ES2712698T3 - Cuerpo cerámico, en especial para usarse como implante dental - Google Patents

Cuerpo cerámico, en especial para usarse como implante dental Download PDF

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ES2712698T3 ES14705724T ES14705724T ES2712698T3 ES 2712698 T3 ES2712698 T3 ES 2712698T3 ES 14705724 T ES14705724 T ES 14705724T ES 14705724 T ES14705724 T ES 14705724T ES 2712698 T3 ES2712698 T3 ES 2712698T3
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Abstract

Cuerpo cerámico (20) para usarse en un implante óseo, en especial en un implante dental (24), que está fabricado por completo con una cerámica eléctricamente conductora o eléctricamente semiconductora o que está equipado, en la zona superficial (40) prevista para el contacto con tejido humano, con un recubrimiento eléctricamente conductor (42) de una cerámica dopada, de un material sintético eléctricamente conductor y/o de un carbono eléctricamente conductor y que presenta, en la zona superficial (40) prevista para el contacto con tejido humano, una resistencia eléctrica específica de como máximo 10-2 Ω.

Description

DESCRIPCION
Cuerpo ceramico, en especial para usarse como implante dental
La invencion se refiere a un cuerpo ceramico, en especial para usarse en un implante oseo, en especial como implante dental. Se refiere ademas a un implante oseo, en especial a un implante dental, con un cuerpo ceramico de este tipo.
Con relacion a esto se cita el documento WO 03/045268 A1. Los implantes oseos y en especial los implantes dentales se conocen en multiples formas. Los implantes dentales se insertan casi siempre mediante atornillado en lugar de un diente extrafdo o que se ha cafdo en el hueso de la mandfoula, para sujetar alft despues de una fase de tratamiento de entre tres y cuatro meses una parte de colocacion protesica, que sirve de sustituto dental, o una corona. Para ello un implante dental de este tipo, asf como un implante oseo en general, esta configurado habitualmente como un cuerpo metalico o ceramico moldeado de forma apropiada y se moldea a modo de un perno. El mismo presenta en el extremo apical una rosca de tornillo casi siempre auto-cortante, con la que el perno se inserta en el lecho del implante preparado de forma correspondiente.
Normalmente se producen implantes dentales de titanio, circonio, niobio o tantalo o de aleaciones compatibles con el tejido, que contienen uno de estos elementos como componente principal. Ademas de esto tambien se producen implantes dentales de ceramicas. Las ceramicas usadas son en su mayona ceramicas sobre base de oxido de circonio, en las que de forma preferida mediante la adicion mezclando de oxido de itrio se estabiliza la fase tetragonal (TZP, TZP-A con partes de oxido de aluminio), o que estan reforzadas con oxido de aluminio mediante la adicion mezclando, casi siempre adicional, de oxido de aluminio (ceramicas ATZ). Sin embargo, tambien se conocen implantes dentales sobre base de oxido de aluminio.
De la solicitud de patente alemana no prepublicada con el numero de registro 10 2012 022 593.8 se conoce un elemento de tratamiento, en especial para usarse con una parte del implante, asf como un procedimiento para limpiar una parte del implante dental. Una limpieza de este tipo de una parte del implante puede ser deseable o necesaria, para garantizar el mantenimiento del implante insertado en la sustancia osea. Sobre la superficie solida delimitada por tejido y ftquido de tejido de los implantes puede formarse precisamente una bio-peftcula, que este infestada de bacterias, que en ultimo termino pueden provocar infecciones cronicas y recurrentes. Este cuadro de afecciones recibe el nombre en los implantes dentales de periimplatitis. En especial en el campo dental es causal para el cuadro clmico de la periimplatitis de forma similar a en la parodontitis, una combinacion entre higiene bucal descuidada, adherencia de bio-peftcula sobre la superficie habitualmente micro-rugosa del implante dental y otros factores, la cual se caracteriza por una carga y una destruccion en aumento del tejido duro y blando. Las zonas en las que se retrae el tejido duro y/o blando, se recubren a este respecto normalmente con una bio-peftcula.
El procedimiento de limpieza descrito en la citada solicitud se basa en el concepto de destruir y extraer la biopeftcula y los germenes que forman la impureza partiendo de la superficie del implante, sin danar con ello la superficie del implante. Para ello esta previsto un proceso electrolftico, en el que se transportan a traves de la biopeftcula unos iones (cationes y/o aniones) mediante fuerzas electrostaticas. Estos iones reaccionan sobre la superficie del implante qmmica o electroqmmicamente. Mediante estas reacciones se crean nuevos enlaces de sustancias y/o se pasan a estado atomico los propios iones y/o partes de estos iones. Ademas de esto existe tambien la posibilidad de que los iones reaccionen con el material superficial (p.ej. formacion de una capa oxfdica o erosion de material.
La accion destructiva de germenes de este proceso se basa en diferentes efectos. Por un lado mediante la aplicacion de una tension electrica se transportan iones desde la propia bio-peftcula (tambien desde de las bacterias) hasta el anodo o catodo. Esto puede conducir a la destruccion de bacterias y virus. Ademas de esto los iones, mientras pasan por la bio-peftcula, pueden provocar unas reacciones qmmicas, lo que tambien puede conducir a la destruccion de bacterias y/o virus. Otra posibilidad de la destruccion consiste en que los enlaces de sustancias recien formados sobre la superficie del implante posean una accion antibacteriana y/o antiviral y/o antifungicida. Esto puede pasar naturalmente tambien si los iones pasan a un estado atomico.
El elemento de tratamiento descrito en la citada solicitud esta disenado espedficamente para llevar a cabo este procedimiento de limpieza directamente en el implante dental insertado, es decir, de forma preferida mientras la parte del montante se encuentra en el hueso en la boca del paciente. Para ello el elemento de tratamiento esta previsto para unirse directamente a la parte del montante insertada y esparcir seguidamente un ftquido de tratamiento apropiado, que si recibe una corriente electrica puede servir de base para el proceso electrolftico buscado, en la proximidad directa de la parte del montante insertada en la zona espacial afectada de la sustancia osea adyacente, y recibir la corriente electrica. Para emplear este elemento de tratamiento, sin embargo, se requiere la produccion de un contacto tanto mecanico como electrico con la parte del montante insertada.
La presente invencion se ha impuesto la tarea de exponer un cuerpo ceramico adecuado para usarse en un implante oseo, en especial en un implante dental, el cual fortalezca de forma apropiada la aplicacion del concepto de limpieza y tratamiento descrito en la citada solicitud. Asimismo se pretende exponer un implante oseo especialmente apropiado para el uso del concepto de limpieza y tratamiento descrito en la citada solicitud, en especial un implante dental, con un cuerpo ceramico de este tipo.
Con relacion al cuerpo ceramico, esta tarea es resuelta conforme a la invencion por medio de que el mismo presenta, en una zona superficial prevista para un contacto con tejido humano, una resistencia electrica espedfica de como maximo 10-2 Q.
Unas conformaciones ventajosas de la invencion son objeto de las reivindicaciones secundarias. De la descripcion de las figuras se deducen tambien unas conformaciones ventajosas adicionales y/o alternativas de la invencion. La invencion se basa en la consideracion de que la bio-pelfcula hace posible un tratamiento electrolftico y una limpieza del cuerpo ceramico, por medio de que el mismo se fortalece para la requerida aplicacion de corriente. Para ello debena conformarse apropiadamente de forma conductora, precisamente en las zonas superficiales en las que debe producirse la descomposicion electrolttica del lfquido de tratamiento.
Para conseguir esto entran en cuestion basicamente diferentes planteamientos. Por un lado el cuerpo ceramico puede estar fabricado enteramente con una ceramica electricamente suficientemente conductora o una electricamente semiconductora.
