FR2610740A1 - Dispositif de maintien d'un masque, appareil pour exposer une piece sensible au dessin d'un masque et dispositif de correction de planeite - Google Patents
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Abstract
L'INVENTION CONCERNE UN DISPOSITIF DESTINE A MAINTENIR DE FACON AMOVIBLE UN MASQUE PAR DES MOYENS MAGNETIQUES. LE DISPOSITIF EST CONCU POUR MAINTENIR LE MASQUE EN UTILISANT UNE FORCE D'ATTRACTION MAGNETIQUE PRODUITE PAR DES BOBINES 5A, 5B, 5C, 5D POUVANT ETRE NOYEES DANS UNE PARTIE PERIPHERIQUE D'UN PORTE-MASQUE ET COOPERANT AVEC DES AIMANTS PERMANENTS 4A, 4B, 4C, 4D MONTES FIXEMENT SUR LE PORTE-MASQUE POUR ATTIRER LE CADRE D'UN MASQUE SUR CE PORTE-MASQUE. EN REGLANT LE COURANT FOURNI A CHACUNE DES BOBINES, IL EST POSSIBLE D'AJUSTER LA FORCE D'ATTRACTION MAGNETIQUE EXERCEE PAR CHACUNE DE CES BOBINES POUR CORRIGER LA PLANEITE DU MASQUE. DOMAINE D'APPLICATION : FABRICATION DE CIRCUITS INTEGRES, ETC.
Description
L'invention concerne un dispositif de maintien
d'un masque pouvant être utilisé dans un processus litho-
graphique pour la fabrication de microcircuits à semi-
conducteurs, et elle a trait plus particulièrement à un tel dispositif de maintien d'un masque qui est conçu
pour maintenir un masque en utilisant une force magnéti-
que. Dans le procédé lithographique, des dispositifs de maintien de masque sont utilisés pour maintenir un masque presentant un dessin à reporter sur une pièce telle qu'une tranche de semi-conducteurs. Habituellement,
le dispositif de maintien de masq.ue est conçu pour atti-
rer et maintenir le masque en utilisant un effet de suc-
cion ou une force magnétique. Dans le second cas, la
force magnétique d'attraction est produite par un électro-
aimant, comme décrit dans la demande de brevet japonais
n Sho 60-77424. En variante, la force d'attraction magné-
tique peut être produite par un aimant permanent, comme
décrit dans la demande de brevet japonais n 61-294441.
La planéité d'une membrane de masque est déter-
minée par la précision totale qui est elle-même déter-
minée par la planéité d'une surface de maintien présentée
par le dispositif de maintien de masque et contre laquel-
le le masque est attiré, par la planéité du cadre d'un
masque (surface du bord et/ou une surface à attirer) au-
quel la membrane est fixée, par la flexion du masque dans son ensemble sous l'effet de la gravité, etc. Une fois que le masque est attiré vers le dispositif de
maintien et maintenu par ce dernier, une certaine pla-
néité est déterminée. Les dispositifs classiques de maintien de masques ne comprennent aucun moyen particulier pour
régler ou corriger la planéité de la membrane du masque.
Par exemple, dans le dispositif de maintien de masque décrit dans la demande n 61-294441 précitée, l'élément d'attraction comprend un aimant permanent de forme annulaire. Il est donc difficile d'agir sur la planéité de la membrane. Si la membrane du masque maintenu par le dispositif n'est pas disposée exactement dans un plan qui est prédéterminé, il se produit un report inégal du dessin (par exemple un flou du dessin reporté) par suite de l'exposition de la tranche de semi- conducteurs
au dessin du masque. Ceci est indésirable.
L'invention a donc pour objet un dispositif de maintien d'un masque et un procédé grâce auxquels
la planéité d'une membrane d'un masque peut être corri-
gée afin que l'on obtienne de façon sûre la planéité souhaitée. Conformément à un aspect de l'invention, il
est proposé un dispositif de maintien d'un masque compor-
tant un porte-masque et plusieurs électro-aimants pouvant être mis en action de façon à attirer et maintenir un cadre de masque, dispositif dans lequel des courants
électriques réglés sont appliqués à des bobines des élec-
tro-aimants afin d'assurer la planéité souhaitée.
