JP2000028954A - 光走査装置 - Google Patents

光走査装置

Info

Publication number
JP2000028954A
JP2000028954A JP19557399A JP19557399A JP2000028954A JP 2000028954 A JP2000028954 A JP 2000028954A JP 19557399 A JP19557399 A JP 19557399A JP 19557399 A JP19557399 A JP 19557399A JP 2000028954 A JP2000028954 A JP 2000028954A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scanning
light beam
lens
sub
scanning direction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19557399A
Other languages
English (en)
Inventor
高志 ▲はま▼
Takashi Hama
Nozomi Inoue
望 井上
Yujiro Nomura
雄二郎 野村
Tama Takada
球 高田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP19557399A priority Critical patent/JP2000028954A/ja
Publication of JP2000028954A publication Critical patent/JP2000028954A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Lenses (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 回転軸と直交する向きとは異なる角度で光ビ
ームを走査器の反射面に入射させて偏向させる形式の光
走査装置において生じるビームスポットの崩れを補正す
ること。 【解決手段】 半導体レーザー1からの光ビームaを回
転多面鏡3の回転軸6に対して直角方向とは異なる角度
で反射面4、5に入射して偏向された光ビームcが、走
査端においてアナモルフィックレンズの光軸から副走査
方向に隔離した位置を透過するようにして、被走査面1
4に結像されるビームスポットの形が崩れるのを補正す
るようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザビームプリンタ
等に用いられる光走査装置に係り、より詳しくは走査器
の回転軸に垂直な走査面に対して角度をもたせて光ビー
ムを入射させる光走査装置において、走査面で偏向され
た光ビームが湾曲し回転することによってビームスポッ
トが崩れるのを補正するようにした光走査装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】レーザビームプリンタ等に用いられる光
走査装置は、一般に、半導体レーザ等の光源から射出し
た光ビームを整形光学系を介して回転多面鏡などの走査
器に入射させて主走査方向に偏向し、偏向した光ビーム
をf・θレンズのような結像レンズ系により被走査面上
にビームスポットとして形成して走査するように構成さ
れている。
【0003】このような光走査装置は、光ビームを走査
面内で入射させて偏向させているため特に問題は生じな
いが、例えば、特開昭56−161566号公報に記載
された多色印字レーザプリンタのように、回転多面鏡の
同一走査面に複数色の光ビームを同時に入射させて偏向
する形式の光走査装置では、これらの色の光ビームを分
離させるために、それぞれの光ビームを回転多面鏡の回
転軸に対して垂直な走査面上に異なる角度をもたせて入
射させて偏向させることが必要となる。
【0004】また、走査器の回転多面鏡に二度光ビーム
を入射させて偏向を行う光走査装置も知られているが、
この走査の光走査装置も、装置の小型化を図るために一
度目の偏向を行う光路と二度目の偏向を行う光路とを分
離させるべく、回転多面鏡の回転軸に対して垂直方向と
は異なる角度をもたせてそれぞれの光ビームを入射させ
て偏向するようにしなければならない場合が生じてい
た。
【0005】このように、回転多面鏡の走査面に異なる
角度から光ビームを入射させて偏向すると、走査面で偏
向された光ビームは、湾曲してコニカルな走査線の軌跡
を描くことになり、走査端の光ビームが回転してしまう
結果、被走査面上でビームスポットの形が崩れて鮮明な
画像を形成することが困難になるといった問題を有して
いた。
【0006】また、多色印字プリンタでは、走査面で偏
向された光ビームが湾曲して被走査面上で走査線が直線
にならないため、これを円筒レンズを介して走査を行う
ようにしたものもあるが、このような光走査装置におい
ても、偏向された光ビームが走査端で回転してしまう結
果、ビームスポットの形が崩れて良好な画像を形成する
ことができないといった問題を有している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような問
題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、
走査器の回転軸に対し直角方向とは異なる角度で反射面
に入射し偏向された光ビームが、走査端で回転してビー
ムスポットの形を崩してしまうことがないように補正し
