JP2000008180A - 透明酸化亜鉛皮膜及びその作製方法 - Google Patents
透明酸化亜鉛皮膜及びその作製方法Info
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- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 厚さが０．０１μｍ以上であり、光透過
率が６０％以上、比抵抗が０．２Ω・ｃｍ以下であり、
湿式めっき法により作製されたことを特徴とする透明酸
化亜鉛皮膜。 【効果】 本発明によれば、電気導電性と透明性の優れ
た酸化亜鉛皮膜を作製できる。
率が６０％以上、比抵抗が０．２Ω・ｃｍ以下であり、
湿式めっき法により作製されたことを特徴とする透明酸
化亜鉛皮膜。 【効果】 本発明によれば、電気導電性と透明性の優れ
た酸化亜鉛皮膜を作製できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
の透明電極、太陽電池用などの透明半導体電極などとし
て有用な透明酸化亜鉛皮膜及びその作製方法に関する。
の透明電極、太陽電池用などの透明半導体電極などとし
て有用な透明酸化亜鉛皮膜及びその作製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】酸化亜
鉛は、ウルツ鉱構造を有する禁制帯巾３．３ｅＶの酸化
物半導体であり、圧電効果、導電効果並びに発光効果に
も優れた特性を有し、資源的にも豊富である。この酸化
亜鉛膜は、表面弾性波素子、透明導電膜、センサー及び
光触媒へ応用されている。現在、酸化亜鉛膜は、化学蒸
着（ＣＶＤ）法、スパッタリング法並びにモレキュラー
ビームエピタクシー（ＭＢＥ）法などの乾式法や、ゾル
−ゲル法、液相成長法などの湿式法による作製が検討さ
れている。しかし、乾式法では、製膜雰囲気の制御のた
めの真空排気装置やガス導入装置、プラズマ発生のため
の高周波電源や機材加熱及び駆動装置が必要であり、一
般的に製膜は４００℃以上で行われる。また、上記湿式
法においても、結晶性酸化物膜を得るためには、製膜
後、４００℃以上の加熱が必要である。
鉛は、ウルツ鉱構造を有する禁制帯巾３．３ｅＶの酸化
物半導体であり、圧電効果、導電効果並びに発光効果に
も優れた特性を有し、資源的にも豊富である。この酸化
亜鉛膜は、表面弾性波素子、透明導電膜、センサー及び
光触媒へ応用されている。現在、酸化亜鉛膜は、化学蒸
着（ＣＶＤ）法、スパッタリング法並びにモレキュラー
ビームエピタクシー（ＭＢＥ）法などの乾式法や、ゾル
−ゲル法、液相成長法などの湿式法による作製が検討さ
れている。しかし、乾式法では、製膜雰囲気の制御のた
めの真空排気装置やガス導入装置、プラズマ発生のため
の高周波電源や機材加熱及び駆動装置が必要であり、一
般的に製膜は４００℃以上で行われる。また、上記湿式
法においても、結晶性酸化物膜を得るためには、製膜
後、４００℃以上の加熱が必要である。
【０００３】そこで、近年、硝酸亜鉛とジメチルアミン
ボラン（ＤＭＡＢ）を用いた無電解法と電解法を併用す
ることにより、不導体上に電気伝導性の優れた酸化亜鉛
を作製させる方法が報告されている（第１２回回路実装
学術講演大会講演予稿集第１２１頁，１９９８年３月９
日発行）。この方法は、不導体上に水溶液から電気伝導
性の優れた酸化亜鉛膜を作製させる方法であり、乾式法
で必要とする設備を必要とせず、また高温での加熱を必
要としない。
ボラン（ＤＭＡＢ）を用いた無電解法と電解法を併用す
ることにより、不導体上に電気伝導性の優れた酸化亜鉛
