JPH0697047A - 照明光学系 - Google Patents

照明光学系

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JPH0697047A
JPH0697047A JP4242486A JP24248692A JPH0697047A JP H0697047 A JPH0697047 A JP H0697047A JP 4242486 A JP4242486 A JP 4242486A JP 24248692 A JP24248692 A JP 24248692A JP H0697047 A JPH0697047 A JP H0697047A
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JP
Japan
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light source
optical system
axis
reflecting mirror
light
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Application number
JP4242486A
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English (en)
Inventor
Osamu Tanitsu
修 谷津
Koji Mori
孝司 森
Hideo Hirose
秀男 広瀬
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Publication of JPH0697047A publication Critical patent/JPH0697047A/ja
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】従来よりも格段に照明効率が高く、より高いス
ループット化にも十分に対応でき、しかもケーラー照明
が実現できる高性能な照明光学系の実現。 【構成】所定の大きさの光源像または所定の大きさの光
源を形成する光源手段と、該光源手段からの光束を集光
して被照明物体を照明する集光光学系とを有する照明光
学系において、前記集光光学系は、前記光源像または前
記光源からの光束を平行光束に変換して前記被照明物体
上を円弧状に照明する特殊反射鏡を有し、該特殊反射鏡
は、放物線の頂点から該放物線の対称軸に沿って所定の
距離だけ隔てた位置を該対称軸に対して垂直に通る基準
軸を中心に回転させた放物トーリック形状の回転体の1
部より構成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、被照明物体を円弧状に
照明する照明光学系に関するものであり、特に、ミラー
プロジエクション方式によりフォトマスク(マスク又は
レチクル)上の回路パターンを反射型等の投影光学系を
介してウエハ等の基板上に転写する際に好適な装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の照明光学系を備えた半導
体製造用の露光装置は、物体面としてのフォトマスク
(以下、マスクと称する。)面上に形成された回路パタ
ーンを投影光学系を介してウエハ等の基板(以下、ウエ
ハと称する。)上に投影転写される。この投影光学系は
凹面鏡と凸面鏡との2つの反射鏡を有しており、投影光
学系の軸外の円弧状の良像領域のみが利用されて、マス
ク上の円弧領域のみがウエハ上に投影転写される。従っ
て、マスク全体の回路パターンのウエハ上への転写は、
マスクとウエハとを一定方向に走査することにより行わ
れている。
【0003】この走査方式の露光によって、比較的高い
スループットでしかも高解像力が得られるという利点が
ある。この種の露光装置においては、マスク上の円弧領
域全体を均一でしかも一定の開口数(NA)で照明でき
る照明光学系が望まれており、特開昭60-232552 号公報
には、マスク上を円弧状に均一照明できる照明光学系が
提案されている。
【0004】この特開昭60-232552 号公報にて提案され
ている照明光学系では、図11(A)に示す如く、超高
圧水銀灯21からの光束を楕円鏡22によってオプティ
カルインテグレータ23の入射面上で集光している。そ
して、このオプティカルインテグレータ23は、図11
(B)に示す如く、焦点距離f1 のシリンドリカルレン
ズの集合体(23a,23d)と焦点距離f2 のシリン
ドリカルレンズの集合体(23b,23c)とを2枚ず
つ組み合わせられて構成されており、これにより直交方
向において異なる開口数の光束を形成している。オプテ
ィカルインテグレータ23を介した光束は、コンデンサ
ーレンズ24により集光されて、図11(C)に示す如
き円弧状開口部25aを有するスリット板25を照明
し、その後、集光光学系26を介して被照明面であるマ
スク27上を均一に照明する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、特開昭60-2
32552 号公報にて提案されている照明光学系では、図1
1(C)に示す如く、スリット板25上の円弧状開口部
25aを少なくとも照射するように長方形状の領域BF
を照明しているため、円弧照明として利用される光束は
僅かである。
【0006】一般に、円弧状の弦長は、露光領域を大き
くするために長く設定され、また円弧状のスリット幅2
5bはマスクをウエハ上に投影するミラー投影光学系の
良像領域の制約から比較的狭く設定されている。従っ
て、照明効率は、円弧状開口部25aと長方形状の照射