Alternativamente el cuerpo ceramico puede estar equipado, en la zona superficial prevista para el contacto con tejido humano, con un recubrimiento electricamente conductor. Por ejemplo un recubrimiento de este tipo esta formado por un metal, sin embargo conforme a la invencion por un material sintetico electricamente conductor y/o por un carbono electricamente conductor, o de forma especialmente preferida por una ceramica dopada, de forma preferida por oxido de indio y/o oxido de indio-estano, por oxido de estano, por nitruro de silicio, por MoSi2, por Si3N4-MoSi2-SiC, por ZrO2/CaO, por A^O3/TiN, por BaTiO3, por un siliciuro, por un nitruro, por una ceramica con contenido de titanio y/o por un titanato. Como recubrimiento metalico entran en cuestion p.ej. platino, oro, titanio, etc. Evidentemente un recubrimiento metalico solo podna ser apropiado limitamente a la hora de usarse en un implante dental, por motivos esteticos, biologicos o alergologicos. Al contrario que esto las ceramicas especialmente preferidas, electricamente conductoras o electricamente semiconductoras, podnan satisfacer tambien, precisamente si se emplean en un implante dental con una coloracion correspondiente en el recubrimiento, los requisitos esteticos, biologicos y alergologicos.
Un implante dental totalmente ceramico, no electricamente conductor en sf mismo (parte de colocacion/parte del montante), puede recubrirse con una ceramica electricamente conductora o electricamente semiconductora. Este recubrimiento puede realizarse completamente/enteramente o solo en zonas parciales. El contactado electrico se realiza a este respecto de forma preferida a traves del reborde del implante. Para ello sena favorable configurar mas grueso el grosor del recubrimiento en el punto de contacto en la zona del reborde del implante, p.ej. dos, cinco o diez veces mas grueso. Si se recubriese de esta forma el exterior y el interior de un implante, sena tambien posible un contactado electrico a traves del interior del implante.
En el caso del conexionado anodico de implantes de titanio, en especial de titanio grado IV o titanio mas puro, se obtiene una formacion de capa de oxido de titanio, la cual justo despues de su creacion reduce mucho o elimina los procesos electroqmmicos sobre la superficie, si aumentar la tension electrica. Una alimentacion de corriente anodica para la limpieza solo es posible con ello durante muy poco tiempo y/o una sola vez, sin poner en peligro al paciente a causa de la tension electrica. Si se recubriera un implante de titanio de este tipo con una ceramica electricamente conductora o electricamente semiconductora, se impedina el crecimiento de oxido de titanio durante la alimentacion de corriente anodica. De esta manera podna hacerse posible aprovechar durante mucho tiempo la alimentacion de corriente anodica para limpiar la superficie del implante. Como ventaja adicional de una superficie de este tipo se obtendna que no podna desprenderse ningun ion metalico desde el implante metalico.
Asimismo es tambien concebible que a una ceramica no electricamente conductora, que sea adecuada como modulo de implante, se anada mezclando una sustancia electricamente conductora o semiconductora, de forma preferida sobre una base ceramica y/o de carbono, para provocar una conductividad electrica o una semiconductividad electrica.
El cuerpo ceramico se usa de forma especialmente preferida para un implante oseo, en especial formando parte de un implante dental. El mismo puede despues contactarse electricamente, ya sea desde la parte oclusal o a traves del interior, con la finalidad de la limpieza. Como es natural tambien puede aplicarse un contactado electrico a traves de una canula de limpieza desde fuera.
Con relacion al implante oseo, la citada tarea es resuelta por medio de que el mismo esta realizado como cuerpo ceramico del tipo citado. En el caso de una conformacion como implante dental, el mismo comprende conforme a la invencion una parte de montante que puede introducirse en el hueso de la mandfbula y una parte de colocacion asociada a la misma, en donde la parte de montante esta realizada como cuerpo ceramico del tipo citado. El implante dental puede estar realizado a este respecto como un llamado implante enterizo, en el que la parte de montante y la parte de colocacion forman parte de un cuerpo de base comun, realizado de forma enteriza. Alternativamente el implante dental puede estar tambien realizado en varias partes, en el sentido de que la parte de montante por un lado y la parte de colocacion por otra parte sean respectivamente componentes independientes, que pueden ensamblarse a traves de una union adecuada. La parte de colocacion puede estar prevista a este respecto en especial para aplicar una pieza de reemplazo dental.
La parte de montante esta realizada aqrn ventajosamente como cuerpo ceramico a base de oxido de circonio estabilizado con oxido de itrio y/o aluminio. Para favorecer especialmente el implante en el hueso de la mandfoula, la parte de montante esta equipada a este respecto ventajosamente, de forma adicional, con una superficie especialmente adecuada. Para ello su zona superficial prevista para el contacto con el tejido humano esta equipada de forma preferida, al menos en una zona parcial, con una estructura que presenta poros nanoscopicos o esta realizada de otro modo nanoscopicamente, y que presenta una zona de empobrecimiento a base de oxido de circonio estabilizado con oxido de itrio y/o aluminio, con una proporcion de oxido de itrio o de aluminio reducida en comparacion con el volumen interior.
Las ventajas conseguidas con la invencion consisten en especial en que mediante la conformacion del cuerpo ceramico con una superficie suficientemente conductora, tambien un cuerpo realizado de esta manera puede someterse al procedimiento de tratamiento y limpieza descrito en la solicitud antes citada. A este respecto tambien para un cuerpo ceramico, en especial para un implante oseo o dental realizado ceramicamente, puede llevarse a cabo con una elevada precision local una limpieza fiable incluso de zonas espaciales localmente limitadas del respectivo cuerpo mediante la bio-pelfcula. A este respecto puede usarse de forma fiable el concepto de limpieza, reconocido como especialmente efectivo, de la destruccion de germenes electrolftica. Precisamente en el caso de una invasion bacteriana tan solo limitada del objeto que requiere ser tratado, esto puede realizarse de una forma especialmente adaptada a las necesidades y, para el tratamiento de un implante dental insertado, la misma puede llevarse a cabo sin que sea necesaria una extraccion de la protesis o dado el caso del pilar.
En base a un dibujo se explica con mas detalle un ejemplo de realizacion de la invencion. Aqrn muestran:
la fig. 1 un sistema de tratamiento para limpiar un componente afectad por la bio-pelfcula,
la fig. 2 el sistema de tratamiento conforme a la fig. 1 en una vista fragmentaria aumentada,
la fig. 3 una configuracion alternativa del sistema de tratamiento conforme a la fig. 1 en una vista fragmentaria aumentada, y
la fig. 4 la zona de salida de una canula de fluidos en una vista fragmentaria aumentada.
Las piezas iguales poseen en todas las figuras los mismos sfmbolos de referencia.
El principio basico de la invencion se explica a continuacion en base al sistema de tratamiento 1 representado en la fig. 1. Como es natural alternativa o adicionalmente tambien es posible el uso de un elemento de tratamiento, como el que se describe en la solicitud de patente alemana no publicada con el numero de registro 102012022593.8. El sistema de tratamiento 1 conforme a la fig. 1 esta previsto para limpiar un componente afectado por una bio-pelfcula, en especial una parte del implante. El sistema de tratamiento 1 esta disenado a este respecto para un concepto de limpieza electrolftico, en el que el componente que requiere ser tratado recibe de forma espedfica y localizada un lfquido de tratamiento espedfico, elegido de forma apropiada y despues se genera un flujo de corriente a traves del componente que requiere ser tratado y del lfquido de tratamiento. Para ello el sistema de tratamiento 1 comprende una canula de fluidos 2, en la que se grna el lfquido de tratamiento y puede aplicarse a traves de una abertura de salida 4. La canula de fluidos 2 presenta a este respecto en su zona terminal una forma constructiva que se extiende a lo largo, de tal manera que se hace posible una extraccion espedficamente localizada y controlada del lfquido de tratamiento.