を作製させる方法が報告されている（第１２回回路実装
学術講演大会講演予稿集第１２１頁，１９９８年３月９
日発行）。この方法は、不導体上に水溶液から電気伝導
性の優れた酸化亜鉛膜を作製させる方法であり、乾式法
で必要とする設備を必要とせず、また高温での加熱を必
要としない。
【０００４】しかしながら、報告されている方法では、
電気伝導性の優れた酸化亜鉛膜は作製することはできる
が、光学的透明性に優れた酸化亜鉛膜を作製することは
困難である。従って、酸化亜鉛膜を産業的に使用できる
ものにするためには、透明性と電気伝導性に優れた酸化
亜鉛膜の作製が必要である。
電気伝導性の優れた酸化亜鉛膜は作製することはできる
が、光学的透明性に優れた酸化亜鉛膜を作製することは
困難である。従って、酸化亜鉛膜を産業的に使用できる
ものにするためには、透明性と電気伝導性に優れた酸化
亜鉛膜の作製が必要である。
【０００５】本発明は、上記要望に応えるためになされ
たもので、電気伝導性と透明性の優れた湿式めっき法に
よる酸化亜鉛皮膜及びその作製方法を提供することを目
的とする。
たもので、電気伝導性と透明性の優れた湿式めっき法に
よる酸化亜鉛皮膜及びその作製方法を提供することを目
的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明は、上記目的を達成するため、 請求項１：厚さが０．０１μｍ以上であり、光透過率が
６０％以上、比抵抗が０．２Ω・ｃｍ以下であり、湿式
めっき法により作製されたことを特徴とする透明酸化亜
鉛皮膜、 請求項２：光学的透明性を有する不導体基材を銀イオン
を含有する活性化剤で触媒化処理した後、酸化亜鉛析出
溶液に浸漬して無電解法により上記基材上に酸化亜鉛皮
膜を形成し、更に上記酸化亜鉛析出溶液で該酸化亜鉛皮
膜を陰極として電解して、厚さ０．０１μｍ以上の透明
酸化亜鉛皮膜を形成することを特徴とする透明酸化亜鉛
皮膜の作製方法、 請求項３：上記基材を２価の錫イオンを含むセンシタイ
ジング溶液でセンシタイジング処理した後、上記銀イオ
ンを含有する活性化剤で触媒化処理を施すようにした請
求項２記載の作製方法、 請求項４：活性化剤で触媒処理した後、強酸溶液への浸
漬処理を行い、その後酸化亜鉛析出溶液への浸漬処理を
行うようにした請求項３記載の作製方法を提供する。
発明は、上記目的を達成するため、 請求項１：厚さが０．０１μｍ以上であり、光透過率が
６０％以上、比抵抗が０．２Ω・ｃｍ以下であり、湿式
めっき法により作製されたことを特徴とする透明酸化亜
鉛皮膜、 請求項２：光学的透明性を有する不導体基材を銀イオン
を含有する活性化剤で触媒化処理した後、酸化亜鉛析出
溶液に浸漬して無電解法により上記基材上に酸化亜鉛皮
膜を形成し、更に上記酸化亜鉛析出溶液で該酸化亜鉛皮
膜を陰極として電解して、厚さ０．０１μｍ以上の透明
酸化亜鉛皮膜を形成することを特徴とする透明酸化亜鉛
皮膜の作製方法、 請求項３：上記基材を２価の錫イオンを含むセンシタイ
ジング溶液でセンシタイジング処理した後、上記銀イオ
ンを含有する活性化剤で触媒化処理を施すようにした請
求項２記載の作製方法、 請求項４：活性化剤で触媒処理した後、強酸溶液への浸
漬処理を行い、その後酸化亜鉛析出溶液への浸漬処理を
行うようにした請求項３記載の作製方法を提供する。
【０００７】即ち、本発明者らは、無電解法で酸化亜鉛
皮膜を作製させる際の触媒付与工程を検討することによ
り、酸化亜鉛皮膜の透明度の向上を図った結果、電気導
電性が向上すると共に、光学的透明性に優れた酸化亜鉛