領域BFとの面積比で決定されるため、図11に示す照
明光学系は、原理的に光量損失が大きいという致命的な
欠点を有している。この結果、被照明面(マスク及びウ
エハ)上では光量が得られないため、より高いスループ
ットには対応できない問題がある。
【0007】そこで、本発明は、上記の問題を全て解決
し、従来よりも格段に照明効率が高く、より高いスルー
プット化にも十分に対応でき、しかもケーラー照明が実
現できる高性能な照明光学系を提供することを目的とし
ている。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、図5に示す如
く、所定の大きさの光源像または所定の大きさの光源を
形成する光源手段と、該光源手段からの光束を集光して
被照明物体を照明する集光光学系とを有する照明光学系
において、前記集光光学系は、前記光源像または前記光
源からの光束を平行光束に変換して前記被照明物体上を
円弧状に照明する特殊反射鏡を有し、該特殊反射鏡は、
放物線の頂点から該放物線の対称軸に沿って所定の距離
だけ隔てた位置を該対称軸に対して垂直に通る基準軸を
中心に回転させた放物トーリック面形状の回転体の1部
で構成されるようにしたものである。
【0009】
【作 用】上述した本発明の目的を達成するために、照
明光学系を全て屈折系で構成することを各種検討した
が、円弧状の遮光スリット板を用いることなく円弧状の
照明領域を被照射面上に形成しつつケーラー照明を実現
することは困難であることが判明した。
【0010】そこで、本発明では、照明光学系に特殊反
射鏡を採用することによって本発明の目的を達成し得る
照明光学系の実現を初めて可能としている。図1及び図
2には、本発明の照明光学系に適用している特殊反射鏡
の構成を示しており、図1は特殊反射鏡のメリジオナル
方向での断面図、図2は特殊反射鏡の斜示図である。
【0011】図1には、放物線をPAとし、この放物線
PAの頂点Oを原点、この頂点Oを通る放物線PAの対
称軸Ax0 をY軸、この対称軸Ax0 (以下、Yと称す
る。)と直交して頂点Oを通る軸をX軸として示してい
る。図1に示す如く、特殊反射鏡3のメリジオナル方向
での断面は、放物線PAの1部をなしており、この特殊
反射鏡3は、頂点Oから対称軸Yに沿った所定の距離だ
け隔てた位置Y0 をその対称軸Yに対して垂直に通る基
準軸(回転軸)Ax 1 を中心に回転させた放物トーリッ
ク形状の回転体の1部より構成されている。すなわち、
図2に示す如く、特殊反射鏡3は、その放物トーリック
形状の回転体の2つの緯線31,32で挟まれる帯状領
域の1部で構成され、円弧状の形状をなしている。
【0012】図1に戻ってメリジオナル方向での光束に
関する特殊反射鏡3の機能を説明する。なお、メリジオ
ナル光束とは特殊反射鏡3の基準軸Ax1 を含む平面内
の光束を意味し、サジタル光束とはメリジオナル平面と
直交する平面内の光束を意味する。今、不図示の光学系
により所定の大きさの光源像I(または所定の大きさを
持つ光源)を基準軸Ax0 上の所定の位置に形成する
と、この光源像I(または光源)上の任意の1点からの
光束は特殊反射鏡3の集光作用によって平行光束に変換
される。
【0013】例えば、光源像I(または光源)の中心a
からの光束は特殊反射鏡3により平行光束に変換されて
被照明面の領域BA0 上を垂直に照明し、光源像I(ま
たは光源)の下方bからの光束は特殊反射鏡3により平
行光束に変換されて被照明面の領域BA0 上を右斜め方
向から照明する。そして、光源像I(または光源)の上
方bからの光束は特殊反射鏡3により平行光束に変換さ
れて被照明面の領域BA0 上を左斜め方向から照明す
る。
【0014】この様に、光源像I(または光源)の各位
置からの光束は、特殊反射鏡3により平行光束に変換さ
れて被照明面の領域BA0 上を重畳的に均一照明してい
る。また、この時の特殊反射鏡3によるメリジオナル方
向での開口数を見ると、光軸Ax20に平行な光源像I
(または光源)からの平行光束(実線で示す光束)は特
殊反射鏡3により開口数NAM (=sin θM ) のもとで被
照明面の領域BA0 上の中心に集光され、光軸Ax1
対して発散角ε1 を持つ光源像I(または光源)からの
平行光束(点線で示す光束)は特殊反射鏡3により開口
数NAM のもとで被照明面の領域BA0 上の左端で集光
される。そして、発散角ε1 とは反対方向で発散角ε1
と等しい角度の発散角ε2 (=ε1 )を持つ光源像I
(または光源)からの平行光束(点線で示す光束)は特
殊反射鏡3により開口数NAM のもとで被照明面の領域
BA0 上の右端で集光される。なお、光軸Ax20は特殊
反射鏡3により90度折り曲げられる。
【0015】従って、光源像I(または光源)からの任
意の発散角を持つ平行光束は、被照明面の領域BA0
のメリジオナル方向でのどの位置でも一定の開口数NA
M のもとで集光され、しかも光源像I(または光源)か
らの平行光束の主光線(Pa,Pb ,Pc )は、光軸A
20に対して常に平行でテレセントリック性が維持され
ていることが理解できる。
【0016】次に、図2を参照しながらサジタル方向で
の特殊反射鏡3の機能を説明すると、基準軸Ax1 上に
形成される光源像I(または光源)からの平行光束L0
は特殊反射鏡3によって被照明面の領域BA0 上で集光
され、平行光束L0 よりも角度ψだけ傾いた発散角を持
って出射する光源像I(または光源)からの平行光束L
1 は、特殊反射鏡3によって被照明面の領域BA1 上で
集光される。
【0017】ここで、被照明面の領域BA1 を形成する
光源像Iからの光束の内のメリジオナル方向の光束につ
