FI111192B - Förfarande för avbildande mätning, avbildande mätningsanordning och användning av informationen vid bevakning av en process - Google Patents
Förfarande för avbildande mätning, avbildande mätningsanordning och användning av informationen vid bevakning av en process Download PDFInfo
- Publication number
- FI111192B FI111192B FI20000737A FI20000737A FI111192B FI 111192 B FI111192 B FI 111192B FI 20000737 A FI20000737 A FI 20000737A FI 20000737 A FI20000737 A FI 20000737A FI 111192 B FI111192 B FI 111192B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- detector
- image
- image plane
- imaging
- filter
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 80
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims abstract description 67
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 59
- 238000012369 In process control Methods 0.000 title 1
- 238000010965 in-process control Methods 0.000 title 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 56
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 37
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims abstract description 30
- 238000012800 visualization Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims abstract description 11
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 41
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 38
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 34
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 32
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 24
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 claims description 7
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 68
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 238000004616 Pyrometry Methods 0.000 description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 7
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 3
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000000701 chemical imaging Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000011112 process operation Methods 0.000 description 2
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 2
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N Tritium Chemical compound [3H] YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000010420 art technique Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010283 detonation spraying Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000010285 flame spraying Methods 0.000 description 1
- 238000007749 high velocity oxygen fuel spraying Methods 0.000 description 1
- 230000003116 impacting effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229910052722 tritium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/60—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry using determination of colour temperature
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Arrangements For Transmission Of Measured Signals (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Radiation Pyrometers (AREA)
Claims (29)
1. Förfarande för att utföra en bildformande, pä spektral sorlering base-rad spektroskopisk mätning av ett rörande eller strömmande föremäl 5 (T), varvid elektromagnetisk straining som erhälls frän sagda föremäl fokuseras medelst bildformande optik (L1; L2, L3) för att bilda en bild pä ett bildplan (D) av en 2-dimensionell matrisdetektor genom ätmin-stone ett första och ett andra, pä ett frän varandra avvikande sätt elektromagnetisk strälning förmedlande filter (F1, F2), kännetecknat av 10 att — med sagda ätminstone första och andra filter (F1, F2) bildas pä detektorns bildplan (D) ätminstone ett första och ett andra filter-omräde (FR1, FR2) som täcker detektorns fotosensibla omräde (DA) tillsammans delvis och enbart delvis, varvid 15. föremälets (T) egenskaper bestäms spektroskopiskt genom att jämföra och/eller kombinera spektralt sorterad information frän väsentligen efter varandra följande tidspunkter, vilken information lagras medan en bildpunkt som motsvarar en bestämd del av föremälet och som är fokuserad pä detektorns bildplan (D; DA) 20 utan sträldelning gär under päverkan av föremälets (T) rörelse väsentligen via sagda ätminstone första och andra filteromräden (FR1, FR2), och att — omrädet pä detektorns bildplan (D; DA) som blir utanför sagda ätminstone första och andra filteromräden (FR1, FR2) används .. 25 ytterligare tili ätminstone en annan bildformande icke-spektrosko- pisk mätning och/eller visualisering av föremälet.
2. Förfarande enligt patentkrav 1, kännetecknat av att sagda ätminstone första och andra filter (F1, F2) placeras närä detektorns bildplan 30 (D), i infallsriktningen av elektromagnetisk strälning frän föremälet (T) framför bildplanet (D) i väsentligen samma pian med varandra, och * ‘ bredvid varandra i ett pian som är väsentligen parallellt med bildplanet (D). 35
3. Förfarande enligt patentkrav 1, kännetecknat av att sagda ätmin stone första och andra filter (F1, F2) placeras bredvid varandra i väsentligen samma pian, och i mellanfokusen av optik (L2, L3) som 32 111192 används för fokusering av elektromagnetisk straining frän föremälet (T).
4. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, känneteck-5 nat av att sagda ätminstone första och andra filteromräden (FR1, FR2) placeras pä detektorns bildplan (D; DA) bredvid varandra, inte ovanpä varandra, och sida vid sida, eller bredvid varandra, inte ovanpä varandra men skilt frän varandra. 10
5. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, känneteck- nat av att sagda ätminstone första och andra filteromräden (FR1, FR2) var täcker ett makroskopiskt omräde relativt detektorns (D) enskilda bildpunkter. 15
6. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, känneteck- nat av att även sagda ätminstone första och andra filteromräden (FR1, FR2) används för bildformande icke-spektroskopisk mätning av föremälet och/eller för visualisering av föremälet. 20
7. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, känneteck- nat av att den effektiva exponeringstiden som använts för att upp-täcka föremälet (T) som skall bildformas, väljs kort relativt rörelse-hastigheten av sagda föremäl, varvid som mätningsresultat erhälls mätvärden som beskriver det lokala och momentana tillständet av 25 sagda föremäl.
8. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven 1-6, känne-tecknat av att den effektiva exponeringstiden som använts för att upptäcka föremälet (T) som skall bildformas, väljs läng relativt rörelse- 30 hastigheten av sagda föremäl, varvid som mätningsresultat erhälls relativt sagda föremäls position samt tidsmässigt summerade/inte-grerade mätvärden.
9. Förfarande enligt patentkrav 7, kännetecknat av att sagda effek-35 tiva exponeringstid väljs sä, att när föremälet (T) bestär av mot sin bakgrund framträdande, strälning emitterande och/eller spridande enskilda föremäl, skiljer sig bilder/bildstreck som formats av sagda 111192 33 enskilda föremäl pä bildplanet (D; DA) väsentligen skilda frän varandra pä sagda bildplan.
10. Förfarande enligt patentkrav 9, kännetecknat av att det spektro-5 skopiska och/eller icke-spektroskopiska förfarandet som används vid mätningen tillämpas separat för varje enskilda föremal som upptäckts separat.
11. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, känne-10 tecknat av att parametern som skall bestämmas spektroskopiskt för föremälet (T) som skall bildformas, är den pyrometriska temperaturen av sagda föremäl eller mindre föremal som skiljer sig separat inom föremälet. 15
12. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, känne tecknat av att frän parametern/parametrarna som bestämts av föremälet pä ett bildformande sätt bestämts vidare momentana eller kumulativa lokala fördelningar och/eller statistiskt bestämbara nyckeltal av sagda parameter/parametrar. 20
13. Avbildande mätanordning för att utföra en pä spektral sortering baserad spektroskopisk mätning av ett rörande eller strömmande föremäl (T), vilken mätanordning omfattar ätminstone en bildformande 2-dimensionell matrisdetektor (D) samt en bildformande optik (L1; L2, 25 L3) för att fokusera elektromagnetisk strälning frän föremälet (T) pä ett bildplan (D) av sagda detektor genom ätminstone ett första och ett andra filter (F1, F2) som hör tili mätanordningen, kännetecknad av att — sagda ätminstone första och andra filter (F1, F2) är anordnade att bilda pä detektorns bildplan (D) ätminstone ett första och ett andra 30 filteromräde (FR1, FR2) som täcker detektorns fotosensibla omräde (DA) tillsammans delvis och enbart delvis, och att — mätanordningen omfattar medel för att lagra spektralt sorterad information frän väsentligen efter varandra följande tidspunkter medan en bildpunkt som motsvarar en bestämd del av föremälet 35 (T) och som är fokuserad pä detektorns bildplan (D; DA) utan sträldelning gär under päverkan av föremälets (T) rörelse 111192 34 väsentligen via sagda ätminstone första och andra filteromräden (FR1, FR2), och att — mätanordningen omfattar vidare medel för att använda omrädet pä detektorns bildplan (D; DA) som blir utanför sagda ätminstone 5 första och andra filteromräden (FR1, FR2) tili ätminstone en annan bildformande icke-spektroskopisk mätning och/eller visuali-sering av föremälet.
