DE3620970A1 - Maskenhaltevorrichtung - Google Patents
MaskenhaltevorrichtungInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zum Festhal
ten einer Maske (Fotomaske oder Strichplatte) bei der Her
stellung von Halbleitervorrichtungen wie integrierten Schal
tungen oder dergleichen. Im einzelnen bezieht sich die Erfin
dung auf eine Maskenhaltevorrichtung, die das einfache Halten
und Lösen einer Maske in einer ein bestimmtes Gas enthalten
den Umgebung oder im Vakuum ermöglicht und die zusätzlich das
genaue Festhalten der Maske gewährleistet.
Die Tendenz zu höherer Dichte von auf Halbleiter-Schaltungs
vorrichtungen auszubildenden Schaltungsmustern macht es er
forderlich, daß die Breite der das Schaltungsmuster bildenden
Linien immer kleiner wird, wobei gegenwärtig Linienbreiten
bis herunter in die Größenordnung unterhalb von 1 µm verlangt
sind. Um dies zu erreichen, müssen für die Bestrahlungsener
gie zum Übertragen der Schaltungsmuster Ultraviolett- bzw.
UV-Strahlen, Strahlen im tiefen UV-Bereich, weiche Röntgen
strahlen, Strahlen geladener Teilchen wie Ionenstrahlen oder
Elektrodenenstrahlen und dergleichen benutzt werden. Der
Einsatz derartiger Strahlungsenergie führt zu der Erforder
nis, daß die Umgebung um die Bahn der Strahlungsenergie mit
einem bestimmten Gas wie N, He oder dergleichen gefüllt oder
auf einen Druck von beispielsweise 1,33 × 10-4 Pa evakuiert
wird.
Fig. 1 und 2 zeigen jeweils ein Beispiel für eine bekannte
Maskenhaltevorrichtung. Dabei zeigt die Fig. 1 eine Masken
haltevorrichtung mit Unterdruck-Ansaugung. Diese Haltevor
richtung ist in einer Gasatmosphäre verwendbar und kann eine
Maske durch Unterdruck festhalten. Die Fig. 1 zeigt eine
Maske 1, ein Absaugrohr 10, das an eine nicht gezeigte Ab
saugvorrichtung angeschlossen ist, und eine in einer Masken
halteplatte 12 ausgebildete Evakuiernut 11. Im Betrieb wird
zunächst die Maske 1 mit der Maskenhalteplatte 12 in Berüh
rung gebracht und dann das Gas aus der Evakuiernut 11 über
das Absaugrohr 10 abgesaugt. Dadurch wird eine Differenz
zwischen dem Druck des Umgebungsgases und dem Druck in der
Evakuiernut hervorgerufen. Damit wird durch das Unterdruck-
Ansaugen die Maske 1 von der Maskenhalteplatte 12 festgehal
ten. In diesem Fall wird jedoch eine beträchtliche Menge an
Umgebungsgas zwischen den einander gegenüberliegenden Flächen
der Maskenhalteplatte 12 und der Maske 1 abgezogen und über
das Absaugrohr 10 abgeführt. Infolgedessen wird auf uner
wünschte Weise der Druck des Umgebungsgases abgesenkt und
auch der Verbrauch an Umgebungsgas gesteigert. Ferner kann
die Haltevorrichtung gemäß diesem Beispiel nur schwer in
einem Niederdruck-Umgebungsgas oder in Vakuum eingesetzt
werden, da die durch den Unterdruck hervorgerufene Haltekraft
verringert ist.
Die Fig. 2 zeigt eine Maskenhaltevorrichtung für das Festhal
ten einer Maske mit elektromagnetischer Kraft. Diese Masken
haltevorrichtung ist in der JP-OS 60/77 424 offenbart. Die
Fig. 2 zeigt ein Joch 2 zum Bilden eines magnetischen Kraft
linienwegs, eine Solenoidwicklung 3 für das Erzeugen magneti
scher Kraftlinien und Zuleitungsdrähte 8 für das Erregen der
Solenoidwicklung 3. Mit 13 sind Kühlrohre für das Abführen
von in der Solenoidwicklung 3 erzeugter Wärme bezeichnet.
Wenn bei dem Zustand nach Fig. 2 die Solenoidwicklung 3
erregt wird, während die Maske 1 mit dem Joch 2 in Berührung
gehalten wird, wird die Maske 1 auf magnetische Weise an das
Joch 2 angezogen. Wenn andererseits die Erregung der Sole
noidwicklung 3 beendet wird, wird die Maske 1 von dem Joch 2
gelöst. Bei der Haltevorrichtung dieser Art verursacht jedoch
das Erregen der Solenoidwicklung infolge der Jouleschen Wärme
eine Erwärmung. Dies führt zu der Möglichkeit, daß eine
thermische Spannung in der Maske entsteht. Um dies zu vermei
den, ist es erforderlich, aus einem nicht gezeigten Kühlsy
stem ein Kühlmittel durch die Kühlrohre 13 zu leiten, um
damit die dermaßen erzeugte Wärme abzuführen.
Gemäß der Beschreibung bringt die magnetische Einspann- bzw.
Haltevorrichtung, bei der elektromagnetische Kraft genutzt
wird, die Probleme mit sich, daß eine beträchtliche Wärmemen
ge an der Erregungswicklung erzeugt wird, daß eine geeignete
Vorrichtung für das Kühlen der Wicklung erforderlich ist und
daß infolgedessen eine komplizierte Rohrleitungsführung not
wendig ist, was auf nachteilige Weise zu einer Sperrigkeit
der Vorrichtung führt. Ferner ist die Handhabung umständlich,
während die Herstellungskosten gesteigert sind.
Die vorstehend beschriebenen Nachteile ergeben sich auch bei
Maskenhaltevorrichtungen, die in Maskenzuführvorrichtungen
eingebaut sind.
Die Fig. 3 zeigt ein Beispiel für eine derartige Maskenhalte
vorrichtung, die in eine Maskenzuführvorrichtung eingeglie
dert ist. Bei der in Fig. 3 gezeigten Haltevorrichtung wird
die Maske durch Unterdruck-Ansaugen festgehalten. Die Vor
richtung nach Fig. 3 ist gleichermaßen in einem Umgebungsgas
verwendbar, um die Maske 1 durch Unterdruck festzuhalten. Die
Fig. 3 zeigt eine Maskenmembran 1 mit einem Schaltungsmuster,
einen Maskenträger 32 für das Abstützen der Maskenmembran 1,
eine Maskenhalteplatte 34, ein an eine nicht gezeigte Absaug
vorrichtung angeschlossenes Absaugrohr 35 und eine in der
Maskenhalteplatte ausgebildete Evakuiernut 36.
