JPH02304332A - 粒子計測装置 - Google Patents

粒子計測装置

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JPH02304332A
JPH02304332A JP1124338A JP12433889A JPH02304332A JP H02304332 A JPH02304332 A JP H02304332A JP 1124338 A JP1124338 A JP 1124338A JP 12433889 A JP12433889 A JP 12433889A JP H02304332 A JPH02304332 A JP H02304332A
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JP
Japan
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fluorescence
light
filter
particle
condensing lens
Prior art date
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Pending
Application number
JP1124338A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Miyake
亮 三宅
Hiroshi Oki
博 大木
Isao Yamazaki
功夫 山崎
Shinichi Sakuraba
櫻庭 伸一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH02304332A publication Critical patent/JPH02304332A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野〕 本発明は、液体中に懸濁する粒子の性・質を計測する粒
子計測装置に係り、特に単一の光デテクタで多波長測定
が可能な粒子計測装置に関する。
〔従来の技術〕
従来のこの種装置は、特開昭57−184862号公報
に記載のように、一つの粒子から発生する異なる波長の
光を波長透過選択性を有するミラーで分離し、それぞれ
別々の光デテクタで検出し、分析していた。
〔発明が解決しようとする課題〕
前記従来技術では、検出波長ごとに光デテクタが必要と
なり、それに伴って化学エレメントの数も増加するため
、光学調整に多大な時間を要する問題があった。また、
多波長測定光学系の規模も大型化する問題もあった。
本発明の目的は、光学調整が容易で、かつ多波長測定光
学系の小型化を図り得る粒子計測装置を提供することに
ある。
〔課題を解決するための手段〕
前記目的は、レーザ光源と、レーザ光集光レンズと、シ
ースフローセルと、散乱光/蛍光集光レンズと、光デテ
クタと、光信号処理装置とを備えた粒子計測装置におい
て、前記散乱光/蛍光集光レンズと光デテクタとの間に
、異なる光波長透過性を持った複数のフィルタを、シー
スフローの流れ方向に沿って設けたことにより、達成さ
れる。
さらに、前記目的は各フィルタの直前と直後のいずれか
に、小孔を有するマスクを設けたことによって、より一
層良好に達成される。
〔作用〕
レーザ光源より発せられたレーザ光は、レーザ光集光レ
ンズで集光され、シースフローセル内のさや状流れに照
射される。この照射領域は、流れ方向に有限の長さを有
するため、粒子がここを通過する際、一定時間レーザ光
の照射を受ける。
前記レーザ光の照射を受けた粒子は、散乱光や蛍光を発
する。散乱光/蛍光集光レンズは、この光を集めて、そ
の反対側に光源像を結ぶ、この光源像は、粒子が照射領
域内を移動するのに対応して、粒子の流れ方向と反対方
向に移動する。
前記光源像の近傍に、シースフローの流れ方向に沿って
、異なる光波長透過性を持った複数のフィルタを設けて
いるので、各フィルタ上を、シースフローの流れ方向と
反対方向に粒子からの散乱光/蛍光が走査する。したが
って、これら複数のフィルタの後には、時間経過に伴い
、異なる波長の光が順々に透過して来る。
これらの光強度を光デテクタで把えると、出力信号の時
間変化は1粒子からの散乱光/蛍光の各設定波長に対応
した強度を示すことになる。
さらに、各フィルタ直前と直後のいずれかに、小孔を有
するマスクを設けたことにより、フィルタ間では透過光
がなくなり、各設定波長での光強度の差をより明確に分
離することができる。
以上のようにして、単一の光デテクタで多波長の光の成
分を分離、 8m定できるため、光学調整が容易となり
、多波長測定光学系も小型化できるようになる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図面により説明する。
本発明の一実施例を第1図、第2図を用いて説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す系統図である。
この第1図に示す実施例の粒子計測装置は、多波長測定
光学系と、光信号処理装置とを備えて構成されている。
前記多波長測定光学系は、レーザ光源1と、レーザ光集
光レンズ3と、シースフローセル4と、散乱光/蛍光集
光レンズ5と、シースフローの流れ方向に沿って2個の
小孔16.17を有するマスク6と、シースフローの流
れ方向に並べて設けられた2種類フィルタ7.8と、光
デテクタ10とを、レーザ光2の進む方向に順次設置し
て構成されている。
前記マスク6の小孔16の直後にはフィルタ7が配置さ
れ、小孔17の直後にはフィルタ8が配置されている。
また、前記光信号処理装置は光デテクタ10の出力信号
のプリアンプ18と、ピークホールド検出器19と、A
/D変換器20と、データメモリ21と、信号処理器2
2とを、順次信号線で接続されている。
前記実施例の粒子計測装置は、次のように動作する6 レーザ光源1から発せられたレーザ光2は、レーザ光集
光レンズ3により集光され、シースフローセル4内のさ
や状流れに照射される。このさや状流れの中に多重染色
または異染性染色された粒子を通過させる。
前記粒子がシースフローセル4内の照射領域11の位置
12に来ると、その粒子からは2種類の蛍光15が発生
する。その蛍光15は、散乱光/蛍光集光レンズ5で集
光され、マスク6の小孔17を通り、この小孔17の直