皮膜が得られることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。これらが向上した理由は、銀触媒はＰｄ触媒に比べ
て、緻密なＺｎＯの初期析出ができ、その上に緻密なＺ
ｎＯが成長するので、透明性が向上すると共に、導電性
も向上するものと考えられる。
皮膜を作製させる際の触媒付与工程を検討することによ
り、酸化亜鉛皮膜の透明度の向上を図った結果、電気導
電性が向上すると共に、光学的透明性に優れた酸化亜鉛
皮膜が得られることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。これらが向上した理由は、銀触媒はＰｄ触媒に比べ
て、緻密なＺｎＯの初期析出ができ、その上に緻密なＺ
ｎＯが成長するので、透明性が向上すると共に、導電性
も向上するものと考えられる。
【０００８】本発明で使用したガラス上の銀触媒の一例
をＥＳＣＡで分析したところ、酸化銀と２酸化錫が認め
られた。一方、Ｐｄ触媒の場合は、酸化Ｐｄと２酸化錫
が認められた。また、これら触媒の付着状態をＡＦＭ
（原子間力顕微鏡）で観察したところ、銀触媒はＰｄ触
媒と比較して、より緻密で凹凸の少ない付着の仕方をし
ていることが判明した。このように、銀触媒による触媒
の分散性、均一性の向上が酸化亜鉛の光学的、電気的性
質の改善に大きく寄与していると考えられる。これらの
触媒機構は不明であるが、酸化銀は次工程で使用するジ
メチルアミンボラン等の還元剤によって還元され、金属
になるのかもしれない。
をＥＳＣＡで分析したところ、酸化銀と２酸化錫が認め
られた。一方、Ｐｄ触媒の場合は、酸化Ｐｄと２酸化錫
が認められた。また、これら触媒の付着状態をＡＦＭ
（原子間力顕微鏡）で観察したところ、銀触媒はＰｄ触
媒と比較して、より緻密で凹凸の少ない付着の仕方をし
ていることが判明した。このように、銀触媒による触媒
の分散性、均一性の向上が酸化亜鉛の光学的、電気的性
質の改善に大きく寄与していると考えられる。これらの
触媒機構は不明であるが、酸化銀は次工程で使用するジ
メチルアミンボラン等の還元剤によって還元され、金属
になるのかもしれない。
【０００９】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明に係る酸化亜鉛皮膜の作製方法は、上述したよう
に、光学的透明性を有する不導体基材を銀イオンを含有
する活性化剤で触媒化処理した後、酸化亜鉛析出溶液に
浸漬して無電解法により上記基材上に酸化亜鉛皮膜を形
成し、更に上記酸化亜鉛析出溶液で該酸化亜鉛皮膜を陰
極として電解して、透明酸化亜鉛皮膜を形成するもの
で、この場合、上記基材を２価の錫イオンを含むセンシ
タイジング溶液でセンシタイジング処理した後、上記銀
イオンを含有する活性化剤で触媒化処理を施すことが好
ましい。また、活性化剤による処理の後、アクセレレー
タ処理（強酸溶液への浸漬処理）を行うことが好まし
い。
本発明に係る酸化亜鉛皮膜の作製方法は、上述したよう
に、光学的透明性を有する不導体基材を銀イオンを含有
する活性化剤で触媒化処理した後、酸化亜鉛析出溶液に
浸漬して無電解法により上記基材上に酸化亜鉛皮膜を形
成し、更に上記酸化亜鉛析出溶液で該酸化亜鉛皮膜を陰
極として電解して、透明酸化亜鉛皮膜を形成するもの
で、この場合、上記基材を２価の錫イオンを含むセンシ
タイジング溶液でセンシタイジング処理した後、上記銀
イオンを含有する活性化剤で触媒化処理を施すことが好
ましい。また、活性化剤による処理の後、アクセレレー
タ処理（強酸溶液への浸漬処理）を行うことが好まし
