FI125958B - Parannettu paineanturi - Google Patents

Parannettu paineanturi Download PDF

Info

Publication number
FI125958B
FI125958B FI20135487A FI20135487A FI125958B FI 125958 B FI125958 B FI 125958B FI 20135487 A FI20135487 A FI 20135487A FI 20135487 A FI20135487 A FI 20135487A FI 125958 B FI125958 B FI 125958B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
diaphragm
side walls
structure according
pressure sensor
sensor structure
Prior art date
Application number
FI20135487A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI20135487A (fi
Inventor
Heikki Kuisma
Original Assignee
Murata Manufacturing Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co filed Critical Murata Manufacturing Co
Priority to FI20135487A priority Critical patent/FI125958B/fi
Priority to TW103116053A priority patent/TWI620921B/zh
Priority to US14/270,813 priority patent/US9442032B2/en
Priority to CN201480026198.9A priority patent/CN105229438B/zh
Priority to EP14727070.6A priority patent/EP2994733B1/en
Priority to JP2016512463A priority patent/JP6128278B2/ja
Priority to PCT/IB2014/061282 priority patent/WO2014181274A1/en
Priority to KR1020157032082A priority patent/KR101830618B1/ko
Publication of FI20135487A publication Critical patent/FI20135487A/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI125958B publication Critical patent/FI125958B/fi

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0041—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
    • G01L9/0072—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
    • B81B3/0064—Constitution or structural means for improving or controlling the physical properties of a device
    • B81B3/0067—Mechanical properties
    • B81B3/007—For controlling stiffness, e.g. ribs
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B7/00—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
    • B81B7/02—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems containing distinct electrical or optical devices of particular relevance for their function, e.g. microelectro-mechanical systems [MEMS]
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L7/00—Measuring the steady or quasi-steady pressure of a fluid or a fluent solid material by mechanical or fluid pressure-sensitive elements
    • G01L7/02—Measuring the steady or quasi-steady pressure of a fluid or a fluent solid material by mechanical or fluid pressure-sensitive elements in the form of elastically-deformable gauges
    • G01L7/08—Measuring the steady or quasi-steady pressure of a fluid or a fluent solid material by mechanical or fluid pressure-sensitive elements in the form of elastically-deformable gauges of the flexible-diaphragm type
    • G01L7/082—Measuring the steady or quasi-steady pressure of a fluid or a fluent solid material by mechanical or fluid pressure-sensitive elements in the form of elastically-deformable gauges of the flexible-diaphragm type construction or mounting of diaphragms
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0041—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
    • G01L9/0042—Constructional details associated with semiconductive diaphragm sensors, e.g. etching, or constructional details of non-semiconductive diaphragms
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0041—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
    • G01L9/0042—Constructional details associated with semiconductive diaphragm sensors, e.g. etching, or constructional details of non-semiconductive diaphragms
    • G01L9/0048—Details about the mounting of the diaphragm to its support or about the diaphragm edges, e.g. notches, round shapes for stress relief
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0041—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
    • G01L9/0051—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance
    • G01L9/0052—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance of piezoresistive elements
    • G01L9/0054—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance of piezoresistive elements integral with a semiconducting diaphragm
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0041—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
    • G01L9/0072—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance
    • G01L9/0073—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance using a semiconductive diaphragm
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/12—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means by making use of variations in capacitance, i.e. electric circuits therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2201/00—Specific applications of microelectromechanical systems
    • B81B2201/02—Sensors
    • B81B2201/0264—Pressure sensors
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2203/00—Basic microelectromechanical structures
    • B81B2203/01—Suspended structures, i.e. structures allowing a movement
    • B81B2203/0127—Diaphragms, i.e. structures separating two media that can control the passage from one medium to another; Membranes, i.e. diaphragms with filtering function

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Claims (18)

