FI121341B - Hopean suojapinnoitus - Google Patents

Hopean suojapinnoitus Download PDF

Info

Publication number
FI121341B
FI121341B FI20065082A FI20065082A FI121341B FI 121341 B FI121341 B FI 121341B FI 20065082 A FI20065082 A FI 20065082A FI 20065082 A FI20065082 A FI 20065082A FI 121341 B FI121341 B FI 121341B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
coating
silver
ald
atomic layer
layer deposition
Prior art date
Application number
FI20065082A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI20065082A (fi
FI20065082A0 (fi
Inventor
Pekka Soininen
Milja Maekelae
Original Assignee
Beneq Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=35953681&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=FI121341(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Beneq Oy filed Critical Beneq Oy
Priority to FI20065082A priority Critical patent/FI121341B/fi
Publication of FI20065082A0 publication Critical patent/FI20065082A0/fi
Priority to EP07704826.2A priority patent/EP1994202B2/en
Priority to AT07704826T priority patent/ATE548482T1/de
Priority to PCT/FI2007/050056 priority patent/WO2007088249A1/en
Priority to JP2008552836A priority patent/JP5297203B2/ja
Priority to US12/162,051 priority patent/US8883258B2/en
Priority to EP12158081A priority patent/EP2468921A1/en
Priority to KR1020087018930A priority patent/KR101442850B1/ko
Priority to EA200870142A priority patent/EA012990B1/ru
Priority to ES07704826T priority patent/ES2379892T5/es
Priority to CNA2007800040863A priority patent/CN101379215A/zh
Priority to DK07704826.2T priority patent/DK1994202T4/da
Priority to CN2013100854271A priority patent/CN103215560A/zh
Priority to AU2007211451A priority patent/AU2007211451B2/en
Publication of FI20065082A publication Critical patent/FI20065082A/fi
Publication of FI121341B publication Critical patent/FI121341B/fi
Application granted granted Critical
Priority to US14/445,651 priority patent/US20140335272A1/en
Priority to FIU20154053U priority patent/FI10853U1/fi

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/40—Oxides
    • C23C16/403—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A44—HABERDASHERY; JEWELLERY
    • A44C—PERSONAL ADORNMENTS, e.g. JEWELLERY; COINS
    • A44C27/00—Making jewellery or other personal adornments
    • A44C27/001—Materials for manufacturing jewellery
    • A44C27/005—Coating layers for jewellery
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/40—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/40—Oxides
    • C23C16/405—Oxides of refractory metals or yttrium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
    • C23C16/45555—Atomic layer deposition [ALD] applied in non-semiconductor technology

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Adornments (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