いて見ると、図1の場合と同様に、光源像I(または光
源)からの任意の発散角を持つ平行光束は、被照明面の
領域BA1 上のメリジオナル方向でのどの位置でも一定
の開口数θM のもとで集光され、しかも光源像I(また
は光源)からの平行光束の主光線は、光軸Ax21に対し
て常に平行となり、テレセントリック性が維持される。
【0018】従って、基準軸Ax1 上に形成される光源
像I(または光源)から平行光束が、特殊反射鏡3の円
弧方向(放物トーリック形状の回転体の緯線31,32
方向)へ放射状に出射してもテレセントリック性が維持
された状態で円弧状の照明領域BFが形成される。ま
た、円弧状の照明領域BFは被照射面に相当し、この被
照射面に対して光源像又は光源が無限遠位置に存在す
る。この時、後で詳述するが、この被照射面の下方に設
には、入射側にテレセントリックな投影光学系が設けら
れており、この投影光学系の入射瞳位置に光源像が形成
される。従って、被照射面は、所謂、ケーラー照明され
ることが理解できる。
【0019】さて、次に図3を参照しながら、以上に述
べた事を数式を用いて解析検討し、さらには特殊反射鏡
の最適な形状、光源像I(または光源)の最適な位置及
び照明領域BFの最適な位置について検討する。図3
(A)に示す如く、特殊反射鏡3の反射面は、メリジオ
ナル方向において、放物線PAの頂点OをXY座標の原
点とした2次関数、即ちy=αx2 (但し、αは定数)
で表現できる面を有しているものとし、まずメリジオナ
ル方向におけるY軸に平行な光線について検討する。
【0020】I)メリジオナル方向におけるY軸に平行
な光線 放物線PA(=y=αx2 )上での任意の点における法
線ベクトルTは、以下の(1)式の如くなる。
【0021】
【数1】
【0022】図3(A)の紙面内においてY軸に平行な
単位ベクトルS1 をS1 =(0,1)とし、この単位ベ
クトルS1 と放物線PA(y=αx2 )との交点を
(u,αu2 )、放物線PAによる反射後の単位ベクト
ルS1'をS1'=(SX1,SY1)とすると、次式(2)の
如くなる。
【0023】
【数2】
【0024】従って、(1)式及び(2)式より、反射
後の単位ベクトルS1'は、(3)式の如くなる。
【0025】
【数3】
【0026】ここで、反射後の単位ベクトルS1'に平行
で放物線PA上の点(u,αu2 )を通る直線を考える
と、次式(4)及び(5)の如くなる。
【0027】
【数4】
【0028】
【数5】
【0029】但し、tは変数である。図3(A)に示す
如く、放物線PA上の点(u,αu2 )を反射した光束
はx=0の時にはy軸との交わるため、この位置を求め
る。上式(4)より、x=SX1t+u=0となり、t=
−u/SX1となり、このtの値を上式(5)に代入し
て、上式(3)の関係を用いて、変形すると次式(6)
の如くなる。
【0030】
【数6】
【0031】従って、(6)式より、uがいかなる値を
とっても、単位ベクトルS1 と平行、即ちY軸と平行な
メリジオナル面内での光線は、Y軸上の点(0,(4α)
-1)に集光され、この集光位置が被照射面となることか
理解できる。なお、図1に示した如く、光軸Ax20上を
進行する光線は、放物線PA上の点((2α) -1,(4α)
-1) で90°反射転向するが、この反射点から被照射面
までの距離(2α) -1が特殊反射鏡3の焦点距離となる。
【0032】II)メリジオナル方向におけるX軸に平行
な光線 次に、メリジオナル方向でのX軸に平行な光線につい
て、図3(B)を参照しながら検討する。上述の如く、
Y軸上の点(0,(4α) -1)からの光線が放物線PA上
の点c((2α) -1,(4α) -1)で反射する時、この光線
はY軸に平行となるので、この点cに対して放物線PA
上でのΔx,Δyだけ離れた位置p0((2α) -1+Δx,
(4α) -1+Δy)で反射する光線が直線x=(2α) -1
交わる位置Fを求める。
【0033】今、図3(B)の紙面内でX軸に平行な単
位ベクトルS2 をS2 =(1,0)として、放物線PA
による反射後の単位ベクトルS2'をS2'=(SX2
Y2)とすると、次式(7)の如くなる。
【0034】
【数7】
【0035】従って、(1)式及び(7)式より、反射
後の単位ベクトルS2'は(8)式の如くなる。
【0036】
【数8】
【0037】そして、原点O(0,0)から点p0((2
α) -1+Δx,(4α) -1+Δy)までのベクトルを位置
ベクトルP0 とし、原点O(0,0)から位置Fまでの
ベクトルをP、点p0 から位置Fまでの距離をrとする
と、次式(9)の関係が成立する。
【0038】
【数9】
【0039】ここで、ベクトルPをP=(PX
Y )、PX =(2α) -1すると次式(10)の如くな
る。
【0040】
【数10】
【0041】この(10)式を変形すると、以下の(1
1)式として表せる。
【0042】
【数11】
【0043】今、Δxが限りなく零に近づくとして、
(11)式の極限を考えると、以下の(12)式の如く
なる。
【0044】
【数12】
【0045】この様に、(12)式から明らかな如く、
単位ベクトルS2 に平行な光線、即ちX軸に平行な光線
は、放物線PAにより位置F((2α) -1,(4α) -1+(2
α) -1)を焦点位置として集光し、この関係は近軸領域
で成立していることが理解できる。従って、位置Fに光
源あるいは光源像が形成されていれば、この位置Fから
発散する光束は特殊反射鏡3の反射面により平行光束に
変換されて被照射面(点(0,(4α) -1)及びこの点の
近傍のY軸上の領域を照明できることが分かる。しか
も、光源あるいは光源像の中心(0,(4α) -1)にから
