を含んでなる
熱感受性オレフィン系組成物において、水性現像液中の
組成物の溶解性が加熱によって増加し、入射紫外線によ
っては増加しないことを特徴とする組成物が記載されて
いる(特許請求の範囲第1項参照)。換言すれば、前記
の版は赤外線に感受性で、紫外線には非感受性である。
好ましくは、熱感受性樹脂組成物は非紫外線感受性化合
物を含んでなることが好ましい。
【0008】欧州特許出願公開第0833204号明細
書には、二つの主要な成分、即ち、赤外線吸収性材料及
び、oージアゾナフトキノン誘導体と混合又は反応した
フェノール樹脂を含む赤外線感受性画像形成組成物が開
示されている。これらの組成物は、レーザー画像形成法
を利用してポジ又はネガ画像を形成するのに使用できる
と共に、印刷版へのダイレクトーツープレート(dir
ectーto−plate)画像形成手段に用いること
のできる平版印刷版のような画像要素に有用である。し
かしながら、欧州特許出願公開第0833204号明細
書のどの実施例も、紫外線露光した後の、画像を形成す
るための工程においてのみ前記組成物を使用する方法に
関するものではない。
【0009】レーザー光で平版印刷版に印刷できる設備
は未だ非常に高価であるために、前記国際特許出願第9
6/20429号明細書及び国際特許出願第97/39
894号明細書に記載のように、必然的に赤外線露光が
必要な光感受性版は、現在は殆ど使用されていない。従
って、多くのオペレータは、転移の間中、原画像法の手
段によって紫外線ランプで露光して版上に印刷する古い
技術を現在でも使用している。一方、少数ではあるが、
赤外線感受性の版に必要な装置の要求を既に持っている
オペレータもいる。
【0010】欧州特許出願第0672954号明細書に
は、この要求に答える試みがなされており、紫外線と赤
外線の両方に感受性であり、ポジ及びネガ型の両方の役
目を果たすことのできる平版印刷版用の光感受性塗膜が
開示されている。前記塗膜はレゾール樹脂、ノボラック
樹脂、ハロアルキル基で置換されたsートリアジン及び
赤外線吸収剤を含んでいる。水性アルカリ現像液中にお
ける前記組成物の溶解性は、(1)画像を形成する放射
線露光工程及び(2)加熱工程中に、露出部では減少
し、未露光部では増加する。その記載の中で、ネガ型で
使用することができるためには、レゾールとノボラック
樹脂の両方が存在することが重要であると指摘している
(4頁、10〜13行)。
【0011】本発明者らは、欧州特許出願第06729
54号明細書に従った版を使って紫外線ーポジ画像を形
成した。そして、このようにして得られた画像は、印刷
中に使用する浴溶液中のアルカリ現像液又はイソプロピ
ルアルコールに対して殆ど抵抗性を示さず、更に、この
画像は機械的摩耗に対しても殆ど抵抗性を示さないこと
を発見した。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、赤外線及び紫外線照射の両方に感受性である組成物
を提供することである。本発明の第二の目的は、画像を
固着する(imprint)のに使用するシステム(紫
外線又は赤外線)の如何に関わらず、前記組成物がアル
カリ現像中に良好な結果を示すというものである。本発
明の第三の目的は、前記組成物は、現像後も、印刷工程
で使用される溶剤、特に、イソプロピルアルコールに対
して優れた抵抗性を有するというものである。本発明の
第四の目的は、上記の特性を有する組成物からなる平板
印刷版を提供することである。
【0013】
【課題を解決する為の手段】用語「平版印刷版」は、光
感受性被覆剤で被覆された支持体を含むことを意図して
いる。この支持体は、適正に露光し現像した後に、脂肪
質物質と水との識別できる区画のある、印刷工程で平版
印刷マトリックスとして使用されるものである。代表的
な支持材料の例は、アルミニウム、亜鉛及び銅、ポリエ
ステルのような重合体支持体及び重合体で被覆した紙等
である。更により代表的な支持体は、電気的に粗面加工
したアルミニウムで作られた金属シートであって、光感
受性組成物を受け入れるために酸化され、適正に処理さ
れたシートである。
【0014】用語「ポジ型」は、露光した光感受性被覆
の部分が可溶化し、版の現像工程中にその部分が除去で
きる型のものを意味することを意図している。代表的に
は、現像工程は75〜110mSの伝導度を有するアル
カリ中で行われる。
【0015】用語「ジアゾ樹脂」は、2,1ーナフトキ
ノンジアジドー4ースルホニルクロライドと、フェノー
ル又はその類似物、例えばmークレゾール又は対称性キ
シレノールの重縮合物とのエステル化物を含むことを意
図している。このような商業上のジアゾ樹脂類の代表例
は、ローナー社(Rohner company)(プ
ラッテルン、バーゼル、スイス国)(Prattel
n、Basel、Switzerland)製の製品R
O874及びRO849、及びマテリアル センシビリ
社(company Material Sensib
ili )(ミラノ、イタリア国)(Milan、It
aly)の製品A938がある。或いは、用語「ジアゾ
樹脂」は、2,1ーナフトキノンジアジドー5ースルホ
ニルクロライドと、フェノール又はその類似物、例えば
mークレゾール又は対称性キシレノールの重縮合物との
エステル化物を含むことを意図している。このような商
業上のジアゾ樹脂類の代表的例は、クラリアント社(c
ompany Clariant )(ビースバーデ
ン、ドイツ国)(Wiesbaden German
y)の製品PW1150及びPW1161及びマテリア
ル センシビリ社の製品DRS25である。一般に、ジ
アゾ樹脂は、5,000〜12,000の重量平均分子
量を持っている。
【0016】用語「ノボラック」は、酸性媒体中で、ホ
ルムアルデヒドと、フェノール及び/又はm−クレゾー
ル及び/又は対称性m−キシレノールとをモル比1以下
(例えば、ホルムアルデヒド:フェノール=1:2)で
反応させて得られる重合体を含むことを意図している。
商業上のノボラック樹脂類の代表例は、高重量平均分子
量のノボラック樹脂、例えば、ベークライト社(com
pany Bakelite)(ドイツ国)製のLB6
564(重量平均分子量6000〜10,000)及び
