JP2000003851A - 反射屈折投影露光装置 - Google Patents
反射屈折投影露光装置Info
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- JP2000003851A JP2000003851A JP10181497A JP18149798A JP2000003851A JP 2000003851 A JP2000003851 A JP 2000003851A JP 10181497 A JP10181497 A JP 10181497A JP 18149798 A JP18149798 A JP 18149798A JP 2000003851 A JP2000003851 A JP 2000003851A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】光路偏向部材がチルトを生じても、像の回転が
生じ難く、したがってクォーターミクロン単位の解像度
を安定して得ることができる反射屈折投影露光装置を提
供する。 【解決手段】屈折光学部材と曲面鏡ＭCと光路偏向部材
Ｍ1、Ｍ2とを含む光学部材により、第１面Ｒの縮小像を
第２面Ｗ上に形成する反射屈折投影露光装置において、
該露光装置は、２個以上の光路偏向部材Ｍ1、Ｍ2を有
し、光路偏向部材のうちのいずれか２つの光路偏向部材
Ｍ1、Ｍ2は、その反射面が互いに直交するように配置さ
れ、且つ単一の保持部材Ｈによって保持されていること
を特徴とする。
生じ難く、したがってクォーターミクロン単位の解像度
を安定して得ることができる反射屈折投影露光装置を提
供する。 【解決手段】屈折光学部材と曲面鏡ＭCと光路偏向部材
Ｍ1、Ｍ2とを含む光学部材により、第１面Ｒの縮小像を
第２面Ｗ上に形成する反射屈折投影露光装置において、
該露光装置は、２個以上の光路偏向部材Ｍ1、Ｍ2を有
し、光路偏向部材のうちのいずれか２つの光路偏向部材
Ｍ1、Ｍ2は、その反射面が互いに直交するように配置さ
れ、且つ単一の保持部材Ｈによって保持されていること
を特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体素
子、または液晶露光装置等をフォトリソグラフィ工程で
製造する際に使用される投影露光装置の光学系に関し、
特に光学系の一要素として反射系を用いることにより、
クオーターミクロン単位の解像度を有する反射屈折光学
系の保持構造に関する。
子、または液晶露光装置等をフォトリソグラフィ工程で
製造する際に使用される投影露光装置の光学系に関し、
特に光学系の一要素として反射系を用いることにより、
クオーターミクロン単位の解像度を有する反射屈折光学
系の保持構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子等を製造するためのフォトリ
ソグラフィ工程においては、フォトマスクまたはレチク
ル（以下、レチクルと総称する。）上のパターンの像
を、投影光学系を介して、フォトレジスト等が塗布され
たウエハまたはガラスプレート等（以下、ウエハと総称
する。）上に露光する投影露光装置が使用されている。
半導体素子等の集積度が向上するにつれて、投影露光装
置に使用されている投影光学系に要求される解像力は益
々高まっている。この要求を満足するために、照明光の
波長を短くし、且つ投影光学系の開口数（Ｎ．Ａ．）を
大きくする必要が生じた。
ソグラフィ工程においては、フォトマスクまたはレチク
ル（以下、レチクルと総称する。）上のパターンの像
を、投影光学系を介して、フォトレジスト等が塗布され
たウエハまたはガラスプレート等（以下、ウエハと総称
する。）上に露光する投影露光装置が使用されている。
半導体素子等の集積度が向上するにつれて、投影露光装
置に使用されている投影光学系に要求される解像力は益
々高まっている。この要求を満足するために、照明光の
波長を短くし、且つ投影光学系の開口数（Ｎ．Ａ．）を
大きくする必要が生じた。
【０００３】しかし、照明光の波長が短くなると、光の
吸収によって実用に耐える硝材の種類は限られ、波長が
３００ｎｍ以下になると、現在のところ実用上使える硝
材は合成石英と蛍石だけとなる。両者のアッベ数は、色
収差を補正するのに十分な程は離れていないので、色収
差の補正が困難となる。また求められる光学性能は極め
て高いため、各収差をほぼ無収差にすることが必要とな
る。これをレンズ群のみで構成される屈折光学系で達成
するためには、多数のレンズが必要となり、透過率の低
減や光学系を製造するためのコストの増大を避けること
はできない。
吸収によって実用に耐える硝材の種類は限られ、波長が
３００ｎｍ以下になると、現在のところ実用上使える硝
材は合成石英と蛍石だけとなる。両者のアッベ数は、色
収差を補正するのに十分な程は離れていないので、色収
差の補正が困難となる。また求められる光学性能は極め
て高いため、各収差をほぼ無収差にすることが必要とな
る。これをレンズ群のみで構成される屈折光学系で達成
するためには、多数のレンズが必要となり、透過率の低
減や光学系を製造するためのコストの増大を避けること
はできない。
【０００４】これに対して凹面鏡等のパワーを用いた反
射光学系は色収差がなく、しかもレンズとは逆のペッツ
バール和への寄与を示すため、反射光学系と屈折光学系
とを組み合わせたいわゆる反射屈折光学系によれば、レ
ンズ枚数の増加を招くことなく、色収差をはじめとする
各種の収差をほぼ無収差にすることができる。こうした
反射屈折光学系により投影光学系を構成した種々の技術
が提案されてきている。それらの代表的なものとして、
特開昭６３−１６３３１９号公報、特公平７−１１１５
１２号公報、特公平５−２５１７０号公報、ＵＳＰ−
４，７７９，９６６等が開示されている。
射光学系は色収差がなく、しかもレンズとは逆のペッツ
バール和への寄与を示すため、反射光学系と屈折光学系
とを組み合わせたいわゆる反射屈折光学系によれば、レ
ンズ枚数の増加を招くことなく、色収差をはじめとする
各種の収差をほぼ無収差にすることができる。こうした
反射屈折光学系により投影光学系を構成した種々の技術
が提案されてきている。それらの代表的なものとして、
特開昭６３−１６３３１９号公報、特公平７−１１１５
１２号公報、特公平５−２５１７０号公報、ＵＳＰ−
４，７７９，９６６等が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】一般に反射屈折光学系
では、凹面鏡に向う往路の光路と凹面鏡からの復路の光
路とを分離するために、光路偏向部材を用いる必要があ
る。ここで、屈折光学部材や凹面鏡は光軸対称に形成さ
れているために、これらの光学部材が光軸周りに回転し
ても、特段の収差は生じない。しかるに光路偏向部材に
は入射光軸と射出光軸とがあって、光軸対称には形成さ
れていない。それ故、光路偏向部材が入射光軸周りに回
転し、あるいは射出光軸周りに回転すると、像の回転を