1. Mikrosähkömekaaninen paineanturirakenne, joka käsittää runkorakenteen ja kalvolevyn (26), jolloin runkorakenne käsittää tasomaisen pohjan (21) ja sivuseinät (23); ensimmäinen pinta (24) ulottuu olennaisesti tasomaista pohjaa (21) pitkin; sivuseinät (23) ulottuvat kehänä poispäin tasomaisesta pohjasta (21); kalvolevy (26) ulottuu sivuseinillä (23) toista pintaa (28) pitkin; tasomainen pohja (21), sivuseinät (23) ja kalvolevy (26) on kiinnitetty toisiinsa siten, että ensimmäinen pinta (24), toinen pinta (28) ja sivuseinien (23) sisäpinnat muodostavat ilmatiiviisti suljetun raon referenssipaineessa; tunnettu siitä, että sivuseinien (23) sisäpintojen yläreuna muodostaa kalvon (27) kehän, jolla on toisen pinnan (28) suuntainen pituus (27a) ja leveys (27b), jolloin pituus (27a) on kalvon (27) pisimmän ulottuvuuden suuntainen, ja leveys (27b) on ensimmäisellä pinnalla (24) pituuden (27a) suuntaan nähden kohtisuorassa suunnassa; kalvon (27a) pituus on vähintään kolme kertaa kalvon (27) leveys (27b); yksi tai useampi ontelo (110) ulottuu ensimmäisestä pinnasta (115) tasomaiseen pohjaan (111).
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että sivuseinät (23) ulottuvat kehänä poispäin tasomaisesta pohjasta (21) ensimmäiseen pintaan (24) nähden kohtisuoraan suuntaan.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että kalvo (27) on järjestetty taipumaan käytön aikana siten, että toisessa pinnassa (28) olevassa kohdassa oleva piste liikkuu ensimmäistä pintaa (24) kohti ensimmäiseen pintaan (24) nähden kohtisuorassa suunnassa.
4. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että kalvon pituus (27a) on vähintään viisi kertaa kalvon leveys (27b).
5. Patenttivaatimuksen 1 mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että yksi tai useampi ontelo (110) muodostavat jonon.
6. Patenttivaatimuksen 5 mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että jono on yhdensuuntainen ainakin sivuseinien (113) sisäpinnan osan kanssa.
7. Patenttivaatimuksen 5 tai 6 mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että jono käsittää vähintään yhden pitkänomaisen ontelon, jolloin ontelon pituus on vähintään kaksi kertaa ontelon keskileveys.
8. Patenttivaatimuksen 7 mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että pitkänomainen ontelo on suoraviivainen muodostaen viivamaisen ontelon.
9. Patenttivaatimuksen 8 mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että osa ontelon kehästä on asetettu linjaan ainakin sivuseinien (111) sisäpinnan osan kanssa.
10. Patenttivaatimuksen 6 mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että jono ulottuu kalvon pisimmän ulottuvuuden päässä.
11. Patenttivaatimuksen 8 mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että paineanturi käsittää kaksi viivamaista onteloa, joista kumpikin ulottuu kalvon pisimmän ulottuvuuden vastakkaisessa päässä.
12. Patenttivaatimuksen 5 mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että yksi tai useampi ontelo esiintyy yhdellä tai useammalla onteloalueella (114) ensimmäisellä pinnalla (115); onteloalueella oleva kohta vastaa toisessa pinnassa olevaa kohtaa, kun kohdat yhdistävä linja on kohtisuorassa ensimmäisen pinnan (115) tasoon nähden; kalvolle on järjestetty enimmäistaipuma, joka vastaa kalvon suurinta sallittua siirtymää käytön aikana; onteloalueita (114) esiintyy kohdissa, joissa kalvon taipuma vastaavassa kohdassa on pienempi kuin enimmäistaipuma.
13. Patenttivaatimuksen 12 mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että onteloalueita (114) esiintyy kohdissa, joissa kalvon taipuma vastaavassa kohdassa on pienempi kuin kaksi kolmasosaa enimmäistaipumasta.
14. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että tasomainen pohja (121), sivuseinät (123) ja kalvolevy (126) on kiinnitetty toisiinsa siten, että ensimmäinen pinta (125), toinen pinta (128) ja sivuseinien (123) sisäpinnat muodostavat kaksi tai useampia ilmatiiviisti suljettuja rakoja; sivuseinien (123) sisäpintojen yläreunat muodostavat toisessa pinnassa (128) kahden tai useampien kalvojen (127) kehiä, joilla on toisen pinnan (128) suuntainen pituus ja leveys, jolloin kalvon (127) pituus on kalvon pisimmän ulottuvuuden suuntainen, ja leveys on toisella pinnalla (128) pituuden suuntaan nähden kohtisuoran suuntainen; kunkin kalvon (127) pituus on vähintään kolme kertaa kalvon leveys.
15. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että paineanturirakenne käsittää kiinteän elektrodin ensimmäisellä pinnalla (35) ja kalvoelektrodin toisella pinnalla (38) raon yli olevassa kapasitanssissa ilmenevien muutoksien havaitsemiseksi.
16. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen 1-15 mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että tasomainen pohja ja/tai kalvo on valmistettu sähköä johtavasta materiaalista ja ne aikaansaavat kondensaattorirakenteen raon yli olevassa kapasitanssissa ilmenevien muutoksien havaitsemiseksi.
17. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen paineanturirakenne, tunnettu siitä, että: anturirakenteella on ensimmäiseen pintaan nähden kohtisuoran suuntainen (24) paksuus; anturirakenteen ulkopinta ulottuu anturirakenteen ensimmäiseen pintaan nähden kohtisuoran suuntaisesti; sivuseinien (23) leveys vastaa lyhyintä etäisyyttä sivuseinien sisäpintojen yläreunasta anturirakenteen ulkopintaan; anturirakenteen paksuus on pienempi kuin kaksi kertaa sivuseinien leveys.
18. Paineanturi, joka käsittää jonkin patenttivaatimuksen 1-17 mukaisen paineanturirakenteen.
FI20135487A 2013-05-10 2013-05-10 Parannettu paineanturi FI125958B (fi)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20135487A FI125958B (fi) 2013-05-10 2013-05-10 Parannettu paineanturi
TW103116053A TWI620921B (zh) 2013-05-10 2014-05-06 經改良的壓力感測器
US14/270,813 US9442032B2 (en) 2013-05-10 2014-05-06 Microelectromechanical pressure sensor with robust diaphragm
CN201480026198.9A CN105229438B (zh) 2013-05-10 2014-05-08 改进的压力传感器
EP14727070.6A EP2994733B1 (en) 2013-05-10 2014-05-08 An improved pressure sensor
JP2016512463A JP6128278B2 (ja) 2013-05-10 2014-05-08 改良された圧力センサー
PCT/IB2014/061282 WO2014181274A1 (en) 2013-05-10 2014-05-08 An improved pressure sensor
KR1020157032082A KR101830618B1 (ko) 2013-05-10 2014-05-08 개선된 압력 센서