14. Bildformande mätanordning enligt patentkrav 13, kännetecknad 10 av att sagda ätminstone första och andra filter (F1, F2) är anordnade att placeras närä detektorns bildplan (D), i infallsriktningen av elektro-magnetisk straining frän föremälet (T) framför bildplanet (D) i väsentligen samma pian med varandra, och bredvid varandra i ett pian som är väsentligen parallellt med bildplanet (D). 15
15. Bildformande mätanordning enligt patentkrav 13, kännetecknad av att sagda ätminstone första och andra filter (F1, F2) är anordnade att placeras bredvid varandra i väsentligen samma pian, och i mellan-fokusen av optik (L2, L3) som används för fokusering av elektromag- 20 netisk straining frän föremälet (T).
16. Bildformande mätanordning enligt nägot av de föregäende patent-kraven 13-15, kännetecknad av att sagda ätminstone första och andra filteromräden (FR1, FR2) är anordnade att placeras pä detek- 25 torns bildplan (D; DA) bredvid varandra, inte ovanpä varandra, och sida vid sida, eller bredvid varandra, inte ovanpä varandra men skilt frän varandra.
17. Bildformande mätanordning enligt nägot av de föregäende patent-30 kraven 13-16, kännetecknad av att sagda ätminstone första och andra filteromräden (FR1, FR2) är var anordnade att täcka ett makro-skopiskt omräde relativt detektorns (D) enskilda bildpunkter.
18. Bildformande mätanordning enligt nägot av de föregäende patent-35 kraven 13-17, kännetecknad av att sagda ätminstone första och andra filter (F1, F2) är filter, vilka är tillverkade genom att belägga ett pä detektorns (D) verksamhetsväglängdsomräde väsentligen genom- 111192 35 skinligt plant substratmaterial pä dess främre och/eller bakre yta med en ljusreflekterande, absorberande/dämpande ytbeläggning/ytbelägg-ningar med ett eller flera skikt.
19. Bildformande mätanordning enligt nägot av de föregäende patent- kraven 13-17, kännetecknad av att sagda ätminstone första och andra filter (F1, F2) är färgglasfilter.
20. Bildformande mätanordning enligt nägot av de föregäende patent-10 kraven 13-19, kännetecknad av att matrisdetektorn (D, C) är en CCD-matriskamera, en GaAs-matriskamera eller en CMOS-kamera.
21. Användning av pä ett spektralt skilt och bildformande sätt mätt information, som erhallits av ett rörande eller strömmande föremäl (T) 15 pä en 2-dimensionell matrisdetektor (D) genom en bildformande optik (L1; L2, L3) och ätminstone ett första och ett andra filter (F1, F2) som förmedlar elektromagnetisk strälning pä ett frän varandra avvikande sätt, vid bevakning och/eller kontroll av en process, kännetecknad av att egenskaper av föremälet (T) och/eller inom sagda föremäl särskilt 20 framträdande mindre föremäl bestäms pä ett bildformande och spekt-roskopiskt sätt genom att jämföra och/eller kombinera med varandra signaler frän väsentligen efter varandra följande tidspunkter, vilka signaler lagras medan en bildpunkt som motsvarar en bestämd del av föremälet/föremälen (T) och som är fokuserad pä detektorns bildplan 25 (D) utan sträldelning gär under päverkan av föremälets/föremälens rörelse väsentligen via ätminstone första och andra filteromräden (FR1, FR2) vilka är bildade väsentligen pä detektorns bildplan (D) med hjälp av filter (F1, F2) och vilka täcker det fotosensible omrädet (DA) av sagda bildplan tillsammans delvis och enbart delvis, och att omrädet pä 30 detektorns bildplan (DA) som blir utanför sagda ätminstone första och andra filteromräden (FR1, FR2) används ytterligare tili ätminstone en annan bildformande icke-spektroskopisk mätning och/eller visualisering av föremälet.
22. Användning enligt patentkrav21, kännetecknad av att även sagda ätminstone första och andra filteromräden (FR1, FR2) används 111192 36 för bildformande icke-spektroskopisk mätning av föremälet och/eller för visualisering av föremälet.