招く。また、光路偏向部材が、入射光軸と射出光軸との
双方に直交する軸周りに回転すると、像の変形を招く。
では、凹面鏡に向う往路の光路と凹面鏡からの復路の光
路とを分離するために、光路偏向部材を用いる必要があ
る。ここで、屈折光学部材や凹面鏡は光軸対称に形成さ
れているために、これらの光学部材が光軸周りに回転し
ても、特段の収差は生じない。しかるに光路偏向部材に
は入射光軸と射出光軸とがあって、光軸対称には形成さ
れていない。それ故、光路偏向部材が入射光軸周りに回
転し、あるいは射出光軸周りに回転すると、像の回転を
招く。また、光路偏向部材が、入射光軸と射出光軸との
双方に直交する軸周りに回転すると、像の変形を招く。
【０００６】このように、反射屈折光学系の光路偏向部
材がチルト（回転運動）を生じると、像の回転や変形が
大きく発生するために、クォーターミクロン単位の解像
度の像を安定して得るには、光路偏向部材の組み込み位
置に対して厳しい要求が課され、且つ、その位置にて光
路偏向部材が維持されるように、防振に対しても厳しい
要求が課されることとなる。このために、設計上では反
射屈折光学系が屈折光学系よりも優れているものの、現
実に反射屈折光学系を製造する際の大きな問題点となっ
ていた。本発明はかかる点に鑑み、光路偏向部材がチル
トを生じても、像の回転が生じ難く、したがってクォー
ターミクロン単位の解像度を安定して得ることができる
反射屈折投影露光装置を提供することを課題とする。
材がチルト（回転運動）を生じると、像の回転や変形が
大きく発生するために、クォーターミクロン単位の解像
度の像を安定して得るには、光路偏向部材の組み込み位
置に対して厳しい要求が課され、且つ、その位置にて光
路偏向部材が維持されるように、防振に対しても厳しい
要求が課されることとなる。このために、設計上では反
射屈折光学系が屈折光学系よりも優れているものの、現
実に反射屈折光学系を製造する際の大きな問題点となっ
ていた。本発明はかかる点に鑑み、光路偏向部材がチル
トを生じても、像の回転が生じ難く、したがってクォー
ターミクロン単位の解像度を安定して得ることができる
反射屈折投影露光装置を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するためになされたものであり、すなわち、屈折光学部
材と曲面鏡と光路偏向部材とを含む光学部材により、第
１面の縮小像を第２面上に形成する反射屈折投影露光装
置において、該露光装置は、２個以上の前記光路偏向部
材を有し、該光路偏向部材のうちのいずれか２つの光路
偏向部材は、その反射面が互いに直交するように配置さ
れ、且つ単一の保持部材によって保持されていることを
特徴とする反射屈折投影露光装置である。
するためになされたものであり、すなわち、屈折光学部
材と曲面鏡と光路偏向部材とを含む光学部材により、第
１面の縮小像を第２面上に形成する反射屈折投影露光装
置において、該露光装置は、２個以上の前記光路偏向部
材を有し、該光路偏向部材のうちのいずれか２つの光路
偏向部材は、その反射面が互いに直交するように配置さ
れ、且つ単一の保持部材によって保持されていることを
特徴とする反射屈折投影露光装置である。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を用いて詳細に説明する。図１は、本発明の第１実施例
による反射屈折投影露光装置に用いる投影光学系の光路
図を示す。この投影光学系は、第１結像光学系Ａによっ
てレチクルＲ上のパターンの中間像Ｓを形成し、第２結
像光学系Ｂによって中間像Ｓの再結像をウエハＷの感光
面上に形成するものである。第１結像光学系Ａの光軸
（第１光軸ｚ1）は、鉛直Ｚ方向に配置されている。ま
た、第１結像光学系Ａは前群Ａ1と後群Ａ2とからなり、
後群Ａ2には凹面鏡ＭCが配置されており、したがって後
群Ａ2は往復光学系となっている。そして第１結像光学
系Ａによるパターンの中間像Ｓは、前群Ａ1と後群Ａ2と
の中間に形成される。その中間像Ｓの位置の近傍に第１
平面鏡Ｍ1が配置されており、同平面鏡Ｍ1によって、第
１結像光学系Ａの第１光軸ｚ1は９０°折り曲げられ
て、左右Ｙ方向に延びる第２光軸ｚ2となっている。第
２光軸ｚ2には第２平面鏡Ｍ2が配置されており、同平面
鏡Ｍ2によって第２光軸ｚ2は更に９０°折り曲げられ
て、鉛直Ｚ方向に延びる第３光軸ｚ3となっている。
を用いて詳細に説明する。図１は、本発明の第１実施例
による反射屈折投影露光装置に用いる投影光学系の光路
図を示す。この投影光学系は、第１結像光学系Ａによっ
てレチクルＲ上のパターンの中間像Ｓを形成し、第２結
像光学系Ｂによって中間像Ｓの再結像をウエハＷの感光
面上に形成するものである。第１結像光学系Ａの光軸
（第１光軸ｚ1）は、鉛直Ｚ方向に配置されている。ま
た、第１結像光学系Ａは前群Ａ1と後群Ａ2とからなり、
後群Ａ2には凹面鏡ＭCが配置されており、したがって後
群Ａ2は往復光学系となっている。そして第１結像光学
系Ａによるパターンの中間像Ｓは、前群Ａ1と後群Ａ2と
の中間に形成される。その中間像Ｓの位置の近傍に第１
平面鏡Ｍ1が配置されており、同平面鏡Ｍ1によって、第
１結像光学系Ａの第１光軸ｚ1は９０°折り曲げられ
て、左右Ｙ方向に延びる第２光軸ｚ2となっている。第
２光軸ｚ2には第２平面鏡Ｍ2が配置されており、同平面
鏡Ｍ2によって第２光軸ｚ2は更に９０°折り曲げられ
て、鉛直Ｚ方向に延びる第３光軸ｚ3となっている。
【０００９】したがって第１光軸ｚ1と第２光軸ｚ2との
交点を点Ｐとすると、点Ｐは第１平面鏡Ｍ1の反射面を
含む平面上にあり、第２光軸ｚ2と第３光軸ｚ3との交点
を点Ｑとすると、点Ｑは第２平面鏡Ｍ2の反射面を含む
平面上にあり、線分ＰＱが第２光軸ｚ2となっている。
また、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2は互いに直交し、且つ第２
光軸ｚ2に対して共に４５°の角度をなしている。そし
て第３光軸ｚ3に、第２結像光学系Ｂが配置されてお
り、この第２結像光学系Ｂの内部に開口絞りＡＳが配置
されている。
交点を点Ｐとすると、点Ｐは第１平面鏡Ｍ1の反射面を
含む平面上にあり、第２光軸ｚ2と第３光軸ｚ3との交点
を点Ｑとすると、点Ｑは第２平面鏡Ｍ2の反射面を含む
平面上にあり、線分ＰＱが第２光軸ｚ2となっている。
また、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2は互いに直交し、且つ第２
光軸ｚ2に対して共に４５°の角度をなしている。そし
て第３光軸ｚ3に、第２結像光学系Ｂが配置されてお
り、この第２結像光学系Ｂの内部に開口絞りＡＳが配置
されている。
【００１０】この投影光学系は、第１結像光学系後群Ａ
2が往復光学系となっているために、レチクルパターン
面とウエハ感光面の光軸ｚ1、ｚ3上の位置は、使用領域
とはならない。すなわちレチクルパターンを照明する照
明光学系（不図示）の照明領域は、第１光軸ｚ1を外し
