FI118159B - Förfarande för att bilda en elektrokatalytisk yta på en elektrod och elektrod - Google Patents

Förfarande för att bilda en elektrokatalytisk yta på en elektrod och elektrod Download PDF

Info

Publication number
FI118159B
FI118159B FI20051059A FI20051059A FI118159B FI 118159 B FI118159 B FI 118159B FI 20051059 A FI20051059 A FI 20051059A FI 20051059 A FI20051059 A FI 20051059A FI 118159 B FI118159 B FI 118159B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
coating
oxide
electrode
manganese dioxide
metal
Prior art date
Application number
FI20051059A
Other languages
English (en)
Finnish (fi)
Other versions
FI20051059A0 (sv
FI20051059A (sv
Inventor
Olli Hyvaerinen
Karri Osara
Michael Barker
Original Assignee
Outotec Oyj
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Outotec Oyj filed Critical Outotec Oyj
Publication of FI20051059A0 publication Critical patent/FI20051059A0/sv
Priority to FI20051059A priority Critical patent/FI118159B/sv
Priority to EA200800705A priority patent/EA012053B1/ru
Priority to JP2008536068A priority patent/JP4834103B2/ja
Priority to AU2006303250A priority patent/AU2006303250B2/en
Priority to KR1020087009293A priority patent/KR101383524B1/ko
Priority to BRPI0617694-1A priority patent/BRPI0617694A2/pt
Priority to CA2626720A priority patent/CA2626720C/en
Priority to CN2006800391668A priority patent/CN101292057B/zh
Priority to US12/090,638 priority patent/US7871504B2/en
Priority to PCT/FI2006/000314 priority patent/WO2007045716A1/en
Priority to EP20060794090 priority patent/EP1937864A4/en
Priority to PE2006001263A priority patent/PE20070862A1/es
Publication of FI20051059A publication Critical patent/FI20051059A/sv
Application granted granted Critical
Publication of FI118159B publication Critical patent/FI118159B/sv
Priority to ZA200803109A priority patent/ZA200803109B/xx
Priority to NO20082277A priority patent/NO20082277L/no

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
    • C23C4/10—Oxides, borides, carbides, nitrides or silicides; Mixtures thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells
    • C25C7/02—Electrodes; Connections thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C24/00—Coating starting from inorganic powder
    • C23C24/02—Coating starting from inorganic powder by application of pressure only
    • C23C24/04—Impact or kinetic deposition of particles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/02—Pretreatment of the material to be coated, e.g. for coating on selected surface areas
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
    • C23C4/10—Oxides, borides, carbides, nitrides or silicides; Mixtures thereof
    • C23C4/11—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/129—Flame spraying
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
    • C25B11/075—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound
    • C25B11/077—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound the compound being a non-noble metal oxide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C1/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Claims (17)