Selon un autre aspect, le dispositif de main-
tien d'un masque selon l'invention comprend un porte-
masque vers lequel un cadre de masque est attiré de fa-
çon amovible, plusieurs bobines noyées dans une partie circonférentielle du porte-masque, des moyens à aimants permanents ayant pour effet d'attirer le cadre du masque vers le porte-masque, et des moyens de commande pouvant être mis en oeuvre pour fournir descourants électriques réglés et différents aux bobines,respectivement. Des aimants permanents peuvent être disposés et utilisés en tant que noyaux des bobines du portemasque. De plus,
au moins une partie du cadre du masque peut être réali-
sée en une matière magnétique afin que le cadre puisse être attiré par les aimants permanents. En variante, chaque bobine du porte-masque peut comporter un noyau ou une culasse réalisés en une matière magnétique et un aimant permanent peut être prévu sur ou dans le cadre du masque, dans une position opposée à celle du noyau ou de la culasse magnétique. Dans tous les cas, les aimants permanents utilisés interviennent de façon à attirer le cadre du masque vers le porte-masque, et des courants
électriques réglés sont fournis aux bobines afin d'amé-
liorer la planéité de la membrane du masque attiré et maintenu par le porte-masque. Ainsi, en réglant la force d'attraction, on maîtrise la planéité de la membrane du masque. L'invention sera décrite plus en détail en regard des dessins annexés à titre d'exemples nullement limitatifs et sur lesquels: la figure 1 est une vue schématique en plan d'un dispositif de maintien de masque selon une première forme de réalisation de l'invention; la figure 2 est une coupe schématique de la première forme de réalisation du dispositif de maintien de masque de l'invention, suivant la ligne A-A de la figure 1; la figure 3 est une coupe schématique d'une
variante de la première forme de réalisation du disposi-
tif de maintien de masque;
la figure 4 est une vue partielle en perspec-
tive montrant l'un des blocs d'attraction magnétique uti-
lisés dans la première forme de réalisation du dispositif de maintien de masque;
la figure 5 est une vue simplifiée et partielle-
ment schématique d'un système d'exposition possédant une fonction de correction de planéité, système dans lequel
le dispositif de maintien de masque de la forme de réali-
sation de la figure 1 est incorporé; la figure 6 est un organigramme montrant la suite d'opérations pour la saisie des données nécessaires à la correction de planéité, effectuées dans une partie de mesure de planéité incorporée dans le système d'exposition montré sur la figure 5; la figure 7 est un organigramme montrant la suite d'opérations de correction de planéité effectuées dans une partie d'exposition incorporée dans le système d'exposition de la figure 5;
la figure 8 est une vue simplifiée et partiel-
lement schématique d'un autre système d'exposition pré-
cédant une fonction de correction de planéité, système dans lequel la forme de réalisation du dispositif de maintien de masque de la figure 1 est incorporée; et
la figure 9 est une vue partielle en perspec-
tive d'une variante de la surface de maintien présentée par le dispositif de maintien de masque de la forme de
réalisation de la figure 1.
En référence d'abord aux figures 1 et 2, celles-
ci représentent un dispositif de maintien de masque
constituant une première forme de réalisation de l'inven-
tion. Pour cette forme de réalisation, l'invention est appliquée à un dispositif de maintien de masque qui peut être commodément utilisé en tant que plateau de montage de masque dans un appareil d'exposition à des rayons X. La référence numérique 1 de la figure 2 désigne une membrane de masque et la référence 2 un cadre de masque réalisé en une matière magnétique. Un porte-masque 3 comporte quatre aimants permanents 4a, 4b, 4c et 4d qui sont montés fixement sur ce porte-masque et qui sont
destinés à attirer le cadre 2 du masque vers le porte-
masque 3.Des bobines 5a, 5b, 5c et 5d sont noyées dans une partie circonférentielle du porte-masque 3. Ces bobines sont conçues pour produire des forces magnétiques qui ont pour effet de maîtriser de façon variable la force d'attraction à appliquer au cadre 2 du masque.Dans cette forme de réalisation, les aimants permanents 4a - 4d sont utilisés en tant que noyaux des bobines 5a - 5d, respectivement. Ceci est réalisé de façon que des fils conducteurs 6a - 6d aient pour fonction de fournir des
courants électriques aux bobines 5a - 5d, respectivement.