発散する光線は、特殊反射鏡3を介すると常にX軸と平
行になり、換言すれば、被照射面側から特殊反射鏡3を
見たときの特殊反射鏡3の射出瞳は無限遠に位置するこ
とになるため、テレセントリック性が維持されているこ
とが理解できる。
【0046】III)Y軸に平行でx=(2α) -1のサジタ
ル方向の光線 次に、図3(C)及び図3(D)を参照しながらサジタ
ル方向における光線について検討する。図3(C)はX
Y平面(メリジオナル面)内での様子を示しており、図
3(D)は、図3(C)のAA’方向からの矢示図であ
り、YZ平面に平行でx=(2α) -1の高さにある平面内
での様子を示している。
【0047】図3(C)及び(D)に示す如く、Y軸に
平行でx=(2α) -1上を通る光線を考え、特殊反射鏡の
反射面3aを反射する点p3 をp3 =((2α) -1,
y3, P z3)とし、基準軸Ax1 と反射点p3 とを結ぶ
距離をq、基準軸Ax1 と反射点p3 とを結ぶ直線が原
点Oを含むYZ平面に対してなす角をψとすると、Py3
及びPz3はそれぞれ(13)式及び(14)式の如く表
現できる。
【0048】
【数13】
【0049】
【数14】
【0050】一方、反射点p3 での法線ベクトルTは、
次式(15)の如く表現できる。
【0051】
【数15】
【0052】今、Y軸に平行でx=(2α) -1上を通る光
線の単位ベクトルS3 をS3 =(0,−1,0)とし
て、反射面3a上の点p3 による反射後の単位ベクトル
3'をS3'=(SX3,SY3,Sz3)とすると、次式(1
6)の関係が成立する。
【0053】
【数16】
【0054】従って、(15)式及び(16)式より、
反射後の単位ベクトルS3'は(17)式の如くなる。
【0055】
【数17】
【0056】ここで、反射後の単位ベクトルS3'に平行
で反射点p3 を通る直線の式を考えると、それぞれ(1
8)式,(19)式及び(20)の如くなる。
【0057】
【数18】
【0058】
【数19】
【0059】
【数20】
【0060】但し、tは変数である。今、図3(D)に
示す如く、反射後の単位ベクトルS3'に平行で反射点p
3 を通る直線が原点Oを含むYZ平面と交わる位置を求
める。この時、x=0であるため、上記(18)式のx
=0とすると、t=−1/(2αSX3)となり、このt
の値を上式(19)に代入して、(17)式の関係を用
いて、変形すると(21)式の如くなる。
【0061】
【数21】
【0062】この(21)式よりから分かる如く、cos ψ
≒1、即ち図3(D)に示す如くP z3≒0の時のYZ平
面での近軸領域ではy=(4α)-1となる。また、t=−
1/(2αSX3)を(20)式に代入して変形すると
(22)式の如くなる。
【0063】
【数22】
【0064】この(22)式より、基準軸Ax1 を中心と
した円弧状の反射面3aの半径q=(2α)-1の時、即ち
原点Oに対する基準軸Ax1 の回転半径が3(4α)
-1(=(2α)-1+(4α)-1)の時には、Pz3の値とは無
関係にz=0となる。この様に、原点Oに対する基準軸
Ax1 の回転半径を3(4α)-1とした場合には、図3
(D)に示す如くYZ平面に平行でx=(2α)-1の高さ
にある平面内におけるY軸に平行なサジタル方向の光線
は、近軸領域において前述したメリジオナル方向の光線
と同じ位置(0、(4α)-1、0)に集光することが理解
できる。
【0065】IV)X軸に平行なサジタル方向の光線 最後に、図3(E)及び図3(F)を参照しながらX軸
に平行で図3(C)及び図3(D)に示した反射点p3
を反射するサジタル方向における光線について検討す
る。図3(E)はXY平面(メリジオナル面)内での様
子を示しており、図3(D)は、図3(F)のAA’方
向からの矢示図であり、YZ平面に平行で=(2α) -1
高さにある平面内での様子を示している。
【0066】図3(E)及び(F)に示す如く、X軸に
平行で反射点p3 へ向かう光線の単位ベクトルP4
(1,0,0)とし、反射面3a上の点p3 による反射
後の単位ベクトルS4'をS4'=(SX4,SY4,Sz4)と
すると、次式(23)の関係が成立する。
【0067】
【数23】
【0068】従って、(15)式及び(23)式より、
反射後の単位ベクトルS4'は(24)式の如くなる。
【0069】
【数24】
【0070】ここで、反射点p3 を通って反射後の単位
ベクトルS4'と平行な直線の式を考えると、それぞれ
(25)式,(26)式及び(27)式の如くなる。
【0071】
【数25】
【0072】
【数26】
【0073】
【数27】
【0074】今、図3(E)及び(F)に示す如く、反
射点p3 を反射する光線が原点Oを含むXY平面(図3
(E)の紙面内)で交わる点を求める。この時、z=0
であるので、(27)式のz=0とすると、t=−qsi
n ψ/Sz4となり、このtの値を上式(26)に代入し
て、(24)式及び(22)式の関係を用いて、変形す
ると(28)式の如くなる。
【0075】
【数28】
【0076】従って、X軸に平行で反射点p3 を通るサ
ジタル方向の光束は、点F((2α) -1,3(4α)-1
0)に集光するため、上記IIで説明した如くメリジオナ
ル方向におけるX軸に平行な光線の集光位置と一致し、
この関係は、収差が無い状態で近軸領域外で成立するこ
とが理解できる。よって、光源像又は光源の中心の点F
((2α)-1,3(4α)-1,0)からの発散光束は、XZ
平面に対して常に平行となるため、平行光束が被照射面
を円弧状に照明し、この円弧状の被照射面にわたってテ
レセントリック性が維持されていることが理解できる。