い。
【００１０】ここで、上記基材としては、ガラスや、ポ
リカーボネート、ポリエチレンテレフタレート等の透明
プラスチックフィルムなどが挙げられる。
リカーボネート、ポリエチレンテレフタレート等の透明
プラスチックフィルムなどが挙げられる。
【００１１】これらの基材を処理して酸化亜鉛皮膜を形
成する場合、以下の処理工程１）〜８）で行うことが好
ましい。
成する場合、以下の処理工程１）〜８）で行うことが好
ましい。
【００１２】１）洗 浄：ガラスのような素材を清浄
にする。公知の脱脂剤水溶液、有機溶剤などが使用で
き、公知の処理条件で処理することができる。 ２）表面調整：公知の表面調整剤を使用して、素材表面
に電荷を付与する。 ３）センシタイジング：公知の錫イオンを含有する溶液
に浸漬して、センシタイジングを行う。 ４）アクチベーティング：銀イオンを主として含む活性
化剤で活性化を行う。 ５）アクセレレータ処理：強酸溶液による浸漬処理を行
う。 ６）上記の３），４），５）工程を必要により数回繰り
返してもよい。 ７）無電解ＺｎＯ膜作製 ８）電解ＺｎＯ膜作製
にする。公知の脱脂剤水溶液、有機溶剤などが使用で
き、公知の処理条件で処理することができる。 ２）表面調整：公知の表面調整剤を使用して、素材表面
に電荷を付与する。 ３）センシタイジング：公知の錫イオンを含有する溶液
に浸漬して、センシタイジングを行う。 ４）アクチベーティング：銀イオンを主として含む活性
化剤で活性化を行う。 ５）アクセレレータ処理：強酸溶液による浸漬処理を行
う。 ６）上記の３），４），５）工程を必要により数回繰り
返してもよい。 ７）無電解ＺｎＯ膜作製 ８）電解ＺｎＯ膜作製
【００１３】この場合、上記表面調整剤としては、主成
分としてカチオン界面活性剤あるいはカチオン性高分子
化合物を１〜５０ｇ／Ｌ含有する水溶液を使用すること
ができ、１０〜６０℃で１〜１０分間浸漬処理すること
ができる。
分としてカチオン界面活性剤あるいはカチオン性高分子
化合物を１〜５０ｇ／Ｌ含有する水溶液を使用すること
ができ、１０〜６０℃で１〜１０分間浸漬処理すること
ができる。
【００１４】また、上記センシタイジング処理に用いる
センシタイジング溶液としては、ＳｎＣｌ2、ＳｎＳＯ4
等の２価の錫塩を塩酸、硫酸等の酸溶液に溶解した、２
価の錫イオンを１〜５０ｇ／Ｌ含有し、ｐＨが１〜３で
ある溶液を使用し、１０〜６０℃で１〜１０分間浸漬処
理することが好ましい。
センシタイジング溶液としては、ＳｎＣｌ2、ＳｎＳＯ4
等の２価の錫塩を塩酸、硫酸等の酸溶液に溶解した、２
価の錫イオンを１〜５０ｇ／Ｌ含有し、ｐＨが１〜３で
ある溶液を使用し、１０〜６０℃で１〜１０分間浸漬処
理することが好ましい。
【００１５】本発明において、上記工程４）で用いる銀
イオンを含む活性化剤としては、銀イオン濃度０．００
０１〜０．５モル／Ｌ、特に０．００１〜０．１モル／
Ｌであるものが好ましい。この場合、銀イオンを与える
銀塩の例としては、硫酸銀、亜硫酸銀、チオ硫酸銀、過
塩素酸銀、メタンスルホン酸銀などが使用できるが、特
に限定はない。上記銀イオンを主成分とする溶液には、
２価の金属イオンを混合することで活性化の性能を向上
することができる。この例としては、Ｎｉイオン、Ｃｏ
イオン、鉄イオン、亜鉛イオン、銅イオンなどが好適に
使用できる。この向上機構は不明であるが、次工程で使
用する無電解めっきの還元剤によってこれらの金属イオ
ンが還元されて金属になるかもしれない。これらの使用
濃度は上記銀イオンと同様である。なお、上記金属イオ
ンに対する対アニオンは、硫酸イオン、ハロゲン化物イ
