JP2000003851A5 - 投影光学系、投影露光装置及び方法 - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 屈折光学部材と曲面鏡と光路偏向部材とを含む光学部材により、第1面の像を第2面上に形成する反射屈折投影露光装置に用いられる投影光学系において、
該投影光学系は、2個以上の前記光路偏向部材を有し、該光路偏向部材のうちのいずれか2つの光路偏向部材は、その反射面が互いに直交するように配置され、且つ単一の保持部材によって保持されていることを特徴とする投影光学系。
【請求項2】 前記投影光学系は、前記保持部材を支持する支持部材を有し、
前記保持部材によって保持された前記2つの光路偏向部材の間の光軸の中点を通り、該光軸と直交する平面又はその近傍において、前記保持部材は前記支持部材によって支持されることを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
【請求項3】 前記保持部材によって保持された前記2つの光路偏向部材の間の光路中に、屈折光学部材を含まないことを特徴とする請求項1又は2記載の投影光学系。
【請求項4】 前記保持部材によって保持された前記2つの光路偏向部材の間の光路中に、2枚以内の屈折光学部材が配置されることを特徴とする請求項1又は2記載の投影光学系。
【請求項5】 前記保持部材によって保持された前記2つの光路偏向部材は、表面反射鏡であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の投影光学系。
【請求項6】 前記2つの光路偏向部材は、第1の光路偏向部材と、該第1の光路偏向部材よりも第2面側の光路に配置された第2の光路偏向部材とを備え、
前記第1の光路偏向部材よりも前記第1面側の光学系の光軸と、前記第2の光路偏向部材よりも前記第2面側の光軸とは互いに平行であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の投影光学系。
【請求項7】 前記2つの光路偏向部材は、第1の光路偏向部材と、該第1の光路偏向部材よりも第2面側の光路に配置された第2の光路偏向部材とを備え、
前記第1の光路偏向部材に入射する入射光と前記第2の光路偏向部材で反射される反射光とは互いに逆向きに進行することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載の投影光学系。
【請求項8】 前記投影光学系は、前記第1面の中間像を形成する第1結像光学系と、前記中間像の再結像を前記第2面上に形成する第2結像光学系と、前記中間像の近傍に配置される第1光路偏向部材と、該第1光路偏向部材と前記第2結像光学系との間に配置され又は前記第2結像光学系の内部に配置される第2光路偏向部材とを有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項記載の投影光学系。
【請求項9】 前記第1結像光学系は前記曲面鏡を含み、該曲面鏡は凹面鏡によって形成されることを特徴とする請求項8記載の投影光学系。
【請求項10】 前記第1面を照明する照明光学系と、、
前記第1面上のパターンの像を第2面上の感光面に転写するための請求項1乃至9のいずれか1項記載の投影光学系とを備えることを特徴とする投影露光装置。
【請求項11】 前記照明光学系が前記パターンを照明する照明領域と、前記投影光学系が前記感光面上に形成する露光領域とは、スリット状に形成されて、
前記パターンと前記感光面とは、前記照明領域及び露光領域の短手方向に同期して走査するように配置されることを特徴とする請求項10記載の投影露光装置。
【請求項12】 所定のパターンの像を被露光物体の感光面上に投影する投影露光方法において、
請求項10又は11記載の投影露光装置を用いて前記パターンの像を前記被露光物体の前記感光面上に形成していることを特徴とする投影露光方法。
【請求項1】 屈折光学部材と曲面鏡と光路偏向部材とを含む光学部材により、第1面の像を第2面上に形成する反射屈折投影露光装置に用いられる投影光学系において、
該投影光学系は、2個以上の前記光路偏向部材を有し、該光路偏向部材のうちのいずれか2つの光路偏向部材は、その反射面が互いに直交するように配置され、且つ単一の保持部材によって保持されていることを特徴とする投影光学系。
【請求項2】 前記投影光学系は、前記保持部材を支持する支持部材を有し、
前記保持部材によって保持された前記2つの光路偏向部材の間の光軸の中点を通り、該光軸と直交する平面又はその近傍において、前記保持部材は前記支持部材によって支持されることを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
【請求項3】 前記保持部材によって保持された前記2つの光路偏向部材の間の光路中に、屈折光学部材を含まないことを特徴とする請求項1又は2記載の投影光学系。
【請求項4】 前記保持部材によって保持された前記2つの光路偏向部材の間の光路中に、2枚以内の屈折光学部材が配置されることを特徴とする請求項1又は2記載の投影光学系。
【請求項5】 前記保持部材によって保持された前記2つの光路偏向部材は、表面反射鏡であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の投影光学系。
【請求項6】 前記2つの光路偏向部材は、第1の光路偏向部材と、該第1の光路偏向部材よりも第2面側の光路に配置された第2の光路偏向部材とを備え、
前記第1の光路偏向部材よりも前記第1面側の光学系の光軸と、前記第2の光路偏向部材よりも前記第2面側の光軸とは互いに平行であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の投影光学系。
【請求項7】 前記2つの光路偏向部材は、第1の光路偏向部材と、該第1の光路偏向部材よりも第2面側の光路に配置された第2の光路偏向部材とを備え、
前記第1の光路偏向部材に入射する入射光と前記第2の光路偏向部材で反射される反射光とは互いに逆向きに進行することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載の投影光学系。