LB744(重量平均分子量8000〜13,00
0)、ローナー社製のR7100(重量平均分子量80
00〜10,000)及びクラリアント社製のPN43
0(重量平均分子量5000〜9500)、及び低重量
平均分子量のノボラック樹脂、例えば、PN320(重
量平均分子量3000〜5000)が挙げられる。好ま
しい型のR7100は、LB744から単量体を除去し
て得られるもので、これは実質的に単量体を含まず、そ
の重量平均分子量は9,500〜10,500である。
【0017】用語「 ジアゾエステル」は、2,1ーナ
フトキノンジアジドスルホニルクロライドとテトラヒド
ロキシベンゾフェノンとの完全又は部分エステル化物を
含むことを意図している。ジアゾエステル類の代表例
は、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン又は2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフ
ェノンと、2,1−ナフトキノンジアジドー4ースルホ
ニルクロライドとの完全又は部分エステル化によって得
られる化合物、又は2,3,4,4’−テトラヒドロキ
シベンゾフェノン又は2,2’,4,4’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノンと、2,1−ナフトキノンジアジ
ドー5ースルホニルクロライドとの完全又は部分エステ
ル化によって得られる化合物である。ジアゾエステルの
代表例は、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベン
ゾフェノンと2,1−ナフトキノンジアジドー4ースル
ホニルクロライドとの完全又は部分エステル化によって
得られるものである。このエステル化物は2,2’,
4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのモノー、
ジー、トリー及びテトエラエステルの混合物であって、
マテリアル サンシビリ社からSDBZの商品名で販売
されている。代表的なSDBZは、2,2’,4,4’
−テトラヒドロキシベンゾフェノンモノエステルを5〜
20%、ジエステルを40〜60%、トリエステルを2
0〜40%及びテトラエステルを1〜10%含んでい
る。
【0018】用語「吸収剤」は、特定の波長の放射線を
吸収することのできる物質を含むことを意図している。
好ましくは、吸収剤は水、ケトン及び/又はグリコー
ル、アルコール及び/又はこれらの混合物に可溶であ
る。吸収剤類の代表例は、リーデル デ ハーン/アラ
イド シグナル社(company Riedel−d
eーHaen/Allied Signal)(ゼール
ツエ 、ドイツ国)(Seelze、Germany)製
の商業製品KF646、KF645、KF810、KF
1003、KF1002、IR HBB812及びKF
818、アメリカン ダイ ソース社(America
n DyeSource company)(バレンネ
ス、ケベック、カナダ国)(Varennes Que
bec、Canada)製の商業製品ADS805P
I、ADS805PP、ADS805PA、ADS80
5PF、ADS812MI,ADS815EI、ADS
818HI、ADS818HT、ADS822MT、A
DS830AT、ADS830A及びADS838M
T、ゼネカ スペシャリティーズ社(Zeneca S
pecialities company)(マンチェ
スター、イギリス国)(Manchester、Eng
land)によって販売されている製品Project
830NP及び製品Cyanine Infrared
Absorbing Dyeである。便宜上、Cya
nine Infrared Absorbing D
yeを今後、略語”Z”で表すこととする。
【0019】特に有利な吸収剤の系統は以下の骨格(式
1)により特徴づけられるものである。
【化1】 式1において、X、Y、Z、R、R’及びR”は、多く
の意味を有しうる。これらの意味の代表例は、Xは単独
又は縮合複素環、ZとYはそれらが結合している炭素原
子と一緒になって単独又は複素環を形成し、R、R’は
互いに独立に水素、C1-3アルキル、SO- 3又はCO
-、R”はH又はClである。前記の特定の複素環を
式2に示す。
【化2】
【化3】ある特定の吸収剤の推定構造を式3〜7に示
す。KF646
【化4】KF645
【化5】KF810
【化6】IRHBB812
【化7】KF818
【0020】用語「赤外線」は、780nm以上の波長
をもった放射線を含むことを意図している。赤外線を発
生させるのに使用する代表的な装置の例は、約830n
mを放出するレーザーダイオードである。
【0021】用語「紫外線」は、約10〜約400nm
の波長をもった放射線を含むことを意図している。紫外
線を発生するのに使用する代表的な装置の例は、カーボ
ンアークランプ、水銀ランプ、蛍光ランプ、タングステ
ンフィラメントランプ、写真ランプ及び5000W化学
線光ランプであり、これらは350〜400nmの領域
で放射する。
【0022】用語「染料」は、着色化合物又は露光後及
び/又は現像後に画像を顕在化させるために、感光性組
成物を着色することのできる薬剤を含むことを意図して
いる。染料の代表例は、ビー エー エス エフ社(B
ASF company)(ドイツ国)製のBason
yl Blue 636(カラーインデックス4259
5)及びビー エー エス エフ社製のSudan Y
ellow150(カラーインデックス11021)又
はそれらの混合物である。
【0023】用語「トリアジン」は、以下の化合物が属
する系統の化合物を含むことを意図している。2ー(1
ーナフチル)ー4,6ービス(トリクロロメチル)ーs
ートリアジン、2ー(4ーメトキシー1ーナフチル)ー
4,6ービス(トリクロロメチル)ーsートリアジン、
2ー(4ーエトキシー1ーナフチル)ー4,6ービス
(トリクロロメチル)ーsートリアジン、2ー(4ーブ
トキシー1ーナフチル)ー4,6ービス(トリクロロメ
チル)ーsートリアジン、2ー[4ー(2ーメトキシエ
チル)ー1ーナフチル]ー4,6ービス(トリクロロメ