23. Användning enligt föregäende patentkrav 21 eller 22, känneteck-5 nad av att den vid bildformningen använda effektiva exponeringstiden justeras kort relativt föremälets (T) rörelsehastighet sä, att vid mät-ningen lagras momentana och lokala mätvärden av sagda föremäl och/eller skiljs i föremälet särskilda pä bildomrädet (ROI) förekom-mande mindre föremäl separat frän varandra. 10
24. Användning enligt föregäende patentkrav 21 eller 22, känneteck-nad av att den vid bildformingen använda effektiva exponeringstiden justeras läng relativt föremälets (T) rörelsehastighet genom att lagra relativt föremälets position och tiden summerade/integrerade mätvär- 15 den.
25. Användning enligt nägot av de föregäende patentkraven 21-24, kännetecknad av att med hjälp av den spektralt skilda bildformande informationen bestäms spektroskopiskt föremälets/föremälens pyro- 20 metriska temperatur.
26. Användning enligt nägot av de föregäende patentkraven 21-25, kännetecknad av att föremälets/föremälens rörelsehastighet bestäms pä ett beskrivande sätt enligt flygtidprincipen genom att använda 25 antingen en enskild kort effektiv exponeringstid eller flera efter varandra följande korta effektiva exponeringstider.
27. Användning enligt nägot av de föregäende patentkraven 21-26, kännetecknad av att genom att använda en kort effektiv 30 exponeringstid bestäms pä ett beskrivande sätt antalet enskilda föremäl som upptäckts i bilden.
28. Användning enligt nägot av de föregäende patentkraven 21-27, kännetecknad av att frän parametern/parametrarna som bestämts av 35 föremälet/föremälen pä ett bildformande sätt bestämts vidare momentana eller kumulativa lokala fördelningar och/eller statistiskt bestäm-bara nyckeltal av sagda parameter/parametrar. 111192 37
29. Användning enligt nägot av de föregäende patentkraven 21-28, kännetecknad av att processen är en termisk sprutbeläggnings-process. * c I « « *
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FI20000737A FI111192B (sv) | 2000-03-31 | 2000-03-31 | Förfarande för avbildande mätning, avbildande mätningsanordning och användning av informationen vid bevakning av en process |
| EP01925588A EP1281052B1 (en) | 2000-03-31 | 2001-03-30 | Method for imaging measurement, imaging measuring device and use of measured information in process control |
| DE60131961T DE60131961T2 (de) | 2000-03-31 | 2001-03-30 | Verfahren zur bildgebenden Messung, bildgebende Messeinrichtung und Verwendung gemessener Informationen bei der Verfahrenssteuerung |
| JP2001571058A JP2003529066A (ja) | 2000-03-31 | 2001-03-30 | 撮像測定方法、撮像測定装置および工程制御における測定情報の使用方法 |
| PCT/FI2001/000313 WO2001073384A1 (en) | 2000-03-31 | 2001-03-30 | Method for imaging measurement, imaging measuring device and use of measured information in process control |
| US10/240,264 US6927856B2 (en) | 2000-03-31 | 2001-03-30 | Method for imaging measurement, imaging measurement device and use of measured information in process control |
| AU2001252288A AU2001252288A1 (en) | 2000-03-31 | 2001-03-30 | Method for imaging measurement, imaging measuring device and use of measured information in process control |
| AT01925588T ATE381709T1 (de) | 2000-03-31 | 2001-03-30 | Verfahren zur abbildungsmessung, abbildungsmesseinrichtung und verwendung gemessener informationen bei der prozesssteuerung |
| CN01810571A CN1432126A (zh) | 2000-03-31 | 2001-03-30 | 成象测量方法,成象测量设备和测量信息在过程控制中的使用 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FI20000737A FI111192B (sv) | 2000-03-31 | 2000-03-31 | Förfarande för avbildande mätning, avbildande mätningsanordning och användning av informationen vid bevakning av en process |
| FI20000737 | 2000-03-31 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI20000737A0 FI20000737A0 (sv) | 2000-03-31 |