1. Förfarande för att bilda en elektrokatalytisk yta pa en elektrod, ··· 25 kännetecknat av att ätminstone en pulverformig oxid av övergängsmetall sprutas genom kallbesprutning pä ytan av en blyanod, som används vid elektrolytisk utvinning av metaller, för att bilda en katalytisk beläggning, varefter elektroden är färdig för användning. • · 1 30 • « * 1 • · · • · · ··· 118159
2. Förfarande enligt patentkrav 1, kännetecknat av att den pulverformiga katalysatorns egenskaper bibehalls väsentligen oförändrade under besprutningen. 5
3. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1 eller 2, kännetecknat av att beläggningen är av formen MO2, MO3 eller M2O5, varvid M är en övergangsmetall.
4. Förfarande enligt nagot av patentkraven 1 eller 2, kännetecknat av 10 att en del av beläggningen bestär av atminstone en ur gruppen Mn02, v Pt02) Ru02) Ir02, C03O4, NiCo204l CoFe204, Ni02, Ti02l perovskiter, Ta205, W03 och M0O3.
5. Förfarande enligt patentkrav 4, kännetecknat av att beläggningen är 15 mangandioxid som bestär av atminstone en ur gruppen betamangandioxid (βΜη02), kemiskt framställd mangandioxid (CMD), elektrokemiskt framställd mangandioxid (EMD), värmebehandlad (HTMD) och naturlig mangandioxid (NMD). »H ··· • * * 20
6. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1 - 5, kännetecknat av att • · · .··[ den som beläggning använda oxiden är i form av enkel oxid eller • · ··· syntetiserad oxidblandning, varvid med den första metalloxiden • · : förbundits en annorlunda oxid av samma metall. t I · ««* f • · · • · • ♦ 25
7. Förfarande enligt nagot av patentkraven 1-5, kännetecknat av att den som beläggning använda oxiden är syntetiserad oxidblandning, varvid med den första metallens oxid förbundits en oxid av en eller • · · flera andra metaller. • · ···. ♦ t • · ·* * 30
8. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1-7, kännetecknat av att • · •v. beläggningens partikelstorlek är av ordningen 5-100 mikrometer. • · • · 118159
9. Förfarande enligt nagot av patentkraven 1-8, kännetecknat av att beläggningen som skall bildas pa elektroden har en tjocklek som är 1 - 5 ganger beläggningspulverpartikelns diameter. 5
10. Förfarande enligt nagot av patentkraven 1-9, kännetecknat av att innan en beläggning bildas pa elektroden rengörs elektroden kemiskt och/eller mekaniskt.
11. Elektrokatalytiskt belagd elektrod, kännetecknad av att en ίο beläggning som bestär av ätminstone en övergängsmetalls oxid har ^ genom kallbesprutning utan värmebehandling bildats pä ytan av en ΐ blyanod, som används vid elektrolytisk utvinning av metaller.
12. Elektrod enligt patentkrav 11, kännetecknad av att beläggningen är 15 av formen M02, MO3 eller M205, varvid M är en övergängsmetall.
13. Elektrod enligt patentkrav 11, kännetecknad av att beläggningen är ätminstone en ur gruppen Mn02, Pt02, Ru02, Ir02, C03O4, NiCo204, CoFe204, Ni02, Ti02, perovskiter, Ta205, W03 och M0O3· • · · * 1 20 1 « · · • φ · · .···.
14. Elektrod enligt patentkrav 13, kännetecknad av att beläggningen • 1 • · 1 bestar av mangandioxid som är ätminstone en ur gruppen • betamangandioxid (βΜη02), kemiskt framställd mangandioxid (CMD), • · 1 · elektrokemiskt framställd mangandioxid (EMD), värmebehandlad ··♦ 25 (HTMD) och naturlig mangandioxid (NMD). • · • · « · 1 .
15. Elektrod enligt nägot av patentkraven 11 - 14, kännetecknad av att * den som beläggning använda oxiden är syntetiserad oxidblandning, ·'2; varvid med den första metallens oxid förbundits en annorlunda oxid av * · · 30 samma metall. ♦ · • · · · 1 2 * · • · 118159 15 1
16. Elektrod enligt nagot av patentkraven 11 - 14, kännetecknad av att den som beläggning använda oxiden är syntetiserad oxidblanding, 1 varvid med den första metallens oxid förbundits en oxid av en eller flera andra metaller.
17. Elektrod enligt nagot av patentkraven 11 - 16, kännetecknad av att % beläggningen som skall bildas pä elektroden har en tjocklek som är 1 - 5 ganger beläggningspulverpartikelns diameter. 10 S\ : ., ,.;i ··· • · · · ♦ · 1 • · · ·♦· · • · • · ··· ····« ♦ · ' • · • ♦ · • · · ··· · • · · • · • ♦ • · · ·♦ • · ··· • · • · - ψ • · · • - « ' ·♦♦♦· ... • « ··♦ • · • · • · · ··· • · • · · · • · · • ♦ • 1
FI20051059A 2005-10-21 2005-10-21 Förfarande för att bilda en elektrokatalytisk yta på en elektrod och elektrod FI118159B (sv)