Dans la présente forme de réalisation, les aimants permanents 4a - 4d et les bobines 6a - 6d sont utilisés en quatre ensembles pour former quatre blocs d'attraction magnétique dont l'un est illustré sur la figure 4. Ainsi qu'on peut mieux le voir sur la figure 1, ces quatre blocs sont disposés dans le porte-masque
3 de façon à former.entre eux des angles égaux par rap-
port à la direction circonférentielle du porte-masque.
Autrement dit, ils sont disposés à 90 des uns des autres. En outre, dans cette forme de réalisation, ces blocs d'attraction magnétique sont logés dans un boîtier défini par le porte-masque 3. Ceci est réalisé en tenant compte de -'effet du dégagement de chaleur par les bobines, vers l'extérieur du porte-masque. Les quatre blocs d'attraction magnétique peuvent être mis en oeuvre
de façon à maîtriser ou corriger la planéité de la mem-
brane du masque, comme décrit ci-après. Cependant, si
l'on souhaite maîtriser avec plus de précision la planéi-
té, on peut prévoir un plus grand nombre de bobines et d'aimants permanents (c'est-à-dire de blocs d'attraction magnétique). Par exemple, huit blocs peuvent être disposés
circonférentiellement à 45 degrés les uns des autres.
Dans tous les cas, il est préférable que les blocs d'attraction magnétique soient disposés symétriquement par rapport.au centre du porte- masque 3, comme on le voit sur la figure 1.'
On décrira à présent comment corriger la planéi-
té de la membrane 1 du masque en utilisant la première
forme de réalisation du dispositif de maintien de masque.
Lorsque, en cours de fonctionnement, le cadre 2 d'un
masque, de forme annulaire et déplacé vers le porte-
masque 3 par une main de transport de masque (non repré-
sentée), se rapproche du porte-masque 3, il est attiré vers le portemasque 3 par les forces magnétiques des aimants permanents 4a - 4d qui sont disposés circonférentiellement, ainsi qu'on peut mieux le voir sur la figure 1. Après
l'attraction, la membrane 1 du masque présente une cer-
taine planéité (par exemple la surface est irrégulière
ou inclinée) qui est déterminée, comme décrit précédem-
ment, par la planéité de la surface de maintien du masque, présentée par le dispositif, la planéité du cadre du masque (la surface d'un bord et/ou une surface à attirer vers le porte-masque) auquel la membrane 1 du masque
est fixée, la flexion du masque sous l'effet de la pesan-
teur, etc. Dans l'état tel que supposé à l'instant o le cadre 2 du masque est totalement attiré et maintenu par le porte-masque 3, la planéité de la membrane 1 du masque est mesurée au moyen d'un appareil d'examen tel qu'un interféromètre de mesure de planéité, qui est bien connu dans la technique. Autrement dit, on observe l'état de la
surface de la membrane 1 par rapport à un plan de réf é-
rence prédéterminé en utilisant un dispositif d'observa-
tion convenable tel que l'interféromètre de mesure de plandité. Ainsi, on peut détecter, sous la forme d'une "information de surface", toute irrégularité de la surface 35.de la membrane 1 et toute inclinaison de cette surface par rapport à un plan de référence prédéterminé. Ensuite, selon l'information de surface ainsi obtenue concernant l'irrégularité et/ou l'inclinaison de la membrane 1, on règle la force magnétique (force d'attraction magnétique) d'un ou plusieurs des blocs d'attraction magnétique qui correspondent à la partie ou aux parties de la membrane
1 du masque devant être "corrigées". Plus particulière-
ment, des courants électriques réglés sont appliqués aux bobines appropriées des blocs d'attraction magnétique
afin de régler les forces magnétiques des aimants perma-
nents correspondants pour modifier de façon convenable
la force d'attraction magnétique du porte-masque 3.
Ceci est réalisé de façon à ajuster l'intervalle entre une telle partie de la membrane 1 du masque (à laquelle une correction doit être apportée) et un plan contenant la surface de maintien présentée par le porte-masque 3, de facon que la surface de la membrane 1 du masque soit
placée exactement dans le plan de référence ou posi-
tionnée dans un intervalle de tolérance établi par rapport au plan de référence. En bref, en modifiant convenablement la distribution des forces magnétiques, réparties circonférentiellement, des moyens d'attraction
magnétique du porte-masque 3, on corrige dans son ensem-
ble la planéité de la membrane du masque.
Pour augmenter le degré de correction de pla-
néité, on peut munir le porte-masque 3 de plusieurs saillies de surface comme illustré sur la figure 9. La présence de ces saillies a pour effet de permettre un
plus grand degré de déformation du cadre 2 de masque.