オン、メタンスルホン酸イオン等が好適に使用される
が、特に限定はない。また、ｐＨは５〜１１程度が適当
である。
イオンを含む活性化剤としては、銀イオン濃度０．００
０１〜０．５モル／Ｌ、特に０．００１〜０．１モル／
Ｌであるものが好ましい。この場合、銀イオンを与える
銀塩の例としては、硫酸銀、亜硫酸銀、チオ硫酸銀、過
塩素酸銀、メタンスルホン酸銀などが使用できるが、特
に限定はない。上記銀イオンを主成分とする溶液には、
２価の金属イオンを混合することで活性化の性能を向上
することができる。この例としては、Ｎｉイオン、Ｃｏ
イオン、鉄イオン、亜鉛イオン、銅イオンなどが好適に
使用できる。この向上機構は不明であるが、次工程で使
用する無電解めっきの還元剤によってこれらの金属イオ
ンが還元されて金属になるかもしれない。これらの使用
濃度は上記銀イオンと同様である。なお、上記金属イオ
ンに対する対アニオンは、硫酸イオン、ハロゲン化物イ
オン、メタンスルホン酸イオン等が好適に使用される
が、特に限定はない。また、ｐＨは５〜１１程度が適当
である。
【００１６】本発明の銀を主成分とする溶液の液温は広
い範囲で設定できるが、通常は１５〜６０℃とすること
が好ましい。また、これらの活性化液への浸漬処理時間
も適宜選択できるが、数秒〜数分間が好適である。
い範囲で設定できるが、通常は１５〜６０℃とすること
が好ましい。また、これらの活性化液への浸漬処理時間
も適宜選択できるが、数秒〜数分間が好適である。
【００１７】本発明では、銀を主成分とする溶液を活性
化剤として用いることにより、電気伝導性を損なうこと
なく、透明性に優れた酸化亜鉛皮膜を作製することがで
きる。
化剤として用いることにより、電気伝導性を損なうこと
なく、透明性に優れた酸化亜鉛皮膜を作製することがで
きる。
【００１８】上記工程５）で使用する強酸溶液として
は、ホウフッ酸、塩酸、メタンスルホン酸、硫酸等の強
酸を１〜２００ｇ／Ｌ、特に１０〜１００ｇ／Ｌ水に溶
解した溶液を使用することができる。この場合、浸漬温
度は１０〜６０℃、特に１５〜３５℃、浸漬時間は０．
１〜３０分間、特に０．５〜５分間とすることができ
る。このアクセレレータ処理を行うことにより、透明性
を更に向上させることができ、生成酸化亜鉛の物性を高
めることができる。その理由は必ずしも明らかではない
が、上記センシタイジング、アクチベーティングの工程
で生じた２酸化錫を溶解するためと考えられる。なお、
上記３），４）の工程だけでも十分な透明性を与えるの
で、工程５）は都合により省略してもよいが、この工程
５）を使用すると透明性はより向上する。
は、ホウフッ酸、塩酸、メタンスルホン酸、硫酸等の強
酸を１〜２００ｇ／Ｌ、特に１０〜１００ｇ／Ｌ水に溶
解した溶液を使用することができる。この場合、浸漬温
度は１０〜６０℃、特に１５〜３５℃、浸漬時間は０．
１〜３０分間、特に０．５〜５分間とすることができ
る。このアクセレレータ処理を行うことにより、透明性
を更に向上させることができ、生成酸化亜鉛の物性を高
めることができる。その理由は必ずしも明らかではない
が、上記センシタイジング、アクチベーティングの工程
で生じた２酸化錫を溶解するためと考えられる。なお、
上記３），４）の工程だけでも十分な透明性を与えるの
で、工程５）は都合により省略してもよいが、この工程
５）を使用すると透明性はより向上する。
【００１９】上記工程７）で使用する酸化亜鉛析出溶液
としては、ＺｎＯを作製できる液であればよく、特に制
限されないが、硝酸亜鉛等の亜鉛塩０．０１〜０．５モ