【0077】以上の解析検討の結果、放物線(y=αx
2 )の頂点Oを原点として、この原点Oを通る対称軸と
平行な方向をY軸、放物線の頂点Oから対称軸に沿って
所定の距離だけ隔てた位置を対称軸Yに対して垂直に通
る基準軸Ax0 に平行で頂点Oを通る方向を方向をX
軸、基準軸Ax0 及び対称軸Yに対して垂直で頂点Oを
通る方向をz、基準軸Ax0 と対称軸Yとの交点から頂
点Oまでの距離をRとするとき、特殊反射鏡3は、以下
の(29)式及び(30)式を満足する放物トーリック
形状の回転体の1部で構成されることが好ましい。
【0078】
【数29】
【0079】
【数30】
【0080】以上の(29)式及び(30)式を満足さ
せながら、図1に示す如く、基準軸Ax1 上での特殊反
射鏡3の光源側焦点((2α)-1)の位置を特殊反射鏡3
の入射とし、ここにほぼ円形形状の光源像または光源を
形成すると、この光源又は光源像からの光束は特殊反射
鏡3により円弧状の光束断面を有する平行光束に変換さ
れて、テレセントリック性及びケーラー照明状態が維持
された円弧状の照明領域が形成される。
【0081】なお、光源像I(又は光源)の中心は座標
((2α)-1,3(4α)-1,0)上となり、図2に示す被
照射面BFの中心CBFは、以下の(31)式を満足する
YZ平面内の円の1部となる。
【0082】
【数31】
【0083】以上に述べた如く、円弧状の照明領域の各
点でケーラ照明の条件を満足することが理解できる。と
ころで、以上の説明においては、光源像I(又は光源)
の中心が特殊反射鏡3の基準軸Ax1 上の座標((2α)
-1,3(4α)-1,0)上に形成される場合について説明
したが、図4に示す如く、ほぼ円形状の光源像(又は光
源)が特殊反射鏡3の基準軸Ax1 上に形成されていれ
ば、特殊反射鏡3により円弧状の光束断面を有する平行
光束に変換されて、ケーラー照明のもとで円弧状の照明
領域が形成される。このとき、照明領域の中心は対称軸
Ax0 上に形成され、その座標は、((2α)-1,3(4
α)-1,0)となる。従って、YZ平面内での被照射面
の中心CBFは、上記(31)式を満足する円の1部とな
る。
【0084】
【実施例】図5は本発明による照明光学系を露光装置に
応用した例を示す図であり、この図を参照しながら本発
明による第1実施例を説明する。図5に示す如く、被照
射面としてのレチクルRより上方にはレチクルRを均一
な円弧照明する照明光学系、レチクルRより下方にはレ
チクルRのパターンをウエハW上に転写する投影光学系
5が設けられており、照明光学系は、レーザー等の光源
1とオプティカルインテグレータ2とを有する光源手段
と、オプティカルインテグレータ2からの光束を集光す
る集光光学系より構成されている。そして、この集光光
学系は、特殊反射鏡3と再結像光学系4とを有してい
る。
【0085】まず、エキシマレーザー等の光源1からは
露光のための平行光束を供給し、この平行光束は、不図
示のビームエキスパンダを介して所望のビーム径に整形
された後、オプティカルインテグレータ2に入射する。
なお、平行光束を供給する手段は、レーザー等の光源に
限るものでなく、楕円鏡と、この楕円鏡の第1焦点位置
に設けられた水銀アーク灯と、楕円鏡により集光された
水銀アーク灯の光を平行光束に変換するコリメータレン
ズとで構成しても良い。
【0086】さて、オプティカルインテグレータ2は、
例えば複数のレンズ素子の集合体よりなり、各レンズ素
子に入射する平行光束を射出側で集光する。そして、こ
こにはレンズ素子の数に相当する点光源の集合体よりな
る光源像Iが形成され、実質的に面光源(2次光源)が
形成される。オプティカルインテグレータ2により形成
された2次光源からの光束は、特殊反射鏡3により反射
集光される。
【0087】図5では特殊反射鏡3のメリジオナル方向
での様子を示しており、放物線PAの頂点Oを原点とし
てこの原点Oを通る対称軸Ax0 をY、原点Oを通り対
称軸Ax0(Y軸)と垂直な方向をXとすると、特殊反射
鏡3は、メリジオナル方向では、放物線PA(y=αx
2)の1部より構成されている。そして、3次元的には、
図2にて示した如く、対称軸Ax0(Y軸)において頂点
Oから所定の距離(3(4α) -1)だけ離れた位置Y0
通り対称軸Ax0(Y軸)と直交する基準軸Ax 1 を中心
に回転させた放物トーリック形状の回転体の1部よりな
り、より具体的には、放物トーリック形状の回転体の2
つの緯線(31,32)間で形成される円弧型帯状の形
状を成している。この時、基準軸Ax1 はオプティカル
インテグレータ2により形成される複数の光源像I(2
次光源)の位置を通るように構成されており、これらの
光源像Iは特殊反射鏡3の光源側の焦点位置(光源側の
焦点距離fはf=(2α) -1)に形成されている。
【0088】従って、オプティカルインテグレータ2か
らの光束は、点線で示す如く、特殊反射鏡3により平行
光束に変換され、特殊反射鏡3の被照射面側の焦点位置
(被照射面側の焦点距離fはf=(2α) -1)には、テレ
セントリック性が維持された状態で円弧状の照射領域B
Fが形成される。この照射領域BFが形成される位置に
は、レチクルR上での照射領域BFR を正確に規定する
ために、円弧状の開口部を有する視野絞りとしてのスリ
ット板Sが設けられており、このスリット板Sを通過し
た光束は、再結像光学系4を介して再びレチクルR上で
集光し、ここには、テレセントリック性が維持された状
態で円弧状の照射領域BFR が形成される。
【0089】この時、このスリット板Sを通過した光束
は、再結像光学系4の瞳(入射瞳)位置で結像し、ここ
には、後述する図6〜図9に示す如く、光源像I’が形