Hopean suojapinnoitus Keksinnön ala
Esillä oleva keksintö liittyy menetelmään hopeatuotteiden pinnoittamiseksi ja erityisemmin patenttivaatimuksen 1 johdannon mukaiseen menetelmään hopean pinnoittamiseksi.
Keksinnön tausta
Hopea tummuu normaalisti ilmakehässä erityisesti rikin läsnä ollessa. Teollisuusympäristöt ja luonnolliset liuotusprosessit ovat tärkeitä lähteitä hopean tummumiseksi. Kun hopea tummuu muodostuu hopean pinnalle sulfi-deja, oksideja tai karbonaatteja. Hopean ja hopeatavaroiden tummuminen on ongelma esimerkiksi käyttötavaroille, koruille ja lahjatavarateollisuudelle sekä hopeatuotteiden loppukäyttäjille. Tummuminen heikentää tuotteen ulkonäköä kun muodostuu tumman harmaan värinen tai musta kerros tai pisteitä. Se voidaan poistaa, mutta tämä on yleensä työteliäs prosessi ja prosessi voi vaikuttaa tuotteen ulkonäköön negatiivisesti. Myös teknisissä sovelluksissa hopean tummuminen heikentää optisia ominaisuuksia, kuten hopean ja hopeatuotteiden ja osien heijastuskykyä.
Tunnetussa tekniikassa tunnetaan menetelmiä tummumisen estämiseksi etukäteen. Eräs olemassa oleva menetelmä tummumisen estämiseksi käsittää hopeaseosten käyttämisen, jotka on suunniteltu vastustamaan hapettumista ja käsittävät erityisten lisäaineiden, kuten piin tai germaniumin sekoittamisen hopean kanssa. Eräs toinen olemassa oleva menetelmä tummumisen estämiseksi käsittää puhtaan hopean pinnoittamisen käyttäen rodiumia. Eräs ongelma, joka liittyy edelliseen järjestelyyn, jossa käytetään hopeaseoksia on se, että menetelmä vaatii kaikkien tekijöiden huolellista ohjaamista valmistuksen aikana, kuten erittäin puhtaiden uusien metallien käyttöä ja lämpötilan ohjausta sulatuksessa ja lämpökäsittelyssä. Tämän seurauksena valmistusprosessin ja laitteiston aikaansaaminen prosessin suorittamiseksi on erittäin kallista. Kustannus on myös estävä menetelmässä hopean pinnoittamiseksi ro-diumilla. Lisäksi rodium-pinnoitteella on sinivalkoinen sävy ja täten rodiumilla pinnoitettu hopeatuote voi tulla visuaalisesti erilaiseksi kuin puhdas hopea.
Muut olemassa olevat menetelmät hopean tummumisen estämiseksi käsittävät valmiin hopeatuotteen, -tavaran tai -osan pinnoittamisen menetelmällä, joka aikaansaa materiaalikerroksen hopeatuotteelle, -kappaleelle tai 2 osalle, joka estää tai hidastaa valmiin hopeatuotteen, -kappaleen tai -osan tummumista. Tällaiset tunnetun tekniikan menetelmät käsittävät hopeatuotteen lakkaamisen. Ongelma näissä tunnetuissa pinnoitusmenetelmissä on se, että pinnoituskerros ei ole yhdenmukainen koko tuotteella tai tuotteen osalla, joka on pinnoitettu. Paksuusvaihtelut pinnoitekerroksessa hopeatuotteen päällä aiheuttavat värivaihteluita esimerkiksi interferenssin tai muiden optisten vaihteluiden takia, jotka eivät ole edullisia. Nämä tunnetut menetelmät tuottavat myös suhteellisen paksut kerrokset pinnoitusmateriaaleja hopeatuotteille. Tällä on lisäksi negatiivinen vaikutus hopeatuotteen ulkonäköön. Lakka on myös keltaista ja se irtoaa pois.
Keksinnön lyhyt selitys
Esillä olevan hakemuksen tavoite on aikaansaada menetelmä edellisten epäkohtien helpottamiseksi. Hakemuksen tavoitteet saavutetaan patenttivaatimuksen 1 tunnusmerkkiosan mukaisella menetelmällä. Täten esillä oleva keksintö on tunnettu ohuen kerroksen suojamateriaalia aikaansaamisesta ainakin osalle hopeatuotteen, -tavaran tai -osan pintaa käyttäen ALD-menetel-mää (Atomic Layer Deposition, atomikerroskasvatus).
Edulliset suoritusmuodot on selitetty epäitsenäisissä patenttivaatimuksissa.
Termi ohut kerros tarkoittaa tässä yhteydessä kerrosta, jonka paksuus on välillä 1 nm ja 1 pm.
Esillä olevan keksinnön ratkaisu perustuu hopean suojaamiseksi tummumiselta pinnoittamalla se käyttäen ALD-menetelmää (Atomic Layer Deposition). Menetelmässä ohutkalvopinnoite kerrostetaan hopeaesineen pinnalle. Esillä olevassa ratkaisussa hopea pinnoitetaan yhdellä tai useammalla mo-lekyylikerroksella alumiinioksidia AI2O3. Trimetyylialumiinia (CH3)3AI voidaan käyttää prekursorina ja vettä H20 hapen lähteenä. Synnytetyn ohutkalvon paksuus on noin 10 nm ja pinnoitus suoritetaan noin 200 °C lämpötilassa.
Esillä olevan ratkaisun etu on se, että on mahdollista tuottaa ohut pinnoite, joka tehokkaasti estää hopean tummumista vaikuttamatta hopeatuotteen ulkonäköön. Myös hopean optiset ominaisuudet pysyvät olennaisesti muuttumattomina. Täten pinnoitus passivoi hopean pinnan. Menetelmällä synnytetty pinnoite on ohut, tiivis, tasainen ja väritön ja se seuraa tarkasti hopea-kappaleen muotoja, myös kolmiulotteisia muotoja, ilman vaihteluita pinnoitteessa. Esillä olevan ratkaisun avulla saavutetaan stabiili, yhdenmukainen ja 3 puoleensavetävä pinnoite. Synnytetty pinnoite on yhteensopiva elintarvikkeiden kanssa. Pinnoitusmateriaalin kulutus on alhainen ja täten pinnoituskustan-nuksia voidaan alentaa. Pinnoitekerroksen paksuutta voidaan ohjata vaihtelemalla molekyylikerrosten lukumäärää pinnoituksessa. Pinnoitusprosessi ei ole herkkä pienille muutoksille prosessiparametreissa ja täten menetelmän toistettavuus on hyvä. Tämä ohut kerros on riittävä estämään hopean tummuminen, mutta ei vaikuta hopeatuotteen ulkonäköön kuten perinteiset pinnoitusmenetelmät. Pinnoite voi olla niin ohut, että ihmissilmä ei näe sitä. Tällaista yhdenmukaista kerrosta ei ole mahdollista aikaansaada kolmiulotteiselle kappaleelle esimerkiksi CVD-menetelmällä (Chemical Vapour Deposition), koska pinnoi-tusprosessia ei voida ohjata sellaisella tarkkuudella kuin ALD-menetelmää. CVD ja muut samanlaiset menetelmät vaativat myös, että pinnoitettavaa kappaletta pitää pyörittää pinnoitusmateriaalin saamiseksi kolmiulotteisen kappaleen koko pinnalle.
Piirustusten lyhyt selitys
Seuraavassa keksintö selitetään tarkemmin edullisten suoritusmuotojen avulla viittaamalla oheisiin piirustuksiin, joissa kuvio 1 on kaavamainen esitys hopean pinnoitusprosessista alumiinioksidilla esillä olevan hakemuksen ratkaisun mukaisesti; kuvio 2 on kaavamainen esitys esillä olevan hakemuksen ratkaisun mukaisen pinnoitteen rakenteesta.
Keksinnön yksityiskohtainen selitys
Atomic Layer Deposition on ohutkalvotekniikka, joka sallii ohutkal-vopinnoitteiden, joilla on nanomittakaavan paksuus, valmistamisen. ALD-tek-niikkaa voidaan kutsua myös ALC-tekniikaksi (Atomic Layer Coatings) tai ALE-tekniikaksi (Atomic Layer Epitaxy). ALD perustuu kaasufaasiprosessiin, jossa primaariset yhdisteet tyypillisesti höyrystetään ja pulssitetaan reaktiokammioon erikseen. Ohutkalvo syntyy, kun primaariyhdisteiden välisistä reaktioista saatu materiaali kerrostetaan pinnoitettavalle pinnalle. Materiaali kerrostetaan pinnalle siten, että peräkkäiset molekyylitason kerroksen kerrostetaan yksitellen. Tätä voidaan kutsua materiaalin "kasvatukseksi". ALD-tekniikan avulla saadut ohutkalvomateriaalit sisältävät esimerkiksi metallioksidit ja metallinitridit.