て、常に良好な画像を形成し得るようにした新たな光走
査装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明はかか
る課題を達成するために、光ビームを発生する光源と、
光源からの光ビームを回転軸の回りを回転する反射面に
よって偏向させる走査器と、反射面により反射され偏向
された光ビームを被走査面上にビームスポットとして形
成させて走査し、かつ副走査方向に屈折力を有するアナ
モルフィックレンズを含む走査光学系とを備えた光走査
装置において、走査器の回転軸に対して直角方向とは異
なる角度で前記光源から反射面に入射して偏向された光
ビームが、走査端においてアナモルフィックレンズの光
軸から副走査方向に隔離した位置を透過するように構成
し、また、アナモルフィックレンズの光軸に対して角度
を持って入射するように構成したものである。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいてこの発明の
実施の形態を説明する。図1は本発明の一実施例をなす
の光走査装置を示した斜視図である。この発明では、走
査器として回転多面鏡を用い、回転多面鏡の回転軸と直
交する向きを主走査方向、回転多面鏡の回転軸と平行な
向きを副走査方向と定義し、また、光源から回転多面鏡
の一度目の偏向を行う第1反射面との間に設けた光学系
を整形光学系、第1反射面と二度目の偏向を行う第2反
射面との間に設けた光学系を伝達光学系、第2反射面と
被走査面との間に設けらた光学系を走査光学系と呼ぶこ
とにし、同一の走査器に光ビームを二度入射させて偏向
を行うことを二度偏向と定義することにする。
【0010】図1において、光源としての半導体レーザ
ー1から射出した光ビームaは第1整形レンズ2を透過
して整形され、走査器としての回転多面鏡3の第1反射
面4に副走査方向下方からつまり、回転多面鏡3の回転
軸6に対してその直角方向下方から角度をもって入射し
た光ビームaに一度目の偏向がなされる。この第1反射
面4から副走査方向上方、つまり、回転多面鏡3の回転
軸6に対してその直角方向上方から角度をもって反した
光ビームbは、第1伝達レンズ7を透過して第1伝達ミ
ラー8で回転多面鏡3の回転軸6と直角な向きの面方向
に反射され、さらに第2伝達レンズ9および第3伝達レ
ンズ10を透過して第2伝達ミラー11で反射され、再
び回転多面鏡3の第2反射面5に副走査方向上方、つま
り回転多面鏡3の回転軸6に対してその直角方向上方か
ら角度をもって入射して二度目の偏向がなされる。そし
て、この第2反射面5から副走査方向下方に角度をもっ
て偏向された光ビームcは、第1走査レンズ12および
プラスチック製の第2走査レンズ13により被走査面1
4上にビームスポットとして結像されて走査されるよう
に構成されている。
【0011】なお、図に示した光ビームdは水平同期信
号用のもので、光ビームcの走査端において分離された
上、水平同期ミラー81,水平同期レンズ82を介して
水平同期センサー83に導入されるように構成されてい
る。
【0012】この実施例において、上記した整形レンズ
2と第1伝達レンズ7は、光軸回りに回転対称な非球面
レンズとして、第2伝達レンズ9は副走査方向にのみパ
ワーを有するシリンドリカルレンズとして、また、第3
伝達レンズ10は主走査方向にのみパワーを有するシリ
ンドリカルレンズとして、さらに、第1走査レンズ12
は球面レンズとして形成されている。
【0013】第2走査レンズ13の入射面は、主走査方
向で曲率半径の大きな凹形状をなし、副走査方向におい
ては曲率半径の小さな凸形状をなし、さらに、主走査方
向の断面曲線を入射面よりも被走査面14側に寄った主
走査方向と平行な軸回りに回転させることにより形成さ
れる曲面として形成されている。また、これに対して射
出面は、主走査方向で曲率半径の大きな凸状の非円弧を
なし、さらに、副走査方向の断面は、非円弧シリンドリ
カル面あるいは非円柱面と呼ばれる面として形成されて
いる。
【0014】回転多面鏡3の第1反射面4および第2反
射面5に入射する光ビームa、bは、それぞれの反射面
4、5に主走査方向と直交する向きに入射するように構
成され、これにより、一度目の偏向を行う第1反射面4
の付近に主,副走査両方向で光ビームを結像させて、一
度偏向の光走査装置に比べて光ビームの大きさを小さく
し、第1反射面4の主走査方向の巾を小さくしても光ビ
ームを確実に入射させるようにしている。
【0015】また、二度目の偏向では、回転多面鏡3の
第2反射面5へ入射する光ビームbの主走査方向の大き
さは大きいものの、回転多面鏡3が回転したときの光ビ
ームbの移動と第2反射面の移動を一致させることがで
き、このため、第2反射面5の主走査方向の巾を入射す
る光ビームbと同じ大きさにすることができて、その分
走査速度を上げることができる。
【0016】この実施例では、また、回転多面鏡3の第
1反射面4および第2反射面5に入射する光ビームa、
bと、これらの第1反射面4および第2反射面5から偏
向された光ビームb、cをそれぞれ立体的に分離させる
ため、光ビームa、bをそれぞれ副走査方向にある角
度、つまり回転多面鏡3の回転軸6に対して直角方向と
は異なる角度をもって第1反射面4および第2反射面5
に入射させるように構成している。
【0017】これにより、整形光学系(つまり第1整形
レンズ2)と、伝達光学系(つまり第1伝達レンズ7,
第2伝達レンズ9および第3伝達レンズ10)が、ま
た、伝達光学系と走査光学系(つまり第1走査レンズ1