後に配置されたフィルタ8に達する。
前記フィルタ8は、前記2種類の蛍光のうちの、一方の
蛍光のみを透過させる。このフィルタ8を透過した蛍光
は、光デテクタ10の受光面9に達する。
前記粒子がシースフローの流れ方向に沿って流れ、前記
位置12から少しずれて来ると、次第に蛍光15がマス
ク6の小孔17から・上方へずれて行き、光デテクタl
Oの受光面9には光が当たらなくなる。
かわって1粒子がシースフローセル4内の照射領域11
の位置13に流れて来ると、その粒子から発生する2種
類の蛍光14が散乱光/蛍光集光レンズ5で集光され、
こんどはマスク6の小孔16を通り、この小孔16の直
後に配置されたフィルタ7に達する。
前記フィルタ7は、前記2種類の蛍光のうちの、他方の
蛍光のみを透過させるようになっており、このフィルタ
7を透過した蛍光は光デテクタ10の受光面9に達する
結局、一つの粒子がレーザ光2の照射領域11を通過す
る際に、光デテクタ10の受光面9には2回、光が照射
されることになる。そして、光デテクタ10は受光面9
で検出した光強度を電圧に変換して出力する。
第2図は光デテクタの検出信号電圧の時間的変化を示す
第1図に示す実施例のマスク6およびフィルタ7.8を
取り払い、前記2種類の蛍光を別々に発生させた場合の
、光デテクタ10の出力電圧時間的変化は第2図中の曲
線23.24のようになる。
第1図に示す実施例では、マスク6の小孔17とフィル
タ8によって、第2図中の曲線23のΔt1時間の信号
変化を把え、マスク6の小孔工6とフィルタ7によって
、第2図中の曲線24のΔt2時間の信号変化を把える
ことになる。その結果、光デテクタ10の出力信号は、
第2図中の符号25のようになる。
前記光デテクタ10の出力信号を光信号処理装置プリア
ンプ18により増幅し、ベースラインの変動を除去した
後、ピークホールド検出器19に送る。
前記ピークホールド検出器199では、第2図に示す2
つのピーク値VC!、VRを検出し、これをA/D変換
器20に渡す。
前記A/D変換器20では、ピーク値Vc、 VRのア
ナログ信号をデジタル信号に変換する。ここで、前記ピ
ーク値VO,VRは、各々の蛍光の第2図に示す単独の
ピーク値VO’gVR’ を反映していると考えてよい
、前記A/D変換器20は、ピーク値VO,VRに関す
るデジタル信号をデータメモリ21に渡す。
前記データメモリ21では、一つの粒子に対して前記2
つの信号をペアにして蓄積する。そして、このデータメ
モリ21は順次流れて来る粒子の情報を次々に蓄積して
行く。
一定個数の粒子について計測し、その計測が終了すると
、信号処理器22で前記データメモリ21から粒子の情
報を受は取り、各粒子の蛍光強度に関する2つの信号か
ら粒子の分析を行う。
本発明の他の実施例を第3図、第4図を用いて説明する
第3図は本発明の他の実施例を示す系統図である。
この第3図に示す実施例の粒子計測装置では。
散乱光/蛍光集光レンズ5とマスク6との間に、ビーム
ストッパ28が設けられている。このビームストッパー
28は、レーザ光2が直接光デテクタ10に達するのを
防止している。
また、前記マスク6の小孔16と小孔17との間の中央
部に、散乱光27を通過させる小孔29が設けられてい
る。この小孔29の直後には、フィルタは配置されてい
ない。
この第3図に示す実施例の他の構成については、前記第
1図に示す実施例と同様である。
ところで、この第3図に示す実施例では10粒子の2種
類の蛍光に加えて前方散乱光をも計測する。
すなわち、粒子がシースフローセル4内の照射領域11
の中央26の位置に来たとき、散乱光27はマスク6の
小孔29により適当な角度範囲に切り取られて光デテク
タ10の受光面9に取射する。
第4図は第3図に示す実施例における光デテクタ検出信
号電圧の時間的変化を示す。
前記散乱光27による光デテクタ10の出力の時間的変
化は、第4図に示す曲線30ようになる。
この散乱光27の光強度が蛍光14.15に対して著し
く大きい場合は、小孔29の後側に減衰フィルタを設け
てもよい。
この第3図に示す実施例では、一つの粒子が前記照射領
域11を位置12,26.13に流れて行くと、第4図
に示す曲線31のような出力信号が得られる。この出力
信号を光信号処理装置のプリアンプ18を経てピークホ
ールド検出器19で各ピーク値を検出すると、一つの粒
子について2種類の蛍光のピーク値VG、VRと、散乱
光のピーク値Vsとの3つのピーク値を得ることができ
る。
したがって、前記3つのピーク値V o 1 V Rt
 V sを利用することにより1粒子の分析をより高精
度行うことが可能となる。
この第3図に示す実施例の他の作用については、前記第
1図に示す実施例のものと同様である。
〔発明の効果〕
以上説明した本発明の請求項1記載の発明によれば、レ
ーザ光源と、レーザ光集光レンズと、シースフローセル
と、散乱光/蛍光集光レンズと、光デテクタと、光信号
処理装置とを備えた粒子計測装置において、前記散乱光
/蛍光集光レンズと光デテクタとの間に、異なる光波長
透過性を持つた複数のフィルタを、シースフローの流れ
方向に沿って設けたことにより、単一の光デテクタで多
波長の成分を分離、測定できるため、光学調整を容易に
行い得る効果があり、多波長測定光学系の小型化を図り
得る効果もある。
さらに、本発明の請求項2記載の発明によれば、各フィ
ルタの直前と直後のいずれかに、小孔を有するマスクを
設けたことにより、粒子の分析をより一層高精度に行い
得る効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す系統図、第2図は光デ
テクタの検出信号電圧の時間的変化を示す図、第3図は
本発明の他の実施例を示す系統図、第4図は第3図に示
す実施例における光デテクタの検出信号電圧の時間的変
化を示す図である。 1・・・レーザ光源、2・・・レーザ光、3・・・レー
ザ光集光レンズ、4・・・シースフローセル、5・・・
散乱光/蛍光集光レンズ、6・・・マスク、7,8・・
・フィルタ、10・・・光デテクタ、11・・・レーザ
光の照射領域。 12.13・・・照射領域内における粒子の位置、14
.15・・・蛍光、16.17・・・マスクの小孔、1
8・・・光デテクタの出力信号のプリアンプ、19・・
・ピークホールド検出器、20・・・A/D変換器、2
1・・・データメモリ、22・・・信号処理器、26・
・・照射領域内の粒子の位置、27・・・散乱光、28
・・・第 2 図 時 間 右

