JPS61294441A - マスク保持装置 - Google Patents
マスク保持装置Info
- Publication number
- JPS61294441A JPS61294441A JP60135942A JP13594285A JPS61294441A JP S61294441 A JPS61294441 A JP S61294441A JP 60135942 A JP60135942 A JP 60135942A JP 13594285 A JP13594285 A JP 13594285A JP S61294441 A JPS61294441 A JP S61294441A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- permanent magnet
- magnetic
- yoke
- frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の属する分野］
本発明は、回路が高度に集積された半導体素子を製造す
るためのりソゲラフイエ程、特に転写工程で用いられる
マスク保持装置に関し、詳しくは、特別なガスを充満し
た雰囲気中または真空中において転写マスクを容易に着
脱でき、しかもマスクを高精度に保持し得るマスク保持
装置に関する。
るためのりソゲラフイエ程、特に転写工程で用いられる
マスク保持装置に関し、詳しくは、特別なガスを充満し
た雰囲気中または真空中において転写マスクを容易に着
脱でき、しかもマスクを高精度に保持し得るマスク保持
装置に関する。
［従来技術の説明］
半導体回路素子上に転写する回路の集積度の向上に伴い
、回路パターンを構成する線の幅が挟まり、今日ではサ
ブミクロンのオーダが要求されるようになった。これを
達成するため、回路パターンの転写に用いるための照射
エネルギーも紫外線、遠紫外線、軟Ｘ線またはイオン若
しくは電子等の粒子線を用いる必要を生じた。このため
、光路の雰囲気を特別なガス、例えば窒素やヘリウムガ
スにしたり、あるいは、圧力で１Ｘ１０ Ｔｏｒｒと
いった真空にする必要を生じている。
、回路パターンを構成する線の幅が挟まり、今日ではサ
ブミクロンのオーダが要求されるようになった。これを
達成するため、回路パターンの転写に用いるための照射
エネルギーも紫外線、遠紫外線、軟Ｘ線またはイオン若
しくは電子等の粒子線を用いる必要を生じた。このため
、光路の雰囲気を特別なガス、例えば窒素やヘリウムガ
スにしたり、あるいは、圧力で１Ｘ１０ Ｔｏｒｒと
いった真空にする必要を生じている。
従来、この種のマスク保持装置としては、第４図および
第５図のように構成されたものが知られている。
第５図のように構成されたものが知られている。
第４図は、真空吸着によるマスク保持装置の断面図を示
す。これは、ガス雰囲気中で真空吸着によりマスクを吸
着保持するものである。同図において、１はマスク、１
０は不図示の排気装置に接続するための排気管、１１は
マスク保持板に設けられた排気溝、１２はマスク保持板
である。このような装置においては、マスク１をマスク
保持板１２に接しながら、排気管１０を介して排気溝１
１の中のガスを排気する。このとき、周囲のガスと排気
溝の中との圧力に圧力差を生じ、マスクはいわゆる真空
吸着される状態となる。しかし、この場合、吸着面から
雰囲気ガスを吸収し排気してしまうため、雰囲気ガス圧
の低下やガス消費の増大といった不具合があった。また
、減圧ガス雰囲気中や真空中では吸着保持力が低下して
しまい使用不可となる等の欠点があった。
す。これは、ガス雰囲気中で真空吸着によりマスクを吸
着保持するものである。同図において、１はマスク、１
０は不図示の排気装置に接続するための排気管、１１は
マスク保持板に設けられた排気溝、１２はマスク保持板
である。このような装置においては、マスク１をマスク
保持板１２に接しながら、排気管１０を介して排気溝１
１の中のガスを排気する。このとき、周囲のガスと排気
溝の中との圧力に圧力差を生じ、マスクはいわゆる真空
吸着される状態となる。しかし、この場合、吸着面から
雰囲気ガスを吸収し排気してしまうため、雰囲気ガス圧
の低下やガス消費の増大といった不具合があった。また
、減圧ガス雰囲気中や真空中では吸着保持力が低下して
しまい使用不可となる等の欠点があった。
第５図は、電磁力によるマスク保持装置の断面図を示す
。この種の装置は、特開昭６０−７７４２ｊ等に開示さ
れている。同図において、２は磁路を形成するためのヨ
ーク、３は磁力線を発生するためのソレノイドコイル、
８はソレノイドコイル３に通電するためのリード線であ
る。１３はソレノイドで発生した熱を外部に取り去るた
めの冷却パイプである。第５図の状態で、マスク１をヨ
ーク２に接しながらソレノイドコイル３に通電すると、
マスク１はヨーク２に磁気的に吸着される。次に、通電
をやめるとマスク１はヨーク２から外れる。
。この種の装置は、特開昭６０−７７４２ｊ等に開示さ
れている。同図において、２は磁路を形成するためのヨ
ーク、３は磁力線を発生するためのソレノイドコイル、
８はソレノイドコイル３に通電するためのリード線であ
る。１３はソレノイドで発生した熱を外部に取り去るた
めの冷却パイプである。第５図の状態で、マスク１をヨ
ーク２に接しながらソレノイドコイル３に通電すると、