2および第2走査レンズ13)が、回転多面鏡3の回転
軸6方向上下方向に離隔配置されていて、それぞれの光
ビームa,b,cがたがいに干渉することなく分離する
ことができて、光学系の配置を自由に選択できるように
する。
【0018】表1は、このように構成された光走査装置
の具体的な数値例を示したもので、アナモルフィック面
は副走査方向,主走査方向の曲率半径をそれぞれri
x,riyとしており、また、非球面である面について
は、曲率半径は光軸上の値を示している。
【表1】
【0019】第1整形レンズ2および第1伝達レンズ7
の非球面の数式は次の数1に示すとおりで、その非球面
係数については次の表2に示す。
【数1】
【表2】
【0020】表1に示した実施例は、走査開始から走査
終了までの回転多面鏡3の回転角2ωを24°、光ビー
ムa、bが、第1、第2の反射面4、5に向けて入射す
る回転多面鏡3の回転軸6と直交する向きに対する入射
角α、βをいずれも6°、回転多面鏡3の面数を12
面、回転多面鏡3の内接円半径を17mm、第1反射面
4と第2反射面5のなす角度を90°、光源1からのレ
ーザー光の波長を670nmとなしたものである。
【0021】この実施例において、光ビームaは、副走
査方向では回転多面鏡3の第1反射面4の近傍と、回転
多面鏡3の第2反射面5の近傍においてそれぞれ結像す
るように構成され、言い換えれば、伝達光学系(つまり
第1伝達レンズ7,第2伝達レンズ9および第3伝達レ
ンズ10)により第1反射面4と第2反射面5は幾何光
学的にほぼ共役関係にあり、また、走査光学系(つまり
第1走査レンズ12および第2走査レンズ13)により
第2反射面5と被走査面14はほぼ共役関係にあるよう
に構成され、これによって、回転多面鏡3の第1反射面
4と第2反射面5の面倒れは良く補正され、しかも副走
査方向の走査位置が一定となる。
【0022】図2(a)乃至(e)は、回転多面鏡3の
第1反射面4と第2反射面5との間の副走査方向の展開
図を示したもので、この実施例の場合、回転多面鏡3の
第1反射面4近傍の結像点Pは、図2(a)に示すよう
に、第1反射面4から僅かにずれていて、この面4と第
1伝達レンズ7aとの間に存在する。
【0023】第1反射面4から結像点Pまでのずれの量
lが大きすぎると、第1反射面4の面倒れによる被走査
面14上の走査線のずれが大きくなり、逆に、ずれの量
lが小さいと、第1反射面4上での光ビームaの大きさ
が小さすぎて、回転多面鏡3の第1反射面4に存在する
傷,埃の影響によって光ビームaが散乱され、被走査面
14上に小さなビームスポットを形成することができな
くなる。この例では、ずれの量lを11mmとしている
が、この値が第1反射面4から第2反射面5までの伝達
光学系の光路長300mmに比べて十分に小さいため、
面倒れの補正効果は十分に得られる。
【0024】いま、結像点Pの第1反射面4からのずれ
の量lを11mm、伝達光学系の副走査方向の光学倍率
βdを1.57、走査光学系の副走査方向の光学倍率β
sを0.418、第1反射面4の面倒れθを3e−4
〔rad〕(0.0172°)とすると、被走査面14
上での走査線のずれδは、 δ=2・l・θ・βd・βs=0.00433〔mm〕 となって、この程度なら問題なく、また、この実施例で
は、第1反射面4に入射する光ビームaの直径は主走査
方向で0.84mm,副走査方向で0.13mmとなる
ため、第1反射面4での光ビームaの大きさは十分に大
きく、主走査方向,副走査方向の少なくとも一方向の光
ビームの直径が0.5mm以上あるため、反射面4、5
に存在する傷や埃の影響を受けることはない。
【0025】一方、この実施例では、第2反射面5近傍
の結像点Qは第2反射面5上に位置している。図2
(a)の伝達光学系7aは仮の存在であるが、第1反射
面4と第2反射面5は共役となる屈折力を有している。
第1反射面4からlだけずれた位置Pに結像する光ビー
ムaは、光ビームbとして仮の伝達光学系7aにより第
2反射面5の近傍に再び結像する。実際の第2反射面5
近傍の結像点は、第2反射面5と再び結像する位置Qを
含める。
【0026】図2(b),(c)は、伝達光学系7bに
より第1反射面4と第2反射面5とが完全に共役で、伝
達光学系7bによる結像点がQに一致し、これに続く走
査光学系12aによる第2反射面5と被走査面14との
関係が若干共役からずれていて、光ビームcが被走査面
14に結像する場合について示したものである。この場
合、図2(c)に示したように、第1反射面4の面倒れ
4´は完全に補正され、また、第2反射面5の面倒れ5
´によるずれは被走査面14にΔとして生じる。
【0027】図2(d),(e)は、伝達光学系7cに
よる第1反射面4と第2反射面5との関係が若干共役か
らずれて構成されている場合を示したもので、伝達光学
系7cによる結像点が第2反射面5に一致し、走査光学
系12bによる第2反射面5と被走査面14とが完全に
共役で、光ビームbが光ビームcとして被走査面14上
に結像する場合である。この場合は、逆に第2反射面5
の面倒れ5´は完全に補正され、主光線を破線で示して
いるが、第1反射面4による面倒れ4´は被走査面14
上にずれΔ´として生じる。従って、第2反射面5近傍
の結像点が第2反射面5と結像点Qとの間にあれば、第
1反射面4と第2反射面5の面倒れ4´,5´が逆方向
の場合、面倒れ4´,5´によるずれが打ち消されて被
走査面14上の走査線の位置ずれが小さくなり、また、
同方向であってもこのずれ量は図2(c),(e)に示
す場合と同じか、良くなるわけで、少なくとも悪くなる
