FR2972730A1 - Article pourvu d'un revetement d'oxynitrure d'aluminium et procede de fabrication associe - Google Patents

Article pourvu d'un revetement d'oxynitrure d'aluminium et procede de fabrication associe Download PDF

Info

Publication number
FR2972730A1
FR2972730A1 FR1252336A FR1252336A FR2972730A1 FR 2972730 A1 FR2972730 A1 FR 2972730A1 FR 1252336 A FR1252336 A FR 1252336A FR 1252336 A FR1252336 A FR 1252336A FR 2972730 A1 FR2972730 A1 FR 2972730A1
Authority
FR
France
Prior art keywords
gaseous mixture
amount
volume
aluminum
optionally
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
FR1252336A
Other languages
English (en)
Inventor
Volkmar Sottke
Hartmut Westphal
Den Berg Hendrikus Van
Zhigang Ban
Yixiong Liu
Mark S Greenfield
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kennametal Inc
Original Assignee
Kennametal Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kennametal Inc filed Critical Kennametal Inc
Publication of FR2972730A1 publication Critical patent/FR2972730A1/fr
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/308Oxynitrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C29/00Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C29/00Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides
    • C22C29/02Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides based on carbides or carbonitrides
    • C22C29/06Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides based on carbides or carbonitrides based on carbides, but not containing other metal compounds
    • C22C29/08Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides based on carbides or carbonitrides based on carbides, but not containing other metal compounds based on tungsten carbide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C29/00Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides
    • C22C29/12Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides based on oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C29/00Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides
    • C22C29/16Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides based on nitrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)

Abstract

L'invention concerne un article pourvu d'un revêtement, tel qu'un outil de coupe pourvu d'un revêtement ou une pièce d'usure pourvue d'un revêtement, qui comprend un substrat (52) et une combinaison de revêtement (54) présente sur le substrat. La combinaison de revêtement (54) comporte une couche de revêtement contenant du titane (56), et une couche de revêtement d'oxynitrure d'aluminium (58) présente sur la couche de revêtement contenant du titane (56). L'oxynitrure d'aluminium comprend un mélange de phases ayant une structure de type nitrure d'aluminium hexagonal (groupe spatial : P63mc), une structure de type nitrure d'aluminium cubique (groupe spatial : Fm-3m ), et éventuellement une structure amorphe. La couche de revêtement d'oxynitrure d'aluminium (58) se compose d'aluminium dans une quantité représentant un pourcentage atomique d'environ 20 % à environ 50 %, d'azote dans une quantité représentant un pourcentage atomique d'environ 40 % à environ 70 %, et d'oxygène dans une quantité représentant un pourcentage atomique d'environ 1 % à environ 20 %. Le procédé de fabrication de l'article pourvu d'un revêtement comprend une étape qui consiste à fournir un substrat (52) et à déposer une couche de revêtement d'oxynitrure d'aluminium (58) à partir d'un mélange gazeux qui comprend de l'azote, du trichlorure d'aluminium, de l'ammoniac, du dioxyde de carbone, du chlorure d'hydrogène, éventuellement du monoxyde de carbone, éventuellement de l'argon, et de l'hydrogène.