チル)ーsートリアジン、2ー[4ー(2ーエトキシエ
チル)ー1ーナフチル]ー4,6ービス(トリクロロメ
チル)ーsートリアジン、2ー[4ー(2ーブトキシエ
チル)ー1ーナフチル]ー4,6ービス(トリクロロメ
チル)ーsートリアジン、2ー(2ーメトキシーナフチ
ル)ー4,6ービス(トリクロロメチル)ーsートリア
ジン、2ー(6ーメトキシー5ーメチルー2ーナフチ
ル)ー4,6ービス(トリクロロメチル)ーsートリア
ジン、2ー(6ーメトキシー2ーナフチル)ー4,6ー
ビス(トリクロロメチル)ーsートリアジン、2ー(5
ーメトキシー1ーナフチル)ー4,6ービス(トリクロ
ロメチル)ーsートリアジン、2ー(4,7ージメトキ
シー1ーナフチル)ー4,6ービス(トリクロロメチ
ル)ーsートリアジン、2ー(6ーメトキシー2ーナフ
チル)ー4,6ービス(トリクロロメチル)ーsートリ
アジン、2ー(4,5ージメトキシー1ーナフチル)ー
4,6ービス(トリクロロメチル)ーsートリアジン、
2ー(5ーアセナフチル)ー4,6ービス(トリクロロ
メチル)ーsートリアジン、2ー(2ーナフチル)ー
4,6ービス(トリクロロメチル)ーsートリアジン、
2ー(9ーペナントリル)ー4,6ービス(トリクロロ
メチル)ーsートリアジン、2ー(2ージベンゾチエニ
ル)ー4,6ービス(トリクロロメチル)ーsートリア
ジン、 2ー(3ーベンゾピラニル)ー4,6ービス
(トリクロロメチル)ーsートリアジン、2ー(4ーア
ルコキシー1ーアントラニル)ー4,6ービス(トリク
ロロメチル)ーsートリアジン、2ーメチルー4,6ー
ビス(トリクロロメチル)ーsートリアジン、2ー(4
ーメトキシースチリル)ー4,6ービス(トリクロロメ
チル)ーsートリアジン、2ー(2,3ーメチレンジオ
キシベンジル)ー4,6ービス(トリクロロメチル)ー
sートリアジン及び2ー(4ーメトキシフェニル)ー
4,6ービス(トリクロロメチル)ーsートリアジン。
【0024】(1)固着(imprint)するのに使
用するシステム(紫外線又は赤外線)の如何に関わら
ず、アルカリ現像中に良好な結果を与え、(2)現像
後、印刷工程で使用する溶剤、特に、イソプロピルアル
コールに対して優れた抵抗性を有する組成物が、ここに
見出された。そして、前記の組成物を具備する平版印刷
版は前述のような特徴を備えている。
【0025】従って、本発明の第一の主題は、(a)ジ
アゾ樹脂、(b)ジアゾエステル、(c)少なくとも一
種のノボラック樹脂、(d)赤外線吸収剤からなり、赤
外線及び紫外線の両方に感受性であることを特徴とする
光感受性組成物である。本発明の第二の主題は、光感受
性樹脂で被覆された平版印刷版において、(1)前記組
成物が、(a)ジアゾ樹脂、(b)ジアゾエステル、
(c)少なくとも一種のノボラック樹脂、(d)赤外吸
収剤からなり、(2)前記組成物が、赤外線及び紫外線
の両方に感受性であることを特徴とする平版印刷用板で
ある。
【0026】代表的には、赤外線は780nm以上の波
長を有し、更により代表的には、約830mの波長を有
する。代表的には、紫外線は約10nm〜400nmの
波長を有し、更に代表的には350〜400nmの波長
を有する。
【0027】ジアゾ樹脂は、好ましくは、2,1ーナフ
トキノンジアジドスルホニルクロライドと、フェノール
及び/又はその同族体の重縮合物とのエステル化物であ
る。代表的には、ジアゾ樹脂は、2,1ーナフトキノン
ジアジドー4ースルホニルクロライドと、フェノール又
はその同族体、例えば、mークレゾール及び対称性キシ
レノールの重縮合化合物とのエステル化物である。この
ような商業上の好ましいジアゾ樹脂の例は、ローナー社
製のRO874(窒素含率1.6重量%)及びRO84
9(窒素含率1.9重量%)、マテリアル センシビリ
ー社製のA938(窒素含率2.8重量%)、及び/又
は2,1ーナフトキノンジアジド5ースルホニルクロラ
イドとフェノール及び/又はその同族体、例えば、mー
クレゾール及び対称性キシレノールの重縮合化合物との
エステル化物である。このような商業上のジアゾ樹脂の
好ましい例は、クラリアント社製のPW1160(窒素
含率2.4重量%)及びPW1161(窒素含率3.2
重量%)、マテリアルセンシビル社製のDRS25(窒
素含率2.4重量%)から選ばれる。代表的には、本発
明のジアゾ樹脂の重量平均分子量は、3000〜15,
000、好ましくは5000〜12,000である。一
般的には、本発明の組成物は、ジアゾ樹脂の混合物を含
んでもよい。ジアゾ樹脂の窒素含率は、好ましくは、1
〜8重量%、より好ましくは1.2〜3.2重量%であ
る。
【0028】好ましいジアゾエステルは、テトラヒドロ
キシベンゾフェノンと2,1−ナフトキノンジアジドス
ルホニルクロライドとの部分又は完全エステル化物であ
る。ジアゾエステルの代表例は、2,3,4,4’ーテ
トラヒドロキシベンゾフェノン又は2,2’4,4’−
テトラヒドロキシベンゾフェノンと、2,1−ナフトキ
ノンジアジドー4ースルホニルクロライドとの完全又は
部分エステル化によって得られる化合物、又は2,3,
4,4’ーテトラヒドロキシベンゾフェノン又は2,
2’4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンと、
2,1−ナフトキノンジアジドー5ースルホニルクロラ
イドとの完全又は部分エステル化によって得られる化合
物である。より一層代表的には、ジアゾエステルは、
2,2’4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン
と、2,1−ナフトキノンジアジドー4ースルホニルク
ロライドとの完全又は部分エステル化によって得られる
化合物である。この化合物は、マテリアル センシビリ
社からSDBZの商品名で販売されている2,2’4,
4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのモノー、ジ
ー、トリー及びテトラエステルである。代表的には、S
DBZは、2,2’4,4’−テトラヒドロキシベンゾ
フェノンのモノエステルを5〜20%、ジエステルを4
0〜60%、トリエステルを20〜40%及びテトラエ
ステルを1〜10%含む。代表的には、ジアゾエステル