ようなことはない。
【0028】他方、光ビームの主走査方向における伝達
光学系に必要な機能は、第1反射面4近傍のP点に結像
する光ビームaを平行ビームにして第2反射面5に導く
ことと、回転多面鏡3の回転に伴って第2反射面5上を
移動する光ビームbの移動が第2反射面5の移動に追従
することとの2つである。
【0029】図3は、この実施例の伝達光学系につい
て、その主走査方向の断面を展開して示したもので、2
枚のレンズ202,203で伝達光学系を構成すること
によってレンズ口径を小さくすることができる。従っ
て、伝達光学系に主走査方向の機能を持たせるには、主
走査方向に屈折力を有するレンズを2枚以上で構成する
ことが望ましい。
【0030】一方、副走査方向おいて伝達光学系に必要
な機能は、第1反射面4近傍の結像点Qに結像する光ビ
ームaを光ビームbとして第2反射面5の近傍に結像さ
せることのみであるから、副走査方向の機能からすれば
伝達光学系のレンズ枚数は1枚あればよく、このことか
ら、伝達光学系に主走査方向の機能と副走査方向の機能
の両方を持たせるには、3枚のレンズで構成すればよい
ことになる。この伝達光学系は、副走査方向に屈折力を
有するレンズと主走査方向に屈折力を有するレンズを組
み合わせて1枚にすれば、伝達光学系のレンズ枚数を2
枚にすることも可能で、この実施例では、以上のことか
ら第1伝達レンズ7,第2伝達レンズ9および第3伝達
レンズ10の3枚のレンズで伝達光学系を構成してい
る。
【0031】図6は、光ビームの光軸との交差に関する
本実施例の伝達光学系の主走査方向について示した図で
ある。回転多面鏡3は走査の期間、図示の位置を中心に
して角度θ1 だけ回転し、このため、第1反射面4で
は、光ビームを角度θ1 の2倍の2θ1 だけ偏向する。
偏向された光ビームbは伝達光学系としての第1伝達レ
ンズ7,第2伝達レンズ9および第3伝達レンズ10を
通過して、角度θ2 だけ偏向され、点Rで光軸Oと交差
し、交差した後に回転多面鏡3の第2反射面5に入射す
る位置で、偏向された光ビームbと光軸Oとの距離は回
転多面鏡3が角度θ1 だけ回転したときの反射面の移動
量δに等しくなる。
【0032】そしてこのとき、偏向された光ビームbは
回転多面鏡3の第2反射面5に対して角度θ2 だけ入射
角度が増大する側に偏向されため、第2反射面5で反射
された光ビームcを2・θ1 +θ2 だけ偏向することに
なり、回転多面鏡に一度入射させて偏向する方式の光走
査装置に比べて、光ビームの偏向角度をθ2 だけ増大さ
せることができる。
【0033】図5、図6は伝達光学系のミラー枚数と光
ビームの光軸との交差回数の関係を説明したものであ
る。伝達光学系に使用されるミラー枚数は第1伝達ミラ
ー8と第2伝達ミラー11の2枚で、図8(a)に破線
で示したように、この場合には光軸Oとの交差回数は1
回である。また、図5(b)で示したように、第1伝達
ミラー8,第2伝達ミラー11および第3伝達ミラー1
5の3枚のミラーを用いたものでは、図6(b)からも
分かるように、光軸Oとの交差回数は2回である。従っ
て、図5(a)に示した本実施例においては、回転多面
鏡3が回転したときの二度目の偏向で第2反射面5上で
の光ビームbの移動方向δと第2反射面5の移動方向が
同じとなって、第2反射面5に入射する光ビームbを第
2反射面5に確実に面追従させることができる。
【0034】図7から図11は伝達光学系で発生する光
ビームの回転の補正について示したものである。整形光
学系を介して光源1からの光ビームaが副走査方向に角
度をもって下方から、つまり回転多面鏡3の回転軸6に
対して直交する向きの下方から第1反射面4に入射され
て一度目の偏向が行われると、二度目の偏向の間の光路
が副走査方向に角度を持っているため、第2反射面5上
の光ビームbの座標系が回転してしまう。即ち、主走査
方向をy,副走査方向をx,光軸方向をzとする座標系
を持つ光ビームaは、副走査方向に角度をもって第1反
射面4で反射され、さらに、第1伝達ミラー8で反射さ
れて、図7に示したように、反射後の光ビームbの座標
系は回転してしまう。この光ビームbはさらに第2伝達
ミラー11で反射されて第2反射面5に入射すると、図
8に示したように、y方向と主走査方向や、x方向と副
走査方向との間に角度θのずれが生じてしまうことにな
る。
【0035】このように、光ビームbが回転多面鏡5で
二度の偏向が行われ光ビームcとなるときには、図9に
示したように、偏向された光ビームcの座標系は常に角
度θ傾いて、アナモルフィックな走査光学系で被走査面
14上に結像させても一点に結像せず、ビームスポット
の形状が崩れてしまう。
【0036】図10は、第1反射面4による一度目の偏
向後の光軸O1と第2反射面5による二度目の偏向前の
光軸O2 とのなす角度をγとし、第1反射面4および第
2反射面5への光ビームa、bの副走査方向の入射角を
それぞれα,βとしたときの光ビームbの回転角度θに
ついて示したものであって、回転多面鏡3の大きさに対
し第1反射面4から第2反射面5までの光路長が十分に
大きく、しかも1度目の偏向後の光軸O1と2度目の偏
向前の光軸O2の2等分線に関して対称であることを条
件としたものである。
【0037】この図からも明らかなように、副走査方向
における第1反射面4および第2反射面5への入射角
α、βが同じ場合で、γが180°の場合には回転角θ
はゼロになる。なお、光路長に対して回転多面鏡3の大
きさが無視できない場合には、第1反射面4および第2