Il est évident que ces saillies peuvent être prévues sur
le cadre 2 du masque.
En référence à présent à la figure 5, celle-ci représente un système d'exposition agencé conformément à une forme de réalisation de l'invention. Cette forme de
réalisation, comme décrit ci-après, comprend deux dispo-
sitifs de maintien de masque qui sont chacun tels que
décrits en référence aux figures 1 et 2.
Le système d'exposition de la forme de réalisa-
tion de la figure 5 comprend une partie de mesure de planéité qui est désignée globalement en A et une partie d'exposition qui est désignée globalement en B. La partie A de mesure comprend un interféromètre 10 de mesure de
planéité qui est supporté par une plaque superficielle.
Il est prévu des capteurs de température (dont l'un est
illustré schématiquement en 13a) et un capteur de pres-
sion qui est également illustré schématiquement en 13b.
L'un (indiqué en 13a) descapteursde température est destiné à détecter toute variation de température du milieu ambiant entourant le poste de mesure, tandis que l'autre capteur de température est destiné à détecter
toute variation de température dans un porte-masque 3.
Des moyens 14 d'attaque commandent plusieurs blocs d'attraction magnétique, indépendamment les uns des autres, lesquels blocs sont prévus sur le porte-masque
3. Les moyens 14 d'attaque sont commandés par un ordina-
teur 12.
La partie B d'exposition comprend un porte-
masque 15 qui est indépendant du porte-masque 3 de la partie A de mesure. La partie d'exposition B comprend en outre une platine 16 pour tranche pouvant se déplacer le
long d'une barre 17 de guidage. Une tranche 18, présen-
tant une couche superficielle (couche de réserve), est placée sur un porte-tranche 19 qui est supporté par la platine 16. Des moyens 20 d'attaque commandent plusieurs blocs d'attraction magnétique (indépendamment les uns des autres), prévus sur le porte-masque 15. Les moyens 20
d'attaque sont commandés par l'ordinateur 12. Il est pré-
vu des capteurs de température (dont l'un est illustré schématiquement en 21) et un capteur de pression qui est également illustré schématiquement en 21b. L'un (indiqué
en 21a) des capteurs de température est destiné à détec-
ter toute variation de température du milieu ambiant entourant le poste d'exposition (plus particulièrement un masque maintenu par le portemasque 15), tandis que l'autre capteur de température est destiné à détecter toute variation de température dans le porte-masque
lui-même. La figure 5 représente en 24 un bâti immo-
bile de support sur lequel le porte-masque 15 est monté fixement. En référence à présent aux organigrammes des figures 6 et 7, on décrira le fonctionnement du système d'exposition de la forme de réalisation montrée sur la
figure 5.
Dans le système d'exposition de la forme de réalisation de la figure 5, chacun du porte-masque 3 incorporé dans la partie A de mesure et du portemasque incorporé dans la partie B d'exposition, possède la même structure que le porte-masque décrit en référence aux figures 1 et 2. Autrement dit, les porte-masques 3 et 15 ont la même configuration et leurs surfaces de maintien ont été formées sensiblement avec la même précision d'usinage. Par conséquent, les surfaces de maintien de ces porte-masques ont sensiblement la même planéité. En d'autres termes, deux porte-masques ayant sensiblement les mêmes caractéristiques de maintien sont utilisés dans cette forme de réalisation. Dans la partie
de mesure A, un masque possédant une membrane 1 est atti-
ré et maintenu par le porte-masque 3. Dans l'état o le
masque est maintenu par le porte-masque 3, l'interféro-
mètre 10 de mesure de planéité est utilisé pour observer J'état de la surface de la membrane 1, afin d'en mesurer la planéité. L'information de surface, concernant l'état
de la surface de la membrane 1, et obtenue par l'inter-
féromètre 10, est transmise à il'ordinateur 12. Ce dernier travaille, sur la base de l'information de surface fournie, de façon à commander les moyens d'attaque 14 pour les amener à fournir des courants électriques réglés à l'une ou à plusieurs, appropriées, des bobines des blocs
d'attraction magnétique (dont seulement deux sont illus-
trées sur la figure 5). En conséquence, la force d'attrac-
tion magnétique du porte-masque 3, produite par les ai-
mants permanents incorporés dans les blocs d'attraction magnétique, est réglée de façon à ajuster l'intervalle entre la partie de la membrane 1 du masque, à laquelle la correction doit être apportée, et un plan contenant la
surface de maintien du porte-masque 3, afin que la mem-
brane 1 du masque dans sa totalité soit placée exacte-
ment dans un plan de référence prédéterminé ou soit po-
sitionnée dans un intervalle de tolérance établi par
rapport au plan de référence.