4
Atomic Layer Deposition -menetelmässä ohutkalvopinnoite muodostetaan hopean pinnalle kerrostamalla yhden tai useamman pinnoitusmateriaa-lin peräkkäisiä molekyylikerroksia.
Esillä olevan hakemuksen ratkaisun mukaisesti ALD-tekniikka on sovitettu pinnoittamaan kappale, joka käsittää hopeaa. Esillä olevassa ratkaisussa kappale, joka käsittää hopeaa pinnoitetaan pinnoitteella, joka käsittää alumiinioksidia AI2O3. Kuitenkin kaikkia värittömiä metallioksideja, kuten zir-koniumoksidia ZrC>2, titaanioksidia T1O2, kromioksidia Cr2C>3, indiumoksidia Ιη2θ3, niobioksidia Nb20s tai mitä tahansa muuta ALD-tekniikalla saatavaa materiaali voidaan käyttää.
Kuvio 1 kuvaa esillä olevan ratkaisun suoritusmuodon, joka esittää hopeapinnan S pinnoittamisen alumiinioksidilla AI2O3. Pinnoite rakennetaan alumiinioksidin molekyylikerroksista. Kuvio 1 esittää tilanteen, jossa trimetyy-lialumiinia (Chh^AI ja vettä H2O käytetään primaarisina materiaaleina. Jos hopea pinnoitetaan ZrC>2:lla, esimerkiksi ZrCU ja H20 voidaan käyttää primaarisina materiaaleina.
Vaiheessa 1-1 pinta S altistetaan kaasulle, joka käsittää trimetyy-lialumiinia, missä tapauksessa kerros trimetyylialumiinin molekyylejä (CH3)3AI muodostuu pinnalle S. Vaiheessa 1-2 jäljelle jäänyt kaasu on poistettu ja kerros, joka käsittää trimetyylialumiinin molekyylejä (CH3)3AI jää pinnalle S. Vaiheessa 1-3 pinta on edelleen altistettu vedelle H2O. Trimetyylialumiinin (CH3)3AI ja veden välisessä reaktiossa muodostuu alumiinioksidia AI2O3. Reaktio etenee vaiheittain ja myös muita yhdisteitä voi muodostua, kuten alumiinihydroksidia AIOH ja metaania CH4. Reaktion aikana alumiinioksidia AI2O3 kerrostetaan pinnalle S. Vaihe 1-4 esittää tilanteen, jossa reagoimaton trimetyy-lialumiini (CH3)3AI ja mahdolliset muut yhdisteet on poistettu ja pinnalle S on kerrostettu kerros alumiinioksidia AI2O3.
Esillä olevan ratkaisun ohutkalvo saadaan kasvattamalla materiaalia. Tämä suoritetaan toistamalla kuvion 1 vaiheet 1-1 -1-4 useita kertoja siten, että peräkkäisiä alumiinioksidin molekyylien kerroksia kerrostetaan pinnalle S. Pinnoitteenn paksuutta voidaan ohjata vaihtelemalla molekyylikerrosten lukumäärää.
Kuvio 2 kuvaa tilanteen, jossa pinnoite hopean pinnalla S käsittää neljä molekyylikerrosta alumiinioksidia Al203. Todellisuudessa peräkkäisten alumiinioksidin AI2O3 kerrosten lukumäärä voi olla muu kuin neljä.
5
Pinnoitusprosessissa on yleensä toivottavaa pinnoite, joka on mahdollisimman ohut siten, että se on riittävän paksu omaamaan halutut ominaisuudet. Esillä olevan ratkaisun mukaisesti pinnoitteen paksuus on edullisesti alueella 1 nanometri - 1 mikrometri, edullisemmin alueella 5 - 200 nanometriä ja edullisimmin noin 10 nanometriä. Pinnoitteen paksuutta voidaan säätää vaihtelemalla pinnoitusmateriaalin molekyylikerrosten lukumäärää.
Pinnoitusprosessissa käytetty lämpötila riippuu materiaalin ominaisuuksista. Monissa tapauksissa on edullista käyttää suhteellisen korkeaa lämpötilaa. Korkea lämpötila sallii molekyylien höyrystyä heti ja saadaan pinnoite, jolla on riittävän hyvä laatu. Esillä olevan ratkaisunmukaisesti pinnoituslämpöti-la on edullisesti alueella 80 - 400 °C, edullisemmin alueella 120 - 300 °C ja edullisimmin noin 200 °C.
Esillä olevan ratkaisun erään toisen suoritusmuodon mukaisesti vain osa kappaleen pinnasta pinnoitetaan.
Esillä olevan ratkaisun vielä erään toisen suoritusmuodon mukaisesti menetelmää sovelletaan yhdessä yhden tai useamman muun kuin tässä selitetyn suojausmenetelmän kanssa. Tässä tapauksessa voidaan soveltaa esimerkiksi hopeaseosten, jotka vastustavat tummumista, käyttämistä.
Esillä olevan ratkaisun vielä erään toisen suoritusmuodon mukaisesti menetelmää sovelletaan hopealla päällystettyjen kappaleiden pinnoittamiseen.
Esillä olevan ratkaisun vielä erään toisen suoritusmuodon mukaisesti menetelmää sovelletaan hopeaseosten pinnoittamiseen.
Esillä olevaa ratkaisua voidaan tietyissä tapauksissa soveltaa kappaleiden tai pintojen pinnoittamiseen, jotka käsittävät pronssia, kuparia, ja/tai messinkiä. Toisin sanoen menetelmää voidaan käyttää pinnoittamaan myös muita metalleja siten, että metallin ulkonäköön ei vaikuteta.
Menetelmä mahdollistaa monen muotoisten kappaleiden pinnoittamisen. Täten sitä voidaan soveltaa korujen, koristeiden, ruokailuvälineiden jne. sekä monien teollisuuskomponenttien pinnoittamiseen.
Pitää huomata, että alumiinioksidin käyttö ei ole välttämättä vaadittua esillä olevassa ratkaisussa; mitä tahansa muuta ALD-tekniikalla saatavaa materiaalia, kuten titaanioksidia (T1O2), tantaalioksidia (Ta20s) ja/tai zir-koniumoksidia (ZrC>2) voidaan myös käyttää. Eri pinnoitusmateriaaleja voidaan käyttää samanaikaisesti. Saadulla pinnoitteella pitää olla halutut ominaisuudet ja sen pitää olla yhteensopiva pinnoitettavan metallin, kuten hopean, kanssa.
6 (CH3)3AI:n sijaan myös muita aineita voidaan käyttää prekursoreina, kuten alumiinikloridia AICI3, ja/tai trietyylialumiinia (CH3CH2)3AI. Veden sijaan myös muita yhdisteitä, kuten vetyperoksidia H2O2, voidaan käyttää hapen lähteenä. Pinnoitusmateriaalin valinta voi riippua sovelluksesta. Esimerkiksi ruokailuvälineet tai korut voivat vaatia bioyhteensopivan pinnoitekerroksen. Esimerkki bio-yhteensopivasta pinnoitusmateriaalista on alumiinioksidi AI2O3. Kuviossa 1 kuvatut reaktiot voivat tapahtua eri järjestyksessä ja myös muita reaktiota ja/tai vaiheita voidaan suorittaa.
On myös mahdollista aikaansaada pinnoite, jolla on nanolaminaatti-rakenne käyttäen ALD:tä kahden tai useamman eri materiaalin kanssa. Sitten suojamateriaali aikaansaadaan hopeatuotteen pinnalle siten, että kerrostetaan yksi tai useampi peräkkäinen molekyylikerros ja sitten toinen suojamateriaali aikaansaadaan hopeatuotteen pinnalle siten, että kerrostetaan yksi tai useampi molekyylikerros. Tätä voidaan jatkaa kunnes ennalta määrätty pinnoituspak-suus saavutetaan. On myös mahdollista käyttää kolmea tai useampaa eri materiaalia mainitulla peräkkäisellä tavalla. Tämä aikaansaa pinnoitteen, joka käsittää kaksi tai useampia kerroksia kahta tai useampaa suojamateriaalia.
Aikaansaatu pinnoite on yleisesti niin ohut, että se on näkymätön ihmissilmälle.
Alan ammattilaiselle on itsestään selvää, että tekniikan kehittyessä keksinnöllinen kokonaisuus voidaan toteuttaa monella tavalla. Keksintö ja sen suoritusmuodot eivät rajoitu yllä selitettyihin esimerkkeihin, vaan ne voivat vaihdella patenttivaatimusten suojapirin sisällä.

