JP2000015431A

JP2000015431A - リフロー方法およびその装置

Info

Publication number: JP2000015431A
Application number: JP10186113A
Authority: JP
Inventors: Masakaze Hosoya; 正風細矢; Hideki Tsunetsugu; 秀起恒次; Fuminori Ishizuka; 文則石塚; Mitsuaki Yanagibashi; 光昭柳橋
Original assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Current assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date: 1998-07-01
Filing date: 1998-07-01
Publication date: 2000-01-18
Anticipated expiration: 2018-07-01
Also published as: JP3529633B2

Abstract

(57)【要約】【課題】半導体素子のダイボンディング、キャリア基板
へのはんだバンプボンディング等の形状寸法の小さい試
料をリフローするのに適し、還元性ガス使用量が少なく
て済む小型、経済的、安全性が高く、リフローを顕微鏡
観察でき、温度プロファイルを自在に設定できるリフロ
ー方法と装置を提供する。【解決手段】温度制御が可能なホットプレート上に、リ
フロー試料を載置した試料ボートを配置し、試料ボート
を上下方向に移動して、リフロー試料を搬入または搬出
できる大きさの開口部を上面に有する還元性ガス雰囲気
室と、還元性ガス雰囲気室の上面の開口部に、不活性ガ
スカーテン部を形成する不活性ガスカーテン室と、さら
に上記不活性ガスカーテン部の上部に、不活性ガスを供
給して不活性ガス遮蔽を行う開口部を上面に有する不活
性ガス雰囲気室とを少なくとも備えた多重構造の雰囲気
室を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子や表面
実装回路部品等を、パッケージや配線基板等にはんだ付
けする際に用いられるはんだリフロー方法およびその装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図５は、第１の従来例として、従来から
一般に用いられているリフロー装置の断面構造を示す模
式図である。図５において、コンベアベルト２６の上部
に、雰囲気ボックス２１を配置し、また、下部には加熱
ヒータを配置してある。加熱ヒータは、第１ヒータ２
８、第２ヒータ２９および第３ヒータ３０の三つから構
成されており、はんだ付けするリフロー試料２５は、コ
ンベアベルト２６上に配置して、左から右方向に搬送
し、加熱ヒータの温度と通過速度を調整することにより
所望の温度プロファイルが得られるようになっている。
雰囲気ボックス２１は、この従来例の場合には４室に仕
切られており、第１室と第２室は不活性ガス雰囲気室２
２とし、還元性ガス雰囲気リフローを行う場合には、通
常、第３室を還元性ガス雰囲気室２３として、最高温度
に設定される。第４室は、リフロー試料２５の冷却と還
元性ガスの拡散を防止するための不活性ガス雰囲気室２
２である。還元性ガスとしては水素ガスが用いられる
が、爆発濃度範囲が広いために危険性が高く、防爆設備
対策に経費が掛かるため、通常のはんだリフローにおい
ては第３室も不活性ガス雰囲気室２２として、フラック
スを使用してリフロー作業するのが一般的である。この
ようなコンベアベルト２６により搬送するタイプのリフ
ロー装置は、リフロー試料２５の連続投入が可能であり
量産性に富んでいることから、プリント板実装等で多用
されている。しかし、装置が大型となり使用電力量、使
用ガス量ともに多いことが欠点であり、半導体素子のパ
ッケージ内へのダイボンディングやキャリア基板へのは
んだバンプボンディング等の形状寸法の小さい試料をリ
フローする場合には極めて不経済である。また、半導体
素子のボンディング作業においては、リフロー状態を顕
微鏡観察することを必要とする場合があるが、本従来例
のリフロー装置では、リフロー試料２５がコンベアベル
ト２６により雰囲気ボックス２１内を搬送移動するた
め、リフロー状態を顕微鏡観察することは極めて困難で
ある。図６は、第２の従来例として例示するリフロー装
置の断面構造を示す模式図である。なお、上記図５と同
じ部分には同じ符号を付してある。この第２の従来例の
リフロー装置は、第１の従来例と同様に、コンベアベル
ト２６上に、リフロー試料２５を載置し搬送するタイプ
であり、第１の従来例との相違点は、加熱方法として赤
外線ランプを使用して、リフロー試料２５の上方から加
熱する構造になっているところである。４室に仕切られ
た雰囲気ボックス２１のうちの３室内に、それぞれ第１
赤外線ランプ３１、第２赤外線ランプ３２および第３赤
外線ランプ３３が配置されており、各赤外線ランプの照
射パワーと各室内を通過させるコンベアベルト２６の速
度によって、リフロー試料２５に対する所望の温度プロ
ファイルが得られるようになっている。この第２の従来
例の場合にも第１の従来例と同様に、比較的還元性ガス
使用量が多いため、水素ガスに対する防爆設備対策に経
費が掛かること、また、半導体素子のパッケージ内への
ダイボンディングやキャリア基板へのはんだバンプボン
ディング等の形状寸法の小さい試料をリフローする場合
には、使用電力量、使用ガス量の点で極めて不経済であ
り、かつ、リフロー状態を顕微鏡観察することは極めて
困難である。図７は、第３の従来例として例示するリフ
ロー装置の断面構造を示す模式図である。このリフロー
装置は、ベーパーフェーズリフロー装置と呼ばれるもの
であり、不活性の高沸点液４３を利用するものである。
図において、リフロー試料４６のはんだ材料よりも沸点
温度の高いフロリナート等の高沸点液４３を容器４１に
入れ、加熱ヒータ４２で加熱すると、容器４１内は高沸
点液蒸気４４が充満し、液面近傍は高沸点液４３の沸点
温度に近い温度で保持される。容器４１の上端付近には
冷却水管４５を配置し、高沸点液蒸気４４を冷却して液
体に戻すようにして容器４１外への蒸散を防止する構造
になっている。リフロー試料４６は試料ボート４７に載
置し、フック４８によって所定時間吊り下げることでリ
フロー作業が行われる。この第３の従来例のようなベー
パーフェーズリフロータイプは、上述の第１の従来例や
第２の従来例の装置とは異なり、リフロー試料４６に対
して全周囲から均等に熱が加えられるため、はんだ付け
の確実性が高いという利点がある。しかし、還元性ガス
雰囲気とすることはできず、また、充満した蒸気中にリ
フロー試料４６を入れるため、リフロー状態を顕微鏡観
察することができない欠点がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、図５
に示す第１の従来例ならびに図６に示す第２の従来例の
リフロー装置は共に、装置が大型で使用電力量、使用ガ
ス量が多く、半導体素子のパッケージ内へのダイボンデ
ィングやキャリア基板へのはんだバンプボンディング等
の形状寸法の小さい試料をリフローする場合には極めて
不経済である。また、リフロー試料２５がコンベアベル
ト２６により雰囲気ボックス２１内を搬送移動するた
め、リフロー状態を顕微鏡で観察することができないと
いう問題がある。また、図７に示す第３の従来例のリフ
ロー装置では、還元性ガス雰囲気とすることは困難であ
り、また、高沸点液蒸気４４を充満した雰囲気中にリフ
ロー試料４６を挿入するため、リフロー状態を顕微鏡で
観察することができないという問題がある。