Bei der Maskenhaltevorrichtung nach Fig. 3 treten im wesent
lichen die gleichen Probleme wie die im Zusammenhang mit der
Fig. 1 beschriebenen auf. Insbesondere kann die Maskenhalte
vorrichtung nicht in einer in Niederdruck-Umgebungsgas oder
Vakuum einzusetzenden Maskenzuführvorrichtung eingebaut wer
den, da die durch den Unterdruck hervorgerufene Haltekraft
vermindert ist.
Fig. 4 zeigt ein weiteres Beispiel einer in eine Maskenzu
führvorrichtung eingebauten Maskenhaltevorrichtung. Bei der
in Fig. 4 gezeigten Maskenhaltevorrichtung wird die Maske mit
elektromagnetischer Kraft festgehalten. Die Fig. 4 zeigt ein
Joch 37 für das Bilden eines magnetischen Kraftlinienwegs,
eine Solenoidwicklung 38 für das Erzeugen magnetischer Kraft
linien und Zuleitungsdrähte 39 für das Erregen der Solenoid
wicklung 38. Wenn die Solenoidwicklung 38 erregt wird, wäh
rend der Maskenträger 32 mit dem Joch 37 in Berührung gehal
ten wird, wird auf magnetische Weise der Maskenträger 32 an
das Joch 37 angezogen. Wenn andererseits die Erregung der
Solenoidwicklung 38 beendet wird, wird der Maskenträger 32
von dem Joch 37 gelöst. Bei der Maskenhaltevorrichtung dieser
Art treten im wesentlichen die gleichen Nachteile wie die im
Zusammenhang mit Fig. 2 beschriebenen auf.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Maskenhalte
vorrichtung zu schaffen, die in jedweder Umgebung wie bei
spielsweise in Gas, Flüssigkeit, Niederdruckatmosphäre, Va
kuum oder dgl. gleichmäßig wirksam ist und die auf leichte
Weise und mit geringsten Kosten hergestellt werden kann.
Ferner soll die erfindungsgemäße Maskenhaltevorrichtung für
den Einsatz in einem Gerät zum Herstellen von Halbleitervor
richtungen geeignet sein, in dem ein genaues und festes
Halten einer Maske erforderlich ist.
Weiterhin soll mit der Erfindung ein Maskengebilde geschaffen
werden, das das leichte und gleichmäßige Einführen der Maske
in irgendeine Umgebung wie Gas, Flüssigkeit, Niederdruckat
mosphäre, Vakuum oder dergleichen ermöglicht und das den
Einsatz einer von verschiedenartigen Maskenhaltevorrichtungen
erlaubt, wie beispielsweise einer Vakuum-Ansaugvorrichtung,
einer Magnetanzugvorrichtung, einer mechanischen Haltevor
richtung oder dergleichen.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß bei einem Ausführungsbei
spiel der Maskenhaltevorrichtung mit den im kennzeichnenden
Teil des Anspruchs 1 aufgeführten Mitteln gelöst.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den weite
ren Ansprüchen aufgeführt.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispie
len unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert.
Fig. 1 ist eine Schnittansicht, die als Beispiel eine be
kannte Maskenhaltevorrichtung zeigt, bei der Unter
druck-Ansaugkraft genutzt wird.
Fig. 2 ist eine Schnittansicht, die als Beispiel eine be
kannte Maskenhaltevorrichtung zeigt, bei der elektro
magnetische Kraft genutzt wird.
Fig. 3 ist eine Schnittansicht, die als Beispiel eine be
kannte Maskenhaltevorrichtung zeigt, die in eine
Maskenzuführvorrichtung eingebaut ist.
Fig. 4 ist eine Schnittansicht, die als weiteres Beispiel
eine bekannte Maskenhaltevorrichtung zeigt, die in
eine Maskenzuführvorrichtung eingebaut ist.
Fig. 5 ist eine Schnittansicht, die schematisch und bildlich
eine Maskenhaltevorrichtung gemäß einem ersten Aus
führungsbeispiel der Erfindung zeigt.
Fig. 6 ist eine Teilschnittansicht, die eine Abwandlung des
Ausführungsbeispiels nach Fig. 5 zeigt, bei der ein
Permanentmagnet und eine Solenoidwicklung in einem
Halteteil der Maskenhaltevorrichtung angebracht sind.
Fig. 7 ist eine Teilschnittansicht, die eine weitere Abwand
lung des Ausführungsbeispiels nach Fig. 5 zeigt, bei
der getrennte magnetische Kraftlinienwege gebildet
sind.
Fig. 8 ist eine Schnittansicht, die schematisch und bildlich
eine Maskenhaltevorrichtung gemäß einem zweiten Aus
führungsbeispiel der Erfindung zeigt.
Fig. 9 ist eine Schnittansicht, die eine Abwandlung des Aus
führungsbeispiels nach Fig. 8 zeigt, bei der die Art
des Anbringens einer Solenoidwicklung verändert ist.
Fig. 10 ist eine Schnittansicht, die eine weitere Abwandlung
des Ausführungsbeispiels nach Fig. 8 zeigt, bei der
eine Solenoidwicklung und ein Joch von einem Masken
halter und einem Maskenrahmen beabstandet sind.
Fig. 11 ist eine Schnittansicht, die schematisch und bildlich
eine Maskenhaltevorrichtung gemäß einem dritten Aus
führungsbeispiel der Erfindung zeigt.
Fig. 12 ist eine der Fig. 11 gleichartige Ansicht und zeigt
die Maskenhaltevorrichtung in einem Zustand, bei dem
eine Maske freigegeben ist.
Fig. 13 ist eine Schnittansicht, die schematisch und bildlich
eine Maskenhaltevorrichtung gemäß einem vierten Aus
führungsbeispiel der Erfindung zeigt.
Fig. 14 ist eine Schnittansicht, die schematisch ein Masken
gebilde gemäß einer ersten Ausführungsform zeigt.
Fig. 15 ist eine Schnittansicht, die ein Maskengebilde in
einer zweiten Ausführungsform zeigt, bei der eine
Maske direkt auf einen Maskenrahmen geklebt ist.
Fig. 16 ist eine Schnittansicht, die ein Maskengebilde in
einer dritten Ausführungsform zeigt, bei der an einem
Rahmen ein Vorsprung ausgebildet ist.