Comme décrit précédemment, les moyens d'attaque
14 fournissent des courants électriques réglés indivi-
duellement aux blocs d'attraction magnétique, afin que ces derniers soient commandés indépendamment les uns des autres pour corriger l'état de surface de la membrane
1 du masque. A ce moment, en tenant compte de l'élasti-
cité du cadre 2 du masque ou autre, le calculateur 12 commande les moyens d'attaque 14 afin d'éviter qu'une forte différence, supérieure à une valeur prédéterminée, soit établie entre les forces de maintien des blocs d'attraction (c'est-à-dire leurs forces d'attraction
magnétique). Ceci est effectué pour assurer une correc-
tion en douceur. En outre, pour éviter une détérioration accidentelle de la membrane 1 du masque, l'ordinateur 12
commande des moyens d'attaque 14 afin d'augmenter pro-
gressivement les courants électriques fournis aux blocs
d'attraction magnétique.
Après la correction, l'interféromètre 10 de mesure est de nouveau utilisé pour observer l'état de la membrane 1 du masque et la planéité (irrégularités de 1 1 surface, inclinaison et analogue) de la membrane 1 du masque est mesurée. S'il est détecté que la surface de
la membrane 1 est dans un état satisfaisant, comme déter-
miné par la tolérance précitée, les valeurs concernant les courants électriques fournis à ce moment aux blocs d'attraction magnétique ainsi que les valeurs détectées à ce moment par le capteur de pression et les capteurs de température sont enregistrées dans une mémoire convenable incorporée dans l'ordinateur 12. Par contre, si l'état
de la surface de la membrane 1 n'est pas encore satis-
faisant, la correction de surface, décrite ci-dessus,
est répétée.
Après une nouvelle mesure, le masque est séparé du porte-masque 3 et transporté vers le porte-masque 15 de la partie B d'exposition. Le masque est placé sur le
porte-masque 15 et il est attiré et maintenu par celui-
ci. Des moyens convenables de détection sont utilisés pour vérifier si le masque est maintenu ou non par le
porte-masque 15. Lorsque le maintienY est établi, l'ordi-
nateur 12 intervient de façon à corriger les données concernant les courants électriques, lesquelles données ont été enregistrées dans cet ordinateur par suite de l'opération de mesure effectuée dans la partie de mesure A. La correction des données est effectuée sur la base de toute différence dans les caractéristiques de blocs d'attraction magnétique correspondants des porte-masques 3 et 15 (Les informations concernant ces différences ont été mémorisées précédemment dans l'ordinateur 12) et
de la différence des conditions ambiantes telles que-
détectées par les quatre capteurs de température et les
deux capteurs de pression dans cette forme de réalisation.
Le calcul effectué pour établir la correction est réalisé conformément à un programme préalablement établi. Si l'on souhaite utiliser des masques différents, les données de
çommande liées à tous les masques peuvent être enregis-
trées à l'avance et, en fonction d'un masque choisi, on
peut accéder à une partie correspondante des données.
Après la correction des données, l'ordinateur 12 transmet un signal de commande auxmoyens 20 d'attaque, signal en réponse auquel les moyens 20 d'attaque activent les blocs d'attraction magnétique du porte-masque 15, indépendamment les uns des autres. En conséquence, l'état
de surface désiré est reproduit dans la partie d'exposi-
tion B. Bien que deux porte-masques 3 et 15 ayant sensi-
blement les mêmes caractéristiques de maintien de masque soient utilisés dans la présente forme de réalisation, un seule porte-masque peut être utilisé si l'on considère
comme indésirable une différence, entre les caractéris-
tiques de maintien des masques, aussi minime que celle pouvant être provoquée par une légère différence de la
précision d'usinage ou autre. Autrement dit, le porte-
masque 15 de la partie B d'exposition peut être supprimé et, à sa place, on peut modifier le porte-masque 3 de la partie A de mesure afin qu'il puisse être démonté de la partie A de mesure et transporté jusqu'à la partie B d'exposition. En référence à présent à la figure 8, celle-ci montre un système d'exposition précédant une fonction
de correction de planéité, selon une autre forme de réali-
sation de l'invention. Les mêmes références numériques que celles de la forme de réalisation précédente sont
affectées à des éléments correspondants ou similaires.