【０００４】本発明は、上記従来技術における問題点を
解消するものであって、その目的とするところは、第１
に、半導体素子のパッケージ内へのダイボンディングや
キャリア基板へのはんだバンプボンディング等の形状寸
法の小さい試料をリフローするのに適し、かつ、還元性
ガス使用量が少なくて済む、小型・経済的・安全性の高
いリフロー方法およびそれを実施する装置を提供するこ
とにある。第２に、リフロー試料のリフロー作業中の状
態変化を顕微鏡観察できるリフロー方法およびその装置
を提供することにある。第３に、リフロー温度プロファ
イルを自在に、かつ、簡易に設定できるリフロー方法お
よびその装置を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、特許請求の範囲に記載のような構成とする
ものである。すなわち、本発明は請求項１に記載のよう
に、温度制御が可能なホットプレート上に、リフロー試
料を載置した試料ボートを配置し、該試料ボートを上下
方向に移動して、リフロー試料を搬入または搬出できる
大きさの開口部を上面に有する還元性ガス雰囲気室と、
該還元性ガス雰囲気室の上面の開口部に、不活性ガスカ
ーテンを形成する不活性ガスカーテン室と、上記不活性
ガスカーテンの上部に、不活性ガスを供給して不活性ガ
ス遮蔽を行う開口部を上面に有する不活性ガス雰囲気室
とを少なくとも備えた多重構造の雰囲気室を用い、上記
ホットプレート温度、試料ボートの位置および保持時間
を設定してリフロー温度プロファイルを自在に調整する
と共に、上記多重構造の雰囲気室の開口部の上部にはリ
フロー試料観察用の顕微鏡を配置して、リフロー試料の
状態変化を観察しながらリフローを行うリフロー方法と
するものである。また、本発明は請求項２に記載のよう
に、温度制御が可能なホットプレートと、三重構造以上
の多重構造で、かつ上面に開口部を有する多重構造の雰
囲気室と、リフロー試料を載置する試料ボートと、該試
料ボートを保持するアームと、該アームを上下に移動さ
せ、リフロー試料の搬入または搬出を行う昇降機構とに
より少なくとも構成されるはんだリフロー装置であっ
て、上記多重構造の雰囲気室は、最内部の第１の雰囲気
室と最外部に位置する第２の雰囲気室との間の開口部
に、上記第１と、第２の雰囲気室を雰囲気遮断するため
の不活性ガスカーテンを形成する不活性ガスカーテン室
を配置し、上記アームは、保持した試料ボートが上記開
口部の中を上下方向に通過できる構成とすると共に、上
記アームを連結した昇降機構によって、該アームに保持
された試料ボートが、ホットプレート表面部と多重構造
の雰囲気室の外部間とを、自在に上下移動できる可動機
構を備えたはんだリフロー装置とするものである。ま
た、本発明は請求項３に記載のように、請求項２に記載
のリフロー装置において、昇降機構は、上昇と下降の可
動範囲内の任意の位置で停止できる機構を有するはんだ
リフロー装置とするものである。また、本発明は請求項
４に記載のように、請求項２または請求項３に記載のリ
フロー装置において、多重構造の雰囲気室の開口部を遮
蔽できる可動式の透明ガラスシャッタを具備するリフロ
ー装置とするものである。本発明のリフロー装置は、温
度制御が可能なホットプレートと、三重構造以上の多重
構造で、かつ上面に開口部を有する多重構造の雰囲気室
（雰囲気ボックスとも言う）と、リフロー試料を載置す
る試料ボートと、試料ボートを保持するアームと、アー
ムを上下に移動させる昇降機構とから少なくとも構成さ
れている。上記雰囲気ボックスは、最内部の雰囲気室
と、その外側に位置する雰囲気室との間の開口部に、上
記両雰囲気室を雰囲気遮断するための不活性ガスカーテ
ン部が形成されるように不活性ガスカーテン室を配置
し、上記アームは、保持した試料ボートが開口部の中を
上下に通過できる構成とすると共に、アームを連結した
昇降機構は、アームに保持された試料ボートが、ホット
プレート表面部と雰囲気ボックスの外部との間を、上下
に移動できる可動範囲を有するように構成するものであ
る。また、本発明のリフロー装置の昇降機構において、
その上昇または下降の可動範囲内の任意の位置に停止で
きる機能を付加した装置とするものである。さらに、本
発明のリフロー装置は、雰囲気ボックスの開口部を遮蔽
できる可動式の透明ガラスシャッタを具備させることが
できる。