た前後Ｘ方向に長いスリット状となっており、この結
果、投影光学系の露光領域Ｗａも第３光軸ｚ3を外した
前後Ｘ方向に長いスリット状となっている。そしてレチ
クルＲとウエハＷとを左右Ｙ方向に同期して走査するこ
とにより、レチクルパターンの全域をウエハの感光面に
転写するものである。
2が往復光学系となっているために、レチクルパターン
面とウエハ感光面の光軸ｚ1、ｚ3上の位置は、使用領域
とはならない。すなわちレチクルパターンを照明する照
明光学系（不図示）の照明領域は、第１光軸ｚ1を外し
た前後Ｘ方向に長いスリット状となっており、この結
果、投影光学系の露光領域Ｗａも第３光軸ｚ3を外した
前後Ｘ方向に長いスリット状となっている。そしてレチ
クルＲとウエハＷとを左右Ｙ方向に同期して走査するこ
とにより、レチクルパターンの全域をウエハの感光面に
転写するものである。
【００１１】第１実施例の投影光学系の主要諸元は、 ウエハ側Ｎ．Ａ．：０．７５ 倍率：０．２５倍 使用波長：１９３．３ｎｍ（ＡｒＦエキシマレーザー） である。露光領域Ｗａとしては、図２（Ｘ）に示すよう
に、前後Ｘ方向長さ×左右Ｙ方向長さが、２５ｍｍ×６
ｍｍの長方形領域としている。なお図２（Ｘ）は、図１
中Ｕ−Ｕ線拡大矢視図である。
に、前後Ｘ方向長さ×左右Ｙ方向長さが、２５ｍｍ×６
ｍｍの長方形領域としている。なお図２（Ｘ）は、図１
中Ｕ−Ｕ線拡大矢視図である。
【００１２】以下の表１に投影光学系の光学部材の諸元
を掲げる。表１の［光学部材諸元］中、第１欄Ｎｏはレ
チクルＲ側からの各光学面の番号、第２欄ｒは各光学面
の曲率半径、第３欄ｄは各光学面から次の光学面までの
光軸上の距離、第４欄Ｒeffは各光学面の有効半径、第
５欄は各光学面から次の光学面までの硝材（空欄は空
気）、第６欄は各光学部材の記号又は光学部材の属する
群の記号を示す。曲率半径ｒと光軸上の間隔ｄは光の進
行方向を正とするが、１回反射するごとに正負を逆転し
て表示している。また、使用波長での石英と蛍石の屈折
率は次の通りである。 石英：１．５６０３２６ 蛍石：１．５０１４５５
を掲げる。表１の［光学部材諸元］中、第１欄Ｎｏはレ
チクルＲ側からの各光学面の番号、第２欄ｒは各光学面
の曲率半径、第３欄ｄは各光学面から次の光学面までの
光軸上の距離、第４欄Ｒeffは各光学面の有効半径、第
５欄は各光学面から次の光学面までの硝材（空欄は空
気）、第６欄は各光学部材の記号又は光学部材の属する
群の記号を示す。曲率半径ｒと光軸上の間隔ｄは光の進
行方向を正とするが、１回反射するごとに正負を逆転し
て表示している。また、使用波長での石英と蛍石の屈折
率は次の通りである。 石英：１．５６０３２６ 蛍石：１．５０１４５５
【００１３】また第３９面と５２面は非球面を用いてお
り、非球面についての第２欄ｒは、頂点曲率半径であ
る。非球面の形状は、 ｙ：光軸からの高さ ｚ：接平面から非球面までの光軸方向の距離 ｒ：頂点曲率半径 κ：円錐係数 Ａ〜Ｆ：非球面係数 によって表わしており、［非球面データ］に、非球面係
数Ａ〜Ｆの値を示した。円錐係数については、各非球面
ともκ＝０である。
り、非球面についての第２欄ｒは、頂点曲率半径であ
る。非球面の形状は、 ｙ：光軸からの高さ ｚ：接平面から非球面までの光軸方向の距離 ｒ：頂点曲率半径 κ：円錐係数 Ａ〜Ｆ：非球面係数 によって表わしており、［非球面データ］に、非球面係
数Ａ〜Ｆの値を示した。円錐係数については、各非球面
ともκ＝０である。
【００１４】
【表１】 ［光学部材諸元］ Ｎｏ ｒ ｄ Ｒeff 0 ∞ 50.0980 Ｒ 1 ∞ 30.8769 77.96 石英 Ａ1 2 1358.1393 25.6596 82.00 3 -173.9366 29.5956 82.54 石英 Ａ1 4 -262.5027 3.9549 93.62 5 -243.7585 32.1846 94.30 石英 Ａ1 6 -198.6141 79.2508 102.23 7 705.6754 29.6916 128.29 石英 Ａ2 8 -853.6854 7.1157 128.85 9 243.8837 35.0000 130.00 石英 Ａ2 10 393.9524 334.9670 126.27 11 -228.4608 20.5261 87.25 石英 Ａ2 12 324.6767 7.3561 90.62 13 359.7325 40.5663 92.51 蛍石 Ａ2 14 -554.2952 58.0131 94.34 15 588.9791 33.3872 97.95 石英 Ａ2 16 3573.1266 113.1955 97.48 17 -249.4612 25.0000 111.74 石英 Ａ2 18 -1326.9703 25.8354 126.13 19 -367.4917 -25.8354 129.94 Ａ2 ＭC 20 -1326.9703 -25.0000 127.54 石英 Ａ2 21 -249.4612 -113.1955 117.01 22 3573.1266 -33.3872 112.48 石英 Ａ2 23 588.9791 -58.0131 111.89 24 -554.2952 -40.5663 100.25 蛍石 Ａ2 25 359.7325 -7.3561 97.36 26 324.6767 -20.5261 94.44 石英 Ａ2 27 -228.4608 -334.9670 87.51 28 393.9524 -35.0000 93.84 石英 Ａ2 29 243.8837 -7.1157 96.50 30 -853.6854 -29.6916 93.81 石英 Ａ2 31 705.6754 1.6203 92.09 32 ∞ 530.0000 Ｍ1 33 ∞ -100.0000 Ｍ2 34 -473.4614 -50.8662 130.00 石英 Ｂ 35 1218.5628 -18.9785 128.42 36 357.1688 -31.0635 128.11 石英 Ｂ 37 818.7536 -209.4034 129.93 38 -571.9096 -31.2079 123.89 石英 Ｂ 39 -295.8211 -4.7127 119.48 40 -291.2028 -53.9868 119.84 蛍石 Ｂ 41 858.6769 -19.1416 119.00 42 − -24.0577 115.27 ＡＳ 43 719.7751 -25.0000 113.83 石英 Ｂ 44 6715.0030 -22.3498 117.19 45 -314.9647 -45.0000 124.79 石英 Ｂ 46 -5036.3103 -16.5385 123.55 47 -265.1907 -45.0000 120.07 石英 Ｂ 48 9375.9412 -1.1109 116.54 49 -177.9561 -50.1531 103.37 石英 Ｂ 50 -18823.9455 -4.9217 94.91 51 1624.4653 -25.0000 93.03 石英 Ｂ 52 -247.3912 -1.0000 74.54 53 -210.5206 -24.3364 73.99 石英 Ｂ 54 -35247.2125 -1.0621 69.21 55 -293.7588 -65.0000 63.01 石英 Ｂ 56 56893.1197 -12.3837 31.15 57 ∞ Ｗ ［非球面データ］ Ｎｏ＝39 Ａ＝-1.3500×10-8 Ｂ＝-1.2494×10-13 Ｃ＝-1.3519×10-18 Ｄ＝-9.1832×10-23 Ｅ＝ 3.6355×10-27 Ｆ＝-1.6744×10-31 Ｎｏ＝52 Ａ＝-4.8402×10-8 Ｂ＝-1.1379×10-12 Ｃ＝-6.8704×10-17 Ｄ＝-2.8172×10-21 Ｅ＝ 0 Ｆ＝ 0