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、レーザ光源と、レーザ光集光レンズと、シースフロ
    ーセルと、散乱光/蛍光集光レンズと、光デテクタと、
    光信号処理装置とを備えた粒子計測装置において、前記
    散乱光/蛍光集光レンズと光デテクタとの間に、異なる
    光波長透過性を持つた複数のフィルタを、シースフロー
    の流れ方向に沿つて設けたことを特徴とする粒子計測装
    置。 2、請求項1記載の粒子計測装置において、各フィルタ
    の直前と直後のいずれかに、小孔を有するマスクを設け
    たことを特徴とする粒子計測装置。
JP1124338A 1989-05-19 1989-05-19 粒子計測装置 Pending JPH02304332A (ja)

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JP1124338A JPH02304332A (ja) 1989-05-19 1989-05-19 粒子計測装置

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2784478A1 (en) 2013-03-26 2014-10-01 Sysmex Corporation Particle analyzer, optical system for particle analyzer, and lens for particle analyzer
JP2016503489A (ja) * 2012-10-15 2016-02-04 ナノセレクト バイオメディカル, インコーポレイテッド 粒子を選別するためのシステム、装置、および、方法
US9513206B2 (en) 2013-03-29 2016-12-06 Sysmex Corporation Particle measuring apparatus
KR20210054739A (ko) * 2019-11-06 2021-05-14 주식회사 뷰웍스 광학 분석 장치 및 광학 분석 방법

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