ル／Ｌ、好ましくは０．０５〜０．２モル／Ｌと、ジメ
チルアミンボラン等のボラン系還元剤、その他の還元剤
を０．００１〜０．５モル／Ｌ、好ましくは０．０１〜
０．２モル／Ｌ、特に０．０３〜０．１モル／Ｌ含有す
るｐＨ４〜９程度、特にｐＨ６．５程度の処理液を好適
に用いることができ、１０〜８０℃で５〜１２０分間浸
漬処理する方法が採用し得る。
としては、ＺｎＯを作製できる液であればよく、特に制
限されないが、硝酸亜鉛等の亜鉛塩０．０１〜０．５モ
ル／Ｌ、好ましくは０．０５〜０．２モル／Ｌと、ジメ
チルアミンボラン等のボラン系還元剤、その他の還元剤
を０．００１〜０．５モル／Ｌ、好ましくは０．０１〜
０．２モル／Ｌ、特に０．０３〜０．１モル／Ｌ含有す
るｐＨ４〜９程度、特にｐＨ６．５程度の処理液を好適
に用いることができ、１０〜８０℃で５〜１２０分間浸
漬処理する方法が採用し得る。
【００２０】最適な無電解めっき液としては、Ｚｎ（Ｎ
Ｏ3）2０．１モル／Ｌと、ジメチルアミンボラン０．０
３モル／Ｌを含有するｐＨ６．５の処理液を用いること
がよい。この組成から得られた酸化亜鉛皮膜は、粒子径
が小さくなり、Ｃ軸配向（０００１）し、ボイドが減少
するので、透明性、導電性が向上する。
Ｏ3）2０．１モル／Ｌと、ジメチルアミンボラン０．０
３モル／Ｌを含有するｐＨ６．５の処理液を用いること
がよい。この組成から得られた酸化亜鉛皮膜は、粒子径
が小さくなり、Ｃ軸配向（０００１）し、ボイドが減少
するので、透明性、導電性が向上する。
【００２１】また、工程８）においては、上記工程７）
と同様の処理液を使用し得、工程７）で得られた無電解
酸化亜鉛皮膜を陰極とし、亜鉛、カーボン、白金等を陽
極として、上記酸化亜鉛皮膜１ｃｍ2あたり０．１〜２
０クーロン、好ましくは１〜１０クーロン通電して、
０．０１μｍ以上、好ましくは０．０５〜５μｍ、更に
好ましくは０．１〜２μｍの厚さに形成すればよい。な
お、めっき温度としては１０〜８０℃程度とすることが
できる。
と同様の処理液を使用し得、工程７）で得られた無電解
酸化亜鉛皮膜を陰極とし、亜鉛、カーボン、白金等を陽
極として、上記酸化亜鉛皮膜１ｃｍ2あたり０．１〜２
０クーロン、好ましくは１〜１０クーロン通電して、
０．０１μｍ以上、好ましくは０．０５〜５μｍ、更に
好ましくは０．１〜２μｍの厚さに形成すればよい。な
お、めっき温度としては１０〜８０℃程度とすることが
できる。
【００２２】上記方法で得られた酸化亜鉛皮膜は、厚さ
０．０１μｍ以上において、吸光光度計で可視部の透過
度を測定した場合、６０％以上、特に６０〜９５％程度
の透過度を示す。また、その比抵抗は四探針法で測定し
た場合、０．２Ω・ｃｍ以下、特に０．０００１〜０．
２Ω・ｃｍである。
０．０１μｍ以上において、吸光光度計で可視部の透過
度を測定した場合、６０％以上、特に６０〜９５％程度
の透過度を示す。また、その比抵抗は四探針法で測定し
た場合、０．２Ω・ｃｍ以下、特に０．０００１〜０．
２Ω・ｃｍである。
【００２３】本発明の酸化亜鉛皮膜は、電気導電性、透
明性に優れているため、液晶ディスプレイの透明電極、
太陽電池用の透明半導体電極などとして有効に用いられ
る。
明性に優れているため、液晶ディスプレイの透明電極、
太陽電池用の透明半導体電極などとして有効に用いられ
る。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、電気導電性と透明性の
優れた酸化亜鉛皮膜を作製できる。
優れた酸化亜鉛皮膜を作製できる。
【００２５】