Claims (9)

1. Menetelmä hopeatuotteiden, -tavaroiden tai -osien suojaamiseksi tummumista vastaan, tunnettu ohuen pinnoitteen suojaavaa materiaalia aikaansaamisesta ainakin osalle hopeatuotteen, -tavaran tai -osan pintaa käyttäen ALD-menetelmää (Atomic Layer Deposition).
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu ohuen pinnoitteen, jonka paksuus on alueella 1 nm - 1 pm, edullisemmin alueella 5 nm - 200 nm ja edullisimmin noin 10 nm aikaansaamisesta.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu ohuen pinnoitteen aikaansaamisesta aikaansaamalla ainakin yksi kerros me-tallioksidia käyttäen ALD-menetelmää (Atomic Layer Deposition).
4. Patenttivaatimuksen 3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että metallioksidit käsittävät alumiinioksidin AI2O3 titaanioksidin "ΠΟ2, kromioksidin Cr2C>3 zirkoniumoksidin ZrC>2, indiumoksidin Ιη2θ3, niobioksidin Nb205.
5. Minkä tahansa patenttivaatimuksen 1 - 4 mukainen menetelmä, tunnettu ohuen pinnoitteen aikaansaamisesta aikaansaamalla eri suojaa-vien materiaalien peräkkäisiä kerroksia ainakin osalle hopeatuotteen, -tavaran tai -osan pintaa käyttäen ALD-menetelmää (Atomic Layer Deposition).
6. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu värittömän pinnoitteen aikaansaamisesta ainakin osalle hopeatuotteen, -tavaran tai -osan pintaa.
7. Minkä tahansa patenttivaatimuksen 1 - 6 mukainen menetelmä, tunnettu mainitun pinnoituksen suorittamisesta lämpötilassa, joka on edullisesti alueella 80 - 400 °C, edullisemmin alueella 120 - 300 °C ja edullisimmin noin 200 °C.
8. Minkä tahansa patenttivaatimuksen 1 - 8 mukainen menetelmä, tunnettu hopeasta tehdyn korun, koristeen, ruokailuvälineen ja/tai teollisen komponentin pinnoittamisesta.
9. ALD-menetelmän (Atomic Layer Deposition) käyttö ohuen suo-jaavan pinnoitteen, jonka paksuus on välillä 1 nm -1 pm aikaansaamiseksi ainakin osalle hopeatuotteen, -tavaran tai osan pintaa käyttäen ALD-menetelmää (Atomic Layer Deposition).
FI20065082A 2006-02-02 2006-02-02 Hopean suojapinnoitus FI121341B (fi)