反射面5への入射角α、βが異ると、回転角θの値は回
転多面鏡3の大きさに依存することになり、また、光路
が対称でない場合には入射角α、βが異なれば回転角θ
の値は変動する。
【0038】第1反射面4および第2反射面5への光ビ
ームaのそれぞれの入射角α、βのみを変更し、例えば
光ビームaの第1反射面4への入射角αを3°,光ビー
ムbの第2反射面への入射角βを6°とすると、走査端
の光ビームcによるビームスポット形状は、図11に示
したように、崩れた形状となり、この形状の崩れはビー
ムスポットの大きさに依存する。なお、入射角α、βを
同じにすれば、回転角θは0となって、ビームスポット
の形状が良好となる。
【0039】一方、γが180°で、第1反射面4と第
2反射面5が、図12に示したように平行な場合には、
図10のグラフからも明らかなように、光ビームの回転
角θは0となり、回転多面鏡3の第1反射面4で回転軸
6方向上方に偏向された光ビームbは、第1伝達ミラー
8で反射されて回転多面鏡3の直上を通過し、ついで回
転軸6と交差したあと第2伝達ミラー11で反射され
て、第2反射面5に回転軸6方向上方から入射し、ここ
で下方に偏向された光ビームcとなるが、この場合のビ
ームスポット形状は図13に示したように良好となる。
【0040】他方、図14乃至図18は、偏向で発生す
る光ビームの回転補正について示したものである。副走
査方向に角度をもたせて、つまり回転多面鏡3の回転軸
6に対して直角方向とは異なる角度をもたせて反射面に
入射させるタイプの光走査装置では、図14に示したよ
うに、主走査方向y,副走査方向x,光軸方向zの座標
系を有する光ビームbが第2反射面5に入射すると、こ
こで偏向された光ビームcは湾曲して座標系が回転して
しまう。この場合、走査中心の光ビームc0 は回転しな
いが、走査端の光ビームc1,c2は互いに異なる方向に
回転し、アナモルフィックな走査光学系で被走査面14
上に結像しても一点に結像せず、ビームスポットの形も
崩れることになる。
【0041】なお、本実施例では整形光学系の第1整形
レンズ2は光軸回りに回転対称なレンズなので、第1反
射面4に入射する光ビームaの結像は、主走査方向,副
走査方向とで区別がなく、従って、第1反射面4により
偏向された光ビームbの回転は問題とならない。
【0042】図15は、第2走査レンズ13を副走査方
向に偏心させて配置することにより補正を行う本実施例
について示したものである。この実施例での第2走査レ
ンズ13は、入射面が副走査方向に凸であるのに対して
主走査方向の曲率半径は極めて大きいためシリンドリカ
ル面とみなされる。この図に示したように、走査端を走
査する光ビームcは第2走査レンズ13の光軸に対して
斜めに入射するが、第2走査レンズ13が偏心して配置
されているため、光ビームcは副走査方向においても斜
めに入射する。
【0043】第2走査レンズ13に入射する光ビームc
の主光線に垂直なあらゆる方向のうち、入射面により最
も強い屈折力を受ける方向は入射面の周方向Lでなく、
周方向Lに対して角度φを持った方向Mで、その回転方
向は光ビームcの進行方向に向かって時計回りである。
第2走査レンズ13の副走査方向への偏心方向が逆の場
合、あるいは主走査方向の入射位置が光軸Oに関して反
対側の場合、あるいは入射面が副走査方向に凹であるよ
うな場合には、周方向Lに対する方向Mの回転方向は、
図20とは逆の反時計回りとなる。
【0044】周方向Lに対する角度φの大きさは、副走
査方向の偏心量,主走査方向の入射角,入射面の曲率半
径に依存する。それぞれの偏向角において、図14
(b)に示した光ビームcの回転方向と、図15に示し
た周方向Lに対する方向Mの回転方向が一致すれば、ビ
ームスポットの形は良好になり、図16に矢印Bで示し
た方向に第2走査レンズ13を偏心させて配置すれば良
い。
【0045】本実施例における第2走査レンズ13は、
副走査方向において伝達光学系の存在する側に向かって
2.67mm偏心させて配置されている。この第2走査
レンズ13は入射面が屈折力を有するが、射出面が凸の
正の屈折力を有するレンズであっても、同じ方向に偏心
させれば同様の効果が得られる。さらに、副走査方向に
負の屈折力を有するレンズであれば、逆方向に偏心させ
ることにより同様の効果が得られる。なお、走査中心の
光ビームc0 は偏向による座標系の回転が生じていない
ため、もともとビームスポットの形が崩れるという問題
は生ぜず、第2走査レンズ13が偏心しても周方向Lと
方向が一致するため、ビームスポットの形に影響を及ぼ
さない。
【0046】また、図17に示したように、第2走査レ
ンズ13aを主走査方向に平行な軸の回りに傾けて配置
すれば、副走査方向に偏心させた場合と同様に、光ビー
ムcが副走査方向に斜めに入射することになって同様の
効果が得られる。さらに、別の解決手段としては、図1
8に示したように、第2走査レンズ13bを副走査方向
に湾曲させて湾曲した中心線Nに光ビームcを沿わせる
ように入射させるようにすれば、それぞれの偏向角にお
ける回転した光ビームcの座標系とレンズの局所的な位
置での主軸方向と副軸方向の座標系とが一致してビーム
スポットの形が良好となる。
【0047】一方、走査線の湾曲補正については、図2
1に示したように、回転多面鏡3の第2反射面5に光ビ
ームbを副走査方向に角度を持たせて入射させると、反
射されて偏向した光ビームcは湾曲して走査中心では実
線のような光ビームc0となるが、走査端では破線のよ
うな光ビームc1,c2となる。ところが、副走査方向
において、回転多面鏡3の第2反射面5と被走査面14