【０００６】本発明の請求項１に記載のはんだリフロー
方法によれば、温度制御が可能なホットプレート上に、
リフロー試料を載置した試料ボートを配置し、該試料ボ
ートを上下方向に移動して、リフロー試料を搬入または
搬出できる大きさの開口部を有する多重構造の雰囲気室
を用い、上記開口部には、不活性ガスカーテンと不活性
ガス遮蔽を行っているので、ホットプレートを１個だけ
使用するのみでリフロー操作が済むようになり、また、
従来のコンベアベルトによるリフロー試料の搬送機構が
不要となり、装置をいっそう小型化することができ、ホ
ットプレート加熱用電力の消費量と雰囲気調整用ガスの
消費量を著しく低減することができ、かつ、リフロー試
料観察用の顕微鏡を用いているので、リフロー作業中の
リフロー試料の状態変化を直接観察することができ、良
好なリフロー製品を歩留まり良く製造できる効果があ
る。また、請求項２に記載のはんだリフロー装置によれ
ば、上記請求項１の効果と同様に、装置をいっそう小型
化することができ、ホットプレート加熱用電力の消費量
と雰囲気調整用ガスの消費量を著しく低減することがで
きる。また、多重構造の雰囲気室は三重構造以上の多重
構造とし、最内部の雰囲気室（最内室）の開口部と、そ
の外側の雰囲気室の開口部との間に、不活性ガスカーテ
ン部を形成して、最内室の雰囲気ガスを雰囲気ボックス
の外部に拡散しないように構成しているので、最内室を
還元性ガス（例えば、水素ガス等）雰囲気とした場合
に、従来のコンベアベルト搬送タイプに比較して、還元
性ガスの外部拡散を格段に抑制することができ、安全性
に優れたリフロー装置を実現できる効果がある。さら
に、本発明のリフロー装置は、請求項３に記載のよう
に、アームを上下に移動させる昇降機構に対して、その
可動範囲内の任意の位置で停止できる機能を付加してい
るので、試料ボートを、ホットプレート近傍で停止し、
保持することができるので、リフロー試料を予備加熱す
ることができ、これによりホットプレート温度と共に、
試料ボートの停止位置と停止保持時間を任意に設定する
ことで、リフロー温度プロファイルを自在に、かつ、簡
易に調整できる効果がある。加えるに、本発明のリフロ
ー装置は、請求項４に記載のように、雰囲気ボックス上
面の開口部を遮蔽できる可動式の透明ガラスシャッタを
具備させることもできるので、リフロー作業中の状態変
化を直接観察できる利点を損なうことなく、水素等の還
元性ガスの拡散防止を、いっそう向上できる効果があ
る。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を例示
し、さらに詳細に説明する。〈実施の形態１〉図１は、本実施の形態で例示するはん
だリフロー装置の断面構造を示す模式図である。例示す
るリフロー装置は、温度制御が可能なホットプレート１
を、三重構造の雰囲気ボックス２内に収容した構造とし
ている。雰囲気ボックス２は、最内室（第１雰囲気室
３）を還元性ガス雰囲気とし、最外室（第２雰囲気室
４）を不活性ガス雰囲気としている。上記両雰囲気室の
間の開口部７には、雰囲気遮断するための不活性ガスカ
ーテン部６が形成されるように、不活性ガスカーテン室
５を配置してある。本リフロー装置では、還元性ガスと
して水素ガスを、また不活性ガスとして窒素ガスを使用
することを想定しており、水素ガスの一部が窒素ガスカ
ーテン部６を通過して漏洩しても、第２雰囲気室４の排
気差圧を大きくしておくことで、第２雰囲気室４の窒素
ガス流に取り込まれて排気されるため、水素ガスの雰囲
気ボックス２外への拡散が抑制できる。リフロー試料
は、試料ボート８上に載置してアーム９に保持させ、ア
ーム９と連結した昇降機構１０によって、開口部７の外
側からホットプレート１上に移動させてリフロー作業を
行う。この時、開口部７の上方に顕微鏡１１を配置して
おけば、リフロー作業中の試料の状態変化を直接観察す
ることができる。図５の従来例で示したコンベアベルト
２６によるリフロー試料２５の搬送方式の場合には、コ
ンベアベルト２６を停止することができないので、所定
のリフロー時間を得るためには、搬送速度に応じた長さ
の大型ヒータとしなければならない。また、図６の従来
例で示した赤外線ランプによる加熱方式では、赤外線ラ
ンプを収容するために雰囲気ボックス２１を大型にしな
ければならない。これに対し、本発明のリフロー装置で
は、リフロー時間の調整は、試料ボート８をホットプレ
ート１上に保持、停止させる時間を制御するだけで済む
ため、ホットプレート１は小型で済み、雰囲気ボックス
２も小さい容積とすることができる。また、リフロー試
料の搬送は、小型の昇降機構１０により行うため、装置
全体を小型化することができる。ちなみに、試料ボート
８の寸法を３０ｍｍ角程度とした場合には、雰囲気ボッ
クス２の外形寸法は１００×１００×６０ｍｍ程度の大
きさで実現できる。したがって、リフロー加熱用電力の
消費量と雰囲気調整用ガスの消費量を抑えることがで
き、形状寸法の小さい試料をリフローするのに適したリ
フロー装置とすることができる。なお、本実施の形態で
は雰囲気ボックス２を三重構造としたが、四重構造以上
として窒素ガス雰囲気室あるいは窒素ガスカーテン室を
増やせば、第１雰囲気室３内の水素ガスの漏洩をより効
果的に抑止することができる。