Description

(«)\'Ili.\ I)I'. an tiriiele pOUrVLI d'hi 1_ il teint ccirhrrie de coi' t'an i el ci 1 elimi Hie i cillent, i ao ' H Hi, ou une i H ',Hl 1 c.' nt sur le substrat,. La combi \ cteitiem 'prend une cou,: ie c.\ nement d'oxynitrure d'aluminium déposée par dépôt ellinlique en pl- IO vapeur (CV.D). La combinaison (IL \ .'IL.'WCHt comprend en outre, ::Heral, une ou plusieurs autres couches d(' rie \ efelncnt. L'invention concerne aussi un procédé de fabrication d'un article pourvu d'un rc~ êtement, tel qu'un outil de coupe ou une pièce d'usure, comportant une couche de revêtement d«)xynitrure d'aluminium. Le procédé consiste. a fournir un substrat, puis à dépi sel- par dépôt chimique en phase vapeur une combMaison de revêtement. La combinaison de revêtement comprend au moins une couche de revêtement d«.)xynitrure d'aluminium. Le mélange gazeux comprend les gaz suivants : de l'hydrogène, de l'azote, du trichlorure d'aluminium, du diox.i.le de carbone, du chlorure d'h. dl eue. de l'ammoniac, et éventuellement du mien de '1e carbone et/ou de l'argon. 20 Dans la demande de brevet h ilanniqu(«-il-3, 570. cc par 1 lied Erupp ;IA Jin chie 'mention, une priquetu«le ,otipe «pend llll~ onnlin,u,i in Hic lend une couche de chat lent d ox:, mi ai Il , le lu thalle /Il~~olll;llll. Dans 1il
25 1 i( - - -?- ic 111.11iliIIIWIl W. L:111^: ~.~'eulli~ll \CI C1k:n1cm \ Lire d'aluminium a un gradient de 1.0 Bien que 1 si produits :III ààrà.àir.s 0111plIC1111CIlit une couche de rc d«.)xynîtrure J'aluminium déposée par CVD, on à encart besoin de produire un am pourvu d'un tic \ èlemient, tel qu'un outil de coupe ou une pièce d'usure, qui comporte une combinaison de revêtement comprenant une couche de revêtement d«)xynitrure d'aluminium, av. des caractéristiques de performance améliorées. Ce type d'outil de 15 coupe ou de pi d'usure pourvu(e) d'un revêtement comporte une couche de revêtement d'oxynitrure d'aluminium qui présente des càr.-ictéristiques allant d'une contrainte de traction réduite à une contrainte de compres i modérée. L'état de contrainte de traction ieduitc ou de contraiiiie )mprc ion Ilààler peut être dû à l'une ou !sieurs d'une propriété de dilatation thermique plus lm d'une bonne 20 stabilité thermique, ou d'une duvet,' 1 serait sonhaitchle de produire un article roumi d'un Cet .I.rmàiii làl ouiil IL,' 11,1 LI, L , .1 111 ,Illl, IIII)LL'IlIRLI11 II 1 1,1'1 IL 1 1 ILL", t,.L linrittus 1 1 1 1 '1111.11111,1 1 ^: 1v'~1~I:IIr,'~ la prii)paiq iil i il ils; 1 Ul.ttu ),Irl d'un rIt.utl&t.iUMU ri . iuiiilcii iirii .rViU ou 1.11 ciiiiuil uqrurii 'altiruinit il wlrqnlc t L 1 t.l*lIsUre pOUluit.lei'l Chan quine ni tia Iiii. tmq Type de tqmqiq, ail 1,11 (hi 11.ui.Lhiql 11A t)nse s et un état 1 prof t Mol] dcs fissures. La pl CH11OH 1 S Lit de la prcip. des 1 sures tut particuliCrement avantuticusc dans une application con-une la coupe discontinue. Qui plus est, il serait hautement souhaitable de produire un article pourvu d'un revêtement, tel qu'un outil de coupe ou une pièce d'usure pourvu(e) d'un 15 revêtement, qui comporte une couche de revêtement d'oxynitrure d'aluminium ayant une propriété de dilatation thermique plus basse, c'est-à-dire qu'aucune miemfissure n'est visible à la surface du revêtement. Au sens quantitatif, cela ignific qu'on observe un nombre de fissures nul dans la sectio tionsversale du. cratère dcs tic\ eq2mcnts durant un examen au microscope optique à un qrtt i iiinent x.30. Quand on pro,luit une couche 20 de revêtement. d'oxynitrure d'aluminium ayant une propriété de dilatation thermique plus hil siii.. l'article pourvu d'ult re CR11qm( ne subit pas tic lissuriaion duc à la chaleur, ce qui ii polir ;t\ :1111L1 ' d'allie 01 l' l;i Ri 1 (Wh: tlU ehOL«.11qI.IllIqULI d OMM', dO coupe. rte plus, -un luiuicruitm iuhtiil il ils ~~C ,lu> un pourvu 11 d'un ~I~!11v' II_ Lit] qitiffUi i 1 t un. 25 i .e lin, q ru llt'I i il i on i ..tell i 1 Lui' i I. 1 -4- ru in ue' l'article pourvu 'Un 1 i Je,' 1 111ft-1i ,ILII .111111, 1ln ~Î,' iv l~'ll lit 'I\ \111111111j ,i :lu LN t 'thon. Io t Ili. - nioitt o Moi" mesurée. selon 1.S() 1 1 1 1 llln Tun ouu uné éciLiChe de tatou,: tt \Ilnljlln ntlkn.n II 'clé pourvu d'un 'Innllt mité unc Linnn PRÉcts f)f Nvu-NTioN Sous mu," ses formes, l'invention est un procédé de fabrication d'un article pourvu d'un no ètentent, le procédé comprenant lés élapés qui ctuisistént fournir un substrat déposér une couché de rcoëlcment d'oxynitrure d'aluminium à partir d'un mélange gazeux, le mélangé gazeux comprenant : de l'azote dans une quantité représcluint. un pourcentage volumique d'environ. 30,0 % à environ 65,0 % du mélange gazétt\ ; du trichlorure d'aluminium dans une quantité rcprés niant un pourcentage volumique d'environ 0,5 % à. climron 1,3 % du mélangé gozéux ; de l'ammoniac dans une quantité représentant un. pourcentage volumique d'environ 1,0 environ 2,0 % du mélané gazeux du dioxyde de carboné ti;tns une quantité réproséntant un pouriomtttgé volumique d'environ 0,1 % à environ loci % du Holan nll/CUX ; du chlorure d'holro nc Tais Allé quantité répo_scntont un. 11nnlInCI11.1 nllHln. \ 111011 (hl ln Illnfn I/Cll \ éntutialéIl ém In, PI 11.11 CI11,11n' Hlnln,h' -5- [l ),[ de mise en oeuvre, l'étape de dépôt a lieu à une Palis cet-nains lm .>[[ mise en oeuvre, retape de dépôt a heu à une 1, 850 "C .[ '11\1 . , H s)50 Dans certains ah en oeuvre, l'étape de dépôt a lieu à une plIC,,',1,,111 l'environ 10 mbars à i `..)(J(l redis 10 Dans certains modes de mise cil. ceuv e, l'étape de dépôt a lieu à une s >ion d'environ 50 nibali. 1 environ 100 rnbws. Dans certdins odes d mise en oeuvre, le mélange gazeux comprend : Fazol(«Iaiis une quantité rcipi,scniant un pourcentage volumique d'environ 30 % à environ 40 % du mélange gazeux 15 du trichlorure d'aluminium dans une quantité rcprcscmant un pourcentage volumique d'environ 0,5 % à environ 1,3 % du. mélange gS-17s'Ll de l'ammoniac dans une quantité ICpIS2sellliint un pourccnta volumique d'environ 1,0 à environ 2,0 % du mélange g /.c il du dioxyde de carbone dans unc quantité 1( piiéscntant un pourccinàec volumiiai, -'e tin 0,2 ' ciron % du mélange [i,/eus ; du alois il h:) dis i ans un(' qll:11111k: un pourccmi. 1 _111,11 1 1 1. LIU d [1[1 [uii[iit un pOUfCCi.diage ~UIC spiviron VOhIIIIIOI t"' I.. envie 25 -6- 1 "tu e \i.iF. 1 1 1 1 1 1 " de. eitl 1 u.11.111111L ..1111,111.1 üi 1':111.1 1' 1 1 1,11 1 1 ^Ill 11H:H111 1 )::Il, ..11.11,1111", 11H'\.ICs, OH (t'Il \Ire. \ 'LtIlhkqH.1 JHI1, lllk' LIL .111111ë 1 1111 111,l \ 11'On IO .211\ II~~I1 Î. r 1111 111c (,III'_' D.111\ ^: 1111,1111', 11], 111I'* Ç_'Il \ 1\2 111.11.111C I/Cll \ Ç'UrI1111.111J : 1,1/ ic dans une qualuile iLprescntant un pourcentage ~ulurnique d'environ \ 11 50 % du mélangc i/cu du u-ichlonl d'aliHHiHiHm dans une quantité représentant un ~IU t/1.1 L,,I]il 1, 1ki tiü 15 pourcentage volumique cl \ H-oil irihl 1.0 % du de l'ammoniac dans une llu,lnlilc 1i:présentant un pourcentage volumique \ irOn 1,0 ii s:11 \ iron 1,6 % du 1111d,il1iiiJ.e ,1/etl glu \ \ I111H, uni qil,11111le 1 présentant un pource HI v 11.011 I. 1 glu Ilk 1,111H,I<' /CH v 20 01111\2 il h \ mai llall~ Uni' q11:111111t: 111111111 1M rnlIL: 1 Ill [/ il 25 -7- d'e L'll \ ?l u 11 Ili Ill i/CH \ du ri, drills rime riiirinNte u.n itiis volume lue d'environ ()ru nir à en 1, mcl.niee 10 du chlorure d'hydronerie dans une quinine représentant un pourcelurn: volumique d'environ 1,5 '.'