En el lado de los fluidos la canula de fluidos 2 esta unida, a traves de un tubo flexible de union 6, a un recipiente de reserva 8 para el lfquido de tratamiento.
Adicionalmente el sistema de tratamiento 1 esta conformado ademas como sistema electrico. A este respecto esta previsto en especial como principio de diseno hacer posible la aplicacion de corriente, en especial de impulsos de corriente, al fluido guiado en la canula de fluidos 2, en especial al lfquido de tratamiento guiado en su interior. El sistema de tratamiento 1 esta disenado aqrn para poder aplicar el flujo de corriente, previsto para fines de limpieza del componente que requiere ser tratado, de forma espedficamente localizada en la zona espacial que requiere ser tratada. El sistema de tratamiento 1 esta estructurado a este respecto segun el principio de diseno de que la corriente electrica puede alimentarse al componente que requiere ser tratado y el mismo puede usarse como electrodo. Para ello el sistema de tratamiento 1 comprende un elemento conductor 10 que forma una ruta de corriente electrica. El mismo esta realizado en el ejemplo de realizacion a modo de un electrodo “convencional”, es decir en especial como un elemento metalico de tipo aguja electricamente conductor. El elemento conductor 10 posee para ello en su lado exterior un aislamiento electrico y presenta solamente en su extremo libre 12 una punta de contacto metalica 14 al descubierto. La misma puede apretarse de forma apropiada, en caso de funcionamiento, contra el componente que requiere ser tratado y con ello puede establecerse un contacto electrico. El elemento conductor 10 puede conectarse electricamente a uno de los polos de una unidad de alimentacion electrica 16, en especial una fuente de corriente o de tension.
A la unidad de alimentacion electrica 16 se asocia una unidad de control 18, a traves de la cual puede controlarse y ajustarse la corriente entregada o la tension entregada. La unidad de control actua a este respecto adicionalmente tambien sobre un sistema de transporte no representado con mas detalle del tubo flexible de conexion 6, con el puede ajustarse el caudal del lfquido de tratamiento a traves del tubo flexible de conexion 6.
Para formar un contrapolo o el contraelectrodo, esta previsto aprovechar la conductividad electrica del lfquido de tratamiento guiado en la canula de fluidos 2. Para ello el espacio interior de la canula de fluidos 2 esta conectado electricamente por su lado, a traves de un cable 19 que esta conectado de forma conductora al espacio interior de la canula de fluidos 2, al otro polo de la unidad de alimentacion electrica 16. De este modo la abertura de salida 4 de la canula de flujos 2 forma, desde el punto de vista electrico, un contacto o punto de contacto electrico, a traves del cual se realiza el flujo de corriente en el componente que requiere ser tratado. Con un posicionamiento adecuado de la canula de fluidos 2 y su abertura de salida 4 lo mas cerca posible del componente que requiere ser tratado y el aprovechamiento de la abertura de salida 4 como contacto electrico, se consigue que la corriente electrica aplicada con fines de tratamiento y limpieza pueda fluir a traves de la zona superficial infestada por las bacterias del componente que requiere ser tratado y, desde allf en gran medida directamente, es decir en especial sin “rodeos” a traves de otro tejido corporal o similar, hasta la abertura de salida 4 que se usa como superficie de contacto. La canula de fluidos 2, incluyendo el lfquido de tratamiento electricamente conductor guiado en la misma y los elementos de conexion correspondientes, forma de este modo en el ejemplo de realizacion un segundo elemento conductor que forma una ruta de corriente electrica hacia la abertura de salida 4.
La canula de fluidos 2 esta fabricada con un material base electricamente aislante elegida adecuadamente, por ejemplo con un material sintetico. Sin embargo, para con ello favorecer todavfa mas el aprovechamiento del lfquido de tratamiento situado en la canula de fluidos 2 como elemento conductor electrico y, en especial, asegurar un contactado electrico fiable, la canula de fluidos 2 esta equipada interiormente, es decir en su superficie interior vuelta hacia el lfquido de tratamiento, con un recubrimiento electricamente conductor.
Como puede deducirse de la representacion aumentada conforme a la fig. 2, la canula de fluidos 2 esta disenada para la alimentacion espedfica y localizada del lfquido de tratamiento al componente que requiere ser tratado. Este componente se usara seguidamente como electrodo y se contactara a traves del elemento conductor 10. Evidentemente en el caso del componente que requiere ser tratado se trata de un cuerpo ceramico 20 que, en el ejemplo de realizacion, esta realizado como una parte de montante 22 de un implante dental 24 insertada en la mandfbula de un paciente. Como es natural, sin embargo son tambien posibles otras formas de realizacion, en las que se pretende limpiar de la contaminacion causada por la bio-pelfcula de forma flexible y focalizada un cuerpo ceramico, por ejemplo un implante oseo de cualquier tipo constructivo o un componente de protesis, por ejemplo una parte de colocacion de un implante dental.
El implante dental 24 es en el ejemplo de realizacion, adicionalmente a la parte de montante 22, una parte de colocacion 26 que puede fijarse a traves de un tornillo de union 28 a la parte de montante 22 y soporta una pieza de reemplazo dental 30. Como es natural el implante dental 24 podna estar realizado en lugar de ello tambien de forma enteriza, en donde la parte de montante 22 y la parte de colocacion 26 senan componentes de uno y del mismo cuerpo base a modo de una ejecucion enteriza. En la fig. 2 se ha representado tambien una zona espacial 34 en el hueso de la mandfbula 36, adyacente a la parte de montante 22 en la zona de su rosca exterior 32, limitada espacialmente, que esta afectada de peiimplantitis y de forma correspondiente infestada de bacterias.
En general existe el problema en los sistemas de implante dental, en especial tambien en los sistemas de implante con dos partes, de que a causa de la penetracion de bacterias o germenes en la zona del tejido en las proximidades del punto de insercion, en especial en la zona de la rosca exterior 32 introducida en la mandfbula, pueden producirse inflamaciones o focos inflamatorios. Las inflamaciones de este tipo, que se producen en especial tambien como consecuencia de una llamada periimplantitis, en especial si pueden desarrollarse y reforzarse durante un periodo de tiempo prolongado, pueden conducir a una grave merma del tejido y del hueso en la zona del punto de insercion. Sin unas contramedidas adecuadas, estas mermas pueden conducir a que todo el sistema de implante tenga que extraerse de nuevo del hueso y sustituirse por otra protesis. Este efecto extremadamente indeseado, provocado por la periimplantitis, puede conducir con ello a una perdida total del sistema de implante, de tal manera que podnan ser necesarias unas nuevas medidas quirurgicas, como por ejemplo un raspado de la zona afectada en el hueso de la mandfbula y la nueva aportacion de un sistema de implante. Mediante una extraccion de este tipo puede producirse ademas una perdida de hueso o una perdida de otro tipo de sustancia de tejido, que en caso extremo puede llegar a que ya no sea posible siquiera una nueva aportacion de otro implante. Una necesidad asf de una nueva aportacion, provocada por la periimplantitis, puede producirse tambien despues de unos periodos de tiempo relativamente largos tras la primera insercion del sistema de implante de por ejemplo hasta algunos anos o incluso decenios.
Los germenes o las bacterias observado(a)s con relacion a la periimplantitis pueden infestar a este respecto basicamente el interior de los componentes del implante dental 24, pero por lo general se adhieren de forma preferida directamente a la superficie de la parte de montante 22 insertada en el hueso de la mandfbula 36, en la zona de contacto con el tejido o material oseo circundante, es decir en especial en la zona de la rosca exterior 32. En su zona la superficie de la parte de montante 22 puede poseer una rugosidad o algo similar, para favorecer especialmente el implante en el tejido o en el hueso y apoyar la cicatrizacion de la parte de montante 22 despues de la insercion. Precisamente en la zona de una rugosidad de la superficie de este tipo, considerada en realidad especialmente favorable para el sistema de implante, el asentamiento de los germenes o de las bacterias puede tener lugar sin embargo con mas fuerza, en donde la rugosidad dificulta todavfa mas una extraccion espedfica de los germenes o de las bacterias existentes.