【０００８】〈実施の形態２〉図２は、本実施の形態で
例示するリフロー装置の詳細断面構造およびその動作を
示す図であり、図３は、図２のリフロー装置動作によっ
て得られる温度プロファイルを示す図である。本実施の
形態のリフロー装置は、実施の形態１のリフロー装置の
昇降機構に対して、その上昇または下降の範囲内の任意
の位置で停止できる機能を付加したものである。図２に
示したリフロー装置の動作順は、以下に示す通りであ
る。Ａ点において、リフロー試料１２を試料ボート８上に
載置し、アーム９に配置する。試料ボート８を、ホットプレート１に近接したＢ点ま
で下降させて停止する。Ｂ点で所定時間保持した後に、さらに下降させて試料
ボート８をホットプレート１の表面に接触させて停止す
る（Ｃ点）。Ｃ点で所定時間保持した後に、試料ボート８を上昇さ
せて第２の雰囲気室内のＤ点で停止する。試料ボート８をＤ点で所定時間保持した後に、Ａ点ま
で戻してリフロー作業を終了する。上記動作順に従ってリフロー作業した時の温度プロファ
イルは、図３に示すように、試料ボート８をホットプレ
ート１に近接したＢ点まで下降させると同時に温度上昇
し、所定時間停止することによって温度平衡状態にな
る。次いで、Ｃ点まで下降させると更に温度上昇し、リ
フロー試料１２のはんだ溶融温度に達する。Ｃ点で所定
時間保持した後にＤ点まで上昇させて冷却し、リフロー
試料１２が室温付近まで低下した段階でＡ点に戻す。こ
れによって、はんだ材が酸化することなくフラックスレ
スではんだ付けができる。温度プロファイルは、ホット
プレート１の設定温度、Ｂ点の設定位置と保持時間、Ｃ
点での保持時間を調整することで自在にコントロールす
ることができ、温度・位置・時間の調整は簡易なコント
ローラによって実現できる。