が幾何光学的に共役関係にあると、走査中心の光ビーム
c0も走査端の光ビームc1,c2も被走査面14上で
は副走査方向において同じ位置となって走査線は直線と
なる。
【0048】本実施例では、第1伝達レンズ7と第1走
査レンズ12に、主走査方向の長さに対して副走査方向
には巾の短いレンズを使用している。このため、回転多
面鏡3へ入射する光ビームaは第1伝導レンズ7に干渉
せず、また、第2伝達ミラー11からの光ビームbも第
1走査レンズ12に干渉することなく、この分光ビーム
a、bの副走査方向の入射角を小さくすることができ、
これに伴って偏向された光ビームb、cの湾曲を小さく
することができて、第2伝達レンズ9,第3伝達レンズ
10,第2走査レンズ13の副走査方向の口径を小さく
することが可能になる。
【0049】さらに、図19に示したように、本実施例
では、第1伝達レンズ7と第1走査レンズ12の入射側
の副走査方向の口径を、これらの反射面の位置での回転
多面鏡3へ入射する光ビームa、bと、偏向された光ビ
ームb、cとの距離が一致するように構成している。こ
れにより、実線で示した走査中心の光ビームb0,c0に
対し、破線で示した副走査方向のずれが最大となる走査
端の光ビームb1 ,c1 及びb2 ,c2は、レンズ口径
がこれより大きいと干渉してしまい、これより小さいと
レンズの外側を通過してしまうことになって、光ビーム
b、cの副走査方向へのずれの許容値を最大にする。
【0050】図20は、走査領域のシフトについて示し
たもので、水平同期信号検出位置と走査終了位置が走査
光学系の光軸に関して対称であるように配置したことに
より、第1走査レンズ12の主走査方向の口径を小さく
することができる。
【0051】なお、本実施例では、図1に示したよう
に、水平同期レンズ82をビーム進行方向に向かって図
中矢印Cで示した方向に時計回りに2.4°傾けて配置
している。このため、回転した光ビームdの座標系と、
水平同期レンズ82の母線方向、周方向の座標系とが一
致して水平同期センサー83に導入される結果、検出精
度が向上する。
【0052】また、本実施例では、水平同期レンズ82
を傾けると同時に、水平同期センサー83を水平同期レ
ンズ82と同じ角度2.4°だけ矢印D方向に傾けて配
置するようにしている。このため、水平同期レンズ82
が傾いている場合でも、ビームスポットの走査方向も同
じ角度だけ傾くことになり、水平同期信号光ビームdが
水平同期センサー83上を垂直に走査することになっ
て、検出感度がさらに向上する。
【0053】図22は本発明の第2実施例を示したもの
で、このものは、回転多面鏡3の回転軸6に対してに垂
直な方向とは異なる角度に光ビームを入射させ、これを
一度だけ偏向させて走査するように構成したものであ
る。
【0054】即ち、光源として半導体レーザー1から射
出された光ビームaを、第1整形レンズ51および第2
整形レンズ52からなる整形光学系を透過させ、収束光
ビームaとして回転多面鏡3の反射面61に下方から入
射させた上、さらにこの反射面61により上方に反射さ
せた上、第1走査レンズ71および第2走査レンズ72
からなる走査光学系を透過させて被走査面14上にビー
ムスポットを形成させるようにしたもので、さらに、反
射面61からの光ビームbのうち走査端の光ビームdを
水平同期ミラー101で反射させて、水平同期レンズ1
02により水平同期センサー103上に結像させるよう
に構成したものである。
【0055】この実施例における第1整形レンズ51
は、光軸の回りに回転対称な非球面レンズとして構成さ
れ、第2整形レンズ52は副走査方向のみ屈折力を有す
るシリンドリカルレンズとして構成され、また、第1走
査レンズ71は球面レンズ、第2走査レンズ72はプラ
スチックス製レンズとしてその入射面は主走査方向で曲
率半径の大きな凹形状に形成され、かつ副走査方向は曲
率半径の小さな凸形状として形成されている。さらに、
主走査方向の断面曲線を、入射面よりも被走査面14側
にある主走査方向と平行な軸の回りに回転させることに
よって形成した鞍型トーリック面とし、射出面は、主走
査方向で曲率半径の大きな非円弧面とし、さらに、副走
査方向の断面は直線の非円弧シリンドリカル面として形
成されている。
【0056】表3は、このように構成された各部の具体
的な数について示したもので、アナモルフィック面は、
副走査方向,主走査方向の曲率半径をrix,riyと
して、また、非球面である面についての曲率半径は光軸
上の値を示している。
【表3】
【0057】また、第1整形レンズ51の非球面係数の
数式は先の数1に示すものと同じで、非球面係数は次の
表4に示す。
【表4】
【0058】この数値例において、1走査の走査開始か
ら走査終了までの回転多面鏡3の回転角2ωは31.7
°、回転多面鏡3への光ビームaの副走査方向の入射角
は6°、さらに、回転多面鏡3の面数は6面、回転多面
鏡3の内接円半径は17mm、半導体レーザー1からの
光ビームaの波長は800nmである。従って、先の第
1実施例と同様、回転多面鏡3の反射面61に入射する
光ビームaの入射角は、上方から斜めに副走査方向に角
度をもって入射するようになっているため偏向前の光ビ
ームaと偏向後の光ビームbは分離され、回転多面鏡3
の回転軸方向上下に隔離されて相互に干渉することはな
い。
【0059】また、回転多面鏡3の反射面61に向けて
副走査方向に角度をもって入射させるようにしているの
で、先の例と同様、偏向された光ビームbは湾曲し回転