Por ello existe el acuciante deseo de tomar unas contramedidas adecuadas para, en el caso de una periimplantitis que se este iniciando o que ya se haya producido y conservando el sistema de implante ya insertado, poder combatir eficazmente el foco de la inflamacion y destruir los germenes que hayan penetrado, de tal manera que a continuacion pueda formarse de nuevo tejido sano o sustancia osea sana en la zona alrededor de la rosca exterior 32. Para ello es deseable, adicionalmente a una destruccion espedfica de los germenes o de las bacterias en la zona afectada, extraer tambien de forma fiable sus restos de material y fragmentos desde la zona espacial afectada, de tal manera que a continuacion la zona afectada pueda rellenarse de nuevo con tejido o material oseo sano y pueda fomarse de nuevo una union interior entre la superficie exterior de la parte de montante 22 y el tejido o material oseo circundante. Ademas de esto debena extraerse de forma fiable la bio-pelfcula formada por el recubrimiento bacteriano, incluyendo los restos organicos de las bacterias destruidas.
Con este fin, es decir, para destruir germenes o bacterias en la zona de insercion de la parte de montante 22 y en especial tambien para el enjuague, la extraccion y evacuacion a continuacion de los restos de tejido y material de las bacterias destruidas, esta previsto el sistema de tratamiento 1. El mismo se basa en cuanto a su conformacion y modo de realizacion de principio en dos conceptos basicos, considerados por la invencion respectivamente independientes: por un lado esta conformado para destruir espedficamente los germenes o las bacterias existentes en la zona de insercion del implante dental 24 mediante una alimentacion espedfica de un medio de limpieza o desinfeccion bactericida, pero compatible con el organismo humano. Por otro lado esta disenado para desprender los restos o fragmentos de germenes y/o bacterias que todavfa pudieran estar adheridos a la superficie de la parte de montante 22, en especial en la zona de la rosca exterior 32, mediante una aplicacion apropiada de corriente o impulsos de corriente desde la superficie exterior de la parte de montante 22, de tal manera que a continuacion puedan extraerse por lavado.
En un primer aspecto considerado de la invencion, independiente tanto con relacion a la conformacion del sistema como con respecto a los pasos de procedimiento previstos del procedimiento de tratamiento, el sistema de tratamiento 1 esta disenado por ello, tanto estructuralmente como funcional/conceptualmente, para alimentar el lfquido de tratamiento para destruir los germenes o las bacterias y/o para limpiar la parte del implante insertada espedficamente en la zona de insercion de la parte del montante 22, en especial en la zona de su rosca exterior 32.
En un segundo aspecto de la invencion, considerado tambien independiente tanto con relacion a la conformacion del sistema como a la seleccion y a la composicion de los componentes basicos del lfquido de tratamiento usado como con respecto a los pasos de procedimiento previstos del procedimiento de tratamiento, el sistema de tratamiento 1 esta disenado para desprender de forma fiable de las superficie exterior de la parte de montante 22 las bacterias o los germenes destruida(o)s, respectivamente sus restos o fragmentos, de tal manera que a continuacion puedan enjuagarse y seguidamente pueda aplicarse tejido o material oseo sano a la superficie de la parte de montante 22 y la misma pueda implantarse de nuevo por completo en tejido o material oseo sano. Para el desprendimiento desde la superficie de las batenas o de los germenes, o de sus restos o fragmentos, esta prevista su irrigacion con un lfquido de tratamiento conductor bajo la aplicacion de corriente. Como ha quedado tambien demostrado precisamente de forma sorprendente, parece ser que precisamente esta aplicacion de corriente en combinacion con una concentracion de iones elegida de forma adecuada en el lfquido de tratamiento produce, de forma especialmente fiable, el desprendimiento de bacterias o germenes o de sus fragmentos o restos desde la superficie situada debajo, incluso si la misma es rugosa y en realidad favorece especialmente la adhesion del material organico a causa de sus estructura superficial.
A este respecto el sorprendente descubrimiento se basa en que la aplicacion de corriente a la parte de montante 22, con el uso de un lfquido de tratamiento elegido de forma apropiada en la zona de la superficie exterior de la parte de montante, es decir en especial en la zona de la rosca exterior 32, conduce a una reaccion electrolftica en el lfquido de tratamiento y con ello dado el caso a la produccion de burbujas de gas muy cerca de la superficie. Mediante esta formacion de burbujas de gas sobre la superficie de la parte de montante 22 tambien se desprenden y se extraen sin restos los componentes o fragmentos adheridos superficialmente de los germenes o de las bacterias, de tal manera que no pueden formar ninguna base y ningun medio de cultivo para una nuevo asentamiento de germenes en estas zonas. Queda una superficie de la parte de montante 22 rugosa, porosa y liberada de germenes, bacterias o sus componentes o restos, que puede usarse bien como base para una futura integracion en el tejido oseo que va creciendo.
Evidentemente para un concepto de tratamiento de este tipo es necesario que la parte de montante 22 - o el componente que requiere ser tratado en general - pueda usarse como electrodo en el sistema de tratamiento 1. Para ello el cuerpo ceramico 20 que forma la parte de montante 22 esta disenado de forma espedficamente apropiada. Para hacer esto posible, el cuerpo ceramico 20 presenta con respecto a su zona superficial 40 prevista para el contacto con el tejido humano una conductividad electrica suficientemente alta y, de esta forma, una resistencia electrica espedfica suficientemente baja de como maximo 10-2 Q, de forma preferida como maximo de Para poder proporcionar espedficamente esta conductividad electrica, se contemplan varias formas de realizacion para el cuerpo ceramico 20. Por un lado, el implante dental 24 completo o al menos su parte de montante 22 podna estar fabricado(a) con una ceramica electricamente conductora o electricamente semiconductora. La misma puede contactarse despues electricamente desde el lado oclusal o a traves del interior con fines de limpieza. Como es natural tambien puede aplicarse un contactado electrico a traves de la canula de fluidos 2 desde el exterior.
Alternativamente es tambien concebible que a una ceramica no electricamente conductora, la cual sea adecuada como modulo de implante, se anada mezclando un material electricamente conductor o semiconductor, de forma preferida sobre una base ceramica y/o de carbono, para provocar una conductividad electrica o una semiconductividad electrica.
Asimismo alternativamente el implante dental 24 o su parte de montante 22 puede estar realizado(a) como cuerpo ceramico 20 totalmente ceramico, electricamente no conductor(a), como esta tambien previsto en el ejemplo de realizacion. Para asegurar aun asf la deseada conductividad electrica en la zona superficial 40, la misma esta equipada con un recubrimiento 42 electricamente conductor o electricamente semiconductor. Este recubrimiento 42 puede estar previsto por completo/enteramente o solo en zonas parciales de la superficie de la parte de montante 22 y esta aplicado en el ejemplo de realizacion mostrado solamente en la parte de montante 22. Como es natural sin embargo es tambien posible - segun la finalidad aplicativa prevista - equipar otros componentes como por ejemplo la parte de colocacion 26 prevista como componente protesico completa o parcialmente con el recubrimiento 42. Para el contactado electrico esta previsto en el ejemplo de realizacion el reborde del implante 44, en cuya zona el recubrimiento 42 presenta un mayor grosor, p.ej. dos, cinco o diez veces mayor que el recubrimiento 42 en la restante zona superficial 40. Si se recubriera de esta forma el exterior y el interior de un implante, sena tambien posible un contactado electrico a traves del interior del implante.
