JPS61294442A - マスク保持装置 - Google Patents
マスク保持装置Info
- Publication number
- JPS61294442A JPS61294442A JP60135943A JP13594385A JPS61294442A JP S61294442 A JPS61294442 A JP S61294442A JP 60135943 A JP60135943 A JP 60135943A JP 13594385 A JP13594385 A JP 13594385A JP S61294442 A JPS61294442 A JP S61294442A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- yoke
- frame
- holding device
- solenoid coil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の屈する分野］
本発明は、回路が高度に集積された半導体素手を製造す
るためのりソゲラフイエ程、特に転・写工程で用いられ
るマスク保持装置に関し、詳しくは、特別なガスを充満
した雰囲気中または真空中において転写マスクを容易に
着脱でき、しかもマスクを高精度に保持し得るマスク保
持装置に関する。
るためのりソゲラフイエ程、特に転・写工程で用いられ
るマスク保持装置に関し、詳しくは、特別なガスを充満
した雰囲気中または真空中において転写マスクを容易に
着脱でき、しかもマスクを高精度に保持し得るマスク保
持装置に関する。
［従来技術の説明コ
半導体回路素子上に転写する回路の集積度の向上に伴い
、回路パターンを構成する線の幅が挟まり、今日ではサ
ブミクロンのオーダが要求されるようになった。これを
達成するため、回路パターンの転写に用いるための照射
エネルギーも紫外線、遠紫外線、軟Ｘ線またはイオン若
しくは電子等の粒子線を用いる必要を生じた。このため
、光路の雰囲気を特別なガス、例えば窒素やヘリウムガ
スにしたり、あるいは、圧力で１ ｘ ＩＦ’ Ｔ ｏ
ｒｒといった真空にする必要を生じている。
、回路パターンを構成する線の幅が挟まり、今日ではサ
ブミクロンのオーダが要求されるようになった。これを
達成するため、回路パターンの転写に用いるための照射
エネルギーも紫外線、遠紫外線、軟Ｘ線またはイオン若
しくは電子等の粒子線を用いる必要を生じた。このため
、光路の雰囲気を特別なガス、例えば窒素やヘリウムガ
スにしたり、あるいは、圧力で１ ｘ ＩＦ’ Ｔ ｏ
ｒｒといった真空にする必要を生じている。
従来、この種のマスク保持装置としては、第５図および
第６図のように構成されたものが知られている。
第６図のように構成されたものが知られている。
第５図は、真空吸着によるマスク保持装置の断面図を示
す。これは、ガス雰囲気中で真空吸着によりマスクを吸
着保持するものである。同図において、１はマスク、１
０は不図示の排気装置に接続するための排気管、１１は
マスク保持板に設けられた排気溝、１２はマスク保持板
である。このような装置においては、マスク１をマスク
保持板１２に接しながら、排気管１０を介して排気溝１
１の中のガスを排気する。このとき、周囲のガスと排気
溝の中との圧力に圧力差を生じ、マスクはいわゆる真空
吸着される状態となる。しかし、この場合、吸着面から
雰囲気ガスを吸収し排気してしまうため、雰囲気ガス圧
の低下やガス消費の増大といった不具合があった。また
、減圧ガス雰囲気中や真空中では吸着保持力が低下して
しまい使用不可となる等の欠点があった。
す。これは、ガス雰囲気中で真空吸着によりマスクを吸
着保持するものである。同図において、１はマスク、１
０は不図示の排気装置に接続するための排気管、１１は
マスク保持板に設けられた排気溝、１２はマスク保持板
である。このような装置においては、マスク１をマスク
保持板１２に接しながら、排気管１０を介して排気溝１
１の中のガスを排気する。このとき、周囲のガスと排気
溝の中との圧力に圧力差を生じ、マスクはいわゆる真空
吸着される状態となる。しかし、この場合、吸着面から
雰囲気ガスを吸収し排気してしまうため、雰囲気ガス圧
の低下やガス消費の増大といった不具合があった。また
、減圧ガス雰囲気中や真空中では吸着保持力が低下して
しまい使用不可となる等の欠点があった。
第６図は、電磁力によるマスク保持装置の断面図を示す
。この種の装置は、特開昭６０−７７４２４等に開示さ
れている。同図において、２は磁路を形成するためのヨ
ーク、３は磁力線を発生するためのソレノイドコイル、