Fig. 17 ist eine Schnittansicht, die ein Maskengebilde in
einer vierten Ausführungsform zeigt, bei der in eine
in einem Rahmen ausgebildete Nut ein Vorsprung oder
Flansch eingesetzt ist.
Fig. 18 ist eine Draufsicht auf ein Maskengebilde in einer
fünften Ausführungsform.
Fig. 19 ist eine Schnittansicht, die das Maskengebilde in der
Ausführungsform nach Fig. 18 zeigt.
Fig. 20 und 21 sind jeweils Teilschnittansichten, die Abwand
lungsformen des Maskengebildes in der in Fig. 18 und
19 gezeigten Ausführungsform zeigen.
Fig. 22 ist eine Draufsicht auf ein Maskengebilde in einer
sechsten Ausführungsform, bei der an Teilbereichen
einer Außenumfangsfläche eines Rahmens Nuten ausge
bildet sind.
Fig. 23 ist eine Schnittansicht des Maskengebildes in der
Ausführungsform nach Fig. 22.
Die Fig. 5 zeigt eine Maskenhaltevorrichtung gemäß einem
ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung.
Bei diesem Ausführungsbeispiel ist ein Schaltungsmuster an
der unteren Fläche einer Maskenmembrane 1 ausgebildet, deren
Außenumfangsbereich durch Kleben oder dergleichen mit einem
ringförmigen Maskenrahmen 6 verbunden ist. Ein Joch 2 ist
ringförmig und trägt zu dem Bilden eines magnetischen Kraft
linienwegs für das Anziehen des Rahmens 6 an das Joch 2 oder
alternativ für das Lösen des Rahmens 6 von dem Joch 2 bei,
was nachfolgend beschrieben wird. In dem Joch 2 ist eine
Solenoidwicklung angebracht, mit der magnetische Kraftlinien
erzeugt werden können, die das Lösen des Rahmens 6 von dem
Joch 2 bewirken, was gleichfalls nachfolgend beschrieben
wird. Bei diesem Ausführungsbeispiel bestehen das Joch 2 und
der Rahmen 6 aus einem geeigneten magnetischen Material.
Gemäß Fig. 5 ist an dem Rahmen 6 ein ringförmiger Permanent
magnet 4 befestigt. Der Permanentmagnet 4 ist derart angeord
net, daß seine Magnetpole im wesentlichen in Längsrichtung
nach Fig. 5 ausgerichtet sind. In dem Joch 2 ist eine ring
förmige Zwischenlage 5 angebracht. Die Zwischenlage 5 ist aus
nichtmagnetischem Material hergestellt und derart angeordnet,
daß die magnetischen Kraftlinien für das Bilden eines er
wünschten magnetischen Kraftlinienwegs gerichtet werden. Eine
weitere Zwischenlage 7 aus einem nichtmagnetischen Material
ist an dem Rahmen 6 angebracht. Die Zwischenlage 7 bewirkt
das Ausrichten der von dem Permanentmagneten 4 hervorgerufe
nen magnetischen Kraftlinien (des Magnetflusses) in der
Weise, daß sie durch das Material des Rahmens 6 hindurch
verlaufen. An die Solenoidwicklung 3 sind für deren Erregung
Zuleitungsdrähte 8 angeschlossen. Der Permanentmagnet 4 und
die Zwischenlage 7 sind in bezug auf den Rahmen 6 ortsfest
angebracht. Die Solenoidwicklung 3 erstreckt sich im wesent
lichen längs des Rahmens 6.
Wenn der Rahmen 6 eng an das Joch 2 angelegt wird, erreicht
der Magnetfluß des Permanentmagneten 4 das Joch 2 auf direkte
Weise sowie über den in dem Rahmen 6 gebildeten Kraftlinien
weg, was zur Folge hat, daß der Rahmen 6 an das Joch 2
angezogen wird. Auf diese Weise wird ein geschlossener magne
tischer Kraftlinienweg, nämlich ein Magnetkreis gebildet, der
über den Permanentmagneten 4, den Rahmen 6 und das Joch 2
verläuft. Daher wird der Rahmen 6 ständig durch das Magnet
feld des Permanentmagneten 4 angezogen.
Wenn der Rahmen 6 von dem Joch 2 gelöst werden soll, wird aus
einer Steuereinrichtung 15 einer Stromquelle 9 ein Befehls
signal zugeführt, die daraufhin einen Stromimpuls abgibt, der
schematisch in Fig. 5 gezeigt ist. Auf das Befehlssignal aus
der Steuereinrichtung 15 hin gibt die Stromquelle 5 den
Stromimpuls ab, der über die Zuleitungsdrähte 8 der Solenoid
wicklung 3 zugeführt wird. Dadurch erzeugt die Solenoidwick
lung 3 magnetische Kraftlinien. Der der Solenoidwicklung 3
zugeführte Strom wird im voraus so eingestellt, daß der von
der Solenoidwicklung 3 erzeugte Magnetfluß dem von dem Perma
nentmagneten 4 erzeugten Magnetfluß entgegenwirkt. Infolge
dessen wird die Magnetkraft des Permanentmagneten zeitweilig
aufgehoben, so daß der Rahmen 6 von dem Joch 2 gelöst wird.
Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 5 ist der Permanentmag
net fest an dem Maskenrahmen angebracht, während das Joch,
die Solenoidwicklung usw. fest an einem nicht gezeigten
Sockelteil der Haltevorrichtung angebracht sind. Diese Anord
nung kann jedoch umgekehrt werden. Das heißt, der Permanentmagnet
kann fest an dem Sockelteil der Haltevorrichtung angebracht
werden, während das Joch und die Solenoidwicklung an dem
Maskenrahmen angebracht werden können. In diesem Fall ergeben
sich im wesentlichen die gleichen Wirkungen.
Ferner kann bei der Verwendung einer plattenförmigen Maske
der vorstehend beschriebene Maskenrahmen weggelassen werden.
In diesem Fall wird ein Teil der Maske und/oder des Masken
musters aus einem magnetischen Material hergestellt, um
sicherzustellen, daß die Maske auf magnetische Weise an das
Joch der Haltevorrichtung angezogen wird. Eine weitere Mög
lichkeit besteht darin, daß der Permanentmagnet, die Sole
noidwicklung und die Zwischenlage alle an dem Sockelteil der
Haltevorrichtung angebracht werden, wie es in Fig. 6 gezeigt
ist. Bei diesem Beispiel ist die Solenoidwicklung 3 um den
Permanentmagneten 4 gewickelt. Die Solenoidwicklung 3 kann
natürlich auch um einen Teil des Jochs 2 gewickelt werden.