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
【００２６】〔実施例１〕ガラスをアセトンで洗浄し、
下記表面調整剤溶液に２０℃で５分間浸漬後、水洗を行
い、次いで下記センシタイジング溶液で２０℃で１分間
センシタイズした後、下記銀塩活性化溶液を用いて２０
℃で１分間活性化処理した。この上に、下記に示す酸化
亜鉛析出溶液に６５℃で３０分間浸漬して、無電解法で
ＺｎＯを析出させた。更に、このＺｎＯ析出物を陰極と
し、亜鉛板を陽極とし、上記酸化亜鉛析出溶液中で６５
℃，３０分間，１ｃｍ2あたり４クーロンの通電化処理
を行い、電解して、ＺｎＯを成長させた。
下記表面調整剤溶液に２０℃で５分間浸漬後、水洗を行
い、次いで下記センシタイジング溶液で２０℃で１分間
センシタイズした後、下記銀塩活性化溶液を用いて２０
℃で１分間活性化処理した。この上に、下記に示す酸化
亜鉛析出溶液に６５℃で３０分間浸漬して、無電解法で
ＺｎＯを析出させた。更に、このＺｎＯ析出物を陰極と
し、亜鉛板を陽極とし、上記酸化亜鉛析出溶液中で６５
℃，３０分間，１ｃｍ2あたり４クーロンの通電化処理
を行い、電解して、ＺｎＯを成長させた。
【００２７】得られたＺｎＯ皮膜の厚さは約１μｍであ
り、その光透過率、比抵抗を測定した。結果を表１に示
す。なお、光透過率は吸光光度法により、比抵抗は四探
針法により測定した。
り、その光透過率、比抵抗を測定した。結果を表１に示
す。なお、光透過率は吸光光度法により、比抵抗は四探
針法により測定した。
【００２８】表面調整剤溶液 上村工業株式会社製 スルカップＣＤ−２０２ ５０ ｍＬ／Ｌセンシタイジング溶液 ＳｎＣｌ2・２Ｈ2Ｏ １５ ｇ／Ｌ 濃塩酸 １５ ｍＬ／Ｌ銀塩活性化溶液 ＡｇＮＯ3 １．５ ｇ／Ｌ ＮｉＳＯ4・６Ｈ2Ｏ ０．３ ｇ／Ｌ ｐＨ ７酸化亜鉛析出溶液 Ｚｎ（ＮＯ3）2 ０．１ モル／Ｌ ジメチルアミンボラン ０．０３ モル／Ｌ ｐＨ ６．５
【００２９】〔実施例２〕実施例１において、銀塩活性
化溶液による処理後、ホウフッ酸５０ｇ／Ｌの強酸溶液
を用いて２０℃で１分間アクセレレータ処理を行い、次
いで酸化亜鉛析出溶液による処理を行った以外は、実施
例１と同様にしてＺｎＯ皮膜を得た。
化溶液による処理後、ホウフッ酸５０ｇ／Ｌの強酸溶液
を用いて２０℃で１分間アクセレレータ処理を行い、次
いで酸化亜鉛析出溶液による処理を行った以外は、実施
例１と同様にしてＺｎＯ皮膜を得た。
【００３０】〔比較例〕実施例１において、銀塩活性化
溶液の代わりに下記パラジウム活性化溶液を用いて、２
０℃，１分間の活性化処理を行った以外は実施例１と同
様に操作した。
溶液の代わりに下記パラジウム活性化溶液を用いて、２
０℃，１分間の活性化処理を行った以外は実施例１と同
様に操作した。
【００３１】得られたＺｎＯ皮膜（厚さ１μｍ）の光透
過率及び比抵抗の測定結果を表１に示す。
過率及び比抵抗の測定結果を表１に示す。
【００３２】パラジウム活性化液 ＰｄＣｌ2 １ ｇ／Ｌ 濃塩酸 １ ｍＬ／Ｌ
【００３３】
【表１】
【００３４】表１の結果より、本発明法により透明性、
導電性が非常に改善されたＺｎＯ皮膜を形成し得ること
が認められる。
導電性が非常に改善されたＺｎＯ皮膜を形成し得ること