【０００９】〈実施の形態３〉図４は、本実施の形態で
例示するリフロー装置の断面構造を示す模式図である。
本実施の形態のリフロー装置は、実施の形態１、あるい
は実施の形態２のリフロー装置に対して、雰囲気ボック
ス２の開口部７を遮蔽し外気遮断できる可動式の透明ガ
ラスシャッタ１３を具備させて装置としたものである。
試料ボート８を雰囲気ボックス２内に挿入する時、およ
び試料ボート８を雰囲気ボックス２外に取り出す時以外
は、透明ガラスシャッタ１３をスライドさせて開口部７
を遮蔽することによって、実施の形態１あるいは実施の
形態２より、さらに還元性ガスの漏洩を抑止でき、か
つ、リフロー作業中の試料の状態変化を直接観察できる
利点を損なうことなく、より安全性の高いリフロー装置
が実現することができる。これにより、リフロー試料１
２の形状寸法を大きくしても、すなわち開口部７の寸法
を大きくしても還元性ガスの漏洩を心配する必要がな
い。なお、開口部７はアーム９が挿入されるために透明
ガラスシャッタ１３によって完全に密封することは困難
であるが、アーム９の周囲に間隙を設けた形状の透明ガ
ラスシャッタ１３としても、第２雰囲気室４の排気差圧
を大きくすることで、還元性ガス漏洩抑止の効果は十分
得られる。本実施の形態においては、透明ガラスシャッ
タ１３を透明ガラスとしているが、透明で雰囲気ボック
ス２内が観察できるものであればいずれの材料を使用し
ても良い。また、内部観察を必要としないのであれば不
透明のシャッタとしても良い。

【００１０】

【発明の効果】本発明のリフロー装置においては、雰囲
気ボックス内にホットプレートを配置し、雰囲気ボック
スの上面に設けた開口部から、リフロー試料を載せた試
料ボートをアームによってホットプレート上に載置する
構造としたことにより、装置を小型に構成することがで
き、リフロー加熱用電力と雰囲気調整用ガスの消費量を
低減することができると共に、開口部からリフロー作業
中の試料の状態変化を直接観察することができる。ま
た、試料ボートを上下動させる昇降機構に、試料ボート
をホットプレート近傍で停止または保持できる機能を付
加したことにより、リフロー温度プロファイルを自在
に、かつ、簡易に調整することができる。さらに、雰囲
気ボックス上面の開口部を遮蔽する可動式の透明ガラス
シャッタを具備させたことによって、雰囲気ボックス内
を直接観察できる利点を損なうことなく、十分な雰囲気
ガスの拡散防止を果たすことができる。したがって、本
発明のリフロー装置は、形状寸法の小さい試料をリフロ
ーするのに適し、従来より小型、省電力、省雰囲気ガス
で経済性に優れ、かつ、水素ガスを使用した場合でも安
全性の高いリフロー操作および方法およびリフロー装置
を実現できる効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態１で例示したリフロー装置
の断面構造を示す模式図。