Weitere Abwandlungen sind unter der Voraussetzung möglich,
daß die Solenoidwicklung 3 einen Magnetfluß erzeugen kann,
der das Ausschalten der Magnetkraft des Permanentmagneten
bewirkt.
Die Fig. 7 zeigt eine Abwandlungsform der Maskenhaltevorrich
tung. Bei diesem Beispiel sind in dem Joch 2 ein Paar aus
Solenoidwicklungen 3 und 3′ und ein Paar aus Zwischenlagen 5
und 5′ angeordnet. Andererseits ist in dem Rahmen 6 ein Paar
aus Zwischenlagen 7 und 7′ angeordnet. Ferner ist an dem
Rahmen 6 ein einziger Permanentmagnet 4 derart angebracht,
daß er zwischen die Zwischenlagen 7 und 7′ gesetzt ist. Wie
bei dem vorangehend beschriebenen Ausführungsbeispiel erzeugt
jede der Solenoidwicklungen 3 und 3′ einen Magnetfluß, der
dem von dem Permanentmagneten gelieferten Magnetfluß entge
genwirkt. Bei der Gestaltung gemäß dem dargestellten Beispiel
sind gesonderte magnetische Kraftlinienwege gebildet, jedoch
werden im wesentlichen die gleichen Wirkungen wie die bei dem
vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiel erzielbaren er
reicht.
Anhand der Fig. 8 wird eine Maskenhaltevorrichtung gemäß
einem zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung beschrieben.
Gemäß Fig. 8 ist an einer Maskenmembrane 41 an deren Oberflä
che ein Schaltungsmuster ausgebildet und am Außenumfangsbe
reich durch Kleben oder dergleichen ein ringförmiger Rahmen
45 befestigt. Ein Joch 42 in gleicher Ringform ist aus einem
magnetischen Material hergestellt und trägt zum Bilden eines
magnetischen Wegs bei. In dem Joch 42 sind eine Solenoidwick
lung 43 für das Erzeugen magnetischer Kraftlinien und eine
Zwischenlage 44 untergebracht, die aus einem nichtmagneti
schen Material besteht und zum Bilden des erwünschten magne
tischen Wegs bzw. Magnetkreises beiträgt. Bei diesem Ausfüh
rungsbeispiel sind das Joch 42 und der Rahmen 45 als ganze
oder alternativ zu einem Teil dieser Elemente, der bei dem
Anziehen des Rahmens 45 an das Joch 42 mit dem anderen Teil
in Berührung kommt, aus einem Material hergestellt, das einen
Restmagnetismus höherer Stärke zurückhält. Als Material hier
für kann Eisenmaterial wie beispielsweise Werkzeugstahl, eine
als Material für Permanentmagnete dienende Legierung bei
spielsweise aus Fe mit Al, Ni und/oder Co (Alnico-Legierung),
ein Material wie Ferrit, das Eisenoxid als Hauptkomponente
enthält, oder dergleichen verwendet werden. Zuleitungsdrähte
46 sind elektrisch an die Solenoidwicklung 43 zu deren Erre
gung mit Strom aus einer Stromquelle 49 a oder aus einer
Spannungsquelle 49 b für die Abgabe einer ausschwingenden bzw.
abklingenden Wechselspannung verbunden, was nachfolgend be
schrieben wird. Bei der vorstehend beschriebenen Maskenhalte
vorrichtung erfolgt das Festhalten der Maske folgendermaßen:
Zuerst wird der Rahmen 45 eng an das Joch 42 oder mit diesem
in Berührung gebracht, wonach die Solenoidwicklung 43 mittels
einer von der Stromquelle 49 a abgegebenen impulsförmigen
Spannung erregt wird, die über die Zuleitungsdrähte 46 an die
Solenoidwicklung 43 angelegt wird. Dadurch werden das Joch 42
und der Rahmen 45 magnetisiert und aneinander angezogen. Die
Zeitdauer der Erregung der Solenoidwicklung 43 und damit der
Magnetisierung des Jochs 42 und des Rahmens 45 kann verhält
nismäßig kurz wie beispielsweise in der Größenordnung von 10
bis 50 ms sein. Daher wird die Impulsspannung verwendet. Nach
dem Beenden dieser momentanen Magnetisierung wird in dem
Rahmen 45 und dem Joch 42 die Restkraft bzw. der Restmagne
tismus zurückgehalten. Dieser Restmagnetismus bildet einen
geschlossenen magnetischen Weg bzw. Magnetkreis, der über das
Joch 42 und den Rahmen 45 verläuft. Durch die von dem Magnet
kreis gelieferte Magnetkraft wird der Rahmen 45 weiterhin auf
magnetische Weise an das Joch 42 angezogen.
Zum Lösen des Rahmens 45 von dem Joch 42 wird an die Sole
noidwicklung 43 aus der Wechselspannungsquelle 49 b eine ab
klingende bzw. ausschwingende Wechselspannung angelegt, so
daß die Haltevorrichtung entmagnetisiert wird. Dadurch wird
der Restmagnetismus in dem Joch 42 und dem Rahmen 45 im
wesentlichen aufgehoben, was zur Folge hat, daß der Rahmen 45
von dem Joch 42 gelöst wird. Die abklingende Wechselspannung
für die Entmagnetisierung ist auf einfache Weise beispiels
weise dadurch erzielbar, daß ein Kaltleiter (PTC-Widerstand,
Posistor) verwendet wird und an diesen eine Wechselspannung
angelegt wird.
Während bei dem vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiel
das Joch und die Solenoidwicklung an einem nicht gezeigten
Sockelteil der Haltevorrichtung befestigt sind, können diese
Elemente natürlich auch an dem Maskenrahmen befestigt werden.
In diesem Fall hat der Sockelteil der Haltevorrichtung einen
Maskenhalter (Halteplatte), der aus einem Material besteht,
das gleichermaßen wie das Joch 42 einen Restmagnetismus höhe
rer Stärke zurückhält. Das Anziehen und Lösen der Maske kann
im wesentlichen auf die vorstehend beschriebene Weise erfol
gen.
Ferner kann die Solenoidwicklung 43 auf verschiedenerlei
Weise angebracht werden. Die Fig. 9 zeigt ein Beispiel für
eine derartige Abwandlung. Das heißt, bei dem Beispiel nach Fig. 9
ist die Solenoidwicklung in einer Außenerweiterung des Jochs
42 untergebracht, während die Zwischenlage 44 nach Fig. 8
weggelassen ist. Stattdessen ist zwischen der inneren zylind
rischen Fläche der Solenoidwicklung 43 (und eines Teils des
Jochs 42) und der äußeren Umfangsfläche des Rahmens 45 bei
dessen Anzug ein in Umfangsrichtung verlaufender Spalt gebil
det, wie es in Fig. 9 gezeigt ist. Das Prinzip des Anziehens
und Lösens des Rahmens 45 ist bei diesem Beispiel im wesent
lichen das gleiche wie bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig.