Priority Applications (14)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20051059A FI118159B (sv) 2005-10-21 2005-10-21 Förfarande för att bilda en elektrokatalytisk yta på en elektrod och elektrod
CA2626720A CA2626720C (en) 2005-10-21 2006-09-26 Method for forming an electrocatalytic surface on an electrode and the electrode
US12/090,638 US7871504B2 (en) 2005-10-21 2006-09-26 Method for forming an electrocatalytic surface on an electrode and the electrode
AU2006303250A AU2006303250B2 (en) 2005-10-21 2006-09-26 Method for forming an electrocatalytic surface on an electrode and the electrode
KR1020087009293A KR101383524B1 (ko) 2005-10-21 2006-09-26 전극에 전기 촉매 표면을 형성하기 위한 방법 및 전극
BRPI0617694-1A BRPI0617694A2 (pt) 2005-10-21 2006-09-26 método para formação de uma superfìcie eletrocatalìtica sobre um eletrodo e respectivo eletrodo
EA200800705A EA012053B1 (ru) 2005-10-21 2006-09-26 Способ формирования электрокаталитической поверхности на электроде и электрод
CN2006800391668A CN101292057B (zh) 2005-10-21 2006-09-26 用于在电极上形成电催化表面的方法和该电极
JP2008536068A JP4834103B2 (ja) 2005-10-21 2006-09-26 電極に電極触媒面を形成する方法およびその電極
PCT/FI2006/000314 WO2007045716A1 (en) 2005-10-21 2006-09-26 Method for forming an electrocatalytic surface on an electrode and the electrode
EP20060794090 EP1937864A4 (en) 2005-10-21 2006-09-26 METHOD FOR FORMING AN ELECTROCATALYTIC SURFACE ON AN ELECTRODE, AND THE ELECTRODE
PE2006001263A PE20070862A1 (es) 2005-10-21 2006-10-18 Electrodo revestido por pulverizacion con al menos un oxido de metal de transicion
ZA200803109A ZA200803109B (en) 2005-10-21 2008-04-09 Method for forming an electrocatalytic surface on an electrode and the electrode
NO20082277A NO20082277L (no) 2005-10-21 2008-05-19 Fremgangsmate for dannelse av en elektroanalytisk overflate pa en elektrode og elektroden

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20051059A FI118159B (sv) 2005-10-21 2005-10-21 Förfarande för att bilda en elektrokatalytisk yta på en elektrod och elektrod
FI20051059 2005-10-21

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI20051059A0 FI20051059A0 (sv) 2005-10-21
FI20051059A FI20051059A (sv) 2007-04-22
FI118159B true FI118159B (sv) 2007-07-31

Family

ID=35185198

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI20051059A FI118159B (sv) 2005-10-21 2005-10-21 Förfarande för att bilda en elektrokatalytisk yta på en elektrod och elektrod

Country Status (14)