/rirr, à environ U ; éventuellement du MOUOi\.\ de de carbone dans titis quai thé représentant un pourcentage volumique d'environ. 0 ri environ 2,0 % du me Linge gri/cus ; éventuellement de l'argon dans une quantité repu. senti nt un pourcelurme 15 volumique d'environ. 0 % à environ 25 clic, du. mélange gazeux ; et le reste étant constitué d'hydrogène. Dans certains modes de mise en ieuvre, le melrin, ri/eux comprend : l'azote dans une (Inerme représentant U11 l', llleel?l .0 d'environ 60 iion 65 % du mer ne_ : 20 niiehlonIre l`aluhrtinitlrn - u.ne ' trint. un rom' ir (ri (ILI lire /rois ; Ur mi iii Limon eirotin. llll rirr:enlit loue 1, ir trro reern,ege vit, tir lue 25 -8- -est i un i't ,l M^,do Dam, tl-ucu modes de niim Cl1 oeuvre, 1«)xynnrure d' iÎLnl!IIIIUIIt comprend un rueLimest tt^ant tua structure de type nitrure d'aluminium IO hc\s on:d m-crupe Mes! («Mme me structure de t\ pe nitrure d'aluminium cubique (goum.- : In ), et évcntuellement une structure amorphe. Dans certains modes de mise en oeuvre, l'oxynitruoe d'aluminium a une composition comprenant de l'aluminium dans une quantité cep c sentant un pourcentage atomique d'environ 20 % à. environ 50 . de l'azote dans une quantité représentant un 15 pourcentage atomique d'environ 40 % à environ 70 %, et de 1«ixygène clans une quantité rcprémnttmt un pourcent mec atomique d'environ 1 % à environ 20 %c Dans certains modes de mise en oeuvre. l'oxynitrure d'aluminium a une composition comprenant de l'aluminium dans une mpiesentant un pourcentage ,immique d'environ 32 % à environ . l'azote dans une quumlle leppimuit,ml 20 , t a c Hume atomique d'environ 61 environ 67 tai, de l'oxygéné dans uiié quantité h lm - inmlt un pouim uuqtw \ ,^ environ 6 ri. I1 L._ , I.Mi 11, III ^lll 'Ill 11,, ;Ille t'll,lll;l'.t' i 1 t 1 ^ t t1111^1 el'env \ 11.^ il Faim 1/eu ; et llliu 1111 , II ,w li 25 -9- imp! i-lui iMni ml i.1u lll:ll nu: 'Ynvtimiii mitil elcnic iam W.III, LI oh.i Ull~ !ruclmv ] d ciWillIUM 1 1 1.«ii'nnc type nitrure d'al.w.n cubi.q ',groupe tisp.]. !i \C111ÀlACICICHI une struemm ;nuorphe. La couche Caf' mire :m nt IO d*nit]m Ilium a une coi !sinon comprenant de l'aluminium dans mie representant un pourcentage atomique d'environ 20 à environ 50 %, ra/i !Li ul~ une quantité 1-c'prjsCI]l.int un pourecu Lige ii! 01 nique d"-n i.ron 40 ri a environ 70' e, et de l'(!\^gene dans une quantité mp!.n munit un pourcenla atomique d'environ 1 % à environ 20 %, 15 Dans certains modes de mise en oeuvre, la couche eteinent contenant du titane est s `Tonnée dans le groupe constitué du nitrure de hume et du carbonitrure de titane. Dans certains modes de mise en oeuvre, une couche de i ^eminent d'alumine est pl:sti!1!e sur la ci im.he de 1 ,k2111CIa d'oxynitrure d'aluminium. 20 D,HC-, 1110JC', CL 111l', oeUVre, une couche de Liment de Mu me TnIuminium es! pi sur la couche de i nitrure d'aluminium Dans mise en oit i un, r~'y~lClll,'ilt HI11Cnt. d«" \HW WC 1'1.111', i IIC'C:111 1 !ui ],:i][ii.!'! pourvu d'un .Msnim. un," .!!Il- 1 Wl, r" 1,W-, lhi 25 r~'i~le~~'nLlll( un pourcentage v( unique d CIl\111 11 30,0 ( a enA irait (15..0 SIC du m'elani gazeux du trichlorure d'aluminium dans une quant te relues tant un pourcemait volumique d'env 'on 0,7 r/e â environ 1,3 % du mélange ,u/en x ; de l'ammoniac dans une quantité rcp mscnt:mt un pourcentage volumique d'environ 1,0 pro il environ 2,0 q. ~ht 15 mélange gazeux ; du dioxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentit e volumique d'environ 0,1 % â environ 1,5 % du mati ;lieux ; du chlorure d'hydrogène dans une quantité l ep, scntant un pourecum,e v olumigne d'environ 1,5 â environ 4,5 % du melLutgc gazeux ; enluel ement du monoxyde de e~tiiaie dans une quantité ret 1- entant nn pourcentage volumique d'environ 0 % â environ 2.0 20 ntelangc ~,vauv ; ,gangucllement ale Limai dans une guanine rehrc~c aime un 11i~Ule~'lll:l`'C' mlumique tl l'IIAigin 0 ': ;t ~IIAiron 25 Ill Illl'1,111e V Ia~1 m'~'IaIIJC ":tell\ nit mails é nlr, I1 l lil\ 5111^1 ~'. un ail Dinar-. reg Luttent 1 Mi igia un silh;tra; . Ill'' mu _'!VCII\. le I ;1reNetément danv\Hui Lue d'aluminium â partir ta un ~~;ven et~nli,lea;tnt dans une quantité tamis 1111, III ~eUVre, iIl g .0 1 tl m1111 ml ll: ~ Mie l mst I:tallt un î!I~.0 all:'~' u\.
I)LSCIZIII 1 l' «il \CIT. 1)1i,S 1 1 1( I,. aire \ He Isou i[lai t, [.ic 1' un Lam:. L[:I[2 [ iser le subs[i ,-lacent ; La FIG. si une vue en coupé damé Hil.1011 ci nique d'une combinaison dé rc \ L2mm-mut ; 10 La FIG. 3 est une \rué én coupé schématique d'une deuxième réalisation spécifique d'une combinaison de ré \ rnént ; Lu FIG. 4 [ uné \ ué en coupe schématique d'une troisi ciné Llis,mon spécifique d'une combinai s( in dé \ étémént ; La .FIG. 5 est une vue én coupe schématique d'une quatrième allisation 15 spécifique d'une combinaison de \ 1('111CI-lt ; Ut FIG. 6 t une microphotoeoiphie (grossisséin nt de x10 000) de 1a surface le a couche de ré \ émnlént d«)xynitruré d'aluminium Jr 1'1' \chipie 1 ; La F..G. 7 est une microphott rimhrié e x15 000) montrant en COUrC 1.1\[iHt érsale la combinais, IL ré y (.'.LHIL'nt d',' 1'l \mnple 1 ;i 20 Lit ICI([, est uh phi lié en conpe montrant 1,1 Lacinélit lié, im éiéii^L. 1 1 1( [ [ [ [ [LI , [hiii[ é 't rasante pour 25 T ,i 1 1( TOphOtO't.'1,1)1i[l4 nom, 1, séquence de ' 1 1 1111 .!" u`npc pouno" d'un oouu/^eut 30 comptai,: uué surfacé dépouille 1', ^ 10 mr!x.c d~ u`uiv 40, une u/u/ Je coupe 42 étant !`rc`cut/ u !u!.o.1i.`n Jc L/ `m1x`t de J2pm/U!c .~X et de la sullace de coupe 40. La plaquette coupe [simule (l'un rc~8!rmcn/30convient pour une utilisation dans une opération d'enlèvement de matieie formant des copeaux. i)nng une opération d'enlèvement de matière formant des copeaux, la 15 plaquette de coupe entre en contact avec une pièce à usiner pour enlever de la matière de la pièce ùuaiucr, typiquement sous forme de copeaux. [Joc opération d`cnic`,mco[de matière qui enlève de la matière de la pièce à usiner sous forme de copeaux est. r^yigucruexi connue de !`hoxnuoe de [uz( `.x/` le tom do opération d'enlèvement de [ornnmVJc, `"pcuux x. L'ouvnaée \[/Jvoc8x!p1`:oliécs'L[Kndu`Uia! Press Inca 20 }o` York, New York (198})1 parMu!1nmjh( pu`oUe. w'r Jrs ui!`!inn, uxn xuUrea,de !a !.'no.Ui.'x cm\ ./io`i lue JiKéuni` (!!`e" Je .v/`/.mx salué ics copeaux omtixu`. L" "1`mo'\ u1`um~ !r./~nknlé"SJwI \l.'h/r.}x ()xand ixhuL`muù u/ `uxL../ .^/Ç' /" mL.[ !m~ ~i ~ m"vz qnc !'nn~i/ 25 Lx!x`.;/xx/`.`/x/x!`/! `d ()x.' // rimx.,/e de ^ o`nu/uo:/ xnx/.[m//e u`u`1/r"«"mux ! N `!x/ one |i` `i! uhui:tosa meut. 34( La - 13- 1't'r)[tt8ap [ T'un 11 l,l : d'un [ 1 [1 1 [nel,u. [[uual \ 1 1.. ut, r[[M le l~el~,li'~'. 'LIU 1 lem ale i...ACIvs[.2À mem: de 11.11.\ L' [ t, [u ^1.[ns Mlle i ii \e [ i t n ,[ butta litt 1 IO Kennamet-al Inc.), le brevet 'US n" t . 803 d.