が認められる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊崎 昌伸 奈良県北葛城郡河合町久美ケ丘１丁目４番 地１ (72)発明者 畑瀬 博 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 西條 義司 大阪府枚方市出口１丁目５番１号 上村工 業株式会社中央研究所内 Ｆターム(参考） 2H092 GA27 HA03 HA06 MA11 MA22 MA37 NA27 NA28 4K044 AA12 AA16 AB02 BA12 BB01 BB15 BC14 CA04 CA07 CA15 CA17 CA53 5F051 FA02 FA13 FA24 GA03
Claims (4)
- 【請求項１】 厚さが０．０１μｍ以上であり、光透過
率が６０％以上、比抵抗が０．２Ω・ｃｍ以下であり、
湿式めっき法により作製されたことを特徴とする透明酸
化亜鉛皮膜。 - 【請求項２】 光学的透明性を有する不導体基材を銀イ
オンを含有する活性化剤で触媒化処理した後、酸化亜鉛
析出溶液に浸漬して無電解法により上記基材上に酸化亜
鉛皮膜を形成し、更に上記酸化亜鉛析出溶液で該酸化亜
鉛皮膜を陰極として電解して、厚さ０．０１μｍ以上の
透明酸化亜鉛皮膜を形成することを特徴とする透明酸化
亜鉛皮膜の作製方法。 - 【請求項３】 上記基材を２価の錫イオンを含むセンシ
タイジング溶液でセンシタイジング処理した後、上記銀
イオンを含有する活性化剤で触媒化処理を施すようにし
た請求項２記載の作製方法。 - 【請求項４】 活性化剤で触媒処理した後、強酸溶液へ
の浸漬処理を行い、その後酸化亜鉛析出溶液への浸漬処
理を行うようにした請求項３記載の作製方法。
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|---|---|---|---|
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| JP2000008180A true JP2000008180A (ja) | 2000-01-11 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002241951A (ja) * | 2001-02-16 | 2002-08-28 | C Uyemura & Co Ltd | 無電解酸化亜鉛皮膜の形成方法 |
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| JP2006282464A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Dainippon Printing Co Ltd | 金属酸化物膜の製造方法 |
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| US8361831B2 (en) | 2008-12-25 | 2013-01-29 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Zinc oxide film forming method and apparatus |
-
1998
- 1998-06-18 JP JP18829298A patent/JP4081625B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2011159729A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Fujifilm Corp | 導電性酸化亜鉛積層膜の製造方法、光電変換素子の製造方法 |
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