の窒素含率は5〜13重量%であり、好ましくは含率が
6〜9重量%である。
【0029】好ましくは、本発明の組成物は、二種のノ
ボラック樹脂からなり、第一のノボラック樹脂は200
0〜6000の重量平均分子量をもち、一方、第二のノ
ボラック樹脂は7000〜14,000の重量平均分子
量を有する。より一層好ましくは、第一の樹脂は300
0〜5000の重量平均分子量、第二の樹脂は8000
〜10,000の重量平均分子量を有する。好ましい商
業上のノボラック樹脂の代表例は、高重量平均分子量ノ
ボラック樹脂、例えば、ベークライト社製のLB656
4(重量平均分子量6000〜10,000)及びLB
744(重量平均分子量8000〜13,000)、ロ
ーナー社製のR7100(重量平均分子量9500〜1
0,500)及びクラリアント社製のPN430(重量
平均分子量5000〜9500)、及び低重量平均分子
分子量ノボラック樹脂PN320(重量平均分子量30
00〜5000)である。好ましくは、本発明のノボラ
ック樹脂は、少なくとも一種の高重量平均分子量と少な
くとも一種の低重量平均分子量のノボラック樹脂との混
合物である。より好ましくは、高重量平均分子量ノボラ
ック樹脂は光感受性組成物の全量に対して約30〜40
重量%のものである。代表的には、本発明のノボラック
樹脂の軟化温度は75〜135℃である。より一層代表
的には、低重量平均分子量ノボラック樹脂の軟化温度は
75〜90℃、高重量平均分子量ノボラック樹脂の軟化
温度は125〜140℃ある。
【0030】吸収剤の好ましい例は、リーデル デ ハ
エン/アライド シグナル社製の商業製品KF646、
KF645、KF810、KF1003、KF100
2、IR HBB812及びKF818、アメリカン
ダイ ソース社製の商業製品ADS805PI、ADS
805PP、ADS805PA、ADS805PF、A
DS812MI,ADS815EI、ADS818H
I、ADS818HT、ADS822MT、ADS83
0AT、ADS830A及びADS838MT、及びゼ
ネカ スペシャリティー社製の商業製品Projet8
30NP及びCyanine Infrared Ab
sorbing dyeである。
【0031】好ましくは、本発明の平版印刷版は、ポジ
型のものである。本発明の組成物は、染料も含むことが
できる。好ましい染料の例は、ビー エー エス エフ
社製のBasonyl Blue 636(カラーイン
デックス42595)及びビー エー エス エフ社製
のSudan Yellow150(カラーインデック
ス11021)及びそれらの混合物である。
【0032】好ましくは、本発明の組成物は、トリアジ
ンも含むことができる。より一層好ましくは、2ーハロ
アルキル基で置換されたトリアジンを含む。代表的なト
リアジンは、以下の通りである。2ー(1ーナフチル)
ー4,6ービス(トリクロロメチル)ーsートリアジ
ン、2ー(4ーメトキシー1ーナフチル)ー4,6ービ
ス(トリクロロメチル)ーsートリアジン、2ー(4ー
エトキシー1ーナフチル)ー4,6ービス(トリクロロ
メチル)ーsートリアジン、2ー(4ーブトキシー1ー
ナフチル)ー4,6ービス(トリクロロメチル)ーsー
トリアジン、2ー[4ー(2ーメトキシエチル)ー1ー
ナフチル]ー4,6ービス(トリクロロメチル)ーsー
トリアジン、2ー[4ー(2ーエトキシエチル)ー1ー
ナフチル]ー4,6ービス(トリクロロメチル)ーsー
トリアジン、2ー[4ー(2ーブトキシエチル)ー1ー
ナフチル]ー4,6ービス(トリクロロメチル)ーsー
トリアジン、2ー(2ーメトキシー1ーナフチル)ー
4,6ービス(トリクロロメチル)ーsートリアジン、
2ー(6ーメトキシー5ーメチルー2ーナフチル)ー
4,6ービス(トリクロロメチル)ーsートリアジン、
2ー(6ーメトキシー2ーナフチル)ー4,6ービス
(トリクロロメチル)ーsートリアジン、2ー(5ーメ
トキシー1−ナフチル)ー4,6ービス(トリクロロメ
チル)ーsートリアジン、2ー(4,7ージメトキシー
1ーナフチル)ー4,6ービス(トリクロロメチル)ー
sートリアジン、2ー(6ーメトキシー2ーナフチル)
ー4,6ービス(トリクロロメチル)ーsートリアジ
ン、2ー(4,5ージメトキシー1ーナフチル)ー4,
6ービス(トリクロロメチル)ーsートリアジン、2ー
(5ーアセナフチル)ー4,6ービス(トリクロロメチ
ル)ーsートリアジン、2ー(2ーナフチル)ー4,6
ービス(トリクロロメチル)ーsートリアジン、2ー
(9ーペナントリル)ー4,6ービス(トリクロロメチ
ル)ーsートリアジン、2ー(2ージベンゾチエニル)
ー4,6ービス(トリクロロメチル)ーsートリアジ
ン、 2ー(3ーベンゾピラニル)ー4,6ービス(ト
リクロロメチル)ーsートリアジン、2ー(4ーアルコ
キシー1ーアントラシル)ー4,6ービス(トリクロロ
メチル)ーsートリアジン、2ーメチルー4,6ービス
(トリクロロメチル)ーsートリアジン、2ー(4ーメ
トキシースチリル)ー4,6ービス(トリクロロメチ
ル)ーsートリアジン、2ー(2,3ーメチレンジオキ
シベンジル)ー4,6ービス(トリクロロメチル)ーs
ートリアジン 及び2ー(4ーメトキシフェニル)ー
4,6ービス(トリクロロメチル)ーsートリアジン。
より一層好ましくは、トリアジンは、参照コードBU1
557としてクラリアント社で販売されている2ー(4
ーメトキシー1ーナフチル)ー4,6ービス(トリクロ
ロメチル)−s−トリアジンである。
【0033】
【発明の実施の形態】以下の実施例及び試験法において
本発明を詳細に述べるが、これらは例示の目的でのみ述
べるものであって、本発明を限定するものとして考える
べきではない。
【0034】
【実施例1】光感受性組成物1の製造 成分 %(w/w) A 938 35.37 SDBZ 2.04 PN320 20.27 R7100 36.49 ”Z” 5.83 1.75gのジアゾ樹脂A938(重量平均分子量約7
400、窒素含率2.8重量%)、0.1gのジアゾエ
ステルSDBZ(窒素含率2.8重量%)、1.0gの
ノボラック樹脂PN320(重量平均分子量約370
0)、1.8gのノボラック樹脂R7100(重量平均
分子量約9600)及び0.29gの吸収剤”Z”を、