élité à Battaglia et ,11. (,lrailslLr par cession 11 Kemaunemi lue.), et le hr~\ et 1S n0 6 161 990 délivré ,t 0 par cession Kennait 1! Inca). Comme il est déerit ci-dessus dans le présent document, l'article pourvu d'un etentent comprend aussi une pt . [ d'usure pOtlr \ AC d'un \ etement Les pièces 15 d'usure pourvues d'un reg ttèment comprennent, sans caracterc limitatif, les éléments suivants : les corps de clapet, les poinçons et les emporte-pièce. Des combinaisons de re etemèrn spécifiques sont représentées dan, les FILS 2 à 5La Fia ~ est une lente cnt,mon hématique d'une se, Cu (ri d'une plaquette de coupe pourvue d'un Hetman 50. Bien que ee~ ddes~lllti illutatent une plaquette de 20 coupe t, 11 [HI 0[101 de coupcl pOUrVU(e) d'un revelelllelil_ [_[n ,l (pic la combill,1j,,ort 1 1,, 1 ,11,1,FAII 1 ,l 111IC l~leee l usait,' ,[ pinquela. le ,tupe pourvue d'un IC llll ,111»,A,A mie [ml,in,us[[n re etenient 5-1 sur celui- 1 ilil,IH'[l 01111'1 1,1 11111;.,11[.' 1,[11^ 'Ili l il 1 1(1 1 III:, uelic t\ ractueul 1 ) de mtru J1(mM-M1m sur 1- 1che l' [ -14- amas quu 1_a aitiaitatit tma poui~u . d un MI ',tl Il t 111(ll',11.11 'Rlll:'lt t~C 74 -elui-cii. La C^.IH 1115l'',, t!C \ 1 Ill tl '11L' ils \ CR111CM. ~llf 10 catit Mtrure de titan . LItC aiche de re\etement datti\yni.cru I~C 75 de nititiit 1 t mu «it la 1, \ CtC HL III ( \ 1 II- sente sur la couche \calmait 76. Une couche de ututteinent cstcrue de nitrure d'aluminium 7s t 1 i sente sur la couche de revêtement cri, vnitrure d'aluminium 77. La HG. 5 est une représentation schématique d'une section d'une 15 plaquette de coupe pourvue d'un revêtement 80. Bien que ce dessin illustre une plaquette de coupe (ou un outil de coupe) pourvu(e) d'un rtiveluinient, on noiera que la combinaison de lai \ eletramt peut s'appliquer à une pièce d'usure. La plaquette de coupe pourvue d'un l'e etement 80 comporte un substrat 82 et une combinaison de re ètement 83 sur celui-ci. La combinaison de revêtement S3 aimprend une couche de le etement 20 (le basa 84 le nitruru«le titane et une couche de l'CvCtcrnitait 85 d'oxynitrure d'aluminium couche de rai lutinant de bais Une C»11C11L' IL CICHICII.t 87 d' s^ait-Iltrum de t11,iIlC Cil rI.C.,C111C -5tr couche de vêtement il' \ minima d'aluminium 85. La cotiali t~t titttintail statut Ill CI sur la eau Ile tatami sur la couche du Unc i t 1 _II ami: 25 -15- III. il _, II S HEI I l'Il 1 HL_
ta 1 1'1 ui.cmu:u \ION 1 i 1 ssiOi.i 1111N,i -2 . ( li.l Lw: ', ohm]: ..\1(1:13 ÎÎ. .'Il \ olum,' TN 1 1 el] 'u.----.-..--. 1 1 \ '0111.1111,2 CO 0-2,0% en \ A 1 0-25 % en volume Les compositions spécifiques (en pourcentage volumique) des mélanges gazeux, ainsi que les pressions et les températures, utilisées pour déposer six diflerentes couches de revêtement d'oxynitrure d'aluminium, s 11r présentées dans 1.e Tableau II ci-dessous. IO 'Lhleau II (mples )Iumique ,,tr,,InCires de \ ctément d' \PO N' a en pourcelma..c 15 F12 `Yi: N2 1 2,2 0,0) 80 s 80 80 1,5 0,4 reste 30,4 1,5 20 Fer': re, reste 44, 1,3 80 1.3 .8 80 1.3 0.8 3,1 80 0 Comme il est i a corn pi -brin t i un marri IL"s CICI11,2111 \ 11111,11, .11 11111111.1111. I,t présent LI 1 que miles ne L.tl 01.1 1 )11, 1.1\ C'11 L'HL' 11111- )11 1 Ill \ 1 C 111^,11t»\ \ L' t , i nir équiliblet retion afin de diminuer la vitesie rl pot ILI JL' 1 \ d'(ixynitrure d'atuminium. L'apgiin peut étoit uttll pour poitrine uni , notion unil«.wme de aisseiil de lit gour«k«Li \ eteilp»nl d«Aynitrure d'aluminium, s'il raison de la haute viscoslic du matel tau tel qu'il est depusc. Lé monoxyde de carbone et l'argon n'ont pas d'influence sur la composition chimique de la couche de revêtement d«.)xynitrure d'aluminium. L'Exemple 1 est une plaquette de coupe pourvue d'un revêtement qui comprend un substrat portant une combinaison de ri:\ elernent TiN- .A.10N selon l'invention., Le substrat comprend du carbure de ttnlgsién.e avec 6,1 % en masse de cobalt et 0,15 17 en ngosr 1 \ nnadium. Ce substrat présente les propriétés suivantes : la gr gon- de _clin mo \cime tin carbure de tungstène pst d'en\ Mon l à environ 2 mierigurnres. l~l porosité est A02, B02, COO, le poids ni iiique est d'environ 14,7 à en\ Mon 1 m3, la dureté Roctoigotl A est d'en v il 9 g. environ ig , la sigituntion initie i de 9,9 à 1E7 rtTrn 1 ln 1 riroitive est d'en \ i 2.00 \ f!rïl -16- -17- iciili iiiuiiuiii ti ris. 1.i 'l 1 ua tlf 10 Paramètres de transformation pour le procecie de revêtement selon l'invention de l'Exemple 1 (Tin-RION) Matériaux Température Pression Temps total CC) (mbars) (minutes} 15 vol.] TiN 950 700 60 H2 [52,8 iu vol.] + N2 [46 oo vol.] + TiCI, [1,2 % vol.] AION* 950 80 180 F12+N2+AlCb+ CO2+HCI+NH.ii La couche de revêtement d«. x.^ nitrure d'aluminium (AION) a Llén ée en utilisant les paramètres spécifiques plésénLés pour l'Exemple B dans le Tal.déan H du pro document, 25 La cempe,hicin de la couché ré \ éeuncnt d'ox nitrure d'aluminium i. ;W,i\ pilr 12iHICIMC à déchie lumincscente (GPOlés i ,Ipiiuiéil 1) \ 750 Analytic Hui, 1 ilé il ulih 1 1:CH i,'Hh% 20 35 -i iiit,11111 11 1 Il( ii , -18-
moiiic 1,I,i hni.,l 1 1 IL mu: Limnl toms ou i 1 1 1(i ciinei t irio d'oxynitru.o., 1 1 Irtici il .Luini mtial. ^11.1"1.tllilli^2 SIC dllll,l,l1,1 \ou, \ 1 Laccinient ivintbul 1 l'L\ pic 1. -mitais le la I0 difli,i,tioii ,lei ull \' montrent que roxynimure d'aluminium comprend mi mélange de phasi. ,l^ mit de type nitrure d'aluminium he. =onal 1 nit P63mcl. cl une structure de type nitrure d'aluminium cubique (groupe «bespi : Fm- 3m). Le résultat de la DRX indique aussi la présence de phases amorple dans le revêtement. Les résultats de la DRX ont L Inenus en uLihs,tnt un diffractometic de 15 type D5000 (Sicnicil,ii avec un s\ Mme incidence rasante 13ra -Brentano une émission de rayions X Cu Ku avec un filtre de Ni CA, 0,15478 nanomètres). Les pal indics pour l'analyse DRX sont indiqués dans la FIG. 9. LI semple 2 est une plaquette de coupe pourvue d'un \ meulent qui (oui lm end un suhstiat portant une combinaison de re ecitncnt TiN-AIOX Al 0 selon 20 l'invention. siibsilit comprend du carbure de IllIMIC11(l ,I'sCÇ'; ma de cobalt et la somme des teneurs en mnmlc. en niobium et en \ ,Illd^IIUIII 1CrIC CHIC 111,1, -,11U),41.,il, Ç''Ill i »pl 1 C.111»11 :211\ Il Il ' 1.1 \ 111,,11 1 HI 1. 1 1 25 olclirc le de 1 I 1011 11111010. LOI 11 01'2, 11 .i,ar la ,oal, H14'10 i \10IH112: J. 10[01111010111 l.)H 108011,1 11.1 ulclu i.1c. L.441pp,tiodid ili :oie 1 1\ ilion. 3 MiOrCIIIO. ami. ~ ,i ar]biiiii%. ooil]d d don dol 1.1 6 11, , 10 (COI HIIH 0mo:11os do a-wallon .cotHidon 010142 [CHIpOratUre rl UH11', produire 1a plaquette de coupe pourvue d'un rc CLcinent de 1.1.xoanplc 2 sont pros:id:0 dans le Tableau IV cialcs,ous. Tableau IV 15 Paramètres de transformation pour le procédé de revêtement selon l'invention de l'Exemple 2 (TiN-AION- KappaAI203) Matériaux Température Pression Temps total (mbars) (minutes) Gaz présents (% TIN 950 700 60 H2 [52.8 °'s vol.] + N2 [46 % vol.] + TiCh ,2 % vol.] AION 950 80 150 H2+N2+AIC14+CO2-i-HCl+NHI 25 AI204 990 80 120 H? [reste] + AICI4 [2,7 % vol.] + CO2 [3,4 % vol.] + HCI [4,2 °o vol,]+TiCI4 [0,7 % vol.] + CH4 [4,2 %i ulilisala 30 ou, ic 11 les pal io ,'1 doci]\ (AlOtii Il 'Lu . V. 1 1 ara. 111I 1 1 CHIE 1.1( i Io 111IH1%l 11111 :lIE11 1010111. IIIIT ,i 1_111 Ut- J 1