【請求項8】 前記投影光学系は、前記第1面の中間像を形成する第1結像光学系と、前記中間像の再結像を前記第2面上に形成する第2結像光学系と、前記中間像の近傍に配置される第1光路偏向部材と、該第1光路偏向部材と前記第2結像光学系との間に配置され又は前記第2結像光学系の内部に配置される第2光路偏向部材とを有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項記載の投影光学系。
【請求項9】 前記第1結像光学系は前記曲面鏡を含み、該曲面鏡は凹面鏡によって形成されることを特徴とする請求項8記載の投影光学系。
【請求項10】 前記第1面を照明する照明光学系と、、
前記第1面上のパターンの像を第2面上の感光面に転写するための請求項1乃至9のいずれか1項記載の投影光学系とを備えることを特徴とする投影露光装置。
【請求項11】 前記照明光学系が前記パターンを照明する照明領域と、前記投影光学系が前記感光面上に形成する露光領域とは、スリット状に形成されて、
前記パターンと前記感光面とは、前記照明領域及び露光領域の短手方向に同期して走査するように配置されることを特徴とする請求項10記載の投影露光装置。
【請求項12】 所定のパターンの像を被露光物体の感光面上に投影する投影露光方法において、
請求項10又は11記載の投影露光装置を用いて前記パターンの像を前記被露光物体の前記感光面上に形成していることを特徴とする投影露光方法。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、すなわち、屈折光学部材と曲面鏡と光路偏向部材とを含む光学部材により、第1面の像を第2面上に形成する反射屈折投影露光装置に用いられる投影光学系において、該投影光学系は、2個以上の前記光路偏向部材を有し、該光路偏向部材のうちのいずれか2つの光路偏向部材は、その反射面が互いに直交するように配置され、且つ単一の保持部材によって保持されていることを特徴とする投影光学系である。
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、すなわち、屈折光学部材と曲面鏡と光路偏向部材とを含む光学部材により、第1面の像を第2面上に形成する反射屈折投影露光装置に用いられる投影光学系において、該投影光学系は、2個以上の前記光路偏向部材を有し、該光路偏向部材のうちのいずれか2つの光路偏向部材は、その反射面が互いに直交するように配置され、且つ単一の保持部材によって保持されていることを特徴とする投影光学系である。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP10181497A JP2000003851A (ja) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | 反射屈折投影露光装置 |
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EP02024575A EP1293831A1 (en) | 1998-06-08 | 1999-06-07 | Projection exposure apparatus and method |
EP02024574A EP1293830A1 (en) | 1998-06-08 | 1999-06-07 | Projection exposure apparatus and method |
EP99110891A EP0964307A3 (en) | 1998-06-08 | 1999-06-07 | Projection exposure apparatus and method |
US09/328,198 US6195213B1 (en) | 1998-06-08 | 1999-06-08 | Projection exposure apparatus and method |
US09/721,956 US6362926B1 (en) | 1998-06-08 | 2000-11-27 | Projection exposure apparatus and method |
US10/060,316 US6512641B2 (en) | 1998-06-08 | 2002-02-01 | Projection exposure apparatus and method |
US10/310,780 US6639732B2 (en) | 1998-06-08 | 2002-12-06 | Projection exposure apparatus and method |
US10/645,780 US20040070852A1 (en) | 1998-06-08 | 2003-08-22 | Projection eposure apparatus and method |
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JP10181497A JP2000003851A (ja) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | 反射屈折投影露光装置 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10181497A Pending JP2000003851A (ja) | 1998-06-08 | 1998-06-12 | 反射屈折投影露光装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2000003851A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US20070206167A1 (en) * | 2004-01-06 | 2007-09-06 | Takeyuki Mizutani | Exposure Method and Apparatus, and Device Manufacturing Method |
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1998
- 1998-06-12 JP JP10181497A patent/JP2000003851A/ja active Pending
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