Une platine 16 de support de tranche peut être déplacée le long d'une barre 22 de guidage qui est portée
fixement par un bâti 23. Un porte-masque 3 est monté fixe-
ment sur un bâti 24 de support. De même que dans les formes de réalisation précédentes, le système d'exposition de la forme de réalisation de la figure 8 comprend des
capteurs de température dont l'un est illustré schémati-
qiement en 25a et un capteur de pression qui est également illustré schématiquement en 25b. L'un (indiqué en 25a) des capteurs de température est destiné à détecter toute variation de température du milieu ambiant entourant le poste d'exposition (le poste de report de dessin),tandis que l'autre capteur de température est destiné à détecter
la température du porte-masque 3. L'une des caractéris-
tiques distinctivesde la présente forme de réalisation par rapport à celle de la figure 5 réside dans le fait que la partie de mesure A et la partie d'exposition B de la forme de réalisation de la figure 5 sont combinées
en un seul bloc afin que, dans la présente forme de réali-
sation, la mesure de planéité puisse être réalisée dans le poste d'exposition. La manière dont on mesure et on corrige l'état de la surface de la membrane du masque est essentiellement la même que celle suivie pour la forme de réalisation de la figure 5. Il convient de noter que,
dans cette forme de réalisation, un seul et même porte-
masque tel que le porte-masque 3 est utilisé dans le poste d'exposition à la fois pour la mesure et pour la correction, de sorte que les données de correction liées aux différences de caractéristiques de maintien des
masques, comme décrit en référence à la forme de réalisa-
tion de la figure 5, ne sont pas nécessaires.
Dans les formes de réalisation décrites précé-
demment, les blocs d'attraction magnétique sont prévus du côté du portemasque 3. Cependant, l'invention n'est pas limite à une telle structure. Ainsi, comme illustré
sur la figure 3, des aimants permanents (dont deux seule-
ment sont représentés en 4a et 4c) peuvent être prévus sur un cadre 2 de masque tandis que, par ailleurs, des bobines (dont seulement deux sont représentées en 5a et c) peuvent être noyées dans une partie périphérique d'un porte-masque 3. Dans cet exemple, comme illustré, des séparateurs (dont deux seulement sont représentés en 7a pet 7c) et des noyaux réalisés en une matière magnétique (dont deux seulement sont représentés en 8a et 8c) sont également prévus du côté du porte-masque 3. On comprendra aisément que le dispositif de maintien de masque de cet exemple est capable de régler de façon variable la force d'attraction des aimants permanents en appliquant des courants électriques réglés aux bobines. De plus, dans cet exemple, il est possible de commander la bobine afin qu'elle produise un champ magnétique opposé à celui de
l'aimant permanent ou le repoussant. Cette force de répul-
sion peut être utilisée pour ajuster avec précision le jeu 'entre le masque et la surface de maintien présentée par le porte-masque pour corriger l'état de surface de
la membrane 1 du masque.
Il va de soi que de nombreuses modifications peuvent être apportées au dispositif décrit et représenté
sans sortir du cadre de l'invention.
() RÉPUBLIQUE FRAN AISE 2 610 741
INSTITUT NATIONAL
DE LA PROPRIÉTÉ INDUSTRIELLE
PARIS Ce numéro n'a donné lieu à aucune publication 1t rl% o 1m (0 CY4 ce u.
Claims (13)
1. Dispositif de maintien d'un masque pouvant être utilisé dans un appareil destiné à exposer une tranche (18), portant une couche superficielle sensible à un rayonnement, à un dessin d'un masque comprenant un cadre (2) auquel une membrane (1) possédant le dessin est fixée, le dispositif étant caractérisé en ce qu'il
comporte un porte-masque (3), plusieurs moyens d'attrac-
tion prévus sur le porte-masque et destinés à attirer le ra-re du ma e porte-masque en utilisant une forze. maznétique, et des moyens destinés à modifier la répartition de la force magnétique qui attire le cadre
du masque vers le porte-masque.