8. Die Solenoidwicklung 43 kann natürlich direkt auf das Joch
42 gewickelt sein.
Die Fig. 10 zeigt ein weiteres Abwandlungsbeispiel. Bei die
sem Beispiel ist ein zusätzlicher ringförmiger Maskenhalter
45 a vorgesehen, der aus einem Material besteht, welches dem
jenigen für das Joch 42 bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig.
8 gleichartig ist. Bei dem Beispiel nach Fig. 10 sind gemäß
der Darstellung in dieser Figur die Solenoidwicklung 43 für
das Magnetisieren und das Joch 42 von dem Maskenhalter 45 a
und dem Rahmen 45 bei deren Anzug durch einen auf dem Umfang
verlaufenden Spalt bzw. Zwischenraum getrennt bzw. isoliert.
Das Ausmaß dieses Spalts wird so gewählt, daß dadurch die
zwischen den einander gegenübergesetzten Flächen des Masken
halters 45 a und des Rahmens 45 wirkende magnetische Kraft
nicht allzusehr verringert wird. Bei der Gestaltung gemäß
diesem Beispiel kann der Rahmen 45 vollständig thermisch von
der Solenoidwicklung 43 für die Magnetisierung und von dem
Joch 42 isoliert werden. Falls daher in der Solenoidwicklung
43 irgendwelche Wärme entsteht, wird diese überhaupt nicht
zur Maske übertragen.
Bei den anhand der Fig. 8 bis 10 beschriebenen Ausführungs
beispielen bestehen jeweils der Maskenrahmen und das Joch
(oder der Maskenhalter) aus einem Material, das leicht den
Restmagnetismus zurückhält. Eines dieser Elemente kann jedoch
aus einem gewöhnlichen magnetischen Material gebildet werden.
Falls beispielsweise ein Teil einer plattenförmigen Maske
oder ein Teil eines Maskenmusters aus einem magnetischen
Material gebildet ist, muß nur das Joch aus einem Material
gebildet werden, das leicht den Restmagnetismus zurückhält,
so daß durch das Magnetisieren und Entmagnetisieren des Jochs
das Anziehen und Lösen der Maske erreicht werden kann.
Anhand der Fig. 11 und 12 wird nun eine Maskenhaltevorrich
tung gemäß einem dritten Ausführungsbeispiel der Erfindung
beschrieben. Die Fig. 11 zeigt die Vorrichtung in einem
Zustand, bei dem eine Maske an die Vorrichtung angezogen ist,
während die Fig. 12 die Vorrichtung in einem Zustand zeigt,
bei dem die Maske von der Vorrichtung abgenommen ist.
Gemäß Fig. 11 und 12 weist die Vorrichtung ein Joch 52, das
zum Bilden eines erwünschten magnetischen Wegs beiträgt, und
eine Solenoidwicklung 53 auf, die sich längs des Umfangs
erstreckt und die in dem Joch 52 untergebracht ist. Bei
diesem Ausführungsbeispiel dient die Solenoidwicklung 53
dazu, einen Permanentmagnet 54 zu versetzen, der bewegbar in
einem unteren Innenraum untergebracht ist, der in dem Joch 52
ausgebildet ist. Der Permanentmagnet 54 hat Ringform und ist
gemäß der Darstellung in den Fig. 11 und 12 auf- und abbeweg
bar. Ferner ist gemäß der Darstellung in diesen Figuren eine
zylindrische Innenfläche 54 a des Permanentmagneten 54 um eine
ausreichende Strecke von einer zylindrischen Außenfläche 52 a
des zylindrischen inneren Schenkelteils des Jochs 52 beab
standet, um dadurch den erwünschten magnetischen Kraftlinien
weg zu bilden. Jeweils aus einem nichtmagnetischen Material
geformte Zwischenlagen 55 und 56 sind derart angeordnet, daß
die magnetischen Kraftlinien zum Bilden des erwünschten mag
netischen Wegs ausgerichtet werden. An die Solenoidwicklung
53 sind elektrisch Zuleitungsdrähte 57 für das Erregen der
Wicklung mit einer Spannung aus einer Spannungs- bzw. Strom
quelle 58 angeschlossen. Eine Maske 51 ist beispielsweise ein
plattenförmiges Element, an dessen unterer Fläche ein (nicht
gezeigtes) Schaltungsmuster ausgebildet ist. Zumindest ein
Teil der Maske 51 besteht aus einem magnetischen Material, um
sicherzustellen, daß die Maske durch die Magnetkraft angezo
gen wird. Beispielsweise wird der Außenumfangsbereich der
oberen Fläche der Maske 51 durch Vakuumablagerung oder der
gleichen mit Ni beschichtet.
Wenn die Maske 51 angezogen werden soll, wird die Solenoid
wicklung 53 mittels einer über die Zuleitungsdrähte 57 ange
legten impulsförmigen Gleichspannung aus der Stromquelle 58
erregt, während die Maske 51 eng an den unteren Stirnteil des
Jochs 52 herangebracht wird, wie es in Fig. 11 gezeigt ist.
Auf diese Weise wird der Permanentmagnet 54 so versetzt, daß
er durch Abstoßen unter der Einwirkung eines Magnetfelds nach
unten bewegt wird, welches von der Solenoidwicklung 53 durch
das Anlegen eines (in Fig. 11 schematisch gezeigten) Span
nungsimpulses aus der Stromquelle 58 erzeugt wird. Daher wird
unabhängig von der Lage des Permanentmagneten 54 zum Zeit
punkt der Erregung der Solenoidwicklung 53 der Permanentmag
net 54 durch das Anlegen des Spannungsimpulses in die in Fig.
11 gezeigte Stellung versetzt. Infolgedessen entsteht ein
geschlossener magnetischer Weg bzw. Magnetkreis, der über den
Permanentmagneten 54, das Joch 52 und die Maske 51 verläuft,
wobei dadurch die Maske 51 ständig durch die Wirkung des
Magnetfelds des Permanentmagneten 54 angezogen wird.