qi,.- ^t,li Pl* pt 1M's -et-1 i1,^ t7 1,1 1,11 \ ta», ult 1 1 itianplc tIr ul een \ Lu, 1. L pl tp Pie it urp ou \ uu i tiOtlnel ite 1111 -tIll) 11\11 I)tlrt.' tt \ et_ llill 1 . ~Il 1) Illll) \ Hat.ilLI111 1\..pl ')LII)t,111,11. l 'I ell[ 1 pprietés sià a cul. de 111 litiivenne du carbure IO c ,t \ Ili t 1 à environ 3 phert)IIII»112 t p A02, B02, COO ; le iids s RPR: L `ut ci) Piron 14 à en \ Irpn 14.4 gi'em3, 1, dureté Rockwell A est d«iliN irtill sp à environ 90, po prudon magnétique est de 19,5 à 23,3 titTm3/kg, et la force iLiv ci. est d'environ 136 à environ 166 uer;ted,. La combinaison de uevèreinent pour la plaquette de coupe pourvue d'un 15 rc~v êtement conventionnel comprend : une couche de revêtement de base de TiN 1épttissear de 1 micromètre), uni couche de revêtement intermédiaire de MT (temperature moderrte pTiC \«Pp.tisseur de 4 micromètres), et une couche de revêtement lerip«-le kappa-alumine de -Tomettes). Les paramètres de coupe pour l'essai de fraisage sont prèsèinPs éi-dcs.sptls : 20 }Pépie à usiner : il Cr Mc, V Pliplu,«te 1.1,L_iPP. (il) upe rm/min) : 250 -20- t 2972730 -21- m - la pourvue d'un a itamo n h. de amuit de detillante tleMdlttnc Itt.os tutin.mton de micro- 15.2>t/ Lirmation du micro- coupe entailles sur 1 wu,' ennui sul 1 tient ~lC , lori-11,1min de micro- ,7 21 formation de micro- entailles sur 1 arête de coupe entailles sur l'arête de coupe On a constaté que la formation de micro-entailles sur l'arête de coupe était cause p.aA Ilissures thermiques.
Consideuant la moyenne des résultats ci-dessus, seins montrent une amélioration IO de trente pour cent (30 %) des performances pour la plaquette de coupe pourvue d'un revêtement selon l'invention de l'Exemple 2, par comparaison avec la plaquette de coupe pourvue d'un lut VèlClluint conventionnel.
L'Exemple 3 est une plaquette de coupe pourvue ..'un revêtement qui cmnpmt 1. un substrat portant une combinaison \ teillent TIN'. .\I\ n l'invention. Le substrat curbure 1 Ituinsl nc i el) unisse \ ilatnItn substrtil pro.prfetats L \ La: d'Ull IC\ 'L11a:1a ',HOM I l'in\ Loulou d,: Id \L_alaHa 1'1,umclht rOtll HL' («l'Ha reNL''tC111CHL eon\ cuti net Illaoa,ttii: de (Hune ui "I;IIII i tlu l_'. 1 1 al '/ I'Iu -22- 01 environ 3 1 2M'111, 5 911 21211161 1 8118 111 clic P 611662 1 Il mll 1 11861 2161112:11 11111186.8 611!11. qui mll,_816 6121 iiioii (pli rit Nc piiisscui ouche 1 rc \èlci [cm d' IO d'en\ ilion 2. 1 in ilion 5 niais 11121Y . 1'111111, 1; '6611111111115011 \ 6L.11112111 comporte une couche (Li le inca( de niti ui J aluminium sur la couchc d'oxynitrure d'aluminium. La couche de ~~ ctcmcnt de nitrure d'aluminium a une épaisseur de 0,5 micromètre, et l'épaisseur du 1c\ cicinent de nitrure d'aluminium peut être d'environ 0.3 micromètre à environ 2 micromètres.
15 Les paramètres de triaislionnation pour 1.e procédé spécifique (compositions ci) cat. concentrations, dnrte. température.. et pression} utilisé pour produire la pliiepictic ~Ic coupe pourvue d'un revêtement de l'Exemple 3 sont préscntés dans le Tableau ci-dcssi ais. Tableau VI 20 Paramètres de transformation pour le procédé de revêtement selon l'invention l'Exemple 3 (TiN-MT 11CN-AION- AIN ) Tem Dtal G - _s 25 950 80 120 TiN 950 60 900 vol.] 30 35 450 ilps,l mime i FIC. 1 1. est I.n microp ()Mgr:mine mortran ]: combinaison de ,t IL tic t dans t 1 1( i IL mmttil elcment m-11 :cc pli' su. \It Ipcmmu I.Li, , omnm ti tnunummn t k_ 1 1111, Inthlt l;ll sh,L micu sut, stiMs dan- Itt couchL LLI11,.lif \ \ lu Il tiltmulntun t Il aluminium. IO IMrscinplc st mie plaquette COUI)L' pourvue d'un 1,'v ctcment qui comprend un substrat immun t.1t.1 \ Lement TiN-A10 \ sl'iOCN-Al.203 alpha selon l'invention. Le sabsLrat comprend du carbure de tungsLene ce 9i en masse de cobalt et 0,15 % en massé de \ ttnadium. Ce substrat présente les proprielés suivantes : la grosseur de grain moyenne du carbure de tungstene est d'environ 1 15 environ 2 micromètres, la porosité est A.02, B02, COO, le poids spécifique est d'environ 14,7 à environ 15,1 g/cm3, la dureté Rockwell A est d'environ 91,5 à environ 92,3, la saturation magnetique est de 9,9 à 11,7 uTm3lkg, et 1.a force coercitive est d'environ 200 à environ 243 oersmds. La mm1)in:tison de 1men:mm.11 l'invention comprend un emment 20 t le nitrure (lu titane, qui it une cloisseur de 2 mtettomeust On n 1cra que ".aisscur e couchc de revètcmcnt de nitrure de titane man etrc l'environ 1,5 1-1.11Cr fl ulicroilutmsoc rc\,211 Hicli! 1 prCild en male tus.' couche 111,:Iii '1;11k.' \ \ t une .ssu (CO - 11*-. CHICHI -.st Mantinluin 25 -24- Les [loran] tom -01)mi..:Inn pour le ioifique i il 1 Ti ii,il i iiiil I-('+MiiIl Li(lhs FilLILLIL: Li LkILL.'tH [o' roll lc H \clo Ili in ,L.'ilà."; Oann le Tableau 1, eb-dessous.
10 Tai)! ia l"II Paramètres de transformation pour le procédé de revêtement selon l'invention de l'Exemple 4 (TiN-AlON- TiOCN-Al203 alpha) roui liA' non 0,2 mon L w.. ia in ibn »1.010.011t. CL' 17 . ()out être d'en xi iliCifeS à CITIVIF011 .2,0 Temps total Gaz présents (% vol.) (minutes) 60 H2 [reste]+N2 [46 % vol.]+TiCI, [1,3 vol.] 180 H2+N2+AICI++ CO2+HCI+NH2 85 H2 [reste]+N2 [8,5 % , vol.]+TiCl, [1,7 % vol.]+CO2 [1,4 5-s vol.]+Alc [ , 1 8-s vol.] 205 H2 [reste]+AICI3 [2,2 % vol.]+ CO2 [3,6 % vol.]+ HCI [1,7 % vol.]+H+S [0,2 % vol.] 15 Matériaux Température Pression (mbars) TiN 950 20 AION 870 TiOCN 1 000 25 AI202 alpha 1 000 700 80 80 - 500 80 30 La (acrnent d nix. nitrure [in)«AION) a n'" M.'pH+ CO Iit[l[lltt pihiiune^ intriques preseniés pour Il x010phi D dans .- 1. du po%oat Ili aient que fil po.s,iln,i in iiitino prialuin anc rio Jin( Il u no 35 0(l [.1 i H H ,l ~l!1111 u un C'~lfi ~ Ih:tlfi 'll~ d 'Hm ICA~1~':;1C111 iIllptil~tint lII1C ~l~li~ 1C ,IC I~~A~'ICC-1Clll ~I i~VAlllliHi ,Iltllililutllll lllll ~I lltlt pi ICfi' pli' ~Ill,ll~tll~~ll IIICIlllltlll~' !i tl~ l';l~~C. t ils t'tltl~lll '~'\tl~#l1Cl l tl ~»VAI.II1111C d ;t lillllllllllll ;lAJin tlll.' pl ,~I?IICi'~ ll~' tII ;11;ltli,ll tl1ClIlll~lllC !Hus _I~~~' t'AI ~~~IIII~~IIaf~ c ~l Itl ICAC1,211h:111 ~ItIICC titis fC Clt`Ill~llt û vvI1111'LII. ~I ~tlUlllllllUlll l'I.Cu'Ill;llll 1111 CLil SIC 1111 1I111C dL' C~!111111C~~1,~11. H11)W...111i qui la hr~~~~tll~ inAt.'ntitill pl'O lUil unc ~la~lnrlt~~ de 11pC l'k~UI A e d'un liC\ CtCIllcllt Coill~}{)rlallt Mlle t'1i11CIlC SIC Il'A CICIIICIll ~I \ nitrure aluminium qui pittsC'nk Ul1C bonne til~t~ilil~' tllcrnliquC. Quand lin ~lrt,lluil rcvct,iiulcnt présentant une banne stabilité tllenniqu, u s'attend â voir des p , Li usait,' ~ull~ricur. s et une plus _randc 1tuntiév de l'out 1.Illin. il apparat' que 1ap1~CJ~lltC invcnti,ln pMduitlillf pItIdtICItC ~IL" t'OtIpe p)[li'vU(2 Icv~tcnl~~nt ~~,nll'~l~l,lnl linC tk' rcvcl~nlrnl d'\ynitrurc tl ~IluI1111Iiiuu qui ICIIIC IIIIC litlll'IC CI(,)u,lllll UIl l'I«u^ILlll llll I~CAC1C111Cl1t pl 1'~CIII~IIIt 20 unc titircic qlcv~c. nu ;alt,~n~l "ilvmir lc~~~l ICI'` I U U~C tillhCnlCtll ~] allll;ll;lll ~IU~ itl ICI"~'~Clllt' IIlAClllit!Il pl ut.11l UII l 1111; l' ~t,_~111lt ' ~ ~ ~,!UI'~' J'-~t11 A tId Ull l~~v ~'t~ Ill~'lll C,1I1 11 ~t!I I;II11 lllll' lit.Il,' l'1 l'lIlC11l ~'V A Illlrtlll' ~I .I tlllllllllilll. tln Lités