成される。さて、レチクルRとウエハWとの間には等倍
で両側テレセントリックな投影光学系5が設けられてお
り、この投影光学系5は、凹面鏡51と凸面鏡52とを
有する構成を基本とし、さらにレチクルRと凹面鏡51
及び凹面鏡51とウエハWとの光路間にはそれぞれ光路
を折り曲げる反射鏡M51,M52を有している。そして、
凹面鏡51と凸面鏡52との曲率中心とがほぼ一致して
おり、この時、凹面鏡52の曲率半径は凹面鏡51の曲
率半径の半分となっている。
【0090】ここで、オプティカルインテグレータ2に
より形成される光源像I(特殊反射鏡3の光源側焦点位
置)は、再結像光学系4の入射瞳,及び投影光学系5の
入射瞳(凸面鏡52の位置又はその近傍)と実質的に共
役となっており、しかも光源像I,再結像光学系4の入
射瞳,及び投影光学系5の入射瞳の形状は共に円形とな
っている。
【0091】従って、レチクルR上には、テレセントリ
ック性が維持されながら円弧状照明領域が形成されてい
るのみならず、ケーラー照明されていることが理解でき
る。よって、レチクルRが高い照明効率のもとで円弧状
にしかも均一に照明されるため、レチクルR上の回路パ
ターンを短い露光時間で忠実にウエハW上へ円弧状に転
写することができる。
【0092】ここで、レチクルRはレチクルステージR
Sに保持され、ウエハWはウエハステージWSに保持さ
れており、不図示の駆動系によりレチクルステージRS
及びウエハステージWSは、露光時において、矢印で示
す方向へ移動する。従って、従来よりも格段に高い照明
効率のもとで走査露光が行われるので、より高いスルー
プットのもとでの露光が実現できる。
【0093】なお、図5に示した第1実施例では、投影
光学系5を等倍系とした例を示しているが、言うまでも
なく投影光学系5を縮小系または拡大系で構成して良
く、この事は後述する実施例においても同様である。次
に、図6〜図9を参照しながら本発明による再結像光学
系4の各種構成について説明する。尚、図6〜図9にお
いて図5と同一の機能を持つ部材には同じ符号を付して
ある。
【0094】図6は、図1及び図2で説明した特殊反射
鏡を2枚組み合わせて再結像光学系4を構成した例を示
している。図6に示す如く、特殊反射鏡3の基準軸Ax
1 上には、図5に示したオプティカルインテグレータ2
によって複数の点光源の集合体より成る2次光源I(光
源像)が形成されている。そして、この2次光源Iから
の光束は、点線で示す如く、特殊反射鏡3を介して平行
光束に変換され、スリット板Sの円弧状の開口部に円弧
状の照射領域BFが形成される。その後、このスリット
板Sを通過した光束は、特殊反射鏡3と同一構成の2枚
の特殊反射鏡40a,40bよりなる再結像光学系4に
入射する。
【0095】第1の再結像特殊反射鏡40aは、点線で
示す如く、特殊反射鏡3のメリジオナル方向(紙面方
向)での放物線PAの延長上において特殊反射鏡3に対
して放物線PAの対称軸Ax0 と線対称な位置に配置さ
れており、第2の再結像特殊反射鏡40bは、特殊反射
鏡3と第1の再結像特殊反射鏡40aとにより再形成さ
れる光源像I’を中心として第1の再結像特殊反射鏡4
0aを180度回転させた如き位置に配置されている。
【0096】ここで、光源像Iと光源像I’とは、図6
中の点線で示す如く、特殊反射鏡3と第1の再結像特殊
反射鏡40aとに関して共役であり、2つの光源像
(I,I’)は共にほぼ円形状を有している。また、ス
リット板SとレチクルRとは、図6中の実線で示す如
く、再結像光学系4に関して共役な位置に設けられてお
り、スリット板Sの開口部上に形成される照射領域BF
とレチクル上に形成される照射領域BFR は共に円弧状
を有している。
【0097】従って、特殊反射鏡3と同一構成の2枚の
特殊反射鏡40a,40bを組合せて再結像光学系4を
構成しても、光源像Iを投影光学系5の入射瞳に形成で
きるため、レチクルR上に円弧上の照明領域BFR を形
成しながらテレセントリックなケーラー照明が達成でき
る。次に、図5に示した投影光学系5と同様に凹面鏡4
1と凸面鏡42とで再結像光学系4を構成した例を図7
を参照しながら説明する。
【0098】図7に示す如く、再結像光学系4は、凹面
鏡41と凸面鏡42とを有する構成を基本とし、さらに
スリット板Sと凹面鏡41、及び凹面鏡51とレチクル
Rとの光路間にはそれぞれ光路を折り曲げる反射鏡
41,M42を有している。そして、図5に示した投影光
学系5と同様に、凹面鏡51と凸面鏡52との曲率中心
とがほぼ一致しており、この時、凹面鏡52の曲率半径
は凹面鏡51の曲率半径の半分となっている。
【0099】ここで、オプティカルインテグレータ2に
より形成される光源像I(特殊反射鏡3の光源側焦点位
置)は、再結像光学系4の入射瞳(凸面鏡42の位置又
はその近傍)と実質的に共役となっており、しかも複数
の光源像Iの形状と再結像光学系4の入射瞳の形状がと
もに円形となっている。従って、図5に示した投影光学
系5と同様に再結像光学系4を凹面鏡41と凸面鏡42
とで構成した場合にも、光源像Iを投影光学系5の入射
瞳に形成できるため、レチクルR上に円弧上の照明領域
BFR を形成しながらテレセントリックなケーラー照明
が達成できる。
【0100】ところで、図6及び図7では再結像光学系
4を反射光学系で構成した例を説明したが、次に再結像
光学系4を屈折光学系で構成した例を図8及び図9を参
照しながらそれぞれ説明する。図8は、再結像光学系4
を2つの屈折型レンズで構成した例を示しており、図8
に示す如く、再結像光学系4は、第1の再結像レンズ4
3と第2の再結像レンズ44とで構成されている。そし
て、第1の再結像レンズ43と第2の再結像レンズ44