アセトン:メタノール:メチルグリコール=9.5:
1:1.5(w/w)の溶液120g(148.5m
l)中で、容器の底に物質が残らなくなるまで(約1時
間)、室温(20〜25℃)で磁石による攪拌を行いつ
つ溶解して組成物を製造した。得られた溶液を、最後に
シュライヒェル アンド シュエル社(Schleic
hel & Schuel company)製のタイ
プ0860のろ紙(100μm)を通してろ過した。こ
のようにして得られた組成物の窒素含率は、乾燥組成物
基準で計算すると1.1〜1.2重量%である。
【0035】
【実施例2】光感受性組成物2の製造 組成物に染料Basonyl Blue636(0.7
25g)も含めた以外は、上記実施例1に記載の方法と
類似の方法で製造を行った。 成分 %(w/w) A 938 34.81 SDBZ 2.00 PN320 20.00 R7100 35.99 ”Z” 5.75 Basonyl Blue636 1.45 このようにして製造した組成物の窒素含率は、乾燥組成
物基準で計算すると1.1〜1.2重量%である。
【0036】
【実施例3】光感受性組成物3の製造 組成物に染料Basonyl Blue636(0.0
625g)及び染料Sudan Yellow150
(0.01g)の混合物も含めた以外は、上記実施例1
に記載の方法と類似の方法で製造を行った。 成分 %(w/w) A 938 34.81 SDBZ 2.00 PN320 20.00 R7100 35.99 ”Z” 5.75 Basonyl Blue636 1.25 Sudan Yellow150 0.2 このようにして製造した組成物の窒素含率は、乾燥組成
物基準で計算すると1.1〜1.2重量%である。
【0037】
【実施例4】光感受性組成物4の製造 パイロットプラントで下記の組成物を製造した。 成分 %(w/w) A 938 34.81 SDBZ 2.00 PN320 20.00 R7100 35.99 ”Z” 5.75 Basonyl Blue636 1.15 Sudan Yellow 0.3 2.512kgのジアゾ樹脂A938、144gのジア
ゾエステルSDBZ(窒素含率8重量%)、1.44k
gのノボラック樹脂PN320、2.591gのノボラ
ック樹脂R7100、414gの吸収剤”Z”、82g
の染料Basonyl Blue636、22gの染料
Sudan Yellow150を、アセトン:メタノ
ール:メチルグリコール=9.5:1:1.5(w/
w)の混合液60L中で、容器の底に物質が残らなくな
るまで室温(20〜25℃)で磁石による攪拌を行いつ
つ溶解した。得られた溶液を、最後にシュライヒェル
アンド シュエル社製のタイプ0860のろ紙(100
μm)を通してろ過した。このようにして得られた組成
物の窒素含率は、乾燥組成物基準で計算すると1.1〜
1.2重量%である。
【0038】
【実施例5】光感受性組成物5の製造 成分 %(w/w) PW1160 14.21 SDBZ 2.00 PN320 27.07 R7100 32.07 KF646 11.50 Basonyl Blue636 1.45 BU1557 11.70 0.497gのジアゾ樹脂PW1160(重量平均分子
量約9300;窒素含率2.4重量%)、0.07gの
ジアゾエステルSDBZ(窒素含率=8重量%)、0.
947gのノボラック樹脂PN320、1.123gの
ノボラック樹脂R7100、0.4gの吸収剤KF64
6、0.051gの染料BasonylBlue636
及び0.412gのトリアジンBU1557を、21.
5g(22.4ml)のメチルグリコール中で、容器の
底に物質が残らなくなるまで室温(20〜25℃)で磁
石による攪拌を行いつ溶解した。得られた溶液を、最後
にシュライヒェル アンド シュエル社製のタイプ08
60のろ紙(100μm)を通してろ過した。このよう
にして得られた組成物の窒素含率は、乾燥組成物基準で
計算すると0.45〜0.6重量%である。
【0039】
【実施例6】光感受性組成物6の製造 ジアゾ樹脂がPW1160の代わりにA938(0.4
97g)である以外は上記実施例5に記載の方法と類似
の方法で製造を行った。 成分 %(w/w) A 938 14.21 SDBZ 2.00 PN320 27.07 R7100 32.07 KF646 11.50 Basonyl Blue636 1.45 BU1557 11.70 このようにして得られた組成物の窒素含率は、乾燥組成
物基準で計算すると0.45〜0.6重量%である。
【0040】
【実施例7】光感受性組成物7の製造 パイロットプラントで下記の組成物を製造した。 成分 %(w/w) PW1160 34.81 SDBZ 2.00 PN320 20.00 R7100 35.99 ”Z” 5.75 Basonyl Blue636 1.15 Sudan Yellow160 0.3 2.512kgのジアゾ樹脂PW1160、144gの
ジアゾエステルSDBZ、1.44kgのノボラック樹
脂PN320、1.123gのノボラック樹脂R710
0、414gの吸収剤”Z”、82gの染料Bason
yl Blue636、22gのSudan Yell
ow150を、アセトン:メチルグリコール(比(w/
w)9.5:1.5)の混合液60L中で、容器の底に
物質が残らなくなるまで室温(20〜25℃)で磁石に
よる攪拌を行いつつ溶解した。このようにして得られた
溶液をろ紙(シュライヒェル アンド シュエル社製の
タイプ0860のろ紙、100μm)を通してろ過し
た。このようにして得られた組成物の窒素含率は、乾燥
組成物基準で計算すると1.1〜1.2重量%である。
【0041】
【実施例8】光感受性組成物8の製造 パイロットプラントで下記の組成物を製造した。 成分 %(w/w) A938 74.00 SDBZ 2.00 PN320 17.00 ”Z” 5.75 Basonyl Blue636 1.15 5.328kgのジアゾ樹脂A938、144gのジア
ゾエステルSDBZ、1.224kgのノボラック樹脂
PN320、414gの吸収剤”Z”、83gの染料B
asonyl Blue636を、アセトン:メタノー
ル:メチルグリコール(比(w/w)9.5:1:1.