マスク１はヨーク２に磁気的に吸着される。次に、通電
をやめるとマスク１はヨーク２から外れる。
しかし、このような装置の場合、ソレノイドコイルを通
電するとジュール熱による発熱があり、マスクに熱歪を
起こすことがあるため、不図示の冷却装置から冷却バイ
ブ１３に冷媒を流し、その熱を外部に流し去る必要があ
る。すなわち、このような構成の磁性チャックにおいて
は、励磁コイルの発熱が多く、上述従来形のように冷却
コイルの必要が生じたり、それがために装置全体が大型
化し＊ｍな配管類を必要とする。このため、取り扱いが
煩雑となり製作コストも上昇するといった欠点があった
。
電するとジュール熱による発熱があり、マスクに熱歪を
起こすことがあるため、不図示の冷却装置から冷却バイ
ブ１３に冷媒を流し、その熱を外部に流し去る必要があ
る。すなわち、このような構成の磁性チャックにおいて
は、励磁コイルの発熱が多く、上述従来形のように冷却
コイルの必要が生じたり、それがために装置全体が大型
化し＊ｍな配管類を必要とする。このため、取り扱いが
煩雑となり製作コストも上昇するといった欠点があった
。
［発明の目的］
本発明は、上述従来形の問題点に鑑み、液体やガス雰囲
気中あるいは減圧や真空中、いずれの場合でも安定に作
動し、しかも安価に製作できるマスク保持装置を提供す
ることを目的とする。また、同時に、極めて微細で高精
度な転写マスクの保持が要求される半導体製造装置にｍ
ｍいることができるマスク保持装置を提供することを目
的とする。
気中あるいは減圧や真空中、いずれの場合でも安定に作
動し、しかも安価に製作できるマスク保持装置を提供す
ることを目的とする。また、同時に、極めて微細で高精
度な転写マスクの保持が要求される半導体製造装置にｍ
ｍいることができるマスク保持装置を提供することを目
的とする。
［実施例の説明］
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第１図は、本発明の一実施例に係るマスク保持装置の断
面図を示す。同図において、１はマスクメンブレン、２
はマスクフレームを吸着するための磁路形成用ヨーク、
３はマスクフレームを吸着または離脱させるための磁力
線を発生させるソレノイドコイルである。４はマスクフ
レームに固着された永久磁石、５はヨークの磁路を分離
するための非磁性材料で作られたセパレータ、６はマス
クメンブレンや永久磁石を保持するための磁性材料で作
られたマスクフレームである。７は永久磁石の発生する
磁力線をマスクフレームに還流させるための非磁性材料
で作られたセパレータ、８はソレノイドコイルに電流を
通ずるためのリード線である。永久磁石４およびセパレ
ータ７はマスクフレーム６に固着されている。上記構成
において、マスクフレーム６をヨーク２に近付けると、
永久磁石４およびマスクフレーム６の磁路を介して磁束
がヨーク２に到達し、その結果、マスクフレーム６はヨ
ーク２に吸着する。吸着した後は、永久磁石４とマスク
フレーム６およびヨーク２からなる閉磁路が形成され、
マスクフレーム６は永久磁石４の磁界で吸着され続ける
。次に、ソレノイドコイル３にリード線８を介して不図
示の電源から電流を通じ、永久磁石の形成する磁極と相
互に反発する磁力線を発生させる。その結果、永久磁石
の磁力は瞬間的に打消されるため、マスクフレーム６は
ヨーク２から離脱する。
面図を示す。同図において、１はマスクメンブレン、２
はマスクフレームを吸着するための磁路形成用ヨーク、
３はマスクフレームを吸着または離脱させるための磁力
線を発生させるソレノイドコイルである。４はマスクフ
レームに固着された永久磁石、５はヨークの磁路を分離
するための非磁性材料で作られたセパレータ、６はマス
クメンブレンや永久磁石を保持するための磁性材料で作
られたマスクフレームである。７は永久磁石の発生する
磁力線をマスクフレームに還流させるための非磁性材料
で作られたセパレータ、８はソレノイドコイルに電流を
通ずるためのリード線である。永久磁石４およびセパレ
ータ７はマスクフレーム６に固着されている。上記構成
において、マスクフレーム６をヨーク２に近付けると、
永久磁石４およびマスクフレーム６の磁路を介して磁束
がヨーク２に到達し、その結果、マスクフレーム６はヨ
ーク２に吸着する。吸着した後は、永久磁石４とマスク
フレーム６およびヨーク２からなる閉磁路が形成され、
マスクフレーム６は永久磁石４の磁界で吸着され続ける
。次に、ソレノイドコイル３にリード線８を介して不図
示の電源から電流を通じ、永久磁石の形成する磁極と相
互に反発する磁力線を発生させる。その結果、永久磁石
の磁力は瞬間的に打消されるため、マスクフレーム６は
ヨーク２から離脱する。
第１図の実施例ではマスクフレームに永久磁石を固着し
保持装置本体にヨークやソレノイドコイル等を・備えて
いるが、この逆に、保持装置本体に永久磁石を固着しマ
スクフレームにヨークやソレノイドコイル等を備えるよ
うにしても同様の効果が得られる。第２図は、保持装置
本体に永久磁石を固着しマスクフレームにヨークおよび
ソレノイドコイルを備えたマスク保持装置の断面図を示
す。
保持装置本体にヨークやソレノイドコイル等を・備えて
いるが、この逆に、保持装置本体に永久磁石を固着しマ
スクフレームにヨークやソレノイドコイル等を備えるよ