Claims (18)

  1. REVENDICATIONS: 1. Procédé de fabrication d'un article pourvu d'un revêtement, le procédé comprenant les étapes qui consistent à : fournir un substrat (52) ; déposer une couche de revêtement d'oxynitrure d'aluminium (58) à partir d'un mélange gazeux, caractérisé en ce que le mélange gazeux comprend : de l'azote dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 30,0 % à environ 65,0 % du mélange gazeux ; du trichlorure d'aluminium dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0,5 % à environ 1,3 % du mélange gazeux ; de l'ammoniac dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 1,0 à environ 2,0 % du mélange gazeux ; du dioxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0,1 % à environ 1,6 % du mélange gazeux ; du chlorure d'hydrogène dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 1,5 % à environ 4,5 % du mélange gazeux ; éventuellement du monoxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0 % à environ 2,0 % du mélange gazeux ; éventuellement de l'argon dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0 % à environ 25 % du mélange gazeux ; et le reste étant constitué d'hydrogène.
  2. 2. Procédé selon la revendication 1, dans lequel l'étape de dépôt a lieu à une température d'environ 750 °C à environ 1 020 °C.
  3. 3. Procédé selon la revendication 1, dans lequel l'étape de dépôt a lieu à une température d'environ 850 °C à environ 950 °C. -26- 2972730 -27-
  4. 4. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel l'étape de dépôt a lieu à une pression d'environ 10 mbars à environ 900 mbars.
  5. 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel l'étape de dépôt a lieu à une pression d'environ 50 mbars à environ 100 mbars. 5
  6. 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel le mélange gazeux comprend : l'azote dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 30 % à environ 40 % du mélange gazeux ; du trichlorure d'aluminium dans une quantité représentant un 10 pourcentage volumique d'environ 0,5 % à environ 1,3 % du mélange gazeux ; de l'ammoniac dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 1,0 % à environ 2,0 % du mélange gazeux ; du dioxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0,2 % à environ 1,5 % du mélange gazeux ; 15 du chlorure d'hydrogène dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 1,5 % à environ 3,0 % du mélange gazeux ; éventuellement du monoxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0 % à environ 2,0 % du mélange gazeux ; éventuellement de l'argon dans une quantité représentant un pourcentage 20 volumique d'environ 0 % à environ 25 % du mélange gazeux ; et le reste étant constitué d'hydrogène.
  7. 7. Procédé selon la revendication 6, le mélange gazeux comprenant du dioxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0,2 % à environ 0,6 % du mélange gazeux. 25
  8. 8. Procédé selon la revendication 6, le mélange gazeux comprenant du dioxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0,7 % à environ 1,5 % du mélange gazeux. 2972730 -28-
  9. 9. Procédé selon la revendication 6, le mélange gazeux comprenant du dioxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0,5 % à environ 1,3 % du mélange gazeux.
  10. 10. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, le mélange 5 gazeux comprenant : l'azote dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 40 % à environ 50 % du mélange gazeux ; du trichlorure d'aluminium dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0,6 % à environ 1,0 % du mélange gazeux ; l0 de l'ammoniac dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 1,0 % à environ 1,6 % du mélange gazeux ; du dioxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0,6 % à environ 1,4 % du mélange gazeux ; du chlorure d'hydrogène dans une quantité représentant un pourcentage 15 volumique d'environ 1,5 % à environ 2,5 % du mélange gazeux ; éventuellement du monoxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0 % à environ 2,0 % du mélange gazeux ; éventuellement de l'argon dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0 % à environ 25 % du mélange gazeux ; et 20 le reste étant constitué d'hydrogène.
  11. 11. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, le mélange gazeux comprenant : l'azote dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 60 % à environ 65 % du mélange gazeux ; 25 du trichlorure d'aluminium dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0,6 % à environ 1,0 % du mélange gazeux ; 2972730 -29- de l'ammoniac dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 1,0 % à environ 1,6 % du mélange gazeux ; du dioxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0,6 % à environ 1,6 % du mélange gazeux ; 5 du chlorure d'hydrogène dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 1,5 % à environ 2,5 % du mélange gazeux ; éventuellement du monoxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0 % à environ 2,0 % du mélange gazeux ; éventuellement de l'argon dans une quantité représentant un pourcentage 10 volumique d'environ 0 % à environ 25 % du mélange gazeux ; et le reste étant constitué d'hydrogène.
  12. 12. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, le mélange gazeux comprenant : l'azote dans une quantité représentant un pourcentage volumique 15 d'environ 60 % à environ 65 % du mélange gazeux ; du trichlorure d'aluminium dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0,6 % à environ 1,0 % du mélange gazeux ; de l'ammoniac dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 1,0 % à environ 1,6 % du mélange gazeux ; 20 du dioxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0,6 % à environ 1,6 % du mélange gazeux ; du chlorure d'hydrogène dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 2,5 % à environ 3,6 % du mélange gazeux ; éventuellement du monoxyde de carbone dans une quantité représentant 25 un pourcentage volumique d'environ 0 % à environ 2,0 % du mélange gazeux ; 2972730 -30- éventuellement de l'argon dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0 % à environ 25 % du mélange gazeux ; et le reste étant constitué d'hydrogène.
  13. 13. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 12, dans 5 lequel l'oxynitrure d'aluminium comprend un mélange de phases ayant une structure de type nitrure d'aluminium hexagonal (groupe d'espace : P63mc), une structure de type nitrure d'aluminium cubique (groupe d'espace : Fm-3m), et éventuellement une structure amorphe.
  14. 14. Procédé selon la revendication 1, dans lequel l'oxynitrure 10 d'aluminium a une composition comprenant de l'aluminium dans une quantité représentant un pourcentage atomique d'environ 20 % à environ 50 %, de l'azote dans une quantité représentant un pourcentage atomique d'environ 40 % à environ 70 %, et de l'oxygène dans une quantité représentant un pourcentage atomique d'environ 1 % à environ 20 %. 15
  15. 15. Procédé selon la revendication 1, dans lequel l'oxynitrure d'aluminium a une composition comprenant de l'aluminium dans une quantité représentant un pourcentage atomique d'environ 32 % à environ 38 %, de l'azote dans une quantité représentant un pourcentage atomique d'environ 63 % à environ 67 %, et de l'oxygène dans une quantité représentant un pourcentage atomique d'environ 4 % à 20 environ 6 %.
  16. 16. Procédé selon l'une quelconque des revendications l' à 15, dans lequel le substrat consiste en un substrat d'outil de coupe (30) ayant une arête de coupe (42), l'article pourvu d'un revêtement étant ainsi un outil de coupe pourvu d'un revêtement. 25
  17. 17. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 15, dans lequel le substrat consiste en un substrat de pièce d'usure ayant une surface d'usure, l'article pourvu d'un revêtement étant ainsi une pièce d'usure pourvue d'un revêtement. 2972730 -31-
  18. 18. Outil de coupe ou pièce d'usure pourvu(e) d'un revêtement, fabriqué(e) par le procédé comprenant les étapes qui consistent à : fournir un substrat (52) ; déposer une couche de revêtement d'oxynitrure d'aluminium (58) à partir 5 d'un mélange gazeux, caractérisé en ce que le mélange gazeux comprend : de l'azote dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 30,0 % à environ 65,0 % du mélange gazeux ; du trichlorure d'aluminium dans une quantité représentant un 10 pourcentage volumique d'environ 0,5 % à environ 1,3 % du mélange gazeux ; de l'ammoniac dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 1,0 % à environ 2,0 % du mélange gazeux ; du dioxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0,1 % à environ 1,6 % du mélange gazeux ; 15 du chlorure d'hydrogène dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 1,5 % à environ 4,5 % du mélange gazeux ; éventuellement du monoxyde de carbone dans une quantité représentant un pourcentage volumique d'environ 0 % à environ 2,0 % du mélange gazeux ; éventuellement de l'argon dans une quantité représentant un pourcentage 20 volumique d'environ 0 % à environ 25 % du mélange gazeux ; et le reste étant constitué d'hydrogène.
FR1252336A 2011-03-15 2012-03-15 Article pourvu d'un revetement d'oxynitrure d'aluminium et procede de fabrication associe Withdrawn FR2972730A1 (fr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/048,301 US8574728B2 (en) 2011-03-15 2011-03-15 Aluminum oxynitride coated article and method of making the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
FR2972730A1 true FR2972730A1 (fr) 2012-09-21