Zum Lösen der Maske 51 von der Haltevorrichtung wird aus der
Stromquelle 54 an die Solenoidwicklung 53 ein schematisch in
Fig. 12 gezeigter Spannungsimpuls mit zur Polarität des
zuerst angelegten Spannungsimpulses entgegengesetzter Polari
tät angelegt. Dadurch wird die Solenoidwicklung 53 so erregt,
daß sie ein Magnetfeld erzeugt, welches das Anziehen des
Permanentmagneten 54 zu der Solenoidwicklung 53 bewirkt.
Infolgedessen wird der Permanentmagnet 54 nach oben bewegt,
so daß ein Magnetkreis innerhalb des oberen Bereichs des
Jochs 52 gebildet wird. Daher erreicht der Magnetfluß nicht
mehr den Bereich zwischen den Zwischenlagen 55 und 56. Infol
gedessen wird die Maske 51 von der Haltevorrichtung freigege
ben.
Die Fig. 13 zeigt eine Abwandlungsform der erfindungsgemäßen
Maskenhaltevorrichtung. Elemente mit gleichartiger oder ent
sprechender Funktion sind mit den gleichen Bezugszeichen wie
bei den vorangehend beschriebenen Ausführungsbeispielen be
zeichnet. Die Fig. 13 zeigt eine Dichtung 64 für das Verhin
dern des Durchtretens von Druckfluid und Durchlässe 65 und
66, über die das Druckfluid den einander gegenüberliegenden
Seiten des Permanentmagneten 54 zugeführt oder von diesen
abgeführt wird, welcher bei diesem Ausführungsbeispiel wie
ein Kolben auf- und abwärts bewegbar ist.
Mit 68 ist ein Druckregler bezeichnet, mit dem das Fluid
unter Druck in den Durchlaß 65 eingegeben und aus dem Durch
laß 66 abgezogen werden kann, wenn die Maske 51 angezogen
werden soll. Wenn die Maske 51 von der Haltevorrichtung
gelöst werden soll, arbeitet der Druckregler 68 im entgegen
gesetzten Sinn.
Wenn das Fluid unter Druck in den Durchlaß 65 eingegeben
wird, wird der Permanentmagnet 54 nach unten bewegt, so daß
er in die in Fig. 13 gezeigte Lage gebracht wird. Dabei
bewirken die magnetischen Kraftlinien des Permanentmagneten
54 über das Joch 52 das Anziehen der Maske 51 an das Joch 52,
wie es im Zusammenhang mit dem vorangehend beschriebenen
Ausführungsbeispiel erläutert ist. Zum Lösen der Maske 51 von
der Haltevorrichtung wird das Fluid unter Druck in den Durch
laß 66 eingegeben. Dadurch wird der Permanentmagnet 54 nach
oben bewegt, wodurch ein geschlossener magnetischer Weg in
nerhalb des oberen Bereichs des Jochs 52 gebildet wird.
Infolgedessen wird die magnetische Anziehungskraft an der
Maske aufgehoben und damit die Maske von der Haltevorrichtung
freigegeben.
Anhand der Fig. 14 bis 23 wird nun die Erfindung hinsichtlich
eines weiteren Gesichtspunkts beschrieben. Von diesen Figuren
zeigt die Fig. 14 ein Maskengebilde, das entsprechend einem
Ziel der Erfindung gestaltet ist. Die Fig. 14 zeigt eine
Maskenmembrane 71, die ein auf ein Halbleiterplättchen oder
dergleichen zu übertragendes Schaltungsmuster trägt, eine
Unterlage 72 für das Stützen der Maskenmembrane 71 und einen
Rahmen 73 zur Erleichterung der Handhabung der Maske. Die
Unterlage 72 und der Rahmen 73 sind durch Kleben oder der
gleichen fest miteinander verbunden. Gemäß der Darstellung
ist an der Außenumfangsfläche des Rahmens 73 eine Umfangsnut
ausgebildet.
Die Fig. 15 zeigt eine Abwandlungsform des Maskengebildes,
bei der die Maskenmembrane 71 direkt an den Rahmen 73 ange
klebt ist. Die Fig. 16 zeigt eine weitere Abwandlungsform des
Maskengebildes, bei der an der Außenumfangsfläche des Rahmens
73 ein sich über den Umfang erstreckender vorstehender Teil
ausgebildet ist. Die Fig. 17 zeigt eine weitere Abwandlung
des Maskengebildes, bei der in der Umfangsfläche eines Rah
mens 73 a eine Umfangsnut ausgebildet ist, in der ein vorste
hendes Teil 73 b angebracht ist. Das vorstehende Teil 73 b kann
an dem Rahmen 73 a durch Befestigen, Paßsitz oder anderweitig
festgelegt werden. Es kann mittels Schrauben oder alternativ
durch Kleben, Schweißen oder dergleichen befestigt werden.
Ferner können von oben gesehen, nämlich in der Draufsicht die
Nut oder der Vorsprung kreisförmig, rechteckförmig oder der
gleichen sein. Es sind natürlich auch andere Formen anwend
bar. Wenn die Nut oder der Vorsprung kreisförmig oder recht
eckförmig ist, wird die Nut bzw. der Vorsprung über den
ganzen Umfang des Rahmens ausgebildet. Dies ist jedoch nicht
immer erforderlich. Das heißt, die Nut oder der Vorsprung kann nur
an einem Teil oder nur an Teilen des Umfangs des Rahmens
ausgebildet werden. Ferner kann die Nut halbkreisförmigen,
halbelliptischen, rinnenförmigen oder ähnlichen Querschnitt
haben. Die Fig. 18 zeigt ein Beispiel für ein Maskengebilde,
bei dem eine Umfangsnut an einem Außenumfangsteil der Maske
ausgebildet ist. Die Fig. 19 ist eine Schnittansicht des in
Fig. 18 gezeigten Maskengebildes. Gemäß der Darstellung hat
die Nut bei diesem Beispiel Rinnenform. Die Fig. 20 und 21
zeigen Abwandlungsformen des Maskengebildes, bei denen die
Nut V-förmig (Fig. 20) bzw. halbkreisförmig (Fig. 21) ist.