| FI20000737A FI20000737A (sv) | 2001-10-01 |
| FI111192B true FI111192B (sv) | 2003-06-13 |
Family
ID=8558062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI20000737A FI111192B (sv) | 2000-03-31 | 2000-03-31 | Förfarande för avbildande mätning, avbildande mätningsanordning och användning av informationen vid bevakning av en process |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6927856B2 (sv) |
| EP (1) | EP1281052B1 (sv) |
| JP (1) | JP2003529066A (sv) |
| CN (1) | CN1432126A (sv) |
| AT (1) | ATE381709T1 (sv) |
| AU (1) | AU2001252288A1 (sv) |
| DE (1) | DE60131961T2 (sv) |
| FI (1) | FI111192B (sv) |
| WO (1) | WO2001073384A1 (sv) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE60215909T2 (de) | 2002-01-11 | 2007-09-06 | Hochiki Corp. | Vorrichtung zur Flammenerkennung |
| WO2005115737A2 (en) * | 2004-03-22 | 2005-12-08 | Quantaspec Inc. | System and method for detecting and identifying an analyte |
| US20070177650A1 (en) * | 2006-01-31 | 2007-08-02 | Diamond Power International, Inc. | Two-color flame imaging pyrometer |
| FI119708B (sv) | 2006-02-01 | 2009-02-13 | Viconsys Oy | Anordning för kontrollering av en bana |
| US20070196005A1 (en) * | 2006-02-23 | 2007-08-23 | White Christopher A | Feature Tracing Process for M-mode Images |
| DE102006028204A1 (de) * | 2006-06-20 | 2007-12-27 | Mtu Aero Engines Gmbh | Verfahren zur Beschichtung eines Werkstücks |
| US9795285B2 (en) * | 2011-07-07 | 2017-10-24 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Imaging system for endoscope |
| CN104919332B (zh) * | 2012-12-17 | 2017-04-05 | Pmd技术股份公司 | 具有运动识别的光飞行时间照相机 |
| GB2516078A (en) * | 2013-07-10 | 2015-01-14 | Trinean Nv | Shaped filter for spectrometer detector arrays |
| AU2017250888B2 (en) | 2016-04-14 | 2022-04-07 | National University Corporation Hokkaido University | Spectral camera control device, spectral camera control program, spectral camera control system, aircraft equipped with said system, and spectral image capturing method |
| US11573124B2 (en) | 2016-04-14 | 2023-02-07 | National University Corporation Hokkaido University | Computer storage medium, network system for distributing spectral camera control program and spectral image capturing method using spectral camera control device |
| KR102375624B1 (ko) * | 2017-11-10 | 2022-03-17 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 약액 검사 방법 |
| CA3029683A1 (en) * | 2018-01-09 | 2019-07-09 | Shahid Abbas Haider | System, method and apparatus for measuring polarization using spatially-varying polarization beams |
| WO2020260755A1 (en) * | 2019-06-24 | 2020-12-30 | Oseir Oy | Method and apparatus for controlling cold spraying |
| US12022172B2 (en) * | 2022-04-19 | 2024-06-25 | United States Of America As Represented By The Administrator Of Nasa | Methods and apparatus for multi-spectral imaging pyrometer utilizing tunable optics |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4346992A (en) * | 1969-02-07 | 1982-08-31 | Sanders Associates, Inc. | Laser detector and spectral analyzer |
| US4222663A (en) * | 1977-08-01 | 1980-09-16 | United Technologies Corporation | Optical pyrometer and technique for temperature measurement |
| US4413324A (en) * | 1981-02-25 | 1983-11-01 | Sumitomo Kinzoku Kogyo Kabushiki Kaisha | Temperature pattern measuring method and a device therefor |
| US5225883A (en) | 1991-06-05 | 1993-07-06 | The Babcock & Wilcox Company | Video temperature monitor |
| JPH07301569A (ja) | 1994-05-06 | 1995-11-14 | Tetsudo Kizai Kogyo Kk | ２つのフィルタを使用した赤外線温度画像処理方法及び装置 |
| DE4422861C2 (de) | 1994-06-30 | 1996-05-09 | Honeywell Ag | Vorrichtung zur Bestimmung von Materialeigenschaften von bewegtem blattförmigem Material |
