KR20150117696A - 세라믹체 특히, 치아 임플란트로서 사용하기 위한 세라믹체 - Google Patents

세라믹체 특히, 치아 임플란트로서 사용하기 위한 세라믹체 Download PDF

Info

Publication number
KR20150117696A
KR20150117696A KR1020157024185A KR20157024185A KR20150117696A KR 20150117696 A KR20150117696 A KR 20150117696A KR 1020157024185 A KR1020157024185 A KR 1020157024185A KR 20157024185 A KR20157024185 A KR 20157024185A KR 20150117696 A KR20150117696 A KR 20150117696A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
implant
oxide
ceramic body
component
electrically conductive
Prior art date
Application number
KR1020157024185A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102264638B1 (ko
Inventor
우어스 브로트베크
Original Assignee
슐레, 마르쿠스
지프리치, 홀거
우어스 브로트베크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 슐레, 마르쿠스, 지프리치, 홀거, 우어스 브로트베크 filed Critical 슐레, 마르쿠스
Publication of KR20150117696A publication Critical patent/KR20150117696A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102264638B1 publication Critical patent/KR102264638B1/ko

Links

Images

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C8/00—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools
    • A61C8/0012—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools characterised by the material or composition, e.g. ceramics, surface layer, metal alloy
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C8/00—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools
    • A61C8/0012—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools characterised by the material or composition, e.g. ceramics, surface layer, metal alloy
    • A61C8/0013—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools characterised by the material or composition, e.g. ceramics, surface layer, metal alloy with a surface layer, coating
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C13/00—Dental prostheses; Making same
    • A61C13/08—Artificial teeth; Making same
    • A61C13/083—Porcelain or ceramic teeth
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C19/00—Dental auxiliary appliances
    • A61C19/06—Implements for therapeutic treatment
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K6/00—Preparations for dentistry
    • A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
    • A61K6/802—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising ceramics
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K6/00—Preparations for dentistry
    • A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
    • A61K6/802—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising ceramics
    • A61K6/818—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising ceramics comprising zirconium oxide

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Plastic & Reconstructive Surgery (AREA)
  • Dentistry (AREA)
  • Orthopedic Medicine & Surgery (AREA)
  • Materials For Medical Uses (AREA)
  • Dental Prosthetics (AREA)

Abstract

본 발명은 뼈 임플란트 특히, 치아 임플란트(24)에 사용하기 위한 세라믹체(20)에 관한 것이다. 본 발명의 목적은 전해질 세정 및 처리 개념의 사용을 위한 상기 세라믹체의 적합성을 확실히 하는 것이다. 이를 달성하기 위해, 본 발명에 따른 세라믹체(20)는 인간 조직과의 접촉을 위해 설계된 표면 영역(40)에서 10-2 Ωcm의 최대 비전기저항을 갖는다.