８はソレノイドコイル３に通電するためのリード線であ
る。１３はソレノイドで発生した熱を外部に取り去るた
めの冷却バイブである。第６図の状態で、マスク１をヨ
ーク２に接しながらソレノイドコイル３に通電すると、
マスク１はヨーク２に磁気的に吸着される。次に、通電
をやめるとマスク１はヨーク２から外れる。
。この種の装置は、特開昭６０−７７４２４等に開示さ
れている。同図において、２は磁路を形成するためのヨ
ーク、３は磁力線を発生するためのソレノイドコイル、
８はソレノイドコイル３に通電するためのリード線であ
る。１３はソレノイドで発生した熱を外部に取り去るた
めの冷却バイブである。第６図の状態で、マスク１をヨ
ーク２に接しながらソレノイドコイル３に通電すると、
マスク１はヨーク２に磁気的に吸着される。次に、通電
をやめるとマスク１はヨーク２から外れる。
しかし、このような装置の場合、ソレノイドコイルを通
電するとジュール熱による発熱があり、マスクに熱歪を
起こすことがあるため、不図示の冷却装置から冷却バイ
ブ１３に冷媒を流し、その熱を外部に流し去る必要があ
る。すなわち、このような構成の磁性チャックにおいて
は、励磁コイルの発熱が多く、上述従来形のように冷却
コイルの必要が生じたり、それがために装置全体が大型
化し複雑な配管類を必要とする。このため、取り扱いが
煩雑となり製作コストも上昇するといった欠点があった
。
電するとジュール熱による発熱があり、マスクに熱歪を
起こすことがあるため、不図示の冷却装置から冷却バイ
ブ１３に冷媒を流し、その熱を外部に流し去る必要があ
る。すなわち、このような構成の磁性チャックにおいて
は、励磁コイルの発熱が多く、上述従来形のように冷却
コイルの必要が生じたり、それがために装置全体が大型
化し複雑な配管類を必要とする。このため、取り扱いが
煩雑となり製作コストも上昇するといった欠点があった
。
［発明の目的コ
本発明は、上述従来形の問題点に鑑み、液体やガス雰囲
気中あるいは減圧や真空中、いずれの場合でも安定に作
動し、しかも安価に製作できるマスク保持装置を提供す
ることを目的とする。また、同時に、極めて微細で高精
度な転写マスクの保持が要求される半導体製造装置に用
いることができるマスク保持装置を提供することを目的
とする。
気中あるいは減圧や真空中、いずれの場合でも安定に作
動し、しかも安価に製作できるマスク保持装置を提供す
ることを目的とする。また、同時に、極めて微細で高精
度な転写マスクの保持が要求される半導体製造装置に用
いることができるマスク保持装置を提供することを目的
とする。
［実施例の説明］
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第１図は、本発明の一実施例に係るマスク保持装置の断
面図を示す。同図において、１は転写するためのマスク
、２は磁路形成のためのヨーク、３は磁力線を発生させ
るためのソレノイドコイル、４は磁極を分離するための
非磁性材料で作られたセパレータである。５はマスクを
支持するためのフレームであり、フレーム全体または磁
気吸着面には残留磁気が多く残る部材を使用している。
面図を示す。同図において、１は転写するためのマスク
、２は磁路形成のためのヨーク、３は磁力線を発生させ
るためのソレノイドコイル、４は磁極を分離するための
非磁性材料で作られたセパレータである。５はマスクを
支持するためのフレームであり、フレーム全体または磁
気吸着面には残留磁気が多く残る部材を使用している。
この部材は、例えば、工具鋼を代表とする鉄鋼材料、あ
るいは永久磁石材料として用いられるアルミニウム、ニ
ッケル若しくはコバルト等と鉄との合金、すなわち、通
常アルニコと称される材料、あるいは鉄酸化物を主体と
するいわゆるフェライト等により構成されている。６は
ソレノイドコイルに電流を通ずるためのリード線である
。第１図の構成において、マスクフレーム５をヨーク２
に近付け、あるいは接しながらリード線６を介してソレ
ノイドコイル３に通電し、ヨーク２およびマスクフレー
ム５を励磁する。この通電はパルス状で励磁時間は比較
的短い時間（１０〜５０ｍ５）で良い。励磁終了後はフ
レーム５およびヨーク２に磁気が残留する。この残留磁
気はヨーク２とフレーム５からなる閉磁路を形成し、そ
のためフレーム５の磁気吸着は持続される。次に、フレ
ーム５をヨーク２から離脱させるには、ソレノイドコイ
ル３に減衰交番電圧を印加し、いわゆる消磁作用を行な
う。
るいは永久磁石材料として用いられるアルミニウム、ニ
ッケル若しくはコバルト等と鉄との合金、すなわち、通
常アルニコと称される材料、あるいは鉄酸化物を主体と
