KR980005331A - 반사굴절 광학계 및 그 조정 방법 - Google Patents
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Abstract
최적 위치에 수차 보정 시스템을 설치하므로써, 용이한 수정에 의해 반사 굴절 광학계의 각 광학 수차를 보정한다. 제 1 면 R으로 부터의 광속(光束)이 왕로(往路)만을 투과하는 왕로(往路)광학계 A₁및 오목경 Mc와 그 오목경 Mc로의 입사광과 반사광 쌍방이 투과하는 렌즈군으로 이루어진 왕복광학계 A₂에 의해 제 1 결상광학계 A를 형성하고, 그 제 1 결상광학계 A에 의해 제 1 면 R의 중간상을 형성하고, 그 중간상의 근처에 제 1 결상광학계 A로부터의 광속을 제 2 결상광학계B로 유도하도록 제 1 미러 M₁를 배치하고, 제 2 결상 광학계B에 따라 중간상의 재결상을 제 2 면 W상에 형성하는, 반사 굴절 광학계에 있어서, 왕로 광학계 A₁내의 적어도 1매의 렌즈를 광축에 따라 이동 가능하도록, 또는 광축과 직교하는 방향에 이동 가능하도록, 또는 광축과 직교하는 축을 중심으로하여 회전 가능하도록 배치한 것을 특징으로 한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1돈느 본 발명의 일실시예를 도시한 구성도이다.
Claims (2)
- 제 1 면으로 부터의 광속(光束)이 왕로(往路)로만 투과되는 왕로 광학계 및 오목경과 그 오목경으로의 입사광과 반사광 쌍방이 투과되는 렌즈군으로 이루어진 왕복 광학계에 의해 제 1 결상 광학계를 형성하여, 상기 제 1 결상 광학계에 의해 상기 제 1 면에 중간상을 형성하고, 상기 중간상의 근처에 상기 제 1 결상 광학계로 부터의 광속을 제 2 결상 광학계로 인도하기 위한 제 1 미러를 배치하며, 상기 제 2 결상 광학계에 의해 상기중간상의 재결상을 제 2 면상에 형성하는 반사 굴절 광학계에 있어서, 상기 왕로 광학계내의 적어도 1매의 렌즈를 광축을 따라서 이동가능, 내지는 광축과 직교하는 방향으로 이동 가능, 또는 광축과 직교하는 축을 중심으로하여 회전 가능하도록 배치하는 것을 특징으로 하는 반사 굴절 광학계.
- 제 1 면으로 부터의 광속이 왕로로만 투과되는 왕로(往路) 광학계 및 오목경과 그 오목경으로의 입사광과 반사광 쌍방이 투과되는 렌즈군으로 이루어지는 왕복 광학계에 의해 제 1 결상 광학계를 형성하여, 상기 제 1 결상 광학계에 의해 상기 제 1 면의 중간상을 형성하고, 상기 중간상의 근처에 상기 제 1 결상 광학계로 부터의 광속을 제 2 결상 광학계로 인도하기 위한 제 1 미러를 배치하며, 상기 제 2 결상 광학계에 의해 상기 중간상의 재결상을 제 2 면상에 형성하는 반사 굴절 광학계의 조정 방법에 있어서, 상기 왕로 광학계내의 적오도 1매의 렌즈를 광축에 따라 이동가능 내지는 광축과 직교하는 방향으로 이동 가능, 또는 광축과 직교하는 축을 중심으로 하여 회전 가능하도록 배치하고, 상게 제 1 면에 테스트 패턴을 배치하고, 상기 제 2 면에 투영되는 테스트패턴상의 일부분의 결상 위치를 검출하는 위치 검출 수단을 설치하여, 상기 위치 검출 수단을 이동하므로써 상기 테스트 패턴 상의 복수 부분의 결상위치를 검출하여, 이들 복수 부분의 결상 위치에 근거하여 상기 적어도 1매의 렌즈를 이동하는 것을 특징으로 하는 반사 굴절 광학계의 조정 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP188365/1996 | 1996-06-28 | ||
JP8188365A JPH1020197A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 反射屈折光学系及びその調整方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR980005331A true KR980005331A (ko) | 1998-03-30 |
KR100470953B1 KR100470953B1 (ko) | 2005-06-17 |
Family
ID=16222350
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019970022137A KR100470953B1 (ko) | 1996-06-28 | 1997-05-30 | 반사굴절광학계및그조정방법 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5835284A (ko) |
JP (1) | JPH1020197A (ko) |
KR (1) | KR100470953B1 (ko) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6512631B2 (en) * | 1996-07-22 | 2003-01-28 | Kla-Tencor Corporation | Broad-band deep ultraviolet/vacuum ultraviolet catadioptric imaging system |
US5969882A (en) * | 1997-04-01 | 1999-10-19 | Nikon Corporation | Catadioptric optical system |