2. Dispositif selon la revendication 1, carac-
térisé en ce que la force magnétique est répartie cir-
conférentiellement.
3. Dispositif selon la revendication 1, carac-
térisé en ce que le porte-masque comporte plusieurs
bobines (5a, 5b, 5c, 5d) noyées dans une partie périphé-
rique du porte-masque, en ce que les moyens d'attraction comprennent des moyens à aimants permanents comprenant plusieurs aimants permanents (4a, 4b, 4c, 4d) utilisés chacun en tant que noyau d'une bobine correspondante du porte-masque, et en ce qu'au moins une partie du cadre
du masque est réalisée en une matière magnétique.
4. Dispositif selon la revendication 1, carac-
térisé en ce que le porte-masque comporte plusieurs
bobines (5a, 5b, 5c, 5d) noyées dans une partie périphé-
rique du porte-masque, et en ce que les moyens d'attrac-
tion comprennent des moyens à aimants permanents qui comprennent plusieurs éléments en matière magnétique
utilisés chacun en tant que noyau d'une bobine corres-
pondante du porte-masque, et des aimants permanents (4a, 4b, 4c, 4d) prévus sur le porte-masque afin d'être opposés
aux noyaux.
5. Dispositif selon la revendication 1, carac-
térisé en ce que les moyens d'attraction sont disposés
dans un boîtier défini par le porte-masque.
6. Dispositif selon la revendication 1, carac- térisé en ce que les moyens d'attraction sont commandés
indépendamment les uns des autres.
7. Dispositif selon la revendication 1, carac-
térisé en ce que les moyens d'attraction sont disposés
symétriquement par rapport au centre du cadre du masque.
8. Dispositif selon la revendication 1, carac-
térisé en ce que le porte-masque comporte plusieurs saillies formées sur sa surface qui maintient le cadre
du masque.
9,. Appareil pour exposer une pièce, comportant une couche superficielle sensible à un rayonnement, à un dessin d'un masque, caractérisé en ce qu'il comporte des premiers moyens (3) de maintien disposés dans une première position et pouvant agir de façon à maintenir de manière amovible le masque dans la première position, des seconds moyens (15) de maintien disposés dans une seconde position, séparée de la première position, et pouvant agir de façon à maintenir de manière amovible le masque dans ladite seconde position, des moyens (13a, 13b; 21a, 21b) de détection des conditions ambiantes des premier et second moyens de maintien, respectivement, et des moyens (12) de commande pouvant agir, en fonction
de la détection effectuée par lesdits moyens de détec-
tion, de façon que les premier et second moyens de main-
tien présentent sensiblement les mêmes caractéristiques
de maintien d'un masque.
10. Appareil selon la revendication 9, carac-
térisé en ce que chacun des premier et second moyens de maintien comprend un aimant permanent (4a, 4b, 4c ou 4d)
et une bobine (5a, 5b, 5c ou 5d).
11. Appareil selon la revendication 9, caracté-
risé en ce que les moyens de détection sont conçus pour détecter au moins une des grandeurs constituées par la
température et la pression.
12. Dispositif de correction de planéité, pou- vant être utilisé avec un appareil destiné à exposer une
tranche (18), comportant une couche superficielle sen-
sible à un rayonnement, à un dessin d'un masque compor-
tant un cadre (2) auquel est fixée une membrane (1) présentant le dessin, le dispositif, qui est destiné à corrige=: a- réa-ité de la membrane du masque, étant cara - - - qu'il comporte un porte-masque (3),
des m*-z-.. ction comprenant plusieurs électro-
aimants et pouvant agir de façon à attirer le cadre du masque sur le porte-masque afin que ledit cadre du masque
soit maintenu par le porte-masque, un élément (10) d'exa-
men pouvant agir de façon à examiner l'état de la surface de la membrane du masque lorsque le cadre du masque est attiré sur le porte-masque par les moyens d'attraction,
ledit élément d'examen produisant une information concer-
nant l'état de la surface de la membrane du masque, à la suite de l'examen, et des moyens (12) de commande pouvant agir de façon à régler les courants électriques fournis aux électro-aimants, indépendamment les uns des
autres et en fonction de l'information de surface pro-
duite par l'élément d'examen, afin de modifier la force d'attra- i te par lesits moyens d'attraction pour
corriger --_ia planéité de la membrane du masque.
