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また請求項5に係る発明は、光源(1)からの光(L)を被照明面(M)へ導く照明光学系(2〜19)を有する照明装置において、照明光学系(2〜19)の光軸(Z2)から離れた被照明面(M)に沿った所定の位置に照明領域(20)を形成する偏向手段(17、21)を配置したことを特徴とする照明装置である。その際、照明光学系(2〜19)は、被照明面(M)に関してフーリエ変換の関係にある所定のフーリエ面(9)を有し、偏向手段(17、21)は、フーリエ面(9)の近くに配置されていることが好ましい。
更に、照明光学系(2〜19)は、光源(1)からの光(L)に基づいてフーリエ面(9)に多数の光源を形成するオプティカルインテグレータ(16)と、オプティカルインテグレータ(16)により形成される多数の光源からの光(L)を集光して被照明物体を照明するコンデンサー光学系(18、19)とを有し、光学手段(17、21)は、オプティカルインテグレータ(16)により形成される多数の光源からの光の進行方向を偏向させる光学素子(21)を有することが好ましい。また本発明は、以上の構成より成る照明装置と、照明装置によって照明される被照明面に設定されたマスク(M)のパターンを感光性基板(W)へ投影する投影光学系(12〜14)とを有することを特徴とする投影露光装置である。
また、請求項9に係る発明は、光源からの光でマスク(M)を照明する照明光学系(2〜19)と、マスク(M)のパターンを感光性基板(W)へ投影する投影光学系(13)とを備えた投影露光装置において、照明光学系(2〜19)は、投影光学系(13)の光軸から離れかつマスク(M)が設定される被照明面に沿った所定の位置に照明領域を形成することに関係する光学部材(8、11、18、19)を有し、光学部材(8、9)は、照明光学系の光軸(Z1)に対してシフトした光学部材を有することを特徴とする投影露光装置である。
また、請求項11に係る発明は、光源からの光でマスクを照明する照明光学系(2〜19)と、マスク(M)のパターンを感光性基板(W)へ投影する投影光学系(13)とを備えた投影露光装置において、照明光学系(2〜19)は、投影光学系(13)の光軸から離れかつマスク(M)が配置させる面に沿った所定の位置に照明領域を形成することに関係する偏向手段(21、22、DM1、DM2)を有することを特徴とする投影露光装置である。

Claims (18)

  1. 光源からの光を被照明面へ導く照明光学系を有する照明装置において、前記照明光学系は、前記被照明面に関して光学的に共役な所定の共役面と、前記光源と前記共役面との間に配置された第1光学系と、前記共役面と前記被照明面との間に配置された第2光学系とを有し、前記第1光学系の光軸と前記第2光学系の光軸とが前記共役面を境にシフトしていることを特徴とする照明装置。
  2. 前記第1光学系は、前記光源からの光に基づいて多数の光源を形成して前記共役面を照明する多光源形成手段を有し、前記第2光学系は、前記多光源形成手段により照明された前記共役面からの光を集光して前記被照明面を照明するコンデンサー光学系を有することを特徴とする請求項1に記載の照明装置。
  3. 前記多光源形成手段は、内面反射型のロッド状のオプティカルインテグレータを有し、前記内面反射型のロッド状のオプティカルインテグレータの射出面は、前記共役面とほぼ一致していることを特徴とする請求項2に記載の照明装置。
  4. 前記多光源形成手段は、多数の光学素子を有するオプティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレータと前記共役面との間に配置されたコリメート光学系とを有し、前記コリメート光学系の被照明面側の焦点面は、前記共役面とほぼ一致していることを特徴とする請求項2に記載の照明装置。
  5. 光源からの光を被照明面へ導く照明光学系を有する照明装置において、前記照明光学系の光軸から離れた前記被照明面に沿った所定の位置に照明領域を形成する偏向手段を配置したことを特徴とする照明装置。
  6. 前記照明光学系は、前記被照明面に関してフーリエ変換の関係にある所定のフーリエ面を有し、前記偏向手段は、前記フーリエ面の近くに配置されていることを特徴とする請求項5に記載の照明装置。
  7. 前記照明光学系は、前記光源からの光に基づいて前記フーリエ面に多数の光源を形成するオプティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレータにより形成される多数の光源からの光を集光して被照明物体を照明するコンデンサー光学系とを有し、前記偏向手段は、前記オプティカルインテグレータにより形成される多数の光源からの光の進行方向を偏向させる光学素子を有することを特徴とする請求項6に記載の照明装置。
  8. 請求項1〜7記載のいずれか1項記載の照明装置と、前記照明装置によって照明される前記被照明面に設定されたマスクのパターンを感光性基板へ投影する投影光学系とを有することを特徴とする投影露光装置。
  9. 光源からの光でマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを感光性基板へ投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、
    前記照明光学系は、前記投影光学系の光軸から離れかつ前記マスクが設定される被照明面に沿った所定の位置に照明領域を形成することに関係する光学部材を有し、
    前記光学部材は、前記照明光学系の光軸に対してシフトした光学部材を有することを特徴とする投影露光装置。
  10. 前記光学部材は、前記マスクが設定される前記被照明面と、前記被照明面に関して光学的に共役な所定の共役面との間の照明光路に配置されることを特徴とする請求項9記載の投影露光装置。
  11. 光源からの光でマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを感光性基板へ投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、
    前記照明光学系は、前記投影光学系の光軸から離れかつ前記マスクが設定される被照射面に沿った所定の位置に照明領域を形成することに関係する偏向手段を有することを特徴とする投影露光装置。
  12. 前記偏向手段は、前記マスクが設定される前記被照明面に関して光学的に共役な所定の共役面の近くに配置されることを特徴とする請求項11に記載の投影露光装置。
  13. 前記偏向手段は、前記楔型プリズムを有することを特徴とする請求項11 記載の投影露光装置。
  14. 前記偏向手段は、偏向ミラーを有し、
    前記偏向ミラーは、前記投影光学系の光軸から離れかつ前記マスクが設定される被照明面に沿った所定の位置に照明領域を形成するように所定の角度で斜設されることを特徴とする請求項11に記載の投影露光装置。
  15. 前記偏向ミラーは、前記マスクが設定される前記被照明面と、前記被照明面に関して光学的に共役な所定の共役面との間の照明光路に配置されることを特徴とする請求項14に記載の投影露光装置。
  16. 前記偏向手段は、前記マスクが設定される前記被照明面に関してフーリエ変換の関係にある面に配置されることを特徴とする請求項13乃至請求項15のいずれか1項に記載の投影露光装置。
  17. 前記投影光学系は、凹面鏡を有することを特徴とする請求項9乃至請求項16のいずれか1項に記載の投影露光装置。
  18. 請求項9乃至請求項16のいずれか1項に記載の投影露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光方法。
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