Family

ID=46756977

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FR1252336A Withdrawn FR2972730A1 (fr) 2011-03-15 2012-03-15 Article pourvu d'un revetement d'oxynitrure d'aluminium et procede de fabrication associe

Country Status (7)

Country Link
US (2) US8574728B2 (fr)
JP (1) JP2012192516A (fr)
KR (1) KR20120105368A (fr)
CN (1) CN102677016B (fr)
CA (1) CA2766547A1 (fr)
DE (1) DE102012004367B4 (fr)
FR (1) FR2972730A1 (fr)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8574728B2 (en) 2011-03-15 2013-11-05 Kennametal Inc. Aluminum oxynitride coated article and method of making the same
US9138864B2 (en) 2013-01-25 2015-09-22 Kennametal Inc. Green colored refractory coatings for cutting tools
US9017809B2 (en) 2013-01-25 2015-04-28 Kennametal Inc. Coatings for cutting tools
US9427808B2 (en) * 2013-08-30 2016-08-30 Kennametal Inc. Refractory coatings for cutting tools
JP6635340B2 (ja) * 2016-08-24 2020-01-22 住友電工ハードメタル株式会社 表面被覆切削工具およびその製造方法
KR102201575B1 (ko) 2017-12-15 2021-01-12 주식회사 엘지화학 장식 부재
JP7089039B2 (ja) * 2018-09-05 2022-06-21 京セラ株式会社 被覆工具及び切削工具
KR102134592B1 (ko) * 2020-03-02 2020-07-16 오완석 폴리실리콘 취출 장치
DE102021106674A1 (de) * 2021-03-18 2022-09-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein AlN-basierte Hartstoffschicht auf Körpern aus Metall, Hartmetall, Cermet oder Keramik und Verfahren zu deren Herstellung

Family Cites Families (90)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2851584B2 (de) * 1978-11-29 1980-09-04 Fried. Krupp Gmbh, 4300 Essen Verbundkörper
JPS5913475B2 (ja) * 1978-12-19 1984-03-29 日本特殊陶業株式会社 セラミツク・スロ−アウエイチツプとその製造法
US4357382A (en) * 1980-11-06 1982-11-02 Fansteel Inc. Coated cemented carbide bodies
USRE32111E (en) 1980-11-06 1986-04-15 Fansteel Inc. Coated cemented carbide bodies
DE3332260A1 (de) 1983-09-07 1985-03-28 Fried. Krupp Gmbh, 4300 Essen Beschichteter hartmetallkoerper
SE442305B (sv) 1984-06-27 1985-12-16 Santrade Ltd Forfarande for kemisk gasutfellning (cvd) for framstellning av en diamantbelagd sammansatt kropp samt anvendning av kroppen
US4950558A (en) 1987-10-01 1990-08-21 Gte Laboratories Incorporated Oxidation resistant high temperature thermal cycling resistant coatings on silicon-based substrates and process for the production thereof
JPH02141495A (ja) * 1988-11-21 1990-05-30 Asahi Chem Ind Co Ltd 窒化アルミニウム単結晶薄膜を有する積層単結晶基板及びその製造方法
SE464818B (sv) 1989-06-16 1991-06-17 Sandvik Ab Belagt skaer foer skaerande bearbetning
US5075265A (en) 1990-12-10 1991-12-24 Ford Motor Company Preparation of aluminum oxynitride from organosiloxydihaloalanes
US5665431A (en) 1991-09-03 1997-09-09 Valenite Inc. Titanium carbonitride coated stratified substrate and cutting inserts made from the same
US5494743A (en) 1992-08-20 1996-02-27 Southwall Technologies Inc. Antireflection coatings
EP0597391B1 (fr) 1992-11-09 1998-09-09 Central Glass Company, Limited Plaque de verre avec un revêtement multicouche absorbant les rayonnements ultraviolets
TW250618B (fr) 1993-01-27 1995-07-01 Mitsui Toatsu Chemicals
US5500279A (en) 1994-08-26 1996-03-19 Eastman Kodak Company Laminated metal structure and metod of making same
EP0704880A3 (fr) 1994-09-28 1998-09-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Lampe à décharge haute pression, procédé de fabrication d'un tube à décharge pour lampes à décharge haute pression et procédé de fabrication d'un tube creux
KR100250587B1 (ko) 1994-10-04 2000-04-01 구라우치 노리타카 피복 경질합금
US6652922B1 (en) 1995-06-15 2003-11-25 Alliedsignal Inc. Electron-beam processed films for microelectronics structures
US5722803A (en) 1995-07-14 1998-03-03 Kennametal Inc. Cutting tool and method of making the cutting tool
JPH09165670A (ja) 1995-12-14 1997-06-24 Orient Watch Co Ltd 透明保護膜を形成した構造体、およびその製造方法
GB2310218B (en) 1996-02-13 1999-12-22 Marconi Gec Ltd Coatings
US6022175A (en) 1997-08-27 2000-02-08 Kennametal Inc. Elongate rotary tool comprising a cermet having a Co-Ni-Fe binder
US6010283A (en) 1997-08-27 2000-01-04 Kennametal Inc. Cutting insert of a cermet having a Co-Ni-Fe-binder
US6161990A (en) 1998-11-12 2000-12-19 Kennametal Inc. Cutting insert with improved flank surface roughness and method of making the same
DE69935166T2 (de) 1998-12-28 2007-10-31 Asahi Glass Co., Ltd. Schichtprodukt
LU90420B1 (fr) 1999-07-20 2001-01-22 Glaverbel Couche pyrolitique d'oxynitrure d'aluminium et vitrage comportant cette couche
FR2800998B1 (fr) 1999-11-17 2002-04-26 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent comportant un revetement antireflet
US6582777B1 (en) 2000-02-17 2003-06-24 Applied Materials Inc. Electron beam modification of CVD deposited low dielectric constant materials
US6528180B1 (en) 2000-05-23 2003-03-04 Applied Materials, Inc. Liner materials
FR2810118B1 (fr) 2000-06-07 2005-01-21 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent comportant un revetement antireflet
US20030036483A1 (en) 2000-12-06 2003-02-20 Arendt Paul N. High temperature superconducting thick films
AU2002305393A1 (en) 2001-05-04 2002-11-18 General Atomics O2 and h2o barrier material
US6667121B2 (en) 2001-05-17 2003-12-23 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated article with anti-migration barrier between dielectric and solar control layer portion, and methods of making same
TWI336905B (en) * 2002-05-17 2011-02-01 Semiconductor Energy Lab Evaporation method, evaporation device and method of fabricating light emitting device
US7514037B2 (en) 2002-08-08 2009-04-07 Kobe Steel, Ltd. AG base alloy thin film and sputtering target for forming AG base alloy thin film
AU2003273872A1 (en) 2002-09-14 2004-04-08 Schott Ag Coated object
US7829194B2 (en) 2003-03-31 2010-11-09 Ut-Battelle, Llc Iron-based alloy and nitridation treatment for PEM fuel cell bipolar plates
US6811880B1 (en) 2003-04-04 2004-11-02 Ensci Inc. Metal oxyanion coated substrates
US6811881B1 (en) 2003-04-07 2004-11-02 Ensci Inc. Metal oxyanion coated nano substrates
US7592077B2 (en) 2003-06-17 2009-09-22 Kennametal Inc. Coated cutting tool with brazed-in superhard blank
US20050064247A1 (en) 2003-06-25 2005-03-24 Ajit Sane Composite refractory metal carbide coating on a substrate and method for making thereof
FR2856627B1 (fr) 2003-06-26 2006-08-11 Saint Gobain Substrat transparent muni d'un revetement avec proprietes de resistance mecanique
FR2856677B1 (fr) 2003-06-27 2006-12-01 Saint Gobain Substrat revetu d'une couche dielectrique et procede pour sa fabrication
JP2005029849A (ja) 2003-07-07 2005-02-03 Kobe Steel Ltd リフレクター用Ag合金反射膜、及び、このAg合金反射膜を用いたリフレクター、並びに、このAg合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
EP1498397A1 (fr) 2003-07-16 2005-01-19 Glaverbel Substrat revêtu à très faible facteur solaire
US20050025973A1 (en) 2003-07-25 2005-02-03 Slutz David E. CVD diamond-coated composite substrate containing a carbide-forming material and ceramic phases and method for making same
JP4249184B2 (ja) 2003-08-12 2009-04-02 日本電信電話株式会社 窒化物半導体成長用基板
FR2858975B1 (fr) 2003-08-20 2006-01-27 Saint Gobain Substrat transparent revetu d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire
DE10342364A1 (de) 2003-09-12 2005-04-14 Kennametal Widia Gmbh & Co.Kg Hartmetall-oder Cermetkörper und Verfahren zu seiner Herstellung
DE10342398B4 (de) 2003-09-13 2008-05-29 Schott Ag Schutzschicht für einen Körper sowie Verfahren zur Herstellung und Verwendung von Schutzschichten
JP2005271190A (ja) 2003-12-05 2005-10-06 Sumitomo Electric Hardmetal Corp 表面被覆切削工具
US7785700B2 (en) 2004-04-13 2010-08-31 Sumitomo Electric Hardmetal Corp. Surface-coated cutting tool
JP5209960B2 (ja) 2004-04-19 2013-06-12 ピヴォット アー.エス. 窒化アルミニウムベースの硬い耐摩耗性コーティング
US7262145B2 (en) 2004-04-23 2007-08-28 Kennametal Inc. Whisker-reinforced ceramic containing aluminum oxynitride and method of making the same
US7378157B2 (en) 2004-06-28 2008-05-27 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Gas barrier film, and display substrate and display using the same
US20060165994A1 (en) 2004-07-07 2006-07-27 General Electric Company Protective coating on a substrate and method of making thereof
US7812522B2 (en) 2004-07-22 2010-10-12 Ifire Ip Corporation Aluminum oxide and aluminum oxynitride layers for use with phosphors for electroluminescent displays
WO2006009121A1 (fr) 2004-07-23 2006-01-26 Sumitomo Electric Hardmetal Corp. Outil de coupe à revêtement superficiel dont la pellicule de revêtement a une répartition d’intensité de la contrainte de compression
CN100558940C (zh) 2004-08-18 2009-11-11 陶氏康宁公司 涂布的基片及其制备方法
JP4575384B2 (ja) 2004-08-20 2010-11-04 帝人株式会社 透明導電性積層体および透明タッチパネル
US7208044B2 (en) 2004-11-24 2007-04-24 Mark A. Zurbuchen Topotactic anion exchange oxide films and method of producing the same
US7608335B2 (en) 2004-11-30 2009-10-27 Los Alamos National Security, Llc Near single-crystalline, high-carrier-mobility silicon thin film on a polycrystalline/amorphous substrate
US7258927B2 (en) 2004-12-23 2007-08-21 Los Alamos National Security, Llc High rate buffer layer for IBAD MgO coated conductors
US7727934B2 (en) 2004-12-23 2010-06-01 Los Alamos National Security, Llc Architecture for coated conductors
US7393584B2 (en) 2005-01-14 2008-07-01 Solutia Incorporated Multiple layer laminate with moisture barrier
US7362053B2 (en) 2005-01-31 2008-04-22 Osram Sylvania Inc. Ceramic discharge vessel having aluminum oxynitride seal region
JP4573673B2 (ja) 2005-02-28 2010-11-04 富士フイルム株式会社 水蒸気バリアフィルム
BE1016553A3 (fr) 2005-03-17 2007-01-09 Glaverbel Vitrage a faible emissivite.
SE528929C2 (sv) 2005-04-18 2007-03-20 Sandvik Intellectual Property Skär belagt med ett skiktsystem och metod att framställa detta
NZ564166A (en) 2005-05-12 2011-05-27 Agc Flat Glass Na Inc Low emissivity coating with low solar heat gain coefficient, enhanced chemical and mechanical properties and method of making the same
WO2007005925A1 (fr) 2005-06-30 2007-01-11 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Element de serrage utile dans le traitement de pieces a usiner semi-conductrices
KR20080025367A (ko) 2005-07-07 2008-03-20 아사히 가라스 가부시키가이샤 플라즈마 디스플레이 패널용 전자파 차폐 필름 및 보호판
US20070030569A1 (en) 2005-08-04 2007-02-08 Guardian Industries Corp. Broad band antireflection coating and method of making same
FR2893023B1 (fr) 2005-11-08 2007-12-21 Saint Gobain Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques
US20070172696A1 (en) 2006-01-17 2007-07-26 Georgia Tech Research Corporation Protective thin film layers and methods of dielectric passivation of organic materials using assisted deposition processes
US8097300B2 (en) * 2006-03-31 2012-01-17 Tokyo Electron Limited Method of forming mixed rare earth oxynitride and aluminum oxynitride films by atomic layer deposition
US7782569B2 (en) 2007-01-18 2010-08-24 Sae Magnetics (Hk) Ltd. Magnetic recording head and media comprising aluminum oxynitride underlayer and a diamond-like carbon overcoat
US8784512B2 (en) 2007-08-13 2014-07-22 University Of Virginia Patent Foundation Thin film battery synthesis by directed vapor deposition
SE532020C2 (sv) 2007-09-13 2009-09-29 Seco Tools Ab Belagt hårdmetallskär för frästillämpningar och tillverkningssätt
JP2009120912A (ja) 2007-11-15 2009-06-04 Kobe Steel Ltd 硬質皮膜を備えた耐摩耗性部材
EP2274163B1 (fr) 2008-04-29 2019-12-18 Agency for Science, Technology And Research Film barrière gradué minéral et ses procédés de fabrication
KR101603303B1 (ko) * 2008-10-31 2016-03-14 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 도전성 산질화물 및 도전성 산질화물막의 제작 방법
US20100255337A1 (en) 2008-11-24 2010-10-07 Langhorn Jason B Multilayer Coatings
US20100132762A1 (en) 2008-12-02 2010-06-03 Georgia Tech Research Corporation Environmental barrier coating for organic semiconductor devices and methods thereof
KR20110008398A (ko) 2009-07-20 2011-01-27 삼성전자주식회사 막 구조물, 이를 포함하는 커패시터 및 그 제조 방법
SE533972C2 (sv) 2009-07-27 2011-03-15 Seco Tools Ab Finkornigt belagt hårdmetallskärverktygsskär för svarvning i härdat stål och verktygsstål
US8877300B2 (en) 2011-02-16 2014-11-04 Veeco Ald Inc. Atomic layer deposition using radicals of gas mixture
US8574728B2 (en) 2011-03-15 2013-11-05 Kennametal Inc. Aluminum oxynitride coated article and method of making the same
FR2973940A1 (fr) 2011-04-08 2012-10-12 Saint Gobain Element en couches pour l’encapsulation d’un element sensible
FR2973939A1 (fr) 2011-04-08 2012-10-12 Saint Gobain Element en couches pour l’encapsulation d’un element sensible