Country Link
US (1) US7871504B2 (sv)
EP (1) EP1937864A4 (sv)
JP (1) JP4834103B2 (sv)
KR (1) KR101383524B1 (sv)
CN (1) CN101292057B (sv)
AU (1) AU2006303250B2 (sv)
BR (1) BRPI0617694A2 (sv)
CA (1) CA2626720C (sv)
EA (1) EA012053B1 (sv)
FI (1) FI118159B (sv)
NO (1) NO20082277L (sv)
PE (1) PE20070862A1 (sv)
WO (1) WO2007045716A1 (sv)
ZA (1) ZA200803109B (sv)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008059165A1 (de) * 2008-11-24 2010-05-27 Siemens Aktiengesellschaft Bauteil mit einer katalytischen Oberfläche, Verfahren zu dessen Herstellung und Verwendung dieses Bauteils
KR100930790B1 (ko) * 2009-02-18 2009-12-09 황부성 수소산소 발생용 전극판 및 그를 제조하기 위한 제조방법
DE102010021553A1 (de) 2010-05-21 2011-11-24 Siemens Aktiengesellschaft Bauteil mit einer katalytischen Oberfläche, Verfahren zu dessen Herstellung und Verwendung dieses Bauteils
DE102010021554A1 (de) 2010-05-21 2011-11-24 Siemens Aktiengesellschaft Bauteil mit einer katalytischen Oberfläche, Verfahren zu dessen Herstellung und Verwendung dieses Bauteils
CN102268689B (zh) * 2011-06-24 2013-05-22 太原理工大学 一种钛基氧化物耐酸阳极及其制备方法
ITMI20120873A1 (it) * 2012-05-21 2013-11-22 Industrie De Nora Spa Elettrodo per evoluzione di prodotti gassosi e metodo per il suo ottenimento
FI127028B (sv) 2013-06-05 2017-09-29 Outotec Finland Oy Förfarande och anordning för metall elektroutvinning
DE102014003424B4 (de) * 2014-03-04 2017-04-13 Vdm Metals International Gmbh Kathode für die elektrolytische Zinkgewinnung
CN104133070B (zh) * 2014-07-17 2015-07-08 济南大学 一种环境雌激素无标记免疫传感器的制备方法及应用
KR101670929B1 (ko) * 2014-10-21 2016-11-07 서울대학교산학협력단 산소 발생 촉매, 전극 및 전기화학반응 시스템
BE1023239B1 (fr) * 2014-12-19 2017-01-06 Prayon Procédé pour le dépôt de films minces par voie humide
AR106069A1 (es) * 2015-09-25 2017-12-06 Akzo Nobel Chemicals Int Bv Electrodo y proceso para su manufactura
CN105521784B (zh) * 2015-12-21 2017-11-03 哈尔滨工业大学 一种TiO2阳极表面负载Co3O4的方法
JP6615682B2 (ja) * 2016-04-12 2019-12-04 デノラ・ペルメレック株式会社 アルカリ水電解用陽極及びアルカリ水電解用陽極の製造方法
KR102173226B1 (ko) * 2016-10-25 2020-11-03 서울대학교산학협력단 산소 발생 촉매, 전극 및 전기화학반응 시스템
EP3406758A1 (en) * 2017-05-22 2018-11-28 Vishay Electronic GmbH Method of producing an ntcr sensor
CN107604388B (zh) 2017-09-11 2023-08-08 昆明理工恒达科技股份有限公司 复合阳极材料及其制备方法、阳极板及其制备方法
JP7108483B2 (ja) * 2018-07-13 2022-07-28 Ｄｏｗａメタルマイン株式会社 非鉄金属の電解採取方法およびそれに用いるアノードの製造方法
CN109786769B (zh) * 2018-12-18 2020-12-08 厦门大学 一种碳载贵金属氧化物双功能催化剂及其制备方法和应用
CN109440158A (zh) * 2018-12-28 2019-03-08 南京时恒电子科技有限公司 一种Cu-Ti-Co复合电极及其制备方法
CN109680301B (zh) * 2019-02-19 2020-06-12 湘西土家族苗族自治州产商品质量监督检验所 一种电解锌用阳极板及其制备方法
CA3133201C (en) * 2019-03-12 2022-01-25 De Nora Permelec Ltd Alkaline water electrolysis method and alkaline water electrolysis anode
CN110093633A (zh) * 2019-03-25 2019-08-06 厦门潼源科技有限公司 一种钛基-β型二氧化铅的阳极、制备方法及其应用
CN109763021B (zh) * 2019-03-27 2021-02-02 贵州省过程工业技术研究中心 一种低Ag铅合金复合阳极材料制备方法
CN111962131B (zh) * 2020-07-14 2021-06-22 广东省科学院稀有金属研究所 一种析氧电极用复合氧化物催化涂层及其制备方法
CN112663094B (zh) * 2020-12-03 2024-01-26 郑州大学 一种化学催化过渡金属溶液电解冶金的方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1195871A (en) 1967-02-10 1970-06-24 Chemnor Ag Improvements in or relating to the Manufacture of Electrodes.
DE2300422C3 (de) 1973-01-05 1981-10-15 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur Herstellung einer Elektrode
US4265728A (en) * 1978-11-03 1981-05-05 Diamond Shamrock Corporation Method and electrode with manganese dioxide coating
CA1225066A (en) * 1980-08-18 1987-08-04 Jean M. Hinden Electrode with surface film of oxide of valve metal incorporating platinum group metal or oxide
GB2085031B (en) * 1980-08-18 1983-11-16 Diamond Shamrock Techn Modified lead electrode for electrowinning metals
DE3106587C2 (de) * 1981-02-21 1987-01-02 Heraeus Elektroden GmbH, 6450 Hanau Elektrode und deren Verwendung
CA1208601A (en) 1982-02-18 1986-07-29 Diamond Chemicals Company Electrode with lead base and method of making same
JPS62170495A (ja) * 1986-01-24 1987-07-27 Toyo Soda Mfg Co Ltd 電解用電極の製造法
JPH028391A (ja) * 1988-06-24 1990-01-11 Kamioka Kogyo Kk 二酸化鉛電極及びその製造方法
TW214570B (sv) 1989-06-30 1993-10-11 Eltech Systems Corp
US5314601A (en) * 1989-06-30 1994-05-24 Eltech Systems Corporation Electrodes of improved service life
TW197475B (sv) * 1990-12-26 1993-01-01 Eltech Systems Corp
GB9316930D0 (en) 1993-08-13 1993-09-29 Ici Plc Electrode
GB9601236D0 (en) * 1996-01-22 1996-03-20 Atraverda Ltd Conductive coating
US5716422A (en) * 1996-03-25 1998-02-10 Wilson Greatbatch Ltd. Thermal spray deposited electrode component and method of manufacture
IT1293319B1 (it) 1997-07-10 1999-02-16 De Nora Spa Metodo per l'applicazione di un rivestmento catalitico ad un substrato metallico
US7501208B2 (en) * 2001-06-01 2009-03-10 Eveready Battery Company, Inc. Doped manganese dioxides
JP2005310502A (ja) * 2004-04-20 2005-11-04 Sanyo Electric Co Ltd 化学電池用電極の製造方法及び電池