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20135487A FI125958B (fi) 2013-05-10 2013-05-10 Parannettu paineanturi

Publications (2)

Publication Number Publication Date
FI20135487A FI20135487A (fi) 2014-11-11
FI125958B true FI125958B (fi) 2016-04-29

Family

ID=50841916

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI20135487A FI125958B (fi) 2013-05-10 2013-05-10 Parannettu paineanturi

Country Status (8)

Country Link
US (1) US9442032B2 (fi)
EP (1) EP2994733B1 (fi)
JP (1) JP6128278B2 (fi)
KR (1) KR101830618B1 (fi)
CN (1) CN105229438B (fi)
FI (1) FI125958B (fi)
TW (1) TWI620921B (fi)
WO (1) WO2014181274A1 (fi)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FI125447B (fi) * 2013-06-04 2015-10-15 Murata Manufacturing Co Parannettu paineanturi
US20200315539A1 (en) 2017-11-08 2020-10-08 Murata Manufacturing Co., Ltd. Rapid exchange catheter system for fractional flow reserve measurement
FR3074096B1 (fr) * 2017-11-27 2019-12-20 Safran Electronics & Defense Dispositif autonome de mesure de pression embarque procede de mesure de pression
WO2019225205A1 (ja) * 2018-05-22 2019-11-28 株式会社村田製作所 圧力検出素子および圧力検出装置
US11988566B2 (en) * 2018-12-13 2024-05-21 Mitsubishi Electric Corporation Pulling detection device and moving body system comprising same
DE102018222770A1 (de) 2018-12-21 2020-06-25 Robert Bosch Gmbh Mikromechanische Sensoreinrichtung und Verfahren zum Herstellen einer mikromechanischen Sensoreinrichtung
DE102018222758A1 (de) 2018-12-21 2020-06-25 Robert Bosch Gmbh MEMS-Sensor mit einer Membran sowie Verfahren zur Herstellung eines MEMS-Sensors
DE102018222738A1 (de) * 2018-12-21 2020-06-25 Robert Bosch Gmbh Mikromechanische Drucksensorvorrichtung und ein entsprechendes Herstellungsverfahren
CN110243532A (zh) * 2019-04-22 2019-09-17 西安石油大学 一种管道油气压力监测的光纤光栅压力传感器