【００１５】さて、本実施例では、２つの平面鏡Ｍ1、
Ｍ2は単一の保持部材Ｈによって保持されており、すな
わち２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2は一体として保持されてい
る。この保持部材Ｈは、架台（不図示）上に立設した支
持部材（不図示）によって、前方（＋Ｘ方向）と後方
（−Ｘ方向）から支持されており、前後の支持部材が保
持部材Ｈを支持する位置の中間点は、おおむね、第２光
軸ｚ2（すなわち線分ＰＱ）の中点Ｋの直下３０ｍｍの
ピボタル点Ｇのところにある。支持部材は、保持部材Ｈ
がなんらの運動も生じないように支持するのではある
が、現実には保持部材Ｈは回転運動を生じる可能性があ
り、その回転運動は、ピボタル点Ｇを通るＸ軸、Ｙ軸及
びＺ軸周りの回転運動となる。
Ｍ2は単一の保持部材Ｈによって保持されており、すな
わち２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2は一体として保持されてい
る。この保持部材Ｈは、架台（不図示）上に立設した支
持部材（不図示）によって、前方（＋Ｘ方向）と後方
（−Ｘ方向）から支持されており、前後の支持部材が保
持部材Ｈを支持する位置の中間点は、おおむね、第２光
軸ｚ2（すなわち線分ＰＱ）の中点Ｋの直下３０ｍｍの
ピボタル点Ｇのところにある。支持部材は、保持部材Ｈ
がなんらの運動も生じないように支持するのではある
が、現実には保持部材Ｈは回転運動を生じる可能性があ
り、その回転運動は、ピボタル点Ｇを通るＸ軸、Ｙ軸及
びＺ軸周りの回転運動となる。
【００１６】このように２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2を一体と
して保持し、且つ、第２光軸ｚ2（線分ＰＱ）の中点Ｋ
ないしはその近傍をピボタル点Ｇとする構成の有効性を
以下に示す。比較対象として、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2を
個別に支持し、第１平面鏡Ｍ1が回転したときの像の変
形と、第２平面鏡Ｍ2が回転したときの像の変形とを調
べる。次いで、本実施例の構成に基づき、２つの平面鏡
Ｍ1、Ｍ2が一体として回転したときの像の変形を調べ
る。
して保持し、且つ、第２光軸ｚ2（線分ＰＱ）の中点Ｋ
ないしはその近傍をピボタル点Ｇとする構成の有効性を
以下に示す。比較対象として、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2を
個別に支持し、第１平面鏡Ｍ1が回転したときの像の変
形と、第２平面鏡Ｍ2が回転したときの像の変形とを調
べる。次いで、本実施例の構成に基づき、２つの平面鏡
Ｍ1、Ｍ2が一体として回転したときの像の変形を調べ
る。
【００１７】先ず、第１平面鏡Ｍ1が単独で回転したと
きの像の変形結果について説明する。想定した回転運動
は、第１光軸ｚ1と第２光軸ｚ2との交点Ｐをピボタル点
として、ピボタル点Ｐを通るＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸周りの
回転運動とし、回転の方向と回転角は、それぞれ＋Ｘ方
向より見て反時計方向に３″、＋Ｙ方向より見て反時計
方向に３″及び＋Ｚ方向より見て時計方向に３″として
いる。なお、ピボタル点Ｐは、第１平面鏡Ｍ1の反射面
を延長した平面上にあるが、第１結像光学系Ａは往復光
学系を含んでいるから、第１平面鏡Ｍ1の反射面自体の
上にピボタル点Ｐがある訳ではない。
きの像の変形結果について説明する。想定した回転運動
は、第１光軸ｚ1と第２光軸ｚ2との交点Ｐをピボタル点
として、ピボタル点Ｐを通るＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸周りの
回転運動とし、回転の方向と回転角は、それぞれ＋Ｘ方
向より見て反時計方向に３″、＋Ｙ方向より見て反時計
方向に３″及び＋Ｚ方向より見て時計方向に３″として
いる。なお、ピボタル点Ｐは、第１平面鏡Ｍ1の反射面
を延長した平面上にあるが、第１結像光学系Ａは往復光
学系を含んでいるから、第１平面鏡Ｍ1の反射面自体の
上にピボタル点Ｐがある訳ではない。
【００１８】この回転運動に起因して像が変形するが、
表２と図２に、露光領域Ｗａの中央位置１と露光領域Ｗ
ａの四隅２〜５の変位量を示す。表２に示した変位量ｄ
Ｘ、ｄＹの単位はｎｍである。また図２（Ｘ）、（Ｙ）
及び（Ｚ）は、それぞれＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸周りの回転
による点１〜５の変位量を表わす。なお、第１平面鏡Ｍ
1が回転すると、第３光軸ｚ3のウエハ面上での位置も変
位する。表２と図２に示されているのは、変位後の第３
光軸ｚ3の位置を、変位前の第３光軸ｚ3の位置に重ねる
ように引き戻したときに、なおも残る点１〜５の変位量
を表わしている。
表２と図２に、露光領域Ｗａの中央位置１と露光領域Ｗ
ａの四隅２〜５の変位量を示す。表２に示した変位量ｄ
Ｘ、ｄＹの単位はｎｍである。また図２（Ｘ）、（Ｙ）
及び（Ｚ）は、それぞれＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸周りの回転
による点１〜５の変位量を表わす。なお、第１平面鏡Ｍ
1が回転すると、第３光軸ｚ3のウエハ面上での位置も変
位する。表２と図２に示されているのは、変位後の第３
光軸ｚ3の位置を、変位前の第３光軸ｚ3の位置に重ねる
ように引き戻したときに、なおも残る点１〜５の変位量
を表わしている。
【００１９】同様に、第２平面鏡Ｍ2が単独で回転した
ときの像の変形を、表３と図３に示す。ピボタル点は、
第２光軸ｚ2と第３光軸ｚ3との交点Ｑとしており、その
他の条件は上記と同じである。同様に、２つの平面鏡Ｍ
1、Ｍ2が一体として回転したときの像の変形を、表４と
図４に示す。ピボタル点は、第２光軸ｚ2（線分ＰＱ）
の中点Ｋの直下３０ｍｍの点Ｇとしており、その他の条
件は上記と同じである。
ときの像の変形を、表３と図３に示す。ピボタル点は、