Also Published As

Publication number Publication date
CA2766547A1 (fr) 2012-09-15
DE102012004367A1 (de) 2012-09-20
DE102012004367B4 (de) 2019-07-25
CN102677016B (zh) 2016-07-06
US8828492B2 (en) 2014-09-09
KR20120105368A (ko) 2012-09-25
US20130302521A1 (en) 2013-11-14
CN102677016A (zh) 2012-09-19
US8574728B2 (en) 2013-11-05
JP2012192516A (ja) 2012-10-11
US20120237794A1 (en) 2012-09-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FR2972730A1 (fr) Article pourvu d&#39;un revetement d&#39;oxynitrure d&#39;aluminium et procede de fabrication associe
AU675106B2 (en) Bearing assembly
US4150195A (en) Surface-coated cemented carbide article and a process for the production thereof
EP0653499B1 (fr) Outil coupant revetu et son procede de production
US8003232B2 (en) Layered coated cutting tool
US4698266A (en) Coated cemented carbide tool for steel roughing applications and methods for machining
CN105714171A (zh) 硬质碳化物制品及其应用
US4708037A (en) Coated cemented carbide tool for steel roughing applications and methods for machining
KR101536462B1 (ko) 난삭재 및 주철가공 절삭공구용 피막
Guo et al. Characterization and properties of MTCVD Ti (C, N) coated cemented carbide substrates with Fe/Ni binder
SE528929C2 (sv) Skär belagt med ett skiktsystem och metod att framställa detta
EA002903B1 (ru) Твердые порошки с жестким покрытием и агломерированные изделия из них
CN107557637B (zh) 一种聚晶金刚石复合体的硬质合金基体材料
US8215879B2 (en) Coated cutting insert
KR20120089586A (ko) 경질 피복층이 우수한 내치핑성, 내결손성을 구비하는 표면 피복 절삭 공구
CN115537772B (zh) 一种涂层切削刀具
US20090029132A1 (en) Coated hard metal member
US20080224344A1 (en) Method of making a cemented carbide body
EP0996756B1 (fr) Carbonitrure a base de titane et resistants aux chocs thermiques, et procede de frittage permettant sa production
SE514053C2 (sv) Metod för tillverkning Ti(C,N)-(Ti,Ta,W) (C,N)-Co legeringar för skärverktygstillämpningar
SE509566C2 (sv) Sintringsmetod
JPH03115541A (ja) Wc基硬質合金
CN113957413A (zh) 一种带涂层的切削刀具
CN106029271A (zh) 耐崩刀性优异的表面包覆碳氮化钛基金属陶瓷制切削工具
KR20240143385A (ko) 내파손성과 내용착성이 향상된 절삭공구

Legal Events

Date Code Title Description
ST Notification of lapse

Effective date: 20131129