La parte de montante 22 esta realizada como cuerpo ceramico 20 a base de oxido de circonio estabilizado con oxido de itrio y/o aluminio. Su zona superficial 40 prevista para el contacto con el tejido humano posee ademas, al menos en una zona parcial, una estructura que presenta poros nanoscopicos o realizada de otro modo nanoscopicamente y presenta una zona de empobrecimiento a base de oxido de circonio estabilizado con oxido de itrio y/o aluminio con una proporcion de oxido de itrio y/o aluminio reducida en comparacion con el volumen interior.
El recubrimiento 42 puede estar formado a este respecto por un metal, por un material sintetico electricamente conductor y/o por un carbono electricamente conductor. En el ejemplo de realizacion el recubrimiento 42 esta formado sin embargo por una ceramica dopada, de forma preferida por oxido de indio y/o oxido de indio-estano, por oxido de estano, por nitruro de silicio, por MoSi2, por Si3N4-MoSi2-SiC, por ZrO2/CaO, por A^Oa/TiN, por BaTiO3, por un siliciuro, por un nitruro, por una ceramica con contenido de titanio y/o por un titanato.
Un recubrimiento 42 electricamente conductor de este tipo puede ser ventajoso incluso en el caso de unos implantes dentales metalicos. En el caso del conexionado anodico de implantes de titanio, en especial de titanio grado IV o titanio mas puro, se obtiene precisamente una formacion de capa de oxido de titanio, la cual justo despues de su creacion reduce mucho o elimina los procesos electroqmmicos sobre la superficie, sin aumentar la tension electrica. Una alimentacion de corriente anodica para la limpieza solo es posible con ello durante muy poco tiempo y/o una sola vez, sin poner en peligro al paciente a causa de la tension electrica. Si se recubriera un implante de titanio de este tipo con una ceramica electricamente conductora o electricamente semiconductora, se impedina el crecimiento de oxido de titanio durante la alimentacion de corriente anodica. De esta manera podna hacerse posible aprovechar durante mucho tiempo la alimentacion de corriente anodica para limpiar la superficie del implante. Como ventaja adicional de una superficie de este tipo se obtendna que no podna desprenderse ningun ion metalico desde el implante metalico.
Un favorecimiento especial del desprendimiento desde la parte de montante 22 insertada de los componentes de la bio-pelfcula que se adhieren sobre las superficies, deseado en el sentido de una limpieza fiable de la superficie, puede conseguirse mediante una conduccion del procedimiento ventajosa especialmente apropiada a la hora de la aplicacion de corriente. La misma puede llevarse a cabo de tal manera, que se refuerce especialmente la formacion de burbujas de gas electrolttica que tiene lugar como consecuencia del flujo de corriente en la zona de la superficie insertada. A este respecto la parte de montante 22 puede conectarse anodica o catodicamente. En especial en el caso de un conexionado catodico al menos provisionalmente de la parte de montante 22 se produce gas de hidrogeno inducido electrolfticamente, que contribuye de forma especialmente eficaz a la formacion de burbujas de gas. En el caso de un conexionado anodico de la parte de montante se producen por el contrario, en funcion de la composicion del lfquido de tratamiento, gas clorhndrico, oxfgeno, nitrogeno; monoxido de carbono y/o dioxido de carbono. Las burbujas de gas formadas de este modo ascienden en el lfquido circundante y generan de este modo unos efectos de arrastre, a traves de los cuales son arrastrados los citados componentes superficiales y evacuados hacia el exterior. Por ejemplo se ha observado de forma totalmente sorpresiva que, con el uso de una solucion que contenga iones positivos, por ejemplo una solucion salina acuosa, estos iones se precipitan en la parte de montante 22 en el caso de una conexion catodica de la misma y, con ello, refuerzan claramente la formacion de burbujas de gas. Por ejemplo la presencia de iones de Na+ en el caso de un conexionado catodico de la parte de montante 22 conduce a una considerable formacion de burbujas de gas, ya que el Na+ reacciona con el agua circundante para formar NaOH y con ello libera oxfgeno.
En otro aspecto de la invencion, tambien independiente tanto con relacion a la conformacion del sistema como con respecto a los pasos de procedimiento previstos del procedimiento de tratamiento, el sistema de tratamiento 1 esta conformado para una combinacion especialmente sencilla y eficientemente mantenida de los citados aspectos. Esto se basa en el concepto de que tanto la alimentacion prevista del lfquido de limpieza como el desprendimiento espedfico de los restos y fragmentos de bacterias y germenes puede conseguirse mediante la aplicacion de los citados impulsos de corriente en un sistema conjunto y, de este modo, con unos medios mantenidos de forma especialmente sencilla.
El lfquido de tratamiento usado esta elegido y compuesto de forma apropiada en cuanto a estos aspectos. La seleccion y la composicion de los componentes basicos del lfquido de tratamiento se llevan a cabo a este respecto en especial en cuanto al modo de actuacion previsto, es decir, a la aplicacion de una corriente electrica en la zona espacial de la superficie que requiere ser tratada, en donde en especial se garantiza que se presente una elevada conductividad electrica en el lfquido de tratamiento, suficiente para esta finalidad. La misma debe garantizarse en especial mediante una densidad ionica elegida suficientemente alta en el lfquido de tratamiento. Para ello esta prevista como componente basico del lfquido de tratamiento una sal metalica, de forma preferida en una solucion acuosa. La misma entrega los iones para el transporte de corriente y ademas los productos reactivos, que se producen despues de la respectiva reaccion electrodica, pueden presentar tambien todavfa unos efectos bioqmmicos apropiados. Mediante la eleccion espedfica de una conductividad electrica suficientemente alta se quiere asegurar, a la hora de llevar a cabo el procedimiento de limpieza en un implante insertado, que el flujo de corriente se produzca mediante el lfquido de tratamiento y con ello mediante las partes y los componentes que requieren ser tratados, pero no mediante el tejido corporal del paciente, de tal manera que pueda minimizarse un riesgo para el paciente a causa de un flujo de corriente indeseado producido por tejidos blandos, huesos, sangre yo otros materiales corporales. La conductividad electrica del lfquido de tratamiento debena presentar a este respecto en lo posible un multiplo de la conductividad electrica de sangre, huesos, tejidos blandos, tejidos grasos y otros materiales corporales.
Como consecuencia de ello se tienen en cuenta, a la hora de la seleccion y composicion de los componentes basicos para el lfquido de tratamiento, los siguientes valores de conductividad (la conductividad electrica a se indica a este respecto en la unidad habitual mS/cm):
Piel: 0,3 - 0,1 mS/cm
Hueso: 0,06 - 0,2mS/cm
Tejido graso: 0,20 - 1,0 mS/cm
Tejido muscular: 0,80 - 2,5 mS/cm
Sangre: aprox. 6,7 mS/cm
Otros lfquidos corporales aprox. 15 mS/cm
Para mantener reducido de forma apropiada el potencial de riesgo para el paciente y limitar el flujo de corriente en las regiones deseadas, la conductividad electrica debena suponer por lo tanto al menos dos veces, de forma preferida cinco veces, de forma especialmente preferida diez veces de la conductividad de otros lfquidos corporales. Por ello la conductividad electrica del lfquido de tratamiento debena presentar un valor de al menos 30 mS/cm, de forma preferida de al menos 75 mS/cm y de forma especialmente preferida de al menos 150 mS/cm. En comparacion con la sangre esto significa la conductividad electrica del lfquido de tratamiento supone de forma preferida al menos aproximadamente cinco veces, de forma preferida al menos aproximadamente diez veces y de forma especialmente preferida al menos veinte veces la conductividad de la sangre. Las mediciones han dado como resultado que, si se emplea un lfquido de tratamiento elegido de esta manera, la tension electrica a la que se exponen el tejido corporal, la sangre, los lfquidos corporales, etc., es inferior a 6 V, de forma preferida inferior a 3 V, de forma especialmente preferida inferior a 1,5 V. De esta manera puede descartarse con seguridad deterioros para el paciente a causa de las tensiones que se mantienen reducidas. Para mantener una conductividad de este tipo se elige suficientemente elevada la concentracion de iones en el lfquido de tratamiento y en los componentes basicos que la forman; para ello pueden emplearse potasas, acidos, sales y/o otros productos o combinaciones de productos formadores de iones.