するいわゆるフェライト等により構成されている。６は
ソレノイドコイルに電流を通ずるためのリード線である
。第１図の構成において、マスクフレーム５をヨーク２
に近付け、あるいは接しながらリード線６を介してソレ
ノイドコイル３に通電し、ヨーク２およびマスクフレー
ム５を励磁する。この通電はパルス状で励磁時間は比較
的短い時間（１０〜５０ｍ５）で良い。励磁終了後はフ
レーム５およびヨーク２に磁気が残留する。この残留磁
気はヨーク２とフレーム５からなる閉磁路を形成し、そ
のためフレーム５の磁気吸着は持続される。次に、フレ
ーム５をヨーク２から離脱させるには、ソレノイドコイ
ル３に減衰交番電圧を印加し、いわゆる消磁作用を行な
う。
これにより、ヨーク２やフレーム５の残留磁気が消去さ
れるのでフレーム５はヨーク２から離脱する。この消磁
のための減衰交番電圧は、例えばポジスタ（正抵抗素子
）のようなものを用いて単に交流電圧を加えることによ
り自動的に得ることができる。このような手段による消
磁回路は、カラーテレビ用ブラウン管のシャドーマスク
の消磁に実用されている。
れるのでフレーム５はヨーク２から離脱する。この消磁
のための減衰交番電圧は、例えばポジスタ（正抵抗素子
）のようなものを用いて単に交流電圧を加えることによ
り自動的に得ることができる。このような手段による消
磁回路は、カラーテレビ用ブラウン管のシャドーマスク
の消磁に実用されている。
前記実施例では、ヨークおよびソレノイドコイルを保持
装置本体に備えているが、これらをマスクフレーム内に
備えるようにすることもできる。
装置本体に備えているが、これらをマスクフレーム内に
備えるようにすることもできる。
第２図は、ヨーク２およびソレノイドコイル３をマスク
フレーム５の内部に設定したマスク保持装置の断面図を
示す。同図において、７は保持装置本体のマスクホルダ
（保持板）であり、ヨーク２と同様、残留磁気の多い部
材により構成されている。用法および作用は前述と同様
である。
フレーム５の内部に設定したマスク保持装置の断面図を
示す。同図において、７は保持装置本体のマスクホルダ
（保持板）であり、ヨーク２と同様、残留磁気の多い部
材により構成されている。用法および作用は前述と同様
である。
さらに、ソレノイドコイルの設置位置は種々考えられる
。第３図は、ソレノイドコイルの設置位置を変更したマ
スク保持装置の断面図を示す。同図の装置は第１図の装
置と基本的には同様である。
。第３図は、ソレノイドコイルの設置位置を変更したマ
スク保持装置の断面図を示す。同図の装置は第１図の装
置と基本的には同様である。
また、ソレノイドコイルはヨークに直接巻口することと
してもよい。
してもよい。
第４図は、励磁用ソレノイドコイル３およびヨーク２を
保持装置本体のマスクホルダ５ａおよびマスクフレーム
５ｂから分離したマスク保持装置の断面図を示す。用法
および作用は前述例と同様である。同図において、励磁
用ソレノイドコイル３およびヨーク２はマスクフレーム
５ｂから熱的に分離できるため、コイル３で発生した熱
はマスクに伝わらない。従って、マスクの熱変形の発生
を防止できるという利点がある。
保持装置本体のマスクホルダ５ａおよびマスクフレーム
５ｂから分離したマスク保持装置の断面図を示す。用法
および作用は前述例と同様である。同図において、励磁
用ソレノイドコイル３およびヨーク２はマスクフレーム
５ｂから熱的に分離できるため、コイル３で発生した熱
はマスクに伝わらない。従って、マスクの熱変形の発生
を防止できるという利点がある。
なお、上述の実施例においてはマスクフレームとヨーク
の両方を共に残留磁気の多い部材で構成したが、どちら
か一方を単なる磁性体で構成してもよい。例えば、マス
クまたはマスクパターンが磁性体である場合には、ヨー
クのみ残留磁気の多い部材で構成し、ヨークの励磁と消
磁によりマスクの吸着と＋ｍ説を行なうこととしてもよ
い。
の両方を共に残留磁気の多い部材で構成したが、どちら
か一方を単なる磁性体で構成してもよい。例えば、マス
クまたはマスクパターンが磁性体である場合には、ヨー
クのみ残留磁気の多い部材で構成し、ヨークの励磁と消
磁によりマスクの吸着と＋ｍ説を行なうこととしてもよ
い。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、マスクフレーム
またはヨークに残留磁気の多い部材を使用し、それらの
部材を励磁または消磁することができるソレノイドコイ
ルを備えているため、マスク保持装置を使用する雰囲気
の影響を受けることなく、安定に作動しマスクを確実に