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5241794A (en) * 1975-09-29 1977-03-31 Toshiba Corp Underwater exploring device
DE69210041T2 (de) * 1991-12-13 1996-10-31 Honeywell Inc Entwurf von piezoresistivem drucksensor aus silizium
FR2687783B1 (fr) * 1992-02-20 1994-05-20 Sextant Avionique Micro-capteur de pression.
US5528452A (en) * 1994-11-22 1996-06-18 Case Western Reserve University Capacitive absolute pressure sensor
US6388279B1 (en) 1997-06-11 2002-05-14 Denso Corporation Semiconductor substrate manufacturing method, semiconductor pressure sensor and manufacturing method thereof
JP2001050841A (ja) 1999-08-04 2001-02-23 Fujikura Ltd 半導体圧力センサおよびその製造方法
JP2002181648A (ja) * 2000-12-19 2002-06-26 Fujikura Ltd 圧力センサ
JP2002195903A (ja) * 2000-12-26 2002-07-10 Fujikura Ltd 圧力センサ
FI114825B (fi) 2002-02-13 2004-12-31 Vti Technologies Oy Menetelmä kapasitiivisen anturin lämpötilariippuvuuden pienentämiseksi sekä kapasitiivinen anturirakenne
US7499604B1 (en) * 2004-12-12 2009-03-03 Burns David W Optically coupled resonant pressure sensor and process
JP4585426B2 (ja) * 2005-10-31 2010-11-24 アルプス電気株式会社 静電容量型圧力センサ
JP2007225344A (ja) * 2006-02-21 2007-09-06 Epson Toyocom Corp 圧力センサ
JP4916006B2 (ja) * 2007-02-28 2012-04-11 株式会社山武 圧力センサ
WO2011055734A1 (ja) * 2009-11-04 2011-05-12 ローム株式会社 圧力センサおよび圧力センサの製造方法
JP2011220927A (ja) 2010-04-13 2011-11-04 Yamatake Corp 圧力センサ
US8569851B2 (en) 2010-06-18 2013-10-29 General Electric Company Sensor and method for fabricating the same
FR2963099B1 (fr) 2010-07-22 2013-10-04 Commissariat Energie Atomique Capteur de pression dynamique mems, en particulier pour des applications a la realisation de microphones
TWI506249B (zh) * 2011-04-15 2015-11-01 Ind Tech Res Inst 微機電感測裝置
TWI442035B (zh) * 2011-07-22 2014-06-21 Univ Nat Taiwan 壓力感測器及感測陣列
JP5737148B2 (ja) * 2011-11-14 2015-06-17 オムロン株式会社 静電容量型圧力センサとその製造方法及び入力装置
US8590389B2 (en) * 2012-02-10 2013-11-26 Metrodyne Microsystems Corporation, R.O.C. MEMS pressure sensor device and manufacturing method thereof
JP2016519293A (ja) 2013-03-15 2016-06-30 エンドトロニクス インコーポレイテッド 圧力検知インプラント
EP2796844B1 (en) * 2013-04-25 2019-12-25 ams international AG Mems capacitive pressure sensor
FI125959B (fi) * 2013-05-10 2016-04-29 Murata Manufacturing Co Mikroelektromekaaninen laite ja mikroelektromekaanisen laitteen valmistusmenetelmä
FI125960B (fi) * 2013-05-28 2016-04-29 Murata Manufacturing Co Parannettu paineanturi
FI125447B (fi) * 2013-06-04 2015-10-15 Murata Manufacturing Co Parannettu paineanturi
FI126999B (fi) * 2014-01-17 2017-09-15 Murata Manufacturing Co Parannettu paineanturi

Also Published As

Publication number Publication date
KR20150140794A (ko) 2015-12-16
KR101830618B1 (ko) 2018-02-21
CN105229438A (zh) 2016-01-06
US9442032B2 (en) 2016-09-13
US20150226624A1 (en) 2015-08-13
JP6128278B2 (ja) 2017-05-17
TW201502483A (zh) 2015-01-16
JP2016526157A (ja) 2016-09-01
EP2994733B1 (en) 2018-01-31
EP2994733A1 (en) 2016-03-16
CN105229438B (zh) 2017-11-10
FI20135487A (fi) 2014-11-11
WO2014181274A1 (en) 2014-11-13
TWI620921B (zh) 2018-04-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI125958B (fi) Parannettu paineanturi
JP6256619B2 (ja) 改良された圧力センサ構造
US9453775B2 (en) Pressure sensor
US8833171B2 (en) Pressure sensor
KR100486322B1 (ko) 반도체압력센서
JP6195011B2 (ja) 改良された圧力センサー構造
TWI630169B (zh) 製造微機電系統裝置的方法
JP6209270B2 (ja) 加速度センサ
US9493339B2 (en) Micro electro mechanical system
JP2007225344A (ja) 圧力センサ
ES2627013B1 (es) Sensor de presión capacitivo con capacitancias de referencia y método de obtención del mismo
JP2013148495A (ja) 半導体センサ
US20230339741A1 (en) Three-dimensional stress-sensitive device
WO2015163300A1 (ja) 加速度センサ

Legal Events

Date Code Title Description
PC Transfer of assignment of patent

Owner name: MURATA MANUFACTURING CO., LTD.

FG Patent granted

Ref document number: 125958

Country of ref document: FI

Kind code of ref document: B