との間には、特殊反射鏡3と第1の再結像レンズ43と
によって、ほぼ円形状の光源像I’が再結像される。
【0101】従って、再結像光学系4を2つの屈折型レ
ンズで構成した場合にも、光源像Iを投影光学系5の入
射瞳に形成できるため、レチクルR上に円弧上の照明領
域BFR を形成しながらテレセントリックなケーラー照
明が達成できる。なお、図8では、説明を簡単にするた
めに、再結像光学系4を2枚の屈折型レンズで構成した
例を示したが、第1の再結像レンズ43及び第2の再結
像レンズ44をそれぞれ複数の屈折型レンズで構成して
良いことは言うまでもない。
【0102】最後に、図9は再結像光学系4を2つの屈
折型レンズで構成し、この再結像光学系4の光軸を特殊
反射鏡3の基準軸Ax1 と一致させた例を示すものであ
る。図9の点線で示す如く、オプティカルインテグレー
タ2により形成された光源像Iからの光束は、特殊反射
鏡3を介して平行光束に変換されて、スリット板Sの円
弧状の開口部を円弧照明する。その後、スリット板Sの
円弧状の開口部を通過した光束は、第1の再結像レンズ
45と第2の再結像レンズ45とで構成される再結像光
学系4に対して軸外から入射し、第1の再結像レンズ4
5の光軸を境として右半分のレンズ部分45aを通過し
て、第1の再結像レンズ45の被照射面側の焦点位置に
光源像I’が形成される。そして、光源像I’からの光
束は、第2の再結像レンズ46の光軸を境として左半分
のレンズ部分46bを通過して、レチクルR上に円弧状
の照射領域BFR を形成する。
【0103】この場合の再結像光学系4は、軸外光束を
利用しているため、再結像光学系4の光軸から所定の距
離だけ離れた入射高の極狭い領域での収差が良好に補正
されていれば良いため、球面収差等の補正を考慮しなく
ても良いという利点がある。このため、図9の如き構成
を有する再結像光学系4では、原理的に、少ないレンズ
構成枚数で良好なる収差補正が達成できる。
【0104】なお、図9では、再結像光学系4を2枚の
屈折型レンズで構成しているが、1枚の屈折型レンズを
半分に切断し、切断した一方を第1の再結像レンズ45
a、切断した他方を第2の再結像レンズ46bとしても
良い。さらに、第1の再結像レンズ45aの被照射面側
の焦点位置(光源像I’の位置)に平面鏡を配置し、再
結像レンズ45の右半分のレンズ部分45aを通過した
特殊反射鏡3からの光束を平面鏡で反射させ、その後、
再結像レンズ45の左半分のレンズ部分45bを通過さ
せて、このレンズ部分45bを通過した光束をレチクル
R上に導く構成としても良い。これにより、第2の再結
像レンズ46の構成を不要とすることができる。
【0105】さて、次に、図10を参照しながら本発明
による照明光学系を露光装置に応用した第2実施例を示
す図であり、この図を参照しながら本発明による第2実
施例を説明する。なお、図5に示した第1実施例と同一
の機能を持つ部材には同一の符号を付してある。第2実
施例が第1実施例と異なる所は、特殊反射鏡3の光源側
の焦点位置(光源側の焦点距離fはf=(2α)-1)に、
直接的に光源を配置した点である。
【0106】図10に示す如く、特殊反射鏡3の基準軸
Ax1 上に光源としての水銀アーク灯11が配置されて
おり、この水銀アーク灯11の光放射領域11aは特殊
反射鏡3の光源側の焦点位置と一致している。そして、
水銀アーク灯11の左側には、水銀アーク灯11の光放
射領域11aの中心を曲率中心とした曲率半径を持つ凹
面鏡12が配置されている。水銀アーク灯11から左側
(凹面鏡12)へ放射される光束は、凹面鏡12によっ
て光放射領域11aの中心へ向けて反射集光されて、特
殊反射鏡3へ向かい、水銀アーク灯11から右側へ放射
される光束は、特殊反射鏡3へ向かう。なお、第2実施
例では、水銀アーク灯11と凹面鏡12とで光源手段を
構成している。
【0107】水銀アーク灯11から放射された光束は、
特殊反射鏡3を介して円弧状の断面を有する平行光束に
変換されて、スリット板Sの円弧状の開口部を円弧照明
する。スリット板Sを通過した光束は再結像光学系4に
よりレチクルR上で集光されて、ここには、テレセント
リック性が維持されながら円弧状の照射領域BFR が形
成される。
【0108】ここで、水銀アーク灯11の光放射領域1
1a(特殊反射鏡3の光源側焦点位置)は、投影光学系
5の入射瞳(凸面鏡52の位置又はその近傍)と実質的
に共役となっており、しかも投影光学系5の入射瞳位置
には、この瞳の形状(円形)に見合った光放射領域11
aの光源像が形成される。従って、レチクルR上には、
テレセントリック性が維持されながら円弧状照明領域が
形成されているのみならず、ケーラー照明されている。
よって、レチクルRは高い照明効率のもとで円弧状にし
かも均一に照明されるため、レチクルステージRS及び
ウエハステージWSを矢印で示す方向へ移動させること
により、従来よりも格段に照明効率が高く、より高いス
ループットのもとで走査露光が達成できる。
【0109】尚、図10に示した第2実施例における再
結像光学系4は、図6〜図9に示した構成として良いこ
とは言うまでもない。また、図5及び図10に示した各
実施例の照明光学系は、特殊反射鏡3により形成される
円弧状の照射領域BFを再結像光学系4によってレチク
ルR上に円弧状の照射領域BFR を再形成しているが、
再結像光学系4を用いることなく、特殊反射鏡3により
形成される円弧状の照射領域BF上にレチクルR等の被
照射物体を配置して、被照射物体を直接的に円弧照明し
ても良い。
【0110】さらに、図4に示した如く、光源像又は光
源の位置が特殊反射鏡の基準軸上に形成されていれば、
原理的に、ケーラー照明状態を維持しながら、従来より