保持することが可能となる。さらに、マスク保持装置か
ら発生する熱を最小限度にすることができるため、磁性
吸着を応用するこの種の装置に生じ易い発熱によるマス
クの熱変形の問題を起こさず冷却のため複雑な配管類も
必要としない。従って、安価に製作でき、極めて高精度
であることを要求される半導体素子製造機器用の転写マ
スクの保持に好適に使用することができる。
またはヨークに残留磁気の多い部材を使用し、それらの
部材を励磁または消磁することができるソレノイドコイ
ルを備えているため、マスク保持装置を使用する雰囲気
の影響を受けることなく、安定に作動しマスクを確実に
保持することが可能となる。さらに、マスク保持装置か
ら発生する熱を最小限度にすることができるため、磁性
吸着を応用するこの種の装置に生じ易い発熱によるマス
クの熱変形の問題を起こさず冷却のため複雑な配管類も
必要としない。従って、安価に製作でき、極めて高精度
であることを要求される半導体素子製造機器用の転写マ
スクの保持に好適に使用することができる。
第１図は、本発明の一実施例に係るマスク保持装置の断
面図、 第２図は、ヨークおよびソレノイドコイルをマスクフレ
ームの内部に設定したマスク保持装置の断面図、 第３図は、ソレノイドコイルの設置位置を変更したマス
ク保持装置の断面図、 第４図は、ソレノイドコイルおよびヨークをマスクホル
ダおよびマスクフレームから分離したマスク保持装置の
断面図、 第５図は、従来の真空吸着によるマスク保持装置の断面
図、 第６図は、従来の電磁力によるマスク保持装置の断面図
である。 １：転写マスク、２：ヨーク、 ３：ソレノイドコイル、４：セパレータ、５：フレーム
、６：リード線。
面図、 第２図は、ヨークおよびソレノイドコイルをマスクフレ
ームの内部に設定したマスク保持装置の断面図、 第３図は、ソレノイドコイルの設置位置を変更したマス
ク保持装置の断面図、 第４図は、ソレノイドコイルおよびヨークをマスクホル
ダおよびマスクフレームから分離したマスク保持装置の
断面図、 第５図は、従来の真空吸着によるマスク保持装置の断面
図、 第６図は、従来の電磁力によるマスク保持装置の断面図
である。 １：転写マスク、２：ヨーク、 ３：ソレノイドコイル、４：セパレータ、５：フレーム
、６：リード線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、パターン転写用のフォトマスクを磁気的に吸着保持
するマスク保持装置において、 少なくとも一方が残留磁気の多い材料で構成され、マス
ク吸着時実質的に閉磁路を形成するように構成された第
１部材および第２部材の一方をマスクに、かつ他方を保
持装置本体に設けるとともに、該第１および／または第
２部材を励磁するためのソレノイドコイルを設け、 該ソレノイドコイルに通電することにより該第１および
／または第２部材を励磁して該マスクを該保持装置本体
に吸着し、かつ該ソレノイドコイルの電流遮断後も該第
１および／または第２部材の残留磁気により該マスクを
吸着状態に保ち、一方該ソレノイドコイルに減衰交番電
圧を印加することにより該第１および第２部材の残留磁
気を消磁し該マスクを該保持装置本体から離脱すること
を特徴とするマスク保持装置。 ２、前記第１および／または第２部材が、残留磁気の多
い材料である、鉄鋼、アルニコまたはフェライトからな
る特許請求の範囲第１項記載のマスク保持装置。 ３、前記第１部材が、マスク上に形成された磁性体パタ
ーンである特許請求の範囲第１項記載のマスク保持装置
。 ４、前記第１部材が、マスクに一体に取り付けられたマ
スクフレームの少なくとも一部である特許請求の範囲第
１または第２項記載のマスク保持装置。 ５、前記マスクフレームは少なくとも一部が、残留磁気
の多い材料である、鉄鋼、アルニコまたはフェライトか
らなる特許請求の範囲第４項記載のマスク保持装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60135943A JPS61294442A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | マスク保持装置 |
| DE19863620970 DE3620970A1 (de) | 1985-06-24 | 1986-06-23 | Maskenhaltevorrichtung |