A la hora de seleccionar y componen los compuestos basicos del lfquido de tratamiento se tiene en cuenta de manera especial que la accion limpiadora o desprendedora de la bio-pelfcula del tratamiento electrolttico de una superficie del implante contaminada se basa en una combinacion de varias causas, que debenan aprovecharse de la forma mas mutuamente complementaria posible. Por un lado pueden formarse durante el flujo de corriente a traves del electrolito de forma preferida en la zona de los electrodos gases o burbujas de gas, que tienen una accion (mecanica) de despegado sobre la bio-pelfcula. La produccion de estos gases se realiza directamente sobre la superficie del implante que se usa como electrodo y, de este modo, entre el mismo y la bio-pelfcula. Las burbujas de gas que se producen aqrn influyen con su velocidad de crecimiento y su tamano maximo en el proceso de desprendimiento.
Como segunda causa para la accion limpiadora del implante o desprendedora de la bio-peftcula del proceso electrolftico cabe citar la accion de descomposicion, destruccion y disolucion de los productos o las combinaciones de productos que se producen electrolfticamente sobre la verdadera adherencia de la bio-peftcula sobre la superficie del implante, es decir sobre el mecanismo de pegado o anclaje.
La tercera causa de la accion de limpieza o desprendimiento del proceso electrolftico se basa en efectos erosionadores del material del material del implante, en donde se desprenden del verdadero implante en su zona superficial componentes o partfculas del mismo.
La cuarta causa de la accion de limpieza o desprendimiento del proceso electrolftico se basa en la formacion de una capa oxfdica de los implantes metalicos, que lo permiten. A este respecto los atomos metalicos del material basico metalico atraviesan la capa oxfdica que podna existir ya, en base a la tension electrica aplicada, y reaccionan con productos del electrolito (casi siempre oxfgeno => formacion de oxido metalico). En los metales que no forman ninguna capa oxfdica o ninguna capa oxfdica estable mecanicamente, pueden producirse tambien combinaciones de productos no oxfdicas (casi siempre sales), que despues se transforman en una solucion.
Los componentes basicos previstos para la formacion del ftquido de tratamiento se eligen y combinan entre ellos de forma apropiada en cuanto a estos efectos. Ademas de esto se tiene en cuenta, como meta de diseno basica, que no debena presentarse ningun efecto toxico que suponga un riesgo de cualquier tipo para el paciente o que sea desagradable para el mismo, de tal manera que el ftquido de tratamiento sea apropiado tambien para usarse en el implante dental insertado, es decir en la boca del paciente. En el ejemplo de realizacion estan previstos a este respecto como componentes basicos al menos una sal, por un lado, y un acido por otro lado, de forma preferida diluidos con agua, cuya seleccion y composicion se base en especial en los criterios citados. A este respecto es especialmente preferido como acido acido fosforico, acido cftrico, acido formico, acido acetico, acido lactico, acido carbonico o una combinacion de los mismos. Alternativa o adicionalmente esta previsto de forma especialmente preferida a este respecto como sal ioduro, cloruro, nitrato, carbonato o carbonato hidrogenado de sodio, calcio, aluminio, magnesio, estano o potasio y/o cloruro, nitrato o ioduro de amonio o bien una combinacion de los mismos. La parte de montante 22 esta conectada de forma preferida catodicamente para el tratamiento con el ftquido de tratamiento. Aqrn los iones cargados positivamente (cationes) migran hasta la superficie de la parte de montante 22. Los mismos pueden ser en especial iones de H+, iones metalicos o iones de hidrocarburos de cadena larga, p.ej. procedentes de ftquidos ionicos. La sal prevista como componente basico para el ftquido de tratamiento se ha elegido para ello en especial espedficamente con respecto a las caractensticas de los cationes, que deben favorecer o en realidad hacer realidad el proceso citado. Para generar una conductividad electrica lo mas alta posible son especialmente adecuados iones pequenos (iones de H+ o cationes metalicos), que ademas pueden penetrar de forma relativamente sencilla, a modo de otro efecto especialmente favorable, la bio-peftcula que pudiera existir. Los iones de H+ se reducen en el catodo formado mediante la parte de montante 22 para formar hidrogeno elemental. Esto produce una formacion de burbujas.
Los metales alcalinos, metales alcalinoterreos y/o el aluminio reaccionan en el catodo con el agua circundante para formar hidrogeno elemental y sus cationes metalicos y iones de OH-. Esto significa que se forman burbujas de hidrogeno y el hidroxido del ion metalico usado. Mediante la combinacion de estos componentes se consigue de este modo, aparte de la accion de desprendimiento del hidrogeno que se produce, que el hidroxido metalico actue antibacterianamente y ejerza una influencia diluyente o disolvente sobre la bio-peftcula o su mecanismo de adhesion.
Para evitar intolerancias con el tejido corporal, como cationes metalicos se prefieren especialmente los propios del cuerpo (p.ej. iones de potasio y/o sodio). Ademas de esto tambien son apropiados iones de calcio, magnesio y/o aluminio. La sal prevista como componente basico para el ftquido de tratamiento es por ello es por ello de forma especialmente preferida una sal de estos metales, en especial debido a que estos cationes metalicos de todos modos solo pueden ponerse a disposicion en forma de una sal, p.ej. en agua.
Estas sales metalicas pueden ser enlaces de los citados metales con un formador de sal adecuado, por ejemplo con azufre, fosforo, nitrogeno, fluor, cloro, yodo, bromo, carbono, oxfgeno, boro u otros no metales. El formador de sal se elige adecuadamente a este respecto de forma ventajosa teniendo en cuenta el principio “cuanto mayor sea el anion, menor es la conductividad electrica” y a la vista de la alta conductividad electrica basicamente deseada. Como anion solo se consideran ademas de forma preferida productos, que no influyan ni en la salud ni en el tejido periimplantado. Asimismo hay que tener en cuenta que son indeseables compuestos con olores o sabores desagradables. Por estos motivos se consideran mas bien inadecuados aniones de azufre o aniones, que contengan azufre combinado con oxfgeno u otros elementos. Esto es tambien aplicable a los iones de fluor, bromo, nitrogeno y boro, dado el caso tambien en combinacion con otros elementos.
Frente a esto los fosfatos, iones de fosfato e iones de fosfato de hidrogeno casi siempre tienen un efecto no o casi no danino. Los iones de cloro o iones que contienen cloro tienen casi siempre un efecto antibacteriano. Sin embargo, si el ion de cloro se oxidara electrolfticamente y estuviesen presentes elementalmente en agua, se forma aqrn acido clortndrico y acido hipoclortndrico. Es cierto que esto conducina, en combinacion con el hidroxido obtenido catodicamente, a una neutralizacion. Sin embargo, durante las investigaciones ha quedado demostrado que el cloro, que se produce en el contraelectrodo con respecto al implante (anodo), se fuga en gran medida del electrodo como gas. Si el cloro no pudiera aspirarse sin restos durante el tratamiento, pueden producirse fuertes abrasiones en el pulmon y/o en las membranas mucosas. Aqu habna que valorar si es mayor el beneficio que el riesgo para el paciente.