してしまうが、光ビームbの走査端における回転の補正
は第1走査レンズ71を偏心して配置することによって
行うようにしている。また、この回転の補正は、第1走
査レンズ71を主走査方向に平行な軸(紙面に垂直)を
中心として傾けることにより行うようにしてもよく、さ
らには、この回転の補正を、走査レンズ71を副走査方
向に湾曲したレンズによって行うようにしてもよい。
【0060】水平同期レンズを傾けることについては、
先の例の偏向で発生する光ビームの回転補正で説明した
ように、この実施例では、図22に示したように、水平
同期レンズ102をビーム進行方向に向かって光軸回り
に矢印C方向に傾けて配置している。これにより、回転
したビームdの座標系と水平同期レンズ82の母線方
向、周方向の座標系とが一致し、ビームスポットの形の
崩れがない状態のもとで水平同期センサー103に導入
させて、検出精度を向上させることができる。
【0061】またこの実施例では、上記水平同期レンズ
102を傾けると同時に、水平同期センサー103を水
平同期レンズ102と同じ角度だけ矢印D方向に傾けて
配置するように構成している。このため、水平同期レン
ズ102が傾いている場合、水平同期センサー103上
をビームスポットが走査する方向も同じ角度だけ傾くこ
とになり、水平同期センサー103上を水平同期信号光
ビームdが走査することになって、検出感度が向上す
る。
【0062】これらの実施例では、走査器として回転多
面鏡を使用するものについて説明したが、回転多面鏡に
限らず少なくとも2面以上の反射面を有するものであれ
ばよく、また、これ以外に、回転2面鏡、回動軸を中心
に正弦振動を行なうガルバノミラーの表裏両面を使用す
るものでもよい。また、この装置はレーザープリンタに
用いた場合に特に有効であるが、その他にも、デジタル
複写機,ファクシミリ、レーザー走査ディスプレイなど
の画像形成装置や、スキャナなどの画像入力装置、ある
いは光学マーク読取用レーザー装置、表面検査用レーザ
ー走査装置などにも適用することができる。
【0063】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、走査
器の回転軸に対して直角な向きとは異なる角度をもって
走査器の反射面に入射させ、かつこの反射面から偏向さ
れて出射する光ビームが、走査端においてアナモルフィ
ックレンズの光軸から、副走査方向に隔離した位置を透
過するように、また、アナモルフィックレンズの光軸に
対して角度をもって入射するように構成したので、偏向
により光ビームが回転しても、走査端でのビームスポッ
トの崩れを最小限に留めて、常に良好な画像形成を図る
ことができる。。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示した光走査装置の斜視図
である。
【図2】(a)乃至(e)は、いずれも副走査方向の面
倒れと走査位置が一定となることを説明するための展開
図である。
【図3】伝達光学系の副走査方向の展開図。
【図4】光ビームの交差を説明するための伝達光学系の
主走査方向の展開図である。
【図5】(a),(b)は、伝達光学系のミラー枚数と
光ビームの交差を説明するための平面図である。
【図6】(a),(b)は、図5の伝達光学系の主走査
方向の展開図である。
【図7】伝達光学系で発生する光ビームの回転を説明す
るための側面図である。
【図8】光ビームの回転を説明するための回転多面鏡の
側面図である。
【図9】同上回転多面鏡の側面図である。
【図10】回転角度と第1反射面と第2反射面の光軸の
なす角との関係を示したグラフである。
【図11】ビームスポットの等強度線図である。
【図12】走査の光路を示した側面図である。
【図13】ビームスポットの等強度線図である。
【図14】(a),(b)は、第2反射面での光ビーム
の回転を説明するための斜視図、および座標系を示す説
明図である。
【図15】走査レンズの偏心を説明するための第2走査
レンズの一部の斜視図である。
【図16】走査レンズの偏心を説明するための第2走査
レンズの正面図である。
【図17】走査レンズの偏心を説明するための第2走査
レンズの側面図である。
【図18】走査レンズの偏心を説明するための第2走査
レンズの正面図である。
【図19】走査線の湾曲補正を説明するための説明図で
ある。
【図20】走査領域のシフトを説明するための説明図で
ある。
【図21】走査線の湾曲補正を説明するための説明図で
ある。
【図22】第2実施例の光走査装置の構成を示す斜視図
である。
【符号の説明】
1 光源(半導体レーザー) 2 整形レンズ 3 回転多面鏡 4 第1反射面 5 第2反射面 6 回転軸 7 第1伝達レンズ 8 第1伝達ミラー 9 第2伝達レンズ 10 第3伝達レンズ 11 第2伝達ミラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野村 雄二郎 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 高田 球 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ビームを発生する光源と、前記光源か
    らの光ビームを回転軸の回りを回転する反射面によって
    偏向させる走査器と、前記反射面により反射され偏向さ
    れた光ビームを被走査面上にビームスポットとして形成
    させて走査し、かつ副走査方向に屈折力を有するアナモ
    ルフィックレンズを含む走査光学系と、を備えた光走査