【図２】本発明の実施の形態２で例示したリフロー装置
の断面構造を示す模式図。

【図３】本発明の実施の形態２で例示したリフロー装置
の動作と温度プロファイルを示す図。

【図４】本発明の実施の形態３で例示したリフロー装置
の断面構造を示す模式図。

【図５】従来技術を説明する第１の従来例のリフロー装
置の断面構造を示す模式図。

【図６】従来技術を説明する第２の従来例のリフロー装
置の断面構造を示す模式図。

【図７】従来技術を説明する第３の従来例のリフロー装
置の断面構造を示す模式図。

【符号の説明】１…ホットプレート２…雰囲気ボックス３…第１雰囲気室（還元性ガス）４…第２雰囲気室（不活性ガス）５…不活性ガスカーテン室６…不活性ガスカーテン部７…開口部８…試料ボート９…アーム１０…昇降機構１１…顕微鏡１２…リフロー試料１３…透明ガラスシャッタ２１…雰囲気ボックス２２…不活性ガス雰囲気室２３…還元性ガス雰囲気室２４…不活性ガスカーテン部２５…リフロー試料２６…コンベアベルト２７…試料受け台２８…第１ヒータ２９…第２ヒータ３０…第３ヒータ３１…第１赤外線ランプ３２…第２赤外線ランプ３３…第３赤外線ランプ４１…容器４２…加熱ヒータ４３…高沸点液４４…高沸点液蒸気４５…冷却水管４６…リフロー試料４７…試料ボート４８…フック

フロントページの続き (72)発明者石塚文則東京都新宿区西新宿三丁目19番２号日本電信電話株式会社内 (72)発明者柳橋光昭東京都新宿区西新宿三丁目19番２号日本電信電話株式会社内Ｆターム(参考） 5E319 AA03 AB05 AC01 BB04 CC36 CD35 GG20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】温度制御が可能なホットプレート上に、リ
フロー試料を載置した試料ボートを配置し、該試料ボー
トを上下方向に移動して、リフロー試料を搬入または搬
出できる大きさの開口部を上面に有する還元性ガス雰囲
気室と、該還元性ガス雰囲気室の上面の開口部に、不活
性ガスカーテンを形成する不活性ガスカーテン室と、上
記不活性ガスカーテンの上部に、不活性ガスを供給して
不活性ガス遮蔽を行う開口部を上面に有する不活性ガス
雰囲気室とを少なくとも備えた多重構造の雰囲気室を用
い、上記ホットプレート温度、試料ボートの位置および
保持時間を設定してリフロー温度プロファイルを自在に
調整すると共に、上記多重構造の雰囲気室の開口部の上
部にはリフロー試料観察用の顕微鏡を配置して、はんだ
リフローを行うことを特徴とするリフロー方法。
【請求項２】温度制御が可能なホットプレートと、三重
構造以上の多重構造で、かつ上面に開口部を有する多重
構造の雰囲気室と、リフロー試料を載置する試料ボート
と、該試料ボートを保持するアームと、該アームを上下
に移動させ、リフロー試料の搬入または搬出を行う昇降
機構とにより少なくとも構成されるはんだリフロー装置
であって、上記多重構造の雰囲気室は、最内部の第１の
雰囲気室と最外部に位置する第２の雰囲気室との間の開
口部に、上記第１と、第２の雰囲気室を雰囲気遮断する
ための不活性ガスカーテンを形成する不活性ガスカーテ
ン室を配置し、上記アームは、保持した試料ボートが上
記開口部の中を上下方向に通過できる構成とすると共
に、上記アームを連結した昇降機構によって、該アーム
に保持された試料ボートが、ホットプレート表面部と多
重構造の雰囲気室の外部間とを、自在に上下移動できる
可動機構を備えたことを特徴とするリフロー装置。
【請求項３】請求項２に記載のリフロー装置において、
昇降機構は、上昇と下降の可動範囲内の任意の位置で停
止できる機構を有することを特徴とするリフロー装置。
【請求項４】請求項２または請求項３に記載のリフロー
装置において、多重構造の雰囲気室の開口部を遮蔽でき
る可動式の透明ガラスシャッタを具備することを特徴と
するリフロー装置。