Priority Applications (16)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20065082A FI121341B (fi) 2006-02-02 2006-02-02 Hopean suojapinnoitus
AU2007211451A AU2007211451B2 (en) 2006-02-02 2007-01-31 Protective coating of silver
KR1020087018930A KR101442850B1 (ko) 2006-02-02 2007-01-31 은의 보호 피복
CNA2007800040863A CN101379215A (zh) 2006-02-02 2007-01-31 银的保护性涂敷
PCT/FI2007/050056 WO2007088249A1 (en) 2006-02-02 2007-01-31 Protective coating of silver
JP2008552836A JP5297203B2 (ja) 2006-02-02 2007-01-31 銀の保護被覆
US12/162,051 US8883258B2 (en) 2006-02-02 2007-01-31 Protective coating of silver
EP12158081A EP2468921A1 (en) 2006-02-02 2007-01-31 Protective coating of metal
EP07704826.2A EP1994202B2 (en) 2006-02-02 2007-01-31 Protective coating of silver
EA200870142A EA012990B1 (ru) 2006-02-02 2007-01-31 Защитное покрытие для серебра
ES07704826T ES2379892T5 (es) 2006-02-02 2007-01-31 Revestimiento protector de plata
AT07704826T ATE548482T1 (de) 2006-02-02 2007-01-31 Schutzbeschichtung für silber
DK07704826.2T DK1994202T4 (da) 2006-02-02 2007-01-31 Beskyttelsescoating til sølv
CN2013100854271A CN103215560A (zh) 2006-02-02 2007-01-31 银的保护性涂敷
US14/445,651 US20140335272A1 (en) 2006-02-02 2014-07-29 Protective coating of silver
FIU20154053U FI10853U1 (fi) 2006-02-02 2015-03-17 Hopeakoru, -kolikko, -mitali, -ruokailuväline tai -koriste-esine