Falls das Maskengebilde von einer Maskenzuführvorrichtung
befördert werden soll, bei der das Unterdruck-Ansaugen und
das magnetische Anziehen nicht benutzt werden können, kann
die Maske weiterhin unter Benutzung des vorstehend beschrie
benen, durch eine Nut oder einen Vorsprung gebildeten Trag
teils auf vorgeschriebene Weise und gleichmäßig festgehalten
und befördert werden. Das heißt, falls der Tragteil durch eine Nut
gebildet ist, kann die Maske beispielsweise durch das Einfüh
ren geeigneter Teile der Zuführvorrichtung in die Nut einge
klemmt werden. Falls der Tragteil durch einen Vorsprung ge
bildet ist, kann die Maske gleichfalls beispielsweise durch
das Festklemmen oder Kämmen des Vorsprungs mit einem geeigne
ten Teil der Zuführvorrichtung festgehalten werden. Es ist
wichtig, daß die Form des Maskengebildes und insbesondere des
Tragteils desselben an die Einspannbauteile der Maskenzuführ
vorrichtung angepaßt ist. Dies gilt auch für die Form des
Maskenrahmens selbst.
Das Maskengebilde bzw. die Maskeneinheit gemäß der Erfindung
kann natürlich auch durch Unterdruck-Ansaugen festgehalten
werden, wenn dies erwünscht ist. Ferner kann durch das Formen
zumindest eines Teils des Maskengebildes aus einem magneti
schen Material das Maskengebilde durch magnetische Anzie
hungskraft festgehalten werden.
Wenn ferner die Nut oder der Vorsprung, die den Tragteil
bilden, in einer Weise zur Anzeige einer bestimmten Richtung
ausgebildet ist, kann die Ausrichtung der Maske ermittelt und
leicht nachgestellt werden. Die Fig. 22 und 23 zeigen ein
Ausführungsbeispiel mit einem derart gestalteten Tragteil. Im
einzelnen sind dabei an dem Außenumfang des Maskengebildes an
diametral gegenüberliegenden Stellen zwei sich geradlinig
erstreckende Nuten ausgebildet. Bei dieser Gestaltung kann
die Ausrichtung der Maske selbst aus der Ausrichtung der in
dem Rahmen ausgebildeten Nuten ermittelt werden. Infolgedes
sen ist die Ausrichtung der Maske leicht erkennbar. Dies
erlaubt ein schnelles und genaues Ausrichten der Maske, wenn
diese zu einem Maskenträger in einem Musterübertragungsgerät
befördert und auf diesen aufgesetzt werden soll.
Ferner ist durch eine Nut oder einen Vorsprung an dem Masken
rahmen gewährleistet, daß bei der Lagerung der Maske in einem
Behälter die Maske derart festgelegt werden kann, daß ihre
obere und untere Fläche nicht mit dem Behälter in Berührung
kommen.
Eine Vorrichtung zum lösbaren Halten einer Maske, die zumin
dest an einem Teil aus einem magnetischen Material herge
stellt ist, hat ein Halteteil, an das die Maske anzuhalten
ist und das einen Teil aus einem magnetischen Material auf
weist, ein erstes System für das Erzeugen magnetischer Halte-
Kraftlinien in der Weise, daß zwischen dem magnetischen Teil
des Halteteils und dem magnetischen Teil der Maske eine
Magnetkraft entsteht, um damit die Maske an den Halteteil
festzuhalten, und ein zweites System für das Erzeugen magne
tischer Freigabe-Kraftlinien, die den von dem ersten System
erzeugten magnetischen Kraftlinien entgegenwirken, so daß
diese in einem für das Lösen der Maske von dem Halteteil
ausreichenden Ausmaß abgeschwächt werden.
Claims (16)
1. Vorrichtung zum lösbaren Halten einer Maske, die zumindest
an einem Teil aus einem magnetischen Material hergestellt
ist, gekennzeichnet durch ein Halteteil (2, 5; 42, 44), an
das die Maske (1, 6; 41, 45) anzuhalten ist und das einen
Teil (2; 42) aus einem magnetischen Material hat, eine erste
Vorrichtung (4; 43, 49 a) zum Erzeugen magnetischer Halte-
Kraftlinien, die eine magnetische Kraft zwischen dem magneti
schen Teil des Halteteils und dem magnetischen Teil (6; 45)
der Maske hervorrufen, um dadurch die Maske an dem Halteteil
festzuhalten, und eine zweite Vorrichtung (3; 49 b) zum Erzeu
gen magnetischer Freigabe-Kraftlinien, die den von der ersten
Vorrichtung erzeugten magnetischen Kraftlinien derart entge
genwirken, daß diese in einem für das Lösen der Maske von dem
Halteteil ausreichenden Ausmaß abgeschwächt werden.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Vorrichtung einen Permanentmagneten (4) aufweist,
der an dem magnetischen Teil (2) des Halteteils (2, 5) ange
bracht ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
der Permanentmagnet (4) eine magnetische Haltekraft für das
Festhalten der Maske (1, 6) an dem Halteteil (2, 5) erzeugt
und daß die zweite Vorrichtung eine elektromagnetische Vor
richtung (3) aufweist, die zum Erzeugen magnetischer Kraftli
nien ausgebildet ist, welche bewirken, daß die magnetische
Haltekraft des Permanentmagneten im wesentlichen aufgehoben
wird.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Vorrichtung einen Permanentmagneten (4) aufweist,
der an dem magnetischenTeil (6) der Maske (1, 6) angebracht
ist.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß
der Permanentmagnet (4) eine magnetische Haltekraft für das
Festhalten der Maske (1, 6) an dem Halteteil (2, 5) erzeugt
und daß die zweite Vorrichtung eine elektromagnetische Vor
richtung (3) aufweist, die zum Erzeugen magnetischer Kraftli
nien ausgebildet ist, welche bewirken, daß die magnetische
Haltekraft des Permanentmagneten im wesentlichen aufgehoben
wird.
6. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der magnetische Teil (42) des Halteteils (42, 44) und/oder
der magnetische Teil (45) der Maske (41, 45) aus einem Mate
rial gebildet ist, welches Restmagnetismus in einer für das
Festhalten der Maske an dem Halteteil ausreichenden Stärke
zurückhält, daß die erste Vorrichtung eine elektromagnetische
Vorrichtung (43) und eine Erregungsvorrichtung (49 a) für das
zeitweilige Erregen der elektromagnetischen Vorrichtung auf
weist und daß die durch das zeitweilige Erregen der elektro
magnetischen Vorrichtung mittels der Erregungsvorrichtung
hervorgerufenen magnetischen Kraftlinien in dem magnetischen
Teil des Halteteils und/oder in dem magnetischen Teil der
Maske den Restmagnetismus hervorrufen, um die Maske an dem
Halteteil festzuhalten.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
die zweite Vorrichtung eine Spannungsanlegevorrichtung (49 b)
aufweist, die zum Anlegen einer abklingenden Wechselspannung
an die elektromagnetische Vorrichtung (43) der ersten Vor
richtung (43, 49 a) ausgebildet ist, um damit im wesentlichen
den Restmagnetismus in dem magnetischen Teil (42) des Halte
teils (42, 44) und/oder in dem magnetischen Teil (45) der
Maske (41, 45) aufzuheben.