Sobre los fosfatos de aluminio, potasio, sodio, calcio o magnesio debe tenerse en cuenta, ademas, que la disolubilidad en agua es tan reducida que no se garantiza una suficiente conductividad electrica del electrolito (estos fosfatos son sin embargo muy apropiados como sustancias aditivas del electrolito para regular el valor de pH). Si bien los cloruros de los cuatro metales que se acaban de citar tendnan una suficiente disolubilidad en agua y una buena accion de limpieza y destruccion sobre la bio-pelfcula, no pueden considerarse como optimos. En el caso de los nitratos y/o nitruros cae esperar un riesgo para el paciente a causa de la formacion de gases ed NOx. Por ese motivo de desaconseja el uso de nitruros o nitratos.
Con relacion a los citados objetivos de diseno, en especial para una tolerancia especialmente buena para el paciente, se ha previsto en un modo de realizacion preferido yodo como formador de sal. A este respecto es especialmente ventajoso que las sales yodicas de potasio y sodio estan presentes por naturaleza tambien en el cuerpo humano. Durante la oxidacion de iones de yodo en el anodo se obtiene en principio yodo elemental, el cual puede disolverse en una solucion de yoduro de sodio/yoduro de potasio. Aqrn se obtiene una solucion de yodoyoduro de potasio o una solucion de yodo-yoduro de sodio. Ambas soluciones son fuertes desinfectantes, que han demostrado su valfa en la medicina humana.
Sin embargo, las soluciones puras de yoduro de sodio o potasio o una mezcla de ambas tienen como consecuencia, como posible inconveniente, la formacion de hidroxido de sodio y/o potasio y el aumento ligado a ello del valor de pH. Como problematico podna considerarse precisamente muy en general, en el caso de la formacion ya descrita anteriormente del hidroxido metalico, que un hidroxido metalico aumenta el valor de pH del electrolito. Un valor de pH aumentado de esta manera y la potasa o base que se forma del hidroxido metalico disuelto podnan tener una influencia indeseada sobre el tejido circundante en la boca del paciente y en especial en el hueso. Tambien podnan resultar danados los dientes circundantes. Ademas de esto la formacion de hidroxidos podna conducir a que los mismos, a causa de su muy reducida disolubilidad en agua, se descarguen en la parte de montante 22 o en general en el componente que requiere ser tratado y, de esta manera, impidan el subsiguiente flujo de corriente y con ello el proceso en conjunto. En todo caso, si se usa una sal de calcio en el lfquido de tratamiento el hidroxido de calcio que se produce, que se presenta como componente del material oseo, podna integrarse en el hueso; por ello el calcio es un componente especialmente preferido de la sal. Para compensar estas influencias indeseadas, el lfquido de tratamiento presenta como componente basico adicional el acido a modo de un graduador o reductor del pH.
El acido se ha elegido para ello espedficamente a modo de un criterio de diseno de la tal manera, que no ponga en riesgo en lo posible al paciente o el tejido periimlantado, sino que por un lado neutralice el hidroxido (y tambien en lo posible no deje que el valor de pH supere 7), en donde por otro lado los productos reactivos debenan servir para el verdadero objetivo de la limpieza del cuerpo del implante y del desprendimiento de la bio-pelfcula. Como acidos minerales entran en cuestion para ello de forma preferida acidos fosforicos y/o acidos fosfaticos. Los mismos estan limitados en su concentracion por motivos de riesgo para la salud yo riesgo para huesos/tejidos. Un acido especialmente preferido, el cual puede considerarse tambien un acido mineral y tiene un efecto especialmente positivo en el objetivo global del desprendimiento y de la limpieza, es por el contrario el acido carbonico. Sin embargo, el mismo esta limitado en su cantidad aplicable a causa de su relativamente baja capacidad de disolucion en agua.
Por el contrario los acidos organicos, de forma similar a los acidos minerales, ponen a disposicion iones H+ que reducen el valor pH y neutralizan los hidroxidos. Debido a que ademas no producen danos o en cualquier caso unos danos escasos en el tejido, o no los provocan en el paciente en su conjunto, estos acidos organicos son preferibles de forma muy especial como componente basico del lfquido de tratamiento. Acidos organicos senan p.ej. acidos alcalinos, acidos de frutas, acidos carbonicos y acidos hidroxilcarbonicos. Han demostrado ser acidos especialmente apropiados acidos a-hidroxilcarbonicos. En particular los acidos especialmente preferidos acido lacteo, acido dtrico y acido malico no presentan ningun efecto perjudicial para la salud del paciente en general o para el tejido periimplantado. En particular en los implantes muy afectados y contaminados por la bio-pelfcula, sobre los que tambien se ha formado calculos, han demostrado tener un buen resultado de limpieza incluso unas dosis relativamente pequenas de acido acetico. Otros acidos que presentan la limpieza y el efecto destructor de bacterias, pero que no son inocuos por motivos sanitarios, senan el acido fumarico, acido gluconico, acido salfcico, acido mandelico, acido tartarico, acido acetico, acido oxalico y acido formico.
En el caso de la neutralizacion del ion hidroxfdico OH' con el correspondiente ion H+ de un acido se obtiene adicionalmente la sal metalica del acido usado del hidroxido metalico correspondiente. El empleo previsto del acido no solo es por lo tanto ventajoso para graduar el valor de pH, sino que contribuye ademas a la transformacion del hidroxido que se disuelve relativamente mal en agua en unas sales que se disuelven relativamente bien en agua y, de esta manera, impiden que se produzcan unas precipitaciones indeseadas y perjudiciales para el proceso sobre el componente que requiere ser tratado. Las citadas sales se emplean en especial para la combinacion de los materiales preferidos citados, entre otros tambien en la medicina. En el caso de la neutralizacion del hidroxido de potasio, sodio y/o calcio con acido lacteo se forma el lactato de potasio (el mismo posee una amplia accion antimicrobiana), lactato de sodio o lactato de calcio. Si por el contrario los hidroxidos que se forman se neutralizan con acido cftrico, se forman citratos de potasio, sodio o calcio. Precisamente para el citrato de sodio es esto especialmente ventajoso, ya que el mismo impide la coagulacion de la sangre. Esto es especialmente ventajoso, ya que la sangre que sale durante el proceso y se coagula sobre la superficie del implante podna impedir la migracion de iones hacia la superficie del implante y, con ello, la continuacion del proceso de tratamiento en su conjunto. En el caso de la neutralizacion de los hidroxidos con acido malico se obtienen por el contrario malatos del cation respectivo, que tienen tambien unos efectos favorables sobre el proceso. En el caso de la neutralizacion de los hidroxidos con acido aceticos se producen acetatos de potasio, sodio y/o calcio, que tienen tambien una influencia favorable en el proceso.
Los lactatos, citratos, malatos y/o acetatos de potasio, sodio y/o calcio poseen todos una accion reguladora de la acidez y por ello son tan digestivos que, segun las normativas actuales de la UE sobre aditivos alimenticios, no estan sometidos a ninguna limitacion cuantitativa para su uso.
A la hora de usar acidos en el electrolito en combinacion con yoduros y/o cloruros de sodio, potasio, magnesio, aluminio y/o calcio ha quedado demostrado sorpresivamente durante la aplicacion electrolftica, que mediante la reduccion directa del ion H+, se influye de tal modo positivamente en la formacion de burbujas, que la bio-pelfcula se desprende claramente mas rapidamente y mejor. Aqrn se produce con una elevada velocidad de produccion una pluralidad de burbujitas relativamente pequenas que, a causa de su tamano relativamente reducido, pueden desprender la bio-pelfcula de forma preferida como un todo y no solo localmente desde la superficie situada por debajo. De este modo la bio-pelfcula se separa de forma preferida como un todo o en unos trozos coherentes, relativamente grandes, en lugar de en una pluralidad de fragmentos menores, lo que produce una accion limpiadora claramente mejorada.