も格段に高い照明効率のもとで被照射面を円弧状に均一
照明することができることは言うまでもない。このと
き、円弧状の被照射面が僅かに傾くため、この傾きに対
応させて、この被照射面以降の光学系を傾けて構成する
ことが好ましい。
【0111】
【発明の効果】以上の如く、本発明によれば、テレセン
トリック性及びケーラー照明状態を維持しながら、従来
よりも格段に高い照明効率のもとで被照射面を円弧状に
均一照明することができる。これにより、高いスループ
ットのもとでレチクルのパターンを忠実にウエハ上へ転
写することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は特殊反射鏡のメリジオナル方向での断面
図である。
【図2】図2は特殊反射鏡の斜示図である。
【図3】図3は特殊反射鏡の最適な形状を説明するため
の図である。
【図4】光源像の位置を基準軸に沿ってずらした状態を
示す図である。
【図5】図4は本発明による照明光学系を露光装置に応
用した第1実施例を示す図である。
【図6】図5は2枚の特殊反射鏡で再結像光学系4を構
成した例を示す図である。
【図7】図6は凹面鏡と凸面鏡とで再結像光学系4を構
成した例を示す図である。
【図8】図7は2つの屈折型レンズで再結像光学系4を
構成した例を示す図である。
【図9】図8は再結像光学系4を2つの屈折型レンズで
構成し、この再結像光学系4の光軸を特殊反射鏡3の基
準軸Ax1 と一致させた例を示す図である。
【図10】図9は本発明による照明光学系を露光装置に
応用した第2実施例を示す図である。
【図11】図10は従来の照明光学系の構成を示す図で
ある。
【主要部分の符号の説明】
1・・・ レーザー 2・・・ オプティカルインテグレータ 3・・・ 特殊反射鏡 4・・・ 再結像光学系 5・・・ 投影光学系 11・・・ 水銀アーク灯 12・・・ 凹面鏡 PA・・・ 放物面 Ax0・・・ 対称軸 Ax1・・・ 基準軸 BF,BFR ・・・ 照射領域 S・・・ スリット板 R・・・ レチクル RS・・・ レチクルステージ W・・・ ウエハ WS・・・ ウエハステージ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】所定の大きさの光源像または所定の大きさ
    の光源を形成する光源手段と、該光源手段からの光束を
    集光して被照明物体を照明する集光光学系とを有する照
    明光学系において、 前記集光光学系は、前記光源像または前記光源からの光
    束を平行光束に変換して前記被照明物体上を円弧状に照
    明する特殊反射鏡を有し、 該特殊反射鏡は、放物線の頂点から該放物線の対称軸に
    沿って所定の距離だけ隔てた位置を該対称軸に対して垂
    直に通る基準軸を中心に回転させた放物トーリック形状
    の回転体の1部より構成されることを特徴とする照明光
    学系。
  2. 【請求項2】前記特殊反射鏡は、前記放物トーリック形
    状の回転体の2つの緯線で挟まれる帯状領域の1部で構
    成されることを特徴とする照明光学系。
  3. 【請求項3】前記光源手段は、平行光束を供給する光源
    部と、該光源部からの平行光束によって複数の光源像を
    形成するオプティカルインテグレータとを有し、 該複数の光源像は、前記基準軸上に形成されることを特
    徴とする請求項1または請求項2記載の照明光学系。
  4. 【請求項4】前記光源手段は、光束を供給する光源部で
    なり、該光源部の発光領域は、前記基準軸上に形成され
    ることを特徴とする請求項1または請求項2記載の照明
    光学系。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5677939A (en) * 1994-02-23 1997-10-14 Nikon Corporation Illuminating apparatus
US6249382B1 (en) 1998-07-03 2001-06-19 Nikon Corporation Illumination optical system and projection exposure apparatus using same
JP2001237183A (ja) * 2000-01-20 2001-08-31 Asm Lithography Bv マイクロリソグラフィ投影装置
CN114966925A (zh) * 2022-06-10 2022-08-30 上海嘉强自动化技术有限公司 反射式宽带积分镜及宽带光纤激光光学系统

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5677939A (en) * 1994-02-23 1997-10-14 Nikon Corporation Illuminating apparatus
US6249382B1 (en) 1998-07-03 2001-06-19 Nikon Corporation Illumination optical system and projection exposure apparatus using same
JP2001237183A (ja) * 2000-01-20 2001-08-31 Asm Lithography Bv マイクロリソグラフィ投影装置
CN114966925A (zh) * 2022-06-10 2022-08-30 上海嘉强自动化技术有限公司 反射式宽带积分镜及宽带光纤激光光学系统

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