WO1999049366A1 (fr) | 1998-03-20 | 1999-09-30 | Nikon Corporation | Photomasque et systeme d'exposition par projection |
WO1999052004A1 (fr) * | 1998-04-07 | 1999-10-14 | Nikon Corporation | Appareil et procede d'exposition a projection, et systeme optique reflechissant a refraction |
EP1293830A1 (en) | 1998-06-08 | 2003-03-19 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
US6451507B1 (en) | 1998-08-18 | 2002-09-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and method |
JP4717974B2 (ja) * | 1999-07-13 | 2011-07-06 | 株式会社ニコン | 反射屈折光学系及び該光学系を備える投影露光装置 |
JP4532647B2 (ja) * | 2000-02-23 | 2010-08-25 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
US7301605B2 (en) * | 2000-03-03 | 2007-11-27 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices |
JP2002083766A (ja) | 2000-06-19 | 2002-03-22 | Nikon Corp | 投影光学系、該光学系の製造方法、及び前記光学系を備えた投影露光装置 |
DE10136387A1 (de) * | 2001-07-26 | 2003-02-13 | Zeiss Carl | Objektiv, insbesondere Objektiv für die Halbleiter-Lithographie |
US7136220B2 (en) * | 2001-08-21 | 2006-11-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric reduction lens |
TW575904B (en) * | 2001-08-21 | 2004-02-11 | Asml Us Inc | Optical projection for microlithography |
DE102006038398A1 (de) * | 2006-08-15 | 2008-02-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61156737A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-16 | Canon Inc | 回路の製造方法及び露光装置 |
US5052763A (en) * | 1990-08-28 | 1991-10-01 | International Business Machines Corporation | Optical system with two subsystems separately correcting odd aberrations and together correcting even aberrations |
JPH0821955A (ja) * | 1994-07-07 | 1996-01-23 | Nikon Corp | 反射屈折縮小投影光学系 |
US5668673A (en) * | 1991-08-05 | 1997-09-16 | Nikon Corporation | Catadioptric reduction projection optical system |
JPH06331932A (ja) * | 1993-05-19 | 1994-12-02 | Topcon Corp | 投影光学装置 |
JP2817615B2 (ja) * | 1994-01-31 | 1998-10-30 | 日本電気株式会社 | 縮小投影露光装置 |
JP3232473B2 (ja) * | 1996-01-10 | 2001-11-26 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
WO1999052004A1 (fr) * | 1998-04-07 | 1999-10-14 | Nikon Corporation | Appareil et procede d'exposition a projection, et systeme optique reflechissant a refraction |
-
1996
- 1996-06-28 JP JP8188365A patent/JPH1020197A/ja active Pending
-
1997
- 1997-05-30 KR KR1019970022137A patent/KR100470953B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-06-26 US US08/882,939 patent/US5835284A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100470953B1 (ko) | 2005-06-17 |
JPH1020197A (ja) | 1998-01-23 |
US5835284A (en) | 1998-11-10 |
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