5)の混合液60L中で、容器の底に物質が残らなくな
るまで室温(20〜25℃)で磁石による攪拌を行いつ
つ溶解した。このようにして得られた溶液を、次に、ろ
紙(シュライヒェル アンド シュエル社製のタイプ0
860のろ紙、100μm)を通してろ過した。このよ
うにして得られた組成物の窒素含率は、乾燥組成物基準
で計算すると2.21〜2.4重量%である。
【0042】
【実施例9】赤外露光 実施例1の組成物を、電気研磨及び陽極処理を行ったア
ルミニウム板に塗布した。このようにして被覆した版
を、インスツリューメント エス アール エル社(I
nstrument S.R.L.)(ベルナレッジ
オ、ミラノ、イタリア国)(Bernareggio、
Milan、Italy)製のPid System
M80ーVFのような強制循環式オーブン中で、90
℃、8分間、乾燥した。乾燥した光感受性塗膜の重量は
1.2〜1.4g/m2 であった。このようにして得
られた版の上に、ソフトウエアーで制御されたレーザー
ビーム(λ=830nm、出力150及び300mJ/
cm2 )を使って、Ugra/Fogra Post
Script Control Strip digi
tal scaleを投射した。次に、100mSの電
導度を有するアルカリメタシリケート溶液を用いて、2
2.4℃において、20cm/分の速度で現像した。か
くして、得られた版は、間違いなく上記Ugra/Fo
gra PostScript Control St
rip digital scaleのハーフトーン
(halftone)の全てのパーセンテージ(per
centage)をもっていた。
【0043】上記実施例2〜4に記載した組成物を使用
して製造した版も同様の結果が得られた。実施例5及び
6の組成物から得られた版を上述のように露光し、10
0mSの電導度を有するアルカリメタシリケート溶液を
用いて、20℃で、65cm/分の速度で現像した。こ
のようにして得られた版は、Ugra/Fogra P
ostScript Control Strip d
igital scaleのハーフトーンの部分から約
5パーセント乖離(ポイントの縮小)していた。上記実
施例7及び8の組成物から得られた版を上述のように露
光し、20℃において、20cm/分の速度で約100
mSの電導度を有するアルカリメタルシリケートにより
現像した。このようにして得られた版は、Ugra/F
ograPostScript Control St
rip digital scaleの、ハーフトーン
のパーセントから約10パーセント乖離(ポイントの拡
大)していた。これらの版は完全に現像せず、露光域に
乳化物の残渣があった。
【0044】
【実施例10】紫外露光 実施例1の組成物を用いて、上記実施例9に従って製造
した版について、紫外線感受性試験を行った。乾燥した
光感受性塗膜の重量は1.4g/m2(版A)及び1.
8g/m2 (版B)であった。上述の版A及びB、及び
Direct Image Thermal Prin
ting Plate(版C)の商品名で販売されてい
るコダック版(Kodak plates)(これは、
欧州特許出願第0672954号明細書に従って製造さ
れたものと推定される)に、常用のUgra scal
eを投射して紫外線露光させた。4種の異なった露出時
間(30、40、50及び60秒)を用いた。装置は、
版の支持面から1.20mの所に5000Wの化学線光
灯を配置したLastra model EM87焼枠
(down frame)であった。次いで、上述の版
について二つの現像試験を行った。
【0045】試験1 20℃のアルカリメタシリケート溶液(ラストラ エス
ピー エー社(Lastra S.p.A.comp
any)製、約80mSの電導度をもったLsp75ポ
シティブ現像液)を使用した。現像は50秒間続けた。
その後、版を脱脂綿のパッドで10秒間ぬぐい、塗膜の
可溶部分を除去して乾燥した。得られた結果は常用のU
gra scale方式に従って評価した(表1〜
5)。
【0046】試験2 この試験は、現像溶液への浸漬時間を50秒の代わりに
10秒にした以外は上記試験1と同様に行った。得られ
た結果は、公知のUgra scale方式に従って評
価した(表6〜10)。
【0047】
【表1】
【0048】
【表2】
【0049】
【表3】
【0050】
【表4】
【0051】
【表5】 読み取りは、Viptronic社製のViplate110デンシトメー
タを用いて行った。
【0052】
【表6】
【0053】
【表7】
【0054】
【表8】
【0055】
【表9】
【0056】
【表10】 読み取りは、Viptronic社製のViplate110デンシトメー
タを用いて行った。
【0057】上記表1〜5に示す結果から、現像時間
(50秒)が平版実験室で用いられる通常の現像液の時
間の場合、版Cの光感受性組成物は完全に取り去られて
おり、一方、本発明の組成物は除去されていないことが
わかる。換言すれば、画像も版Cから除去されている。
一方、現像時間(10秒)が、通常の現像作業者が平版
実験室の作業で行う時間より極めて短い場合のみ(表6
〜10)、画像は版Cから除去されていない。従って、
版Cは赤外線又は紫外線露光後に後加熱工程を行う場合
にのみ使用可能である。従って、版Cは陰画像を得る場
合にのみ有効である。
【0058】試験1イソプロピルアルコールに対する抵抗性 実施例1の記載に従って製造した第一の版6枚(塗膜重
量:1.4g/m2、版A)及び第二の版6枚(塗膜の
重量:1.8g/m2 、版B)を、Direct I
mage Thermal Printing Pla
teの商品名で販売されている6枚のコダック(Kod
ak)版(欧州特許出願第0672954号明細書に従
って製造されたと推定される)と比較した。各版から2
×30cmの帯片を切り取った。各版18枚の帯片を4
0%水性イソプロピルアルコール溶液の入った目盛付き
シリンダーに、4cm/分の連続”ステップ(ste
p)”で浸漬した。目盛りの最初のステップに対して1
分、最後のステップに至るまで6分の浸せき時間を伴
う、6つの領域から構成された目盛りは、このようにし
て得られた。浸漬後、接着テープを各帯片の上に置いて
テープを即座に除去し、イソプロピルアルコール溶液に
よって生じた光感受性層の劣化度を評価した。更に詳し
く述べると、接着テープによって除去された光感受性層
の量は、イソプロピルアルコールに予備浸漬することに
より分解された量であるから、その量を測定した。その
結果を以下の表11に示す。
【0059】
【表11】
【0060】数値1は成績が最も悪く、即ち、1分間の
浸漬後に光感受性層の50%が除去された場合である。
一方、点数6は成績が最も良く、即ち、6分間の浸漬後
に光感受性層の50%が除去された場合である。表11
のデータは、本発明の組成物はイソプロピルアルコール
に対して充分な抵抗性があるのに反して、版Cは抵抗性
が全く不十分であることを示している。従って、版C
は、赤外線又は紫外線露光後に後加熱工程を行う場合に
のみ使用可能であるということができる。従って、版C
は陰画像を得るためにのみ有効である。
【0061】試験2機械的摩耗に対する抵抗性 印刷工程中で版が受ける機械的及び化学的摩耗を想定し
て、露光、現像済みのタイプA、B及びC(試験1)の
試料を表面上に固定し、50%イソプロピルアルコール
溶液を含浸させた脱脂綿のパッドを密着配置した。印刷
中に版が受ける化学的、機械的摩耗を想定して、圧縮ー
空気システムに接続したアームによってパッドを交互に
移動させた。摩耗作用の回数を変えて(50,100,
150,200回)試験を行った。表12はエマルジョ
ンの50重量%を除去する摩耗操作の回数を示す。
【0062】
【表12】 50回の摩耗操作を行った後、版Cの組成物はほぼ完全