第２光軸ｚ2と第３光軸ｚ3との交点Ｑとしており、その
他の条件は上記と同じである。同様に、２つの平面鏡Ｍ
1、Ｍ2が一体として回転したときの像の変形を、表４と
図４に示す。ピボタル点は、第２光軸ｚ2（線分ＰＱ）
の中点Ｋの直下３０ｍｍの点Ｇとしており、その他の条
件は上記と同じである。
【００２０】
【表２】 ［Ｘ軸周り回転］ ［Ｙ軸周り回転］ ［Ｚ軸周り回転］ 点 ｄＸ ｄＹ ｄＸ ｄＹ ｄＸ ｄＹ １ 0.0 -14.0 -106.7 0.0 106.7 0.0 ２ 73.2 19.2 -159.7 -145.3 159.7 145.2 ３ 32.9 41.5 -86.5 -165.4 86.5 165.3 ４ -73.1 19.2 -159.8 145.2 159.7 -145.3 ５ -32.9 41.5 -86.5 165.3 86.5 -165.4
【００２１】
【表３】 ［Ｘ軸周り回転］ ［Ｙ軸周り回転］ ［Ｚ軸周り回転］ 点 ｄＸ ｄＹ ｄＸ ｄＹ ｄＸ ｄＹ １ 0.0 -7.7 124.8 0.0 -124.8 0.0 ２ -19.9 -56.1 185.5 191.7 -185.5 -191.7 ３ -9.1 -44.3 85.5 186.3 -85.4 -186.3 ４ 19.9 -56.1 185.5 -191.7 -185.5 191.7 ５ 9.1 -44.3 85.4 -186.3 -85.5 186.3
【００２２】
【表４】 ［Ｘ軸周り回転］ ［Ｙ軸周り回転］ ［Ｚ軸周り回転］ 点 ｄＸ ｄＹ ｄＸ ｄＹ ｄＸ ｄＹ １ 0.0 -10.9 18.1 0.0 231.5 -0.1 ２ 26.7 -18.4 25.7 46.5 345.3 336.9 ３ 12.0 -1.4 -1.1 21.0 172.1 351.6 ４ -26.7 -18.4 25.8 -46.4 345.1 -337.0 ５ -12.0 -1.4 -1.0 -20.9 171.9 -351.7
【００２３】図２〜図４に示すように、対象部材をＸ軸
周りに回転すると像の変形が発生する。また、対象部材
をＹ軸周りに回転し、あるいはＺ軸周りに回転すると、
像の回転が発生する。このうち、先ずＸ軸周りの回転に
着目すると、第１平面鏡Ｍ1単独の回転（図２（Ｘ））
及び第２平面鏡Ｍ2単独の回転（図３（Ｘ））と比較し
て、本実施例（図４（Ｘ））では像の変形が少なくなっ
ていることが分かる。すなわち、第１平面鏡Ｍ1単独の
回転のときの像の変形と、第２平面鏡Ｍ2単独の回転の
ときの像の変形とは、ほぼ逆方向の傾向を示すために、
本実施例によれば両者が打ち消しあって像の変形が少な
くなる。これは、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2が同角度ずれて
も、ルービックキューブの如く、光軸がずれないため
に、理想位置に対する光線ずれがほとんど生じないた
め、収差の発生量が小さいためである。
周りに回転すると像の変形が発生する。また、対象部材
をＹ軸周りに回転し、あるいはＺ軸周りに回転すると、
像の回転が発生する。このうち、先ずＸ軸周りの回転に
着目すると、第１平面鏡Ｍ1単独の回転（図２（Ｘ））
及び第２平面鏡Ｍ2単独の回転（図３（Ｘ））と比較し
て、本実施例（図４（Ｘ））では像の変形が少なくなっ
ていることが分かる。すなわち、第１平面鏡Ｍ1単独の
回転のときの像の変形と、第２平面鏡Ｍ2単独の回転の
ときの像の変形とは、ほぼ逆方向の傾向を示すために、
本実施例によれば両者が打ち消しあって像の変形が少な
くなる。これは、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2が同角度ずれて
も、ルービックキューブの如く、光軸がずれないため
に、理想位置に対する光線ずれがほとんど生じないた
め、収差の発生量が小さいためである。
【００２４】なお、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2を一体として
保持する場合のピボタル点は、第２光軸ｚ2（線分Ｐ
Ｑ）の中点Ｋとすることが望ましい。何故ならば、ピボ
タル点が第２光軸ｚ2（線分ＰＱ）の中点Ｋにあれば、
保持部材がピボタル点を通るＸ軸周りに回転したとして
も、レチクルＲからウエハＷまでの光軸上の距離は変わ
らないので、回転対称な収差や倍率ずれがほとんど発生
しないからである。
保持する場合のピボタル点は、第２光軸ｚ2（線分Ｐ
Ｑ）の中点Ｋとすることが望ましい。何故ならば、ピボ
タル点が第２光軸ｚ2（線分ＰＱ）の中点Ｋにあれば、
保持部材がピボタル点を通るＸ軸周りに回転したとして
も、レチクルＲからウエハＷまでの光軸上の距離は変わ
らないので、回転対称な収差や倍率ずれがほとんど発生
しないからである。
【００２５】このことから、第２光軸ｚ2（線分ＰＱ）
の中点Ｋとピボタル点Ｇとの距離ＫＧは小さいことが好
ましく、一般には、第２光軸ｚ2の長さＰＱの０．２倍
以内、すなわち、 ＫＧ≦０．２×ＰＱ ‥‥（１） であることが好ましい。本実施例では、ＫＧ＝３０ｍ
ｍ、ＰＱ＝５３０ｍｍであるから、上記条件（１）を満
たしている。また、ピボタル点Ｇは保持部材Ｈの内部に
あることもあるが、保持部材はその外面で支持するほか
はない。したがって保持部材の現実的な支持位置は、第
２光軸ｚ2の中点Ｋを通り第２光軸ｚ2と直交する平面の
近傍とすることが良い。
の中点Ｋとピボタル点Ｇとの距離ＫＧは小さいことが好
ましく、一般には、第２光軸ｚ2の長さＰＱの０．２倍
以内、すなわち、 ＫＧ≦０．２×ＰＱ ‥‥（１） であることが好ましい。本実施例では、ＫＧ＝３０ｍ
ｍ、ＰＱ＝５３０ｍｍであるから、上記条件（１）を満
たしている。また、ピボタル点Ｇは保持部材Ｈの内部に
あることもあるが、保持部材はその外面で支持するほか
はない。したがって保持部材の現実的な支持位置は、第
２光軸ｚ2の中点Ｋを通り第２光軸ｚ2と直交する平面の
近傍とすることが良い。
【００２６】次に、Ｙ軸周りの回転に着目すると、第１
平面鏡Ｍ1単独の回転（図２（Ｙ））及び第２平面鏡Ｍ2
単独の回転（図３（Ｙ））と比較して、本実施例（図４
（Ｙ））では像の回転が少なくなっていることが分か
る。すなわち、第１平面鏡Ｍ1単独の回転のときの像の
回転と、第２平面鏡Ｍ2単独の回転のときの像の回転と
は、ほぼ逆方向の傾向を示すために、本実施例によれば
両者が打ち消しあって像の回転が少なくなる。
平面鏡Ｍ1単独の回転（図２（Ｙ））及び第２平面鏡Ｍ2
単独の回転（図３（Ｙ））と比較して、本実施例（図４
（Ｙ））では像の回転が少なくなっていることが分か
る。すなわち、第１平面鏡Ｍ1単独の回転のときの像の
回転と、第２平面鏡Ｍ2単独の回転のときの像の回転と
は、ほぼ逆方向の傾向を示すために、本実施例によれば
両者が打ち消しあって像の回転が少なくなる。
【００２７】次に、Ｚ軸周りの回転に着目すると、第１
平面鏡Ｍ1単独の回転（図２（Ｚ））及び第２平面鏡Ｍ2
単独の回転（図３（Ｚ））と比較して、本実施例（図４