| US07/312,761 US4963921A (en) | 1985-06-24 | 1989-02-21 | Device for holding a mask |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60135943A JPS61294442A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | マスク保持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61294442A true JPS61294442A (ja) | 1986-12-25 |
Family
ID=15163469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60135943A Pending JPS61294442A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | マスク保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61294442A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4963921A (en) * | 1985-06-24 | 1990-10-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Device for holding a mask |
| JP2008021959A (ja) * | 2006-04-13 | 2008-01-31 | Alps Electric Co Ltd | グリーンシートのスルーホール加工装置およびスルーホール加工方法 |
| WO2017154234A1 (ja) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 | 蒸着マスク、蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
-
1985
- 1985-06-24 JP JP60135943A patent/JPS61294442A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4963921A (en) * | 1985-06-24 | 1990-10-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Device for holding a mask |
| JP2008021959A (ja) * | 2006-04-13 | 2008-01-31 | Alps Electric Co Ltd | グリーンシートのスルーホール加工装置およびスルーホール加工方法 |
| WO2017154234A1 (ja) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 | 蒸着マスク、蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| JPWO2017154234A1 (ja) * | 2016-03-10 | 2018-06-14 | 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 | 蒸着マスク、蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| CN109072401A (zh) * | 2016-03-10 | 2018-12-21 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 蒸镀掩膜、蒸镀装置、蒸镀方法及有机el显示装置的制造方法 |
| US10892415B2 (en) | 2016-03-10 | 2021-01-12 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Deposition mask, vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for manufacturing organic EL display apparatus |
| CN109072401B (zh) * | 2016-03-10 | 2021-05-11 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 蒸镀掩膜、蒸镀装置、蒸镀方法及有机el显示装置的制造方法 |
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