| US5822222A (en) | 1995-04-05 | 1998-10-13 | New Jersey Institute Of Technology | Multi-wavelength imaging pyrometer |
| US5963311A (en) | 1997-09-12 | 1999-10-05 | Stratonics, Inc. | Surface and particle imaging pyrometer and method of use |
| US6357910B1 (en) * | 1999-08-04 | 2002-03-19 | Photosonic, Inc. | Multiwavelength pyrometer for measurement in hostile environments |
-
2000
- 2000-03-31 FI FI20000737A patent/FI111192B/sv not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-03-30 AU AU2001252288A patent/AU2001252288A1/en not_active Abandoned
- 2001-03-30 JP JP2001571058A patent/JP2003529066A/ja active Pending
- 2001-03-30 CN CN01810571A patent/CN1432126A/zh active Pending
- 2001-03-30 DE DE60131961T patent/DE60131961T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-30 WO PCT/FI2001/000313 patent/WO2001073384A1/en active IP Right Grant
- 2001-03-30 EP EP01925588A patent/EP1281052B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-30 AT AT01925588T patent/ATE381709T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-03-30 US US10/240,264 patent/US6927856B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE60131961T2 (de) | 2008-12-04 |
| DE60131961D1 (de) | 2008-01-31 |
| FI20000737A0 (sv) | 2000-03-31 |
| CN1432126A (zh) | 2003-07-23 |
| JP2003529066A (ja) | 2003-09-30 |
| FI20000737A (sv) | 2001-10-01 |
| US6927856B2 (en) | 2005-08-09 |
| ATE381709T1 (de) | 2008-01-15 |
| WO2001073384A1 (en) | 2001-10-04 |
| AU2001252288A1 (en) | 2001-10-08 |
| EP1281052A1 (en) | 2003-02-05 |
| EP1281052B1 (en) | 2007-12-19 |
| US20030038944A1 (en) | 2003-02-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FI111192B (sv) | Förfarande för avbildande mätning, avbildande mätningsanordning och användning av informationen vid bevakning av en process | |
| EP3724617B1 (en) | Spectrometer device and system | |
| US4786165A (en) | Flow cytometry and apparatus therefor | |
| US5180921A (en) | Method and apparatus for monitoring the temperature and velocity of plasma sprayed particles | |
| US5803606A (en) | Surface photothermic testing device | |
| US10371621B2 (en) | Assemblies and methods for reducing optical crosstalk in particle processing systems | |
| US6256096B1 (en) | Flow cytometry apparatus and method | |
| US7161665B2 (en) | High resolution imaging fountain flow cytometry | |
| US5072128A (en) | Defect inspecting apparatus using multiple color light to detect defects | |
| EP0950890B1 (en) | Particle imaging apparatus | |
| US20060175561A1 (en) | Particle shadow velocimetry | |
| JP4018063B2 (ja) | 画像化システム及びその方法 | |
| JPH0473748B2 (sv) | ||
| JP2010008397A (ja) | 光学的測定装置、並びに光検出器の波長校正方法及び光学的測定方法 | |
| FR2745381A1 (fr) | Capteur optique pour le controle de particules en vol dans des processus de pulverisation thermique et autres processus industriels | |
| JPH1073528A (ja) | 撮像機能付きフローサイトメータ | |
| US10371641B2 (en) | Method and apparatus for measuring inelastic scattering | |
| WO2022080482A1 (ja) | 粒子検出装置、粒子検出システム、及び粒子検出方法 | |
| US20230221251A1 (en) | Apparatus and method for fluorescence excitation and detection | |
| CA2055267C (en) | Method and apparatus for monitoring the temperature and velocity of plasma sprayed particles | |
| WO2023189819A1 (ja) | 粒子分取システム、及び粒子分取方法 | |
| JPH02304332A (ja) | 粒子計測装置 | |
| RU2270983C1 (ru) | Устройство для исследования оптических параметров объекта излучения | |
| GB2365523A (en) | Measuring particle size distribution using images | |
| WO1999054695A1 (en) | Method and device for imaging measurements and use of measured information in process control |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM | Patent lapsed |