（Ｚ））では像の回転が大きく発生してしまっている。
しかし、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2を一体として保持する保
持部材Ｈは、Ｙ方向を長手方向としているから、保持部
材Ｈの長手方向の端部に支持部材を補強することなどに
よって、Ｚ軸周りの回転量（及びＸ軸周りの回転量）を
抑制することは容易である。更に、Ｚ軸方向は重力方向
であるから、Ｚ軸周りの回転が生じても保持部材Ｈの重
力バランスが崩れる訳ではない。したがってこの点から
も、Ｚ軸周りの回転量を容易に抑制することができる。
また、この実施例からわかるように、反射偏向部材が表
面反射鏡であれば、比較的保持は容易である。それに対
して、ビームスプリッターのようなものを含むと、保持
部材の重量もまして、保持部材の支持は比較的難しくな
る。
平面鏡Ｍ1単独の回転（図２（Ｚ））及び第２平面鏡Ｍ2
単独の回転（図３（Ｚ））と比較して、本実施例（図４
（Ｚ））では像の回転が大きく発生してしまっている。
しかし、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2を一体として保持する保
持部材Ｈは、Ｙ方向を長手方向としているから、保持部
材Ｈの長手方向の端部に支持部材を補強することなどに
よって、Ｚ軸周りの回転量（及びＸ軸周りの回転量）を
抑制することは容易である。更に、Ｚ軸方向は重力方向
であるから、Ｚ軸周りの回転が生じても保持部材Ｈの重
力バランスが崩れる訳ではない。したがってこの点から
も、Ｚ軸周りの回転量を容易に抑制することができる。
また、この実施例からわかるように、反射偏向部材が表
面反射鏡であれば、比較的保持は容易である。それに対
して、ビームスプリッターのようなものを含むと、保持
部材の重量もまして、保持部材の支持は比較的難しくな
る。
【００２８】次に、本発明の第２実施例による反射屈折
投影露光装置に用いる投影光学系の光路図を図５に示
す。本実施例の第１実施例との主要な相違は、同図に示
すように、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2の間にレンズＬが配置
されている点と、すべてのレンズの硝材が石英ガラスで
ある点である。第２実施例の投影光学系の主要諸元は、 ウエハ側Ｎ．Ａ．：０．６５ 倍率：０．２５倍 使用波長：１９３．３ｎｍ（ＡｒＦエキシマレーザー） である。露光領域Ｗａとしては、図６（Ｘ）に示すよう
に、前後Ｘ方向長さ×左右Ｙ方向長さが、２５ｍｍ×８
ｍｍの長方形領域としている。以下の表５に第２実施例
の投影光学系の光学部材の諸元を掲げる。レンズの硝材
についてはすべて石英であることから、表５では省略し
ている。また各非球面とも、円錐係数はκ＝０であり、
非球面係数のうち、Ｅ＝Ｆ＝０である。
投影露光装置に用いる投影光学系の光路図を図５に示
す。本実施例の第１実施例との主要な相違は、同図に示
すように、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2の間にレンズＬが配置
されている点と、すべてのレンズの硝材が石英ガラスで
ある点である。第２実施例の投影光学系の主要諸元は、 ウエハ側Ｎ．Ａ．：０．６５ 倍率：０．２５倍 使用波長：１９３．３ｎｍ（ＡｒＦエキシマレーザー） である。露光領域Ｗａとしては、図６（Ｘ）に示すよう
に、前後Ｘ方向長さ×左右Ｙ方向長さが、２５ｍｍ×８
ｍｍの長方形領域としている。以下の表５に第２実施例
の投影光学系の光学部材の諸元を掲げる。レンズの硝材
についてはすべて石英であることから、表５では省略し
ている。また各非球面とも、円錐係数はκ＝０であり、
非球面係数のうち、Ｅ＝Ｆ＝０である。
【００２９】
【表５】
【００３０】さて、第１実施例のときと同様に、比較対
象として、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2を個別に支持し、第１
平面鏡Ｍ1が回転したときの像の変形と、第２平面鏡Ｍ2
が回転したときの像の変形とを調べる。次いで、本実施
例の構成に基づき、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2が一体として
回転したときの像の変形を調べる。第１平面鏡Ｍ1が単
独で回転したときの像の変形を、表６と図６に示す。ピ
ボタル点は、第１光軸ｚ1と第２光軸ｚ2との交点Ｐとし
ており、その他の条件は第１実施例のときと同じであ
る。同様に、第２平面鏡Ｍ2が単独で回転したときの像
の変形を、表７と図７に示す。ピボタル点は、第２光軸
ｚ2と第３光軸ｚ3との交点Ｑとしており、その他の条件
は上記と同じである。同様に、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2が
一体として回転したときの像の変形を、表８と図８に示
す。ピボタル点は、第２光軸ｚ2（線分ＰＱ）の中点Ｋ
から、Ｚ方向に＋５０ｍｍ、Ｙ方向に−１０ｍｍの点Ｇ
としており、その他の条件は上記と同じである。なお、 ＫＧ＝［５０2＋（−１０）2］1/2＝５１ であり、ＰＱ＝４８７ｍｍであるから、前記した条件
（１）を満たしている。
象として、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2を個別に支持し、第１
平面鏡Ｍ1が回転したときの像の変形と、第２平面鏡Ｍ2
が回転したときの像の変形とを調べる。次いで、本実施
例の構成に基づき、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2が一体として
回転したときの像の変形を調べる。第１平面鏡Ｍ1が単
独で回転したときの像の変形を、表６と図６に示す。ピ
ボタル点は、第１光軸ｚ1と第２光軸ｚ2との交点Ｐとし
ており、その他の条件は第１実施例のときと同じであ
る。同様に、第２平面鏡Ｍ2が単独で回転したときの像
の変形を、表７と図７に示す。ピボタル点は、第２光軸
ｚ2と第３光軸ｚ3との交点Ｑとしており、その他の条件
は上記と同じである。同様に、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2が
一体として回転したときの像の変形を、表８と図８に示
す。ピボタル点は、第２光軸ｚ2（線分ＰＱ）の中点Ｋ
から、Ｚ方向に＋５０ｍｍ、Ｙ方向に−１０ｍｍの点Ｇ
としており、その他の条件は上記と同じである。なお、 ＫＧ＝［５０2＋（−１０）2］1/2＝５１ であり、ＰＱ＝４８７ｍｍであるから、前記した条件
（１）を満たしている。
【００３１】
【表６】 ［Ｘ軸周り回転］ ［Ｙ軸周り回転］ ［Ｚ軸周り回転］ 点 ｄＸ ｄＹ ｄＸ ｄＹ ｄＸ ｄＹ １ 0.0 -9.8 -120.1 0.0 120.1 0.0 ２ 63.4 20.4 -176.2 -150.2 176.3 150.1 ３ 24.3 38.4 -78.8 -169.7 78.9 169.7 ４ -63.4 20.4 -176.3 150.1 176.2 -150.2 ５ -24.3 38.4 -78.9 169.7 78.8 -169.7