En lugar de cationes metalicos pueden usarse tambien cationes de amonio. Sin embargo, aqrn existe el riesgo de que en el proceso electrolftico se formen otros compuestos de amonio (p.e. amoniaco). Esto supone un riesgo para el paciente y destaca tambien por un sabor y un olor muy desagradables.
En unos ensayos se ha observado que la bio-pelfcula se desprende en fragmentos muy pequenos o sin embargo en unas piezas coherentes mas grandes. Se prefiere esto ultimo, ya que con ello pueden conseguirse unos resultados de limpieza muy favorables en una superficie relativamente grande. Asimismo unas investigaciones han demostrado que la extraccion de la bio-pelfcula desprendida y/o de sus fragmentos se favorece mediante una formacion de espuma sobre la superficie del implante. Ha quedado demostrado que es favorable que, despues de emplearse un electrolito procedente de las sales metalicas descritas, acidos y agua, que son responsables en especial de la destruccion y del desprendimiento, se emplee un segundo electrolito que presente adicionalmente una formacion de espuma en la zona del catodo. Una formacion de espuma de este tipo puede conseguirse por medio de que al electrolito se anada de forma preferida adicionalmente un producto, que presente al menos tres eslabones de cadena CH2 o al menos un eslabon de cadena CH2 y al menos un compuesto de anillo de carbono. Aqrn pueden emplearse p.ej. aceite y/o clorhexidina. Ademas de esto pueden usarse tambien lfquidos ionicos, que de forma preferida presenten iones I-, Cl- y/o OH'. Debido a que la proporcion de cationes organicos de un lfquido ionico se reduce eventualmente sobre la superficie del implante y allf desaparece, es posible en un modo de realizacion especialmente favorable agregar factores de crecimiento oseo a esta proporcion de cationes.
Si se mezclan cloruros y yoduros en la proporcion correcta, puede evitarse esta formacion negativa de gas de cloro. En el anodo se produce:
2J 5Cl 6H2O -> 10HCl 2HO3
Esto significa que en el anodo se forman acido clorhndrico y acido acido yodico. Los mismos tienen con seguridad una fuerte accion microbacteriana y se neutralizan tambien cuando se encuentran con el hidroxido que se forma catodicamente.
Una composicion muy especialmente preferida del lfquido de tratamiento, que ha mostrado en ensayos de laboratorio una caractenstica de limpieza especialmente favorable, comprende una solucion acuosa de yoduro de sodio (Nal) o yoduro de potasio (Kl) en una relacion de mezcla de al menos 5, de forma preferida de al menos 10, de forma especialmente preferida de al menos 20 g de la sal por cada 30 ml de lfquido (es decir agua, H2O, dado el caso enriquecida con CO2), mediante la adicion de acido lactico ajustada a un valor de pH de aprox. 2,7 a 2,9.
Para la direccion del proceso esta prevista una densidad de corriente media en la parte de montante 2 o en el componente que requiere ser tratado de al menos 50 mA/cm2, de forma ventajosa de al menos 100 mA/cm2, de forma especialmente preferida de al menos 250 mA/cm2, en donde esta densidad de corriente esta referida a la superficie exterior de la parte de montante 2 (es decir, sin tener en cuenta las caractensticas que aumentan la superficie como por ejemplo rugosidad o estructura superficial). Para desprender la bio-pelfcula ha demostrado ser especialmente favorable una densidad de corriente media de 50 mA/cm2 a 300 mA/cm2, de forma ventajosa de 100 mA/cm2 a 200 mA/cm2. Para la extraccion de los fragmentos de la bio-pelfcula la densidad de corriente media debena aumentarse de forma ventajosa hasta el rango de entre 300 mA/cm2 a 5.000 mA/cm2, o de forma especialmente ventajosa de entre 1.500 mA/cm2 a 2.000 mA/cm2.
El sistema de tratamiento 1 y en especial su unidad de control 18 estan disenadas para una direccion coordinada del procedimiento, en el sentido de que la alimentacion del lfquido de tratamiento, por un lado, y la aplicacion de corriente, por otro lado, se lleven a cabo de forma mutuamente coordinada. Para ello puede estar previsto por ejemplo que a traves de la unidad de control 18 se realice una activacion coordinada de la unidad de transporte, asociada al tubo flexible de conexion 6 o al recipiente de reserva 8, para el lfquido de tratamiento, por un lado, y la unidad de alimentacion electrica 16, por otro lado.
Lista de simbolos de referencia
1 Sistema de tratamiento
2 Canula de fluidos
4 Abertura de salida
6 Tubo flexible de conexion
8 Recipiente de reserva
10 Elemento conductor
12 Extremo
14 Punta de contacto
16 Unidad de alimentacion
18 Unidad de control
19 Cable
20 Cuerpo ceramico
22 Parte de montante
24 Implante dental
26 Parte de colocacion
28 Tornillo de union
30 Pieza de reemplazo dental
32 Rosca exterior
34 Zona espacial
36 Hueso de la mandfbula
40 Zona superficial
42 Recubrimiento
44 Reborde del implante

Claims (8)

REIVINDICACIONES
1. - Cuerpo ceramico (20) para usarse en un implante oseo, en especial en un implante dental (24), que esta fabricado por completo con una ceramica electricamente conductora o electricamente semiconductora o que esta equipado, en la zona superficial (40) prevista para el contacto con tejido humano, con un recubrimiento electricamente conductor (42) de una ceramica dopada, de un material sintetico electricamente conductor y/o de un carbono electricamente conductor y que presenta, en la zona superficial (40) prevista para el contacto con tejido humano, una resistencia electrica espedfica de como maximo 10-2 Q.
2. - Cuerpo ceramico (20) segun la reivindicacion 1, que presenta, en la zona superficial (40) prevista para el contacto con tejido humano, una resistencia electrica espedfica de como maximo 10'4 Q, de forma preferida como maximo de 10-5 Q,
3. - Cuerpo ceramico (20) segun las reivindicaciones 1 o 2, en el que el recubrimiento (42) esta formado por oxido de indio y/u oxido de indio-estano, por oxido de estano, por nitruro de silicio, por MoSi2, por Si3N4-MoSi2-SiC, por ZrO2/CaO, por Al2O3/TiN, por BaTiO3, por un siliciuro, por un nitruro, por una ceramica con contenido de titanio y/o por un titanato.
4. - Implante oseo con un cuerpo de base, que esta realizado como cuerpo ceramico (20) segun una de las reivindicaciones 1 a 3.
5. - Implante dental (24) con una parte de montante (22) que puede introducirse en un hueso de la mandfbula (36) y con una parte de colocacion (26) asociada a la misma, en donde la parte de montante (22) esta realizada como cuerpo ceramico (20) segun una de las reivindicaciones 1 a 3.
6. - Implante dental (24) segun la reivindicacion 5, cuya parte de montante (22) esta equipada en la zona superficial (40) prevista para el contacto con tejido humano con el recubrimiento electricamente conductor, el cual presenta en la zona del reborde del implante (44) un grosor de capa aumentado en comparacion con la restante superficie.
7. - Implante dental (24) segun las reivindicaciones 5 o 6, cuya parte de montante (22) esta realizada como cuerpo ceramico (20) a base de oxido de circonio estabilizado con oxido de itrio y/o aluminio.
8. - Implante dental (24) segun la reivindicacion 7, cuya zona superficial (40) prevista para el contacto con tejido humano esta equipada, al menos en una zona parcial, con una estructura que presenta poros nanoscopicos o esta realizada de otro modo nanoscopicamente, y que presenta una zona de empobrecimiento a base de oxido de circonio estabilizado con oxido de itrio y/u oxido de aluminio, con una proporcion de oxido de itrio u oxido de aluminio reducida en comparacion con el volumen interior.
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