うにしても同様の効果が得られる。第２図は、保持装置
本体に永久磁石を固着しマスクフレームにヨークおよび
ソレノイドコイルを備えたマスク保持装置の断面図を示
す。
また、マスクにはフレームを設けることなく、マスクま
たはマスクパターンの一部を磁性材料で構成してもよい
。この場合、永久磁石もソレノイドコイルも保持装置内
に設け、ソレノイドコイルは永久磁石の脚またはヨーク
を有する場合はヨークに巻回すればよい。
たはマスクパターンの一部を磁性材料で構成してもよい
。この場合、永久磁石もソレノイドコイルも保持装置内
に設け、ソレノイドコイルは永久磁石の脚またはヨーク
を有する場合はヨークに巻回すればよい。
さらに、第３図のように磁極を分離しても同等の効果が
得られる。同図において、３′は３と同様のソレノイド
コイル、７′は７と同様のセパレータである。
得られる。同図において、３′は３と同様のソレノイド
コイル、７′は７と同様のセパレータである。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、少なくとも一部
を永久磁石で構成したマスクフレームと、その永久磁石
に吸着されるヨークとソレノイドコイルを持つ磁気回路
とを備えたマスク保持装置本体とから構成−されている
ため、以下のような効果がある。
を永久磁石で構成したマスクフレームと、その永久磁石
に吸着されるヨークとソレノイドコイルを持つ磁気回路
とを備えたマスク保持装置本体とから構成−されている
ため、以下のような効果がある。
（１）マスク保持装置を使用する環境、例えば、ガス中
、液体中または真空中等により影響を受けることなく、
安定に作動しマスクを確実に保持することができる。。
、液体中または真空中等により影響を受けることなく、
安定に作動しマスクを確実に保持することができる。。
（２）ソレノイドへの通電時間が短いので発熱量が少な
く゛、冷却のための装置が不必要となるので安価に製作
できる。また、熱変形による精度劣化が少ないので、き
わめて高精度であることを要求される半導体素子製造機
器用の転写マスクの保持に好適に使用することができる
。
く゛、冷却のための装置が不必要となるので安価に製作
できる。また、熱変形による精度劣化が少ないので、き
わめて高精度であることを要求される半導体素子製造機
器用の転写マスクの保持に好適に使用することができる
。
（３）稼動部分が無いので高い信頼性が得られる。
また、永久磁石を保持装置本体の側に備え、ヨークおよ
びソレノイドコイル等をマスクフレームの側に備えた場
合も以上と同様の効果がある。
びソレノイドコイル等をマスクフレームの側に備えた場
合も以上と同様の効果がある。
第１図は、本発明の一実施例に係るマスク保持装置の断
面図、 第２図は、保持装置本体に永久磁石を固着し、マスクフ
レームにヨークおよびソレノイドコイルを備えたマスク
保持装置の断面図、 第３図は、磁極を分離した場合のマスク保持装置の断面
図、 第４図は、従来の真空吸着によるマスク保持装置の断面
図、 第５図は、従来の電磁力によるマスク保持装置の断面図
である。 １：マスクメンブレン、２：ヨーク、 ３：ソレノイドコイル、４：永久磁石、５．７：セパレ
ータ、６：マスクフレーム、８：リード線。
面図、 第２図は、保持装置本体に永久磁石を固着し、マスクフ
レームにヨークおよびソレノイドコイルを備えたマスク
保持装置の断面図、 第３図は、磁極を分離した場合のマスク保持装置の断面
図、 第４図は、従来の真空吸着によるマスク保持装置の断面
図、 第５図は、従来の電磁力によるマスク保持装置の断面図
である。 １：マスクメンブレン、２：ヨーク、 ３：ソレノイドコイル、４：永久磁石、５．７：セパレ
ータ、６：マスクフレーム、８：リード線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、照射エネルギーをマスクを透して感応体上に照射し
、該マスクに形成されたパターンを該感応体上に転写す
る転写装置のマスク保持装置において、 少なくとも一部を永久磁石で構成し、マスクに一体的に
取り付けられたマスクフレームと、該永久磁石に吸着さ
れるヨークと、該永久磁石およびヨークとともに磁気回
路を形成するソレノイドコイルを有する保持装置本体と を備え、 該永久磁石の磁力により該マスクを固着し、かつ該ソレ
ノイドコイルに通電することにより該保持装置本体と該
マスクフレームとの接面における磁力を相殺して該マス
クを離脱することを特徴とするマスク保持装置。 ２、照射エネルギーをマスクを透して感応体上に照射し
、該マスクに形成されたパターンを該感応体上に転写す
る転写装置のマスク保持装置において、 マスクまたはマスクパターンの少なくとも一部を磁性体
で構成するとともに、該磁性体を直接またはヨークを介
して吸着可能な永久磁石と、通電により該永久磁石の磁
力を相殺するソレノイドコイルとを備え、該永久磁石の
磁力により該マスクを吸着し、かつ該ソレノイドコイル
に通電することにより該保持装置と該磁性体との接面に
おける磁力を相殺して該マスクを離脱することを特徴と
するマスク保持装置。 ３、前記磁性体が、マスクに一体に取り付けられたマス
クフレームである特許請求の範囲第２項記載のマスク保