【００３２】
【表７】 ［Ｘ軸周り回転］ ［Ｙ軸周り回転］ ［Ｚ軸周り回転］ 点 ｄＸ ｄＹ ｄＸ ｄＹ ｄＸ ｄＹ １ 0.0 0.9 139.8 0.0 -139.8 0.0 ２ -38.4 -32.3 206.8 201.0 -206.7 -201.0 ３ -14.7 -34.3 74.5 189.1 -74.5 -189.1 ４ 38.4 -32.3 206.7 -201.0 -206.8 201.0 ５ 14.7 -34.3 74.5 -189.1 -74.5 189.1
【００３３】
【表８】 ［Ｘ軸周り回転］ ［Ｙ軸周り回転］ ［Ｚ軸周り回転］ 点 ｄＸ ｄＹ ｄＸ ｄＹ ｄＸ ｄＹ １ 0.0 -31.0 19.7 0.0 259.9 -0.1 ２ 49.4 -44.1 30.6 50.8 390.6 343.2 ３ 41.8 -12.6 -4.2 19.4 160.9 355.8 ４ -49.4 -44.1 30.3 -50.8 390.4 -343.4 ５ -41.8 -12.6 -4.5 -19.4 160.7 -355.9
【００３４】図６〜図８に示すように、対象部材をＸ軸
周りに回転すると像の変形が発生する。また、対象部材
をＹ軸周りに回転し、あるいはＺ軸周りに回転すると、
像の回転が発生する。このうち、先ずＸ軸周りの回転に
着目すると、第１平面鏡Ｍ1単独の回転（図６（Ｘ））
及び第２平面鏡Ｍ2単独の回転（図７（Ｘ））と比較し
て、本実施例（図８（Ｘ））でもほぼ同量の像の変形が
発生している。これは、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2の間にレ
ンズＬが挟まっているため、第１平面鏡Ｍ1で反射した
光線がレンズＬを透過することで光線ずれを生じ、その
後に第２平面鏡Ｍ2に入射するので、ルービックキュー
ブによる光軸がずれない効果が失われてしまうために、
収差が発生するためである。既述のように、保持部材Ｈ
はＹ方向を長手方向としているから、保持部材Ｈの長手
方向の端部に支持部材を補強することなどによって、Ｘ
軸周りの回転量を抑制することは容易である。しかしな
がら、直角をなす２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2を一体として保
持する場合、両者の間に屈折部材Ｌを持たないことが好
ましく、屈折部材Ｌを配置する場合にも、２枚程度を限
度とすることが好ましい。
周りに回転すると像の変形が発生する。また、対象部材
をＹ軸周りに回転し、あるいはＺ軸周りに回転すると、
像の回転が発生する。このうち、先ずＸ軸周りの回転に
着目すると、第１平面鏡Ｍ1単独の回転（図６（Ｘ））
及び第２平面鏡Ｍ2単独の回転（図７（Ｘ））と比較し
て、本実施例（図８（Ｘ））でもほぼ同量の像の変形が
発生している。これは、２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2の間にレ
ンズＬが挟まっているため、第１平面鏡Ｍ1で反射した
光線がレンズＬを透過することで光線ずれを生じ、その
後に第２平面鏡Ｍ2に入射するので、ルービックキュー
ブによる光軸がずれない効果が失われてしまうために、
収差が発生するためである。既述のように、保持部材Ｈ
はＹ方向を長手方向としているから、保持部材Ｈの長手
方向の端部に支持部材を補強することなどによって、Ｘ
軸周りの回転量を抑制することは容易である。しかしな
がら、直角をなす２つの平面鏡Ｍ1、Ｍ2を一体として保
持する場合、両者の間に屈折部材Ｌを持たないことが好
ましく、屈折部材Ｌを配置する場合にも、２枚程度を限
度とすることが好ましい。
【００３５】次に、Ｙ軸周りの回転に着目すると、第１
平面鏡Ｍ1単独の回転（図６（Ｙ））及び第２平面鏡Ｍ2
単独の回転（図７（Ｙ））と比較して、本実施例（図８
（Ｙ））では像の回転が少なくなっていることが分か
る。すなわち、第１平面鏡Ｍ1単独の回転のときの像の
回転と、第２平面鏡Ｍ2単独の回転のときの像の回転と
は、ほぼ逆方向の傾向を示すために、本実施例によれば
両者が打ち消しあって像の回転が少なくなる。次に、Ｚ
軸周りの回転に着目すると、第１平面鏡Ｍ1単独の回転
（図６（Ｚ））及び第２平面鏡Ｍ2単独の回転（図７
（Ｚ））と比較して、本実施例（図８（Ｚ））では像の
回転が大きく発生してしまっている。しかし第１実施例
で述べたように、Ｚ軸周りの回転量を抑制することは容
易である。
平面鏡Ｍ1単独の回転（図６（Ｙ））及び第２平面鏡Ｍ2
単独の回転（図７（Ｙ））と比較して、本実施例（図８
（Ｙ））では像の回転が少なくなっていることが分か
る。すなわち、第１平面鏡Ｍ1単独の回転のときの像の
回転と、第２平面鏡Ｍ2単独の回転のときの像の回転と
は、ほぼ逆方向の傾向を示すために、本実施例によれば
両者が打ち消しあって像の回転が少なくなる。次に、Ｚ
軸周りの回転に着目すると、第１平面鏡Ｍ1単独の回転
（図６（Ｚ））及び第２平面鏡Ｍ2単独の回転（図７
（Ｚ））と比較して、本実施例（図８（Ｚ））では像の
回転が大きく発生してしまっている。しかし第１実施例
で述べたように、Ｚ軸周りの回転量を抑制することは容
易である。
【００３６】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
光路偏向部材の回転によって発生する像の変形量が小さ
く、したがってクォーターミクロン単位の解像度を安定
して有する反射屈折投影露光装置を提供することができ
た。
光路偏向部材の回転によって発生する像の変形量が小さ
く、したがってクォーターミクロン単位の解像度を安定
して有する反射屈折投影露光装置を提供することができ
た。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施例による反射屈折投影露光装
置に用いる投影光学系の光路図
置に用いる投影光学系の光路図
【図２】第１平面鏡が単独で、（Ｘ）Ｘ軸周り、（Ｙ）
Ｙ軸周り及び（Ｚ）Ｚ軸周りに回転したときの像の変形
を示す、図１中Ｕ−Ｕ線矢視図
Ｙ軸周り及び（Ｚ）Ｚ軸周りに回転したときの像の変形
を示す、図１中Ｕ−Ｕ線矢視図
【図３】第２平面鏡が単独で回転したときの像の変形を
示す図２に対応する図
示す図２に対応する図
【図４】第１平面鏡と第２平面鏡が一体として回転した
ときの像の変形を示す図２に対応する図
ときの像の変形を示す図２に対応する図
【図５】第２実施例による反射屈折投影露光装置に用い
る投影光学系の光路図
る投影光学系の光路図
【図６】第１平面鏡が単独で、（Ｘ）Ｘ軸周り、（Ｙ）
Ｙ軸周り及び（Ｚ）Ｚ軸周りに回転したときの像の変形
を示す、図５中Ｕ−Ｕ線矢視図
Ｙ軸周り及び（Ｚ）Ｚ軸周りに回転したときの像の変形
を示す、図５中Ｕ−Ｕ線矢視図
【図７】第２平面鏡が単独で回転したときの像の変形を