に取り去られていたが、版A及びBは非常に良好な結果
を示した。
【0063】
【実施例11】赤外線露光後の紫外線露光 ソフトウエアーで制御されたレーザービーム(λ=83
0nm;出力150及び300mJ/cm2 )の手段
によって、上記実施例1、2、4、7及び8の組成物を
有する版の上に、Ugra/Fogra PostSc
ript Contol digital scale
を投射した。現像前に、前もって赤外線露光した版に、
異なる露光時間(5、10、20及び40秒)で、紫外
線を完全に照射した。支持面から1.20mの所に配置
された5000Wの化学線光灯を備えたモデルEM87
Lastra装置を使用した。次いで、版を以下の二つ
の現像試験に用いた。 1)20℃のアルカリメタシリケート溶液(ラストラ
エス ピー エー社製、伝導度約80mSのLsp75
ポジ現像溶液)を用いた。現像工程は、版をアルカリ溶
液に50秒間浸漬して行い、次いで、脱脂綿で10秒間
表面部を洗浄した。評価した全ての版は現像溶液を通過
した塗膜が完全に消失した。 2)20℃のアルカリメタシリケート溶液(脱イオン水
で1:1に稀釈したラストラ エス ピー エー社製の
Lsp75ポジ現像溶液で、その伝導度は約50mS
の)を用いた。現像工程は、版をアルカリ溶液に50秒
浸漬して行い、次いで、脱脂綿で表面部を10秒間洗浄
した。評価した全ての版は現像溶液を通過した塗膜が完
全に消失した。
【0064】
【実施例12】赤外露光及びオーブン加熱 ソフト上アーで制御されたレーザービーム(λ=830
nm;出力150及び300mJ/cm2 )の手段に
よって、上記実施例1、2、4、7及び8の組成物を有
する版の上に、Ugra/Fogra PostScr
ipt Contol Digital scaleを
投射した。現像前に、前もって赤外露光した版を、イン
スツリューメント エス アールエル社製のモデルM8
0ーVF Pidシステム装置中で、二種の異なる温度
(125及び135℃)において、各々三種の異なる時
間(60、120及び180秒)で、オーブン加熱処理
を行った。次いで、版を20℃のアルカリメタシリケー
ト溶液(ラストラ エス ピー エー社製、伝導度約8
0mSのLsp75ポジ現像溶液)で現像した。現像工
程は、版をアルカリ溶液に50秒浸漬して行い、次い
で、脱脂綿で表面部を10秒間洗浄した。全ての版は、
現像液中での塗膜溶解速度が減少していた。処理温度が
上がるにつれて溶解速度が減少した。処理時間が増加す
るにつれて溶解速度も減少した。しかしながら、版に保
持された画像は、常に赤外線に露出したポジ像に対応す
るものであった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アンドレア テッタマンティ イタリア国 20139 ミラノ ヴィア サ ン ベルナルド 35/6

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)ジアゾ樹脂、(b)ジアゾエステ
    ル、(c)少なくとも一種のノボラック樹脂及び(d)
    赤外線吸収剤を含み、かつ、赤外線及び紫外線の両方に
    対して感受性であることを特徴とする光感受性組成物。
  2. 【請求項2】 ジアゾ樹脂は、2,1ーナフトキノンジ
    アジドー4ースルホニルクロライドと、フェノール又は
    その同族体の重縮合化合物とのエステル化物であること
    を特徴とする請求項1に記載の組成物。
  3. 【請求項3】 フェノール同族体は、m−クレゾール及
    び対称性キシレノールであることを特徴とする請求項2
    に記載の組成物。
  4. 【請求項4】 ジアゾエステルは、テトラヒドロキシベ
    ンゾフェノンと2,1ーナフトキノンジアジドスルホニ
    ルクロライドとの部分又は完全エステル化物であること
    を特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の組成
    物。
  5. 【請求項5】 テトラヒドロキシベンゾフェノンは、
    2,3,4,4’ーテトラヒドロキシベンゾフェノン又
    は2,2’,4,4’ーテトラヒドロキシベンゾフェノ
    ンであることを特徴とする請求項4に記載の組成物。
  6. 【請求項6】 2,1ーナフトキノンジアジドスルホニ
    ルクロライドは、2,1ーナフトキノンジアジドー4ー
    スルホニルクロライド又は2,1ーナフトキノンジアジ
    ドー5ースルホニルクロライドであることを特徴とする
    請求項5に記載の組成物。
  7. 【請求項7】 組成物は、二種のノボラック樹脂を含む
    ことを特徴とする前記請求項1〜7のいずれか1項に記
    載の組成物。
  8. 【請求項8】 第一のノボラック樹脂は、2000〜6
    000の重量平均分子量を有することを特徴とする請求
    項7に記載の組成物。
  9. 【請求項9】 第二のノボラック樹脂は、7000〜1
    4,000の重量平均分子量を有することを特徴とする
    請求項7に記載の組成物。
  10. 【請求項10】 第一のノボラック樹脂は、3000〜
    5000の重量平均分子量を有することを特徴とする請
    求項7に記載の組成物。
  11. 【請求項11】 第二のノボラック樹脂は、8000〜
    10,000の重量平均分子量を有し、好ましくは実質
    的に単量体を含まないことを特徴とする請求項7に記載
    の組成物。
  12. 【請求項12】 光感受性組成物で被覆された支持体を
    具備する平版印刷版において、(1)前記組成物が
    (a)ジアゾ樹脂、(b)ジアゾエステル、(c)少な
    くとも一種のノボラック樹脂及び(d)赤外線吸収剤を
    含み、かつ、(2)前記組成物は赤外線及び紫外線の両
    方に対して感受性であることを特徴とする平版印刷版。
  13. 【請求項13】 ジアゾ樹脂は、2,1ーナフトキノン
    ジアジドー4ースルホニルクロライドと、フェノール又
    はその同族体の重縮合化合物とのエステル化物であるこ
    とを特徴とする請求項12に記載の版。
  14. 【請求項14】 フェノール同族体は、m−クレゾール
    及び対称性キシレノールであることを特徴とする請求項
    13に記載の版
  15. 【請求項15】 ジアゾエステルは、テトラヒドロキシ
    ベンゾフェノンと2,1ーナフトキノンジアジドスルホ
    ニルクロライドとの部分又は完全エステル化物であるこ
    とを特徴とする請求項12〜14のいずれか1項に記載
    の版。
  16. 【請求項16】 テトラヒドロキシベンゾフェノンは、
    2,3,4,4’ーテトラヒドロキシベンゾフェノン又
    は2,2’,4,4’ーテトラヒドロキシベンゾフェノ
    ンであることを特徴とする請求項15に記載の版。
  17. 【請求項17】 2,1ーナフトキノンジアジドスルホ
    ニルクロライドは、2,1ーナフトキノンジアジドー4
    ースルホニルクロライド又は2,1ーナフトキノンジア
    ジドー5ースルホニルクロライドであることを特徴とす
    る請求項16に記載の版。
  18. 【請求項18】 組成物は、二種のノボラック樹脂を含
    むことを特徴とする請求項12〜17のいずれか1項に
    記載の版。
  19. 【請求項19】 第一のノボラック樹脂は、2000〜
    6000の重量平均分子量を有することを特徴とする請
    求項18に記載の版。
  20. 【請求項20】 第二のノボラック樹脂は、7000〜
    14,000の重量平均分子量を有することを特徴とす
    る請求項18に記載の版。
  21. 【請求項21】 第一のノボラック樹脂は、3000〜