持装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60135942A JPS61294441A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | マスク保持装置 |
| DE19863620970 DE3620970A1 (de) | 1985-06-24 | 1986-06-23 | Maskenhaltevorrichtung |
| US07/312,761 US4963921A (en) | 1985-06-24 | 1989-02-21 | Device for holding a mask |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60135942A JPS61294441A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | マスク保持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61294441A true JPS61294441A (ja) | 1986-12-25 |
Family
ID=15163446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60135942A Pending JPS61294441A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | マスク保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61294441A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4963921A (en) * | 1985-06-24 | 1990-10-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Device for holding a mask |
-
1985
- 1985-06-24 JP JP60135942A patent/JPS61294441A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4963921A (en) * | 1985-06-24 | 1990-10-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Device for holding a mask |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4963921A (en) | Device for holding a mask | |
| JP2929389B2 (ja) | 保持装置及び座標測定装置用検出ヘッド | |
| US8053937B2 (en) | Linear motor, stage apparatus and exposure apparatus | |
| JP2767282B2 (ja) | 基板保持装置 | |
| JPS61294441A (ja) | マスク保持装置 | |
| JPS63194331A (ja) | マスク保持装置 | |
| JP5138600B2 (ja) | メタルマスクを用いたウエハのアライメント装置 | |
| JPH10149979A (ja) | ステージ装置およびこれを用いた露光装置 | |
| JPS61294442A (ja) | マスク保持装置 | |
| JP7292913B2 (ja) | 真空装置、運搬装置、アラインメント方法 | |
| US20010025932A1 (en) | Charged-particle-beam microlithography apparatus and methods including shielding of the beam from extraneous magnetic fields | |
| JPS62216227A (ja) | マスク保持装置 | |
| JPS61294443A (ja) | マスク保持装置 | |
| JP2004335513A (ja) | レチクルの保持方法、保持装置及び露光装置 | |
| JPS60251621A (ja) | Ｘ線マスク及びこれを用いたｘ線露光装置 | |
| CN100397572C (zh) | 电子束聚焦设备及使用该设备的电子束投影光刻系统 | |
| JP2000150228A (ja) | ハイブリッド型磁石及びそれを備えたステッピングモータ | |
| JP2004311656A (ja) | 保持方法、保持装置及び露光装置 | |
| JP2649556B2 (ja) | マスク保持装置 | |
| JP7263082B2 (ja) | 真空装置、運搬装置、アラインメント方法 | |
| JPS60144914A (ja) | 磁気吸着装置 | |
| JPH118291A (ja) | 静電吸着装置 | |
| JP2585124B2 (ja) | Ｘ線マスクの保持構造 | |
| JP3035864B2 (ja) | 磁気吸着装置 | |
| JPH0453646A (ja) | 磁気チャック |