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20065082A FI121341B (fi) 2006-02-02 2006-02-02 Hopean suojapinnoitus
FI20065082 2006-02-02

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI20065082A0 FI20065082A0 (fi) 2006-02-02
FI20065082A FI20065082A (fi) 2007-08-03
FI121341B true FI121341B (fi) 2010-10-15

Family

ID=35953681

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI20065082A FI121341B (fi) 2006-02-02 2006-02-02 Hopean suojapinnoitus
FIU20154053U FI10853U1 (fi) 2006-02-02 2015-03-17 Hopeakoru, -kolikko, -mitali, -ruokailuväline tai -koriste-esine

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FIU20154053U FI10853U1 (fi) 2006-02-02 2015-03-17 Hopeakoru, -kolikko, -mitali, -ruokailuväline tai -koriste-esine

Country Status (12)

Country Link
US (2) US8883258B2 (fi)
EP (2) EP1994202B2 (fi)
JP (1) JP5297203B2 (fi)
KR (1) KR101442850B1 (fi)
CN (2) CN103215560A (fi)
AT (1) ATE548482T1 (fi)
AU (1) AU2007211451B2 (fi)
DK (1) DK1994202T4 (fi)
EA (1) EA012990B1 (fi)
ES (1) ES2379892T5 (fi)
FI (2) FI121341B (fi)
WO (1) WO2007088249A1 (fi)