    5000の重量平均分子量を有することを特徴とする請
    求項18に記載の版。
  22. 【請求項22】 第二のノボラック樹脂は、8000〜
    10,000の重量平均分子量を有し、好ましくは実質
    的に単量体を含まないことを特徴とする請求項20に記
    載の組成物。
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4132547B2 (ja) 2000-03-01 2008-08-13 富士フイルム株式会社 画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版原版
US6458511B1 (en) * 2000-06-07 2002-10-01 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging
US6436601B1 (en) * 2001-06-25 2002-08-20 Citiplate, Inc. Thermally sensitive coating compositions containing mixed diazo novolaks useful for lithographic elements
US7097956B2 (en) * 2003-01-27 2006-08-29 Eastman Kodak Company Imageable element containing silicate-coated polymer particle
US6790582B1 (en) * 2003-04-01 2004-09-14 Clariant Finance Bvi Limited Photoresist compositions
US7205084B2 (en) * 2003-12-18 2007-04-17 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7338745B2 (en) * 2006-01-23 2008-03-04 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element with improved chemical resistance
CN101611350B (zh) * 2007-02-13 2012-08-08 东丽株式会社 正型感光性树脂组合物
JP4790682B2 (ja) * 2007-09-28 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
CN102207677B (zh) * 2010-03-29 2012-10-24 品青企业股份有限公司 辐射敏感组成物
US9547238B2 (en) 2012-10-16 2017-01-17 Eugen Pavel Photoresist with rare-earth sensitizers
CN107797384B (zh) * 2016-09-07 2020-10-09 上海飞凯电子材料有限公司 一种感光树脂、正性光刻胶及应用

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3100077A1 (de) * 1981-01-03 1982-08-05 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch, das einen naphthochinondiazidsulfonsaeureester enthaelt, und verfahren zur herstellung des naphthochinondiazidsulfonsaeureesters
US5753406A (en) * 1988-10-18 1998-05-19 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Radiation-sensitive resin composition
DE4426820A1 (de) * 1993-07-29 1995-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd Bilderzeugungsmaterial und Bilderzeugungsverfahren
EP0672954B1 (en) 1994-03-14 1999-09-15 Kodak Polychrome Graphics LLC Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, an infrared absorber and a triazine and use thereof in lithographic printing plates
GB9426206D0 (en) * 1994-12-23 1995-02-22 Horsell Plc Lithographic plate
US5491046A (en) * 1995-02-10 1996-02-13 Eastman Kodak Company Method of imaging a lithographic printing plate
EP0737895B1 (en) * 1995-04-10 1999-09-08 Shipley Company LLC Photoresist with photoactive compound mixtures
US5641608A (en) * 1995-10-23 1997-06-24 Macdermid, Incorporated Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates
RU2153986C2 (ru) 1996-04-23 2000-08-10 Хорселл Грэфик Индастриз Лимитед Термочувствительная композиция и способ ее применения для изготовления литографической печатной формы
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
US5705322A (en) * 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Method of providing an image using a negative-working infrared photosensitive element
US5705308A (en) * 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Infrared-sensitive, negative-working diazonaphthoquinone imaging composition and element
EP0833204A1 (en) 1996-09-30 1998-04-01 Eastman Kodak Company Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element
ATE204388T1 (de) 1997-07-05 2001-09-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Bilderzeugungsverfahren
US6060217A (en) * 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates

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