    装置において、 前記走査器の回転軸に対して直角方向とは異なる角度で
    前記光源から前記反射面に入射して偏向された光ビーム
    が、走査端において前記アナモルフィックレンズの光軸
    から副走査方向に隔離した位置を透過するように構成し
    たことを特徴とする光走査装置。
  2. 【請求項2】 光ビームを発生する光源と、前記光源か
    らの光ビームを回転軸の回りを回転する反射面によって
    偏向させる走査器と、前記反射面により反射され偏向さ
    れた光ビームを被走査面上にビームスポットとして形成
    させて走査し、かつ副走査方向に屈折力を有するアナモ
    ルフィックレンズを含む走査光学系と、を備えた光走査
    装置において、 前記走査器の回転軸に対して直角方向とは異なる角度で
    前記光源から前記反射面に入射して偏向された光ビーム
    が、前記アナモルフィックレンズの光軸に対して角度を
    持って入射するように構成したことを特徴とする光走査
    装置。
JP19557399A 1999-07-09 1999-07-09 光走査装置 Pending JP2000028954A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19557399A JP2000028954A (ja) 1999-07-09 1999-07-09 光走査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19557399A JP2000028954A (ja) 1999-07-09 1999-07-09 光走査装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15801097A Division JP2982744B2 (ja) 1997-05-30 1997-05-30 光走査装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000028954A true JP2000028954A (ja) 2000-01-28

Family

ID=16343386

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19557399A Pending JP2000028954A (ja) 1999-07-09 1999-07-09 光走査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000028954A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020003585A (ja) * 2018-06-27 2020-01-09 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 光走査装置及び該光走査装置を備えた画像形成装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020003585A (ja) * 2018-06-27 2020-01-09 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 光走査装置及び該光走査装置を備えた画像形成装置
JP7099083B2 (ja) 2018-06-27 2022-07-12 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 光走査装置及び該光走査装置を備えた画像形成装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8009186B2 (en) Image forming apparatus
US6445483B2 (en) Optical scanning apparatus
JPH02186317A (ja) 光走査装置におけるfθレンズ系
JP2804512B2 (ja) 光走査装置におけるfθレンズ系
JP3840723B2 (ja) 光走査装置
US5239403A (en) Optical deflector device for deflecting laser beam
JP3680876B2 (ja) 光走査装置
JPH1020235A (ja) 光走査装置
JP2000028954A (ja) 光走査装置
JP3719301B2 (ja) 光走査装置
JPH0553067A (ja) 光走査用レンズおよび光走査装置
JP2982744B2 (ja) 光走査装置
JP3680877B2 (ja) 光走査装置
JPH11258532A (ja) 光走査装置
JP3680893B2 (ja) 光走査装置
JPH09203875A (ja) 光走査装置
JPH0943529A (ja) 光走査光学装置
JP3656698B2 (ja) 光走査装置
JP3680891B2 (ja) 光走査装置
JP2834793B2 (ja) 光走査装置におけるfθレンズ系
JP2000121983A (ja) レーザー走査装置
JP3680921B2 (ja) 光走査装置
JPH05127111A (ja) 走査式描画装置
JPS5837616A (ja) 光ビ−ム走査装置
JP2790839B2 (ja) 光走査装置におけるfθレンズ系

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20020410