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200840880A (en) * 2007-04-13 2008-10-16 Hsin-Chih Lin Method of forming protection layer on contour of workpiece
FI20070991L (fi) * 2007-12-19 2009-06-20 Beneq Oy Lasituote, tuotteen käyttö ja valmistusmenetelmä
TR201910676T4 (tr) 2008-07-18 2019-08-21 Neogi Jayant Değerli taşlar üzerinde nanokristal elmas kaplamaların üretilmesine yönelik yöntem.
DE102009041264A1 (de) 2009-09-11 2011-03-24 IPHT Jena Institut für Photonische Technologien e.V. Verfahren zur Herstellung von optisch aktiven Nanostrukturen
DE102009053889B4 (de) 2009-11-20 2014-03-27 C. Hafner Gmbh + Co. Kg Verfahren zur Beschichtung einer metallischen Substratoberfläche mit einer durch einen ALD-Prozess aufgebrachten Materialschicht
US8802202B2 (en) 2010-03-05 2014-08-12 Suneeta S. Neogi Method for imparting tarnish protection or tarnish protection with color appearance to silver, silver alloys, silver films, silver products and other non precious metals
US20110236654A1 (en) * 2010-03-26 2011-09-29 Wen-Kuang Hsu Method of surface treatment and surface treated article provied by the same
CN102206810A (zh) * 2010-03-30 2011-10-05 徐文光 一种表面处理方法以及使用该方法的经表面处理的物品
JP5864089B2 (ja) 2010-08-25 2016-02-17 日亜化学工業株式会社 発光装置の製造方法
CN101974734B (zh) * 2010-11-30 2012-11-21 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 具有多层复合防护膜的基底材料的制备方法
ITVR20120007A1 (it) * 2012-01-13 2013-07-14 Patros S R L Prodotto manufatto per la gioielleria e/o l'orificeria e/o la bigiotteria a base di ossido di zirconio e relativo metodo
US9334573B2 (en) 2012-01-16 2016-05-10 Hitachi Chemical Company, Ltd. Layered silicate silver surface treatment agent, sulfidation prevention film and light-emitting device with treated silver layer
JP5857786B2 (ja) * 2012-02-21 2016-02-10 日亜化学工業株式会社 半導体発光素子の製造方法
DE102013100818B4 (de) * 2013-01-28 2023-07-27 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Optoelektronischer Halbleiterchip und Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterchips
CN103757604A (zh) * 2013-12-25 2014-04-30 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 用于银制品表面防护涂层的制备方法
CN105849597A (zh) * 2013-12-31 2016-08-10 美国圣戈班性能塑料公司 具有优良的光学和太阳能性能的复合膜
CN104060239B (zh) * 2014-06-06 2017-05-10 华中科技大学 一种金属物品表面保护方法
US20170212280A1 (en) * 2014-07-07 2017-07-27 Scint-X Ab Production of a thin film reflector
US11365481B2 (en) * 2015-10-06 2022-06-21 City University Of Hong Kong Homogeneous and transparent protective coatings for precious metals and copper alloys
EP3173507A1 (de) * 2015-11-25 2017-05-31 Umicore AG & Co. KG Verfahren zur metallorganischen gasphasenabscheidung unter verwendung von lösungen von indiumalkylverbindungen in kohlenwasserstoffen
EP3455673A4 (en) 2016-05-09 2019-12-18 Sage Electrochromics, Inc. ELECTROCHROME DEVICE WITH MEANS FOR PREVENTING ION MIGRATION AND METHOD FOR SHAPING THEM
US10276411B2 (en) 2017-08-18 2019-04-30 Applied Materials, Inc. High pressure and high temperature anneal chamber
US10633740B2 (en) 2018-03-19 2020-04-28 Applied Materials, Inc. Methods for depositing coatings on aerospace components
EP3784815A4 (en) 2018-04-27 2021-11-03 Applied Materials, Inc. PROTECTION OF COMPONENTS AGAINST CORROSION
US11009339B2 (en) 2018-08-23 2021-05-18 Applied Materials, Inc. Measurement of thickness of thermal barrier coatings using 3D imaging and surface subtraction methods for objects with complex geometries
EP3626855A1 (fr) 2018-09-21 2020-03-25 The Swatch Group Research and Development Ltd Procede pour ameliorer l'eclat d'une surface argentee finale d'un substrat protegee contre le ternissement de l'argent par une couche de protection
EP3626854A1 (fr) 2018-09-21 2020-03-25 The Swatch Group Research and Development Ltd Procede pour ameliorer l'adherence d'une couche de protection contre le ternissement de l'argent sur un substrat comprenant une surface argentee
EP3626856A1 (fr) 2018-09-21 2020-03-25 The Swatch Group Research and Development Ltd Substrat comprenant une surface argentee protegee contre le ternissement de l'argent et procede de fabrication d'un tel substrat
JP7312056B2 (ja) * 2019-01-07 2023-07-20 日機装株式会社 半導体発光素子および半導体発光素子の製造方法
CN109750273B (zh) * 2019-01-25 2020-01-21 中国地质大学（北京） 一种基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法
US11732353B2 (en) 2019-04-26 2023-08-22 Applied Materials, Inc. Methods of protecting aerospace components against corrosion and oxidation
US11794382B2 (en) 2019-05-16 2023-10-24 Applied Materials, Inc. Methods for depositing anti-coking protective coatings on aerospace components
US11697879B2 (en) 2019-06-14 2023-07-11 Applied Materials, Inc. Methods for depositing sacrificial coatings on aerospace components
US11466364B2 (en) 2019-09-06 2022-10-11 Applied Materials, Inc. Methods for forming protective coatings containing crystallized aluminum oxide
CN111172511A (zh) * 2020-01-17 2020-05-19 胜科纳米（苏州）有限公司 一种在有机材料表面制备金属膜层的方法
US11519066B2 (en) 2020-05-21 2022-12-06 Applied Materials, Inc. Nitride protective coatings on aerospace components and methods for making the same
CN115734826A (zh) 2020-07-03 2023-03-03 应用材料公司 用于翻新航空部件的方法
KR102392451B1 (ko) * 2020-09-08 2022-04-29 국민대학교산학협력단 시냅틱 트랜지스터 및 이의 제조 방법
US11185139B1 (en) * 2021-03-04 2021-11-30 Oujie Kevin Tong Coating compositions and method for jewelries