示す図５に対応する図
示す図５に対応する図
【図８】第１平面鏡と第２平面鏡が一体として回転した
ときの像の変形を示す図５に対応する図
ときの像の変形を示す図５に対応する図
Ｒ…レチクル Ｗ…ウエハ Ａ…第１結像光学系 Ａ1…前群 Ａ2…後群 Ｓ…中間像 ＭC…凹面鏡 Ｍ1、Ｍ2…平面鏡 Ｂ…第２結像光学系 ＡＳ…開口絞り Ｈ…保持部材 Ｌ…レンズ ｚ1、ｚ2、ｚ3…光軸 Ｘ…前後方向 Ｙ…左右方向 Ｚ…鉛直方向 Ｐ…第１光軸と第２光軸との交点 Ｑ…第１光軸と第２
光軸との交点 Ｋ…第２光軸の中点 Ｇ…ピボタル点
光軸との交点 Ｋ…第２光軸の中点 Ｇ…ピボタル点
Claims (6)
- 【請求項１】屈折光学部材と曲面鏡と光路偏向部材とを
含む光学部材により、第１面の縮小像を第２面上に形成
する反射屈折投影露光装置において、 該露光装置は、２個以上の前記光路偏向部材を有し、 該光路偏向部材のうちのいずれか２つの光路偏向部材
は、その反射面が互いに直交するように配置され、且つ
単一の保持部材によって保持されていることを特徴とす
る反射屈折投影露光装置。 - 【請求項２】前記露光装置は、前記保持部材を支持する
支持部材を有し、 前記保持部材によって保持された前記２つの光路偏向部
材の間の光軸の中点を通り、該光軸と直交する平面又は
その近傍において、前記保持部材は前記支持部材によっ
て支持されることを特徴とする、請求項１記載の反射屈
折投影露光装置。 - 【請求項３】前記保持部材によって保持された前記２つ
の光路偏向部材の間に、屈折光学部材を含まないことを
特徴とする、請求項１又は２記載の反射屈折投影露光装
置。 - 【請求項４】前記保持部材によって保持された前記２つ
の光路偏向部材は、表面反射鏡であることを特徴とす
る、請求項１、２又は３記載の反射屈折投影露光装置。 - 【請求項５】前記露光装置は、前記第１面の中間像を形
成する第１結像光学系と、前記中間像の再結像を前記第
２面上に形成する第２結像光学系と、前記中間像の近傍
に配置される第１光路偏向部材と、該第１光路偏向部材
と前記第２結像光学系との間に配置され又は前記第２結
像光学系の内部に配置される第２光路偏向部材とを有す
ることを特徴とする、請求項１、２、３又は４記載の反
射屈折投影露光装置。 - 【請求項６】前記第１結像光学系は前記曲面鏡を含み、
該曲面鏡は凹面鏡によって形成されることを特徴とす
る、請求項５記載の反射屈折投影露光装置。
Priority Applications (10)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10181497A JP2000003851A (ja) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | 反射屈折投影露光装置 |
| EP02024576A EP1293832A1 (en) | 1998-06-08 | 1999-06-07 | Projection exposure apparatus and method |
| EP02024574A EP1293830A1 (en) | 1998-06-08 | 1999-06-07 | Projection exposure apparatus and method |
| EP99110891A EP0964307A3 (en) | 1998-06-08 | 1999-06-07 | Projection exposure apparatus and method |
| EP02024575A EP1293831A1 (en) | 1998-06-08 | 1999-06-07 | Projection exposure apparatus and method |
| US09/328,198 US6195213B1 (en) | 1998-06-08 | 1999-06-08 | Projection exposure apparatus and method |
| US09/721,956 US6362926B1 (en) | 1998-06-08 | 2000-11-27 | Projection exposure apparatus and method |
| US10/060,316 US6512641B2 (en) | 1998-06-08 | 2002-02-01 | Projection exposure apparatus and method |
| US10/310,780 US6639732B2 (en) | 1998-06-08 | 2002-12-06 | Projection exposure apparatus and method |
| US10/645,780 US20040070852A1 (en) | 1998-06-08 | 2003-08-22 | Projection eposure apparatus and method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10181497A JP2000003851A (ja) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | 反射屈折投影露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000003851A true JP2000003851A (ja) | 2000-01-07 |
| JP2000003851A5 JP2000003851A5 (ja) | 2006-07-20 |
Family
ID=16101803
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10181497A Pending JP2000003851A (ja) | 1998-06-08 | 1998-06-12 | 反射屈折投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000003851A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005067012A1 (ja) * | 2004-01-06 | 2005-07-21 | Nikon Corporation | 露光方法及び装置並びにデバイス製造方法 |
-
1998
- 1998-06-12 JP JP10181497A patent/JP2000003851A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005067012A1 (ja) * | 2004-01-06 | 2005-07-21 | Nikon Corporation | 露光方法及び装置並びにデバイス製造方法 |
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