13. Dispositif selon la revendication 12, carac-
térisé en ce que chacun des électro-aimants comprend une bobine (5a, 5b, 5c ou 5d) et un aimant permanent (4a, 4b,
4c ou 4d).
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JP3470469B2 (ja) * | 1995-09-27 | 2003-11-25 | 株式会社ニコン | レチクル保持装置および保持方法 |
DE19859172A1 (de) * | 1998-12-21 | 2000-06-29 | Uhp Corp | Selektive Oberflächenbehandlung durch magnetische Maskenhalterung |
TW490596B (en) * | 1999-03-08 | 2002-06-11 | Asm Lithography Bv | Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using the lithographic projection apparatus, device manufactured according to the method and method of calibrating the lithographic projection apparatus |
JP2004103799A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Canon Inc | 基板保持装置、デバイス製造装置及びデバイス製造方法 |
KR100495872B1 (ko) * | 2002-10-07 | 2005-06-16 | 주식회사 소로나 | 유기발광소자 제조용 섀도우마스크 고정방법 및 이를적용한 장치 |
EP1513021B1 (fr) * | 2003-09-04 | 2007-10-03 | ASML Netherlands B.V. | Appareil lithographique et méthode de compensation de déformation thermique dans un appareil lithographique |
EP1513017A1 (fr) | 2003-09-04 | 2005-03-09 | ASML Netherlands B.V. | Appareil lithographique et méthode de fabrication d'un dispositif |
CN102566336B (zh) * | 2010-12-30 | 2015-08-26 | 上海微电子装备有限公司 | 掩模版的固定装置及其固定方法 |
WO2013174398A1 (fr) * | 2012-05-22 | 2013-11-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Réticule, mandrin pour réticule, système de positionnement de réticule et système optique |
KR102146162B1 (ko) * | 2018-07-25 | 2020-08-19 | 주식회사 야스 | 유리 마스크 |
CN113687574A (zh) * | 2020-05-18 | 2021-11-23 | 长鑫存储技术有限公司 | 光刻设备及其光源位置监控方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3941480A (en) * | 1974-02-08 | 1976-03-02 | The Gerber Scientific Instrument Company | Work locating system and method with temperature and other compensation capabilities |
US4019109A (en) * | 1974-05-13 | 1977-04-19 | Hughes Aircraft Company | Alignment system and method with micromovement stage |
EP0128433A2 (fr) * | 1983-06-10 | 1984-12-19 | The Perkin-Elmer Corporation | Dispositif d'alignement électro-magnétique |
DE3435178A1 (de) * | 1983-09-26 | 1985-04-04 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Gegenstand mit maskenstruktur fuer die lithografie |
EP0152294A1 (fr) * | 1984-02-10 | 1985-08-21 | Hewlett-Packard Company | Masque lithographique adaptatif pour rayons-X |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3030201C2 (de) * | 1980-08-09 | 1985-06-27 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Einrichtung in einer Kassette oder einem Aufnahmegerät zum Halten von Röntgenfilmen zwischen zwei Verstärkerschirmen |
JPS6068340A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-04-18 | Canon Inc | X線リソグラフィー用マスク構造体の保持方法 |
JPS60251621A (ja) * | 1984-05-29 | 1985-12-12 | Hitachi Ltd | X線マスク及びこれを用いたx線露光装置 |
DE3620970A1 (de) * | 1985-06-24 | 1987-01-08 | Canon Kk | Maskenhaltevorrichtung |
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1987
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3941480A (en) * | 1974-02-08 | 1976-03-02 | The Gerber Scientific Instrument Company | Work locating system and method with temperature and other compensation capabilities |
US4019109A (en) * | 1974-05-13 | 1977-04-19 | Hughes Aircraft Company | Alignment system and method with micromovement stage |
EP0128433A2 (fr) * | 1983-06-10 | 1984-12-19 | The Perkin-Elmer Corporation | Dispositif d'alignement électro-magnétique |
DE3435178A1 (de) * | 1983-09-26 | 1985-04-04 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Gegenstand mit maskenstruktur fuer die lithografie |
EP0152294A1 (fr) * | 1984-02-10 | 1985-08-21 | Hewlett-Packard Company | Masque lithographique adaptatif pour rayons-X |
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GB2201258B (en) | 1991-04-24 |
FR2610740B1 (fr) | 1995-06-30 |
DE3803738A1 (de) | 1988-08-25 |
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GB8802217D0 (en) | 1988-03-02 |
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