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE393967B (sv) * 1974-11-29 1977-05-31 Sateko Oy Forfarande och for utforande av stroleggning mellan lagren i ett virkespaket
CH591566A5 (en) 1975-02-06 1977-09-30 Selve Usines Metallurg Suisses Transparent layer of amorphous alumina - applied to silver or silver plated objects for decorative or industrial applications
FI57975C (fi) * 1979-02-28 1980-11-10 Lohja Ab Oy Foerfarande och anordning vid uppbyggande av tunna foereningshinnor
US4495254A (en) * 1981-05-18 1985-01-22 Westinghouse Electric Corp. Protectively-coated gold-plated article of jewelry or wristwatch component
JPS62180071A (ja) 1986-01-31 1987-08-07 Sumitomo Electric Ind Ltd 表面に透明硬質膜を有する貴金属製品
JPS63213655A (ja) 1987-02-27 1988-09-06 Nippon Dento Kogyo Kk 装身具
DE4415122A1 (de) 1994-04-29 1995-11-02 Wmf Wuerttemberg Metallwaren Verfahren zur Verhinderung des Anlaufens von Gegenständen
JPH09176868A (ja) * 1995-12-26 1997-07-08 Yoichi Murayama 銀製品への変色防止用透明保護膜形成法
US6897119B1 (en) * 1999-12-22 2005-05-24 Genus, Inc. Apparatus and method to achieve continuous interface and ultrathin film during atomic layer deposition
US7513815B2 (en) * 1999-12-23 2009-04-07 General Electric Company Optimal silicon dioxide protection layer thickness for silver lamp reflector
US7122085B2 (en) 2002-07-30 2006-10-17 Asm America, Inc. Sublimation bed employing carrier gas guidance structures
US7132697B2 (en) * 2003-02-06 2006-11-07 Weimer Alan W Nanomaterials for quantum tunneling varistors
US6773757B1 (en) * 2003-04-14 2004-08-10 Ronald Redline Coating for silver plated circuits
US20100123993A1 (en) * 2008-02-13 2010-05-20 Herzel Laor Atomic layer deposition process for manufacture of battery electrodes, capacitors, resistors, and catalyzers

Also Published As

Publication number Publication date
KR20080103517A (ko) 2008-11-27
US8883258B2 (en) 2014-11-11
CN103215560A (zh) 2013-07-24
ATE548482T1 (de) 2012-03-15
JP5297203B2 (ja) 2013-09-25
FI20065082A (fi) 2007-08-03
JP2009525406A (ja) 2009-07-09
FI20065082A0 (fi) 2006-02-02
EP1994202A4 (en) 2010-04-14
DK1994202T3 (da) 2012-04-02
US20090004386A1 (en) 2009-01-01
EA200870142A1 (ru) 2009-02-27
EP1994202B1 (en) 2012-03-07
WO2007088249A1 (en) 2007-08-09
EA012990B1 (ru) 2010-02-26
AU2007211451B2 (en) 2011-08-11
CN101379215A (zh) 2009-03-04
ES2379892T3 (es) 2012-05-04
KR101442850B1 (ko) 2014-11-19
EP2468921A1 (en) 2012-06-27
EP1994202A1 (en) 2008-11-26
DK1994202T4 (da) 2020-02-03
ES2379892T5 (es) 2020-06-18
FI10853U1 (fi) 2015-04-27
US20140335272A1 (en) 2014-11-13
AU2007211451A1 (en) 2007-08-09
EP1994202B2 (en) 2019-12-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI121341B (fi) Hopean suojapinnoitus
JP7239281B2 (ja) 複雑腕時計コンポーネントのための保護コーティング
EP2371993A1 (en) Method of surface treatment and surface treated article provided by the same
FI117728B (fi) Monikerrosmateriaali ja menetelmä sen valmistamiseksi
WO2008041562A1 (fr) Pièce décorative et procédé de fabrication de celle-ci
TW200626743A (en) Process of using microwave deposition of metal oxide onto an organic substrate
EP2507405A1 (en) Method for forming a decorative coating on a gemstone, a decorative coating on a gemstone, and uses of the same
KR101868852B1 (ko) 진공증착기법을 통해 고품격 멀티컬러 디자인을 갖는 패션 주얼리의 제조 방법
US20120218638A1 (en) Method for forming a decorative coating, a coating, and uses of the same
JP6857222B2 (ja) 銀面を有する基材に対する曇りから銀を保護する層を接着させて材料を作る方法
JPH11314966A (ja) ジルコニアに基づく物品、腕時計の耐摩耗性外側部分としての使用方法及び製造方法
JP2022501500A (ja) 銀変色から保護された銀メッキ表面を含む基材およびそのような基材の製造方法
EP2496730A1 (en) A method for forming an electrically conductive oxide film, an electrically conductive oxide film, and uses for the same
CH714139A2 (fr) Revêtement protecteur pour composant horloger complexe.
PL240327B1 (pl) Sposób wytwarzania powłok antyalergicznych na powierzchni przedmiotów codziennego użytku
Aitchison et al. Novel optical coating technology for freeform and conformal optics
JP3117502U (ja) 装飾具におけるゲルマニウム層の保護皮膜積層構造
Forte et al. a Suitable Substrate for ALD?: A Re-view. Polymers 2021, 13, 1346
Wells Vapour Deposition: Thermal Characterization and Application of Metal Oxide Thin Films
JPH04141592A (ja) 装飾品の金属調有色外装部の着色方法

Legal Events

Date Code Title Description
FG Patent granted

Ref document number: 121341

Country of ref document: FI