Also Published As

Publication number Publication date
CA2626720C (en) 2012-09-25
AU2006303250A1 (en) 2007-04-26
JP4834103B2 (ja) 2011-12-14
EA200800705A1 (ru) 2008-10-30
NO20082277L (no) 2008-07-02
JP2009512781A (ja) 2009-03-26
BRPI0617694A2 (pt) 2011-08-02
FI20051059A0 (sv) 2005-10-21
CN101292057A (zh) 2008-10-22
US20080237036A1 (en) 2008-10-02
EA012053B1 (ru) 2009-08-28
ZA200803109B (en) 2009-02-25
KR20080058414A (ko) 2008-06-25
AU2006303250B2 (en) 2011-05-26
PE20070862A1 (es) 2007-09-05
WO2007045716A1 (en) 2007-04-26
US7871504B2 (en) 2011-01-18
EP1937864A1 (en) 2008-07-02
KR101383524B1 (ko) 2014-04-08
CA2626720A1 (en) 2007-04-26
FI20051059A (sv) 2007-04-22
CN101292057B (zh) 2012-06-13
EP1937864A4 (en) 2011-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI118159B (sv) Förfarande för att bilda en elektrokatalytisk yta på en elektrod och elektrod
FI68670B (fi) Elektrod med elektrokatalytisk yta och foerfarande foer dess framstaellning
JP4560089B2 (ja) 次亜塩素酸塩を製造するための水溶液の電気分解に使用する電極
FI69123B (fi) Elektrod och elektrolytisk cell
CA1204705A (en) Titanium base electrode with barrier layer of tantalum or niobium oxide
US6312571B1 (en) Activated cathode and process for preparation thereof
JPS6318672B2 (sv)
JP2011017084A (ja) 白金族金属を有する電気触媒コーティング及びこれから製造された電極
CA1220446A (en) Electride with intermediate layer containing 1) titanium or tin, 2) tantalum
WO2001000905A1 (en) Method of producing copper foil
KR20140043886A (ko) 전기 화학적 산업 공정에 있어서 산소를 발생시키기 위한 전극
JP6404226B2 (ja) 工業上の電気化学プロセスにおける酸素発生用の電極、当該電極を製造するための方法、及び、当該電極を用い、水溶液から金属を陰極電着させる方法
JPH0774470B2 (ja) 酸素発生用陽極の製法
JP4632966B2 (ja) 電解金属粉の製造方法
JPH11229170A (ja) 活性化陰極
JP3257872B2 (ja) 電解用電極基体及びその製造方法
CA3224135C (en) Method for manufacturing electrode, and electrode
JP3941898B2 (ja) 活性化陰極及びその製造方法
JPH0533177A (ja) 酸素発生用陽極の製法
JPH028391A (ja) 二酸化鉛電極及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PC Transfer of assignment of patent

Owner name: OUTOTEC OYJ

Free format text: OUTOTEC OYJ

FG Patent granted

Ref document number: 118159

Country of ref document: FI