8. Vorrichtung zum lösbaren Halten eines Bildmusterträgers in
einer vorbestimmten Lage, gekennzeichnet durch einen Rahmen
(45), an dem der Bildmusterträger (41) zu einer Einheit
angebracht ist und der einen ersten magnetischen Teil hat,
ein Halteteil (42, 44), an das der Rahmen anzusetzen ist und
das einen zweiten magnetischen Teil (42) hat, eine Magneti
siervorrichtung (43, 49 a) zum Magnetisieren des ersten und/
oder des zweiten magnetischen Teils derart, daß in dem ersten
und/oder zweiten magnetischen Teil ein Restmagnetismus in
einer derartigen Stärke verbleibt, daß zwischen dem ersten
und dem zweiten magnetischen Teil eine für das Festhalten
ausreichende magnetische Kraft entsteht, und eine Entmagneti
siervorrichtung (43, 49 b), mit der der durch die Magnetisier
vorrichtung hervorgerufene Restmagnetismus im wesentlichen
abbaubar ist.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß
die Magnetisiervorrichtung (43, 49 a) und die Entmagnetisier
vorrichtung (43, 49 b) eine gemeinsame Solenoidwicklung (43)
haben und daß das Anlegen einer Impulsspannung an die Sole
noidwicklung die Magnetisierung bewirkt, während das Anlegen
einer abklingenden Wechselspannung an die Solenoidwicklung
den Abbau des Restmagnetismus bewirkt.
10. Vorrichtung zum lösbaren Halten einer Maske, die einen
aus einem magnetischen Material geformten Teil hat, gekenn
zeichnet durch einen Permanentmagneten (54), ein Halteteil
(52) zum Halten der Maske (51) mit Hilfe der magnetischen
Kraftlinien des Permanentmagneten und eine Umstellvorrichtung
(53, 58; 64 bis 68) zum Verändern der Lagebeziehung zwischen
dem Permanentmagneten und dem Halteteil in der Weise, daß die
an der Maske wirkende Haltekraft verringert ist.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß
die Umstellvorrichtung (53, 58) eine elektromagnetische Vor
richtung (53) aufweist.
12. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß
mit der Umstellvorrichtung (64 bis 68) der Permanentmagnet
(54) unter Einwirkung von Fluiddruck bewegbar ist.
13. Verfahren zum lösbaren Halten einer Maske an einem Halte
teil, dadurch gekennzeichnet, daß die Maske mittels magneti
scher Kraftlinien eines Permanentmagneten an das Halteteil
angezogen wird und daß zum Lösen der Maske von dem Halteteil
die zwischen der Maske und dem Halteteil verlaufenden magne
tischen Kraftlinien des Permanentmagneten abgeschwächt wer
den.
14. Verfahren zum lösbaren Halten einer Maske an einem Halte
teil, dadurch gekennzeichnet, daß in mindestens einem Teil
der Maske und/oder des Halteteils zum gegenseitigen magneti
schen Anziehen derselben ein Restmagnetismus hervorgerufen
wird und daß für das Lösen der Maske von dem Halteteil der
Restmagnetismus abgeschwächt wird.
15. Maskengebilde für das Übertragen eines Bildmusters, ge
kennzeichnet durch einen Bildmusterteil (71), der das zu
übertragende Bildmuster trägt, und einen Außenrandteil (73),
der an zumindest einem Teil des Außenumfangs des Bildmuster
teils angebracht ist und in dem zumindest teilweise eine Nut
ausgebildet ist.
16. Maskengebilde für die Übertragung eines Bildmusters,
gekennzeichnet durch einen Bildmusterteil (71), der ein zu
übertragendes Bildmuster trägt, und einen Außenrandteil
(73 a), der an zumindest einem Teil des Außenumfangs des
Bildmusterteils angebracht ist und an dem zumindest teilweise
ein Vorsprung (73 b) ausgebildet ist.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60135944A JPS61294443A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | マスク保持装置 |
JP1985094416U JPS624755U (de) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | |
JP60135943A JPS61294442A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | マスク保持装置 |
JP60135942A JPS61294441A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | マスク保持装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3620970A1 true DE3620970A1 (de) | 1987-01-08 |
Family
ID=27468218
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19863620970 Ceased DE3620970A1 (de) | 1985-06-24 | 1986-06-23 | Maskenhaltevorrichtung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3620970A1 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3803738A1 (de) * | 1987-02-09 | 1988-08-25 | Canon Kk | Maskenhaltevorrichtung |
EP0361516A2 (de) * | 1988-09-30 | 1990-04-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Verfahren zur Herstellung einer Röntgenstrahlmasken-Struktur |
US4963921A (en) * | 1985-06-24 | 1990-10-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Device for holding a mask |
DE19851501C1 (de) * | 1998-11-09 | 2000-09-07 | Bruker Axs Analytical X Ray Sy | Probenwechsler |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3435178A1 (de) * | 1983-09-26 | 1985-04-04 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Gegenstand mit maskenstruktur fuer die lithografie |
JPH0677424A (ja) * | 1992-05-12 | 1994-03-18 | Nippon Precision Circuits Kk | Cmos集積回路 |
-
1986
- 1986-06-23 DE DE19863620970 patent/DE3620970A1/de not_active Ceased
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3435178A1 (de) * | 1983-09-26 | 1985-04-04 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Gegenstand mit maskenstruktur fuer die lithografie |
JPH0677424A (ja) * | 1992-05-12 | 1994-03-18 | Nippon Precision Circuits Kk | Cmos集積回路 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4963921A (en) * | 1985-06-24 | 1990-10-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Device for holding a mask |
DE3803738A1 (de) * | 1987-02-09 | 1988-08-25 | Canon Kk | Maskenhaltevorrichtung |
EP0361516A2 (de) * | 1988-09-30 | 1990-04-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Verfahren zur Herstellung einer Röntgenstrahlmasken-Struktur |
EP0361516A3 (de) * | 1988-09-30 | 1991-05-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Verfahren zur Herstellung einer Röntgenstrahlmasken-Struktur |
US5656398A (en) * | 1988-09-30 | 1997-08-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of making X-ray mask structure |
DE19851501C1 (de) * | 1998-11-09 | 2000-09-07 | Bruker Axs Analytical X Ray Sy | Probenwechsler |
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