Description

세라믹체 특히, 치아 임플란트로서 사용하기 위한 세라믹체 {CERAMIC BODY, IN PARTICULAR FOR USE AS A DENTAL IMPLANT}
본 발명은 세라믹체, 특히 뼈 임플란트에 사용하기 위한, 특히 치아 임플란트로서의 세라믹체에 관한 것이다. 이는 또한 이러한 세라믹체를 갖는 뼈 임플란트, 특히 치아 임플란트에 관한 것이다.
많은 형태의 뼈 임플란트 및 특히, 치아 임플란트가 공지되어 있다. 대부분 치아 임플란트는 약 3 내지 4개월의 치유 기간 후 틀니 피스로서 기능하는 크라운 또는 의치 상부구조 부품을 치아 발치되거나 빠진 부분에 고정하기 위해 발치되거나 빠진 치아 대신에 턱뼈에서 나사조임함으로써 턱뼈내로 삽입된다. 이를 위해, 이러한 치아 임플란트는 물론 일반적인 뼈 임플란트는 일반적으로 적절한 형상의 금속체 또는 세라믹체로서 설계되며 중심축 방식으로 형성되며, 이의 첨단부에 나사의 나삿니, 주로 자가-절삭 나사의 나삿니가 제공되며, 나사의 나삿니를 이용하여 중심축이 상응하게 준비된 임플란트 베드(bed)로 삽입된다.
대체로, 치아 임플란트는 주요 구성성분으로서 티타늄, 지르코늄, 니오브 또는 탄탈륨 또는 이들 원소중 하나를 함유하는 조직-양립성 합금으로 제조된다. 또한, 치아 임플란트는 또한 세라믹으로 제조된다. 사용된 세라믹은 대부분 지르코늄 옥사이드 기반 세라믹이며, 여기에서 정방정 상은 바람직하게는, 이트륨 옥사이드 (알루미늄 옥사이드 부분을 갖는 TZP-A, TZP)에 의해 안정화되거나, 세라믹은 주로 추가적으로 알루미늄 옥사이드 (ATZ 세라믹)를 부가함으로써 보강된 알루미늄-옥사이드이다. 그러나, 알루미늄 옥사이드를 기반으로 하는 치아 임플란트는 또한 공지되어 있다.
특히, 임플란트 부품에 사용하기 위한 처리 요소는 물론 치아-임플란트 부품을 세정하는 방법은 종래 공개되지 않은 참조 번호 10　2012　022　593.8의 독일 특허 출원에 공지되어 있으며, 이의 전체 기재내용은 참조로서 통합된다. 이러한 임플란트 부품의 세정은 뼈 물질에서 삽입된 임플란트의 보존을 보장하는데 바람직하거나 필요할 수 있다. 실제로, 생물막은 조직 및 조직 액체에 의해 둘러싸인 임플란트의 단단한 표면상에 형성될 수 있으며, 이러한 생물막에 박테리아가 서식하여 최종적으로 만성 및 재발성 감염으로 이어질 수 있다. 이러한 증후군은 치아 임플란트의 경우, 임플란트 주위염(periimplantitis)으로 불린다. 특히 치과 분야에서, 치주염과 유사하게, 무시된 구강 위생, 통상적인 기둥 부품(post part)의 미세하게 거친 (microrough) 표면상의 생물막 부착, 및 그 밖의 요인들의 조합이 임플란트 주위염으로 충만한 상황을 초래하며, 이는 경조직 및 연조직의 증가하는 충전(charge) 및 손상을 특징으로 한다. 경조직 및/또는 연조직이 재처리되는 영역은 보통 생물막에 의해 덮인다.
상기 언급된 출원에 기술된 세정 방법은 임플란트 표면으로부터 시작하는 오염을 형성하는 생물막 또는 세균을 임플란트 표면에 손상을 주지 않으면서 치사시키고 제거한다는 개념을 기반으로 한다. 이러한 목적을 위해 전해질 과정이 제공되며, 이러한 전해질 과정에 의해 이온 (양이온 및/또는 음이온)이 정전기력에 의해 생물막을 통하여 전달된다. 이들 이온은 임플란트 표면상에서 화학적으로 또는 전기화학적으로 반응한다. 이러한 반응을 통해, 물질의 새로운 조성이 발생되고/거나 이온 자체 및/또는 이들 이온의 일부가 원자 상태로 전환된다. 게다가, 이온은 표면 물질과 반응 (예를 들어, 산화물 층의 발생 또는 물질의 부식)하는 것이 또한 가능하다.
이러한 과정의 살균 효과는 다양한 작용을 기반으로 한다. 한편으로는, 생물막 자체 (및 또한, 박테리아)로부터의 이온은 전압의 인가를 통해 애노드 또는 캐소드로 수송된다. 이는 박테리아 및 바이러스의 치사로 이어질 수 있다. 게다가, 이온은 생물막을 관통하여 통과하면서 생화학 반응으로 처리될 수 있으며, 이는 또한 박테리아 및/또는 바이러스의 치사로 이어질 수 있다. 치사의 또 다른 가능성은 임플란트 표면상에 새로 형성된 물질의 조성이 항박테리아 및/또는 항바이러스 및/또는 항진균 효과를 갖는다는 점에 있다. 물론, 이는 또한 이온이 원자 상태로 전환될 때 발생할 수 있다.
상기 언급된 출원에서 기술된 처리 요소는 삽입된 치아 임플란트 상에서 직접적으로 즉, 바람직하게는, 기둥 부품을 환자 구강의 뼈에 고정시키면서 이러한 세정 방법을 수행하도록 특별히 설계된다. 이를 위해, 처리 요소를 삽입된 기둥 부품과 직접적으로 연결시키고, 이어서 전류가 인가될 때 요망되는 전해질 과정에 대한 기반으로서 기능할 수 있는 적합한 처리액을 삽입된 기둥 부품의 인접지에서 인접한 뼈 물질의 고통받는 공간 영역으로 공급하고, 이를 전류로 하전시키도록 제공된다. 그러나, 이러한 처리 요소의 적용은 삽입된 기둥 부품과의 기계적 및 전기적 접촉 둘 모두의 확립이 필요하게 한다.
본 발명은 뼈 임플란트 특히, 치아 임플란트에 사용하기에 적합한 세라믹체를 제공하기 위한 문제를 기반으로 하며, 이러한 임플란트는 상기 언급된 출원에 기술된 세정 및 처리 개념의 활용을 위해 적절하게 업그레이딩된다. 게다가, 상기 언급된 특허 출원에 기술된 세정 및 처리 개념의 활용에 특히 적합하며 이러한 세라믹체를 포함하는 뼈 임플란트, 특히 치아 임플란트가 제공되어야 한다.
세라믹체와 관련하여, 이러한 문제는 상기 세라믹체가 인간 조직과 접촉하도록 의도된 표면 영역에서 최대 10-2 Ωcm의 비전기저항 (specific electric resistance)을 갖는다는 점에 의해 본 발명에 따라 해소된다.
본 발명의 유리한 구체예는 종속항의 내용이다. 본 발명의 추가의 및/또는 대안적인 유리한 구체예는 또한 도면의 설명으로부터 자명해진다.
본 발명은 생물막으로부터 세라믹체의 전해질 처리 및 세정이 이러한 목적에 필요한 전류로의 하전을 위해 상기 세라믹체를 특별하게 업그레이딩시킴으로써 가능하게 된다는 고려사항에서 출발한다. 따라서, 이는 적합하게 전도성 방식으로, 구체적으로, 처리액의 전해질 분해가 수행되어야 하는 표면 영역에서 설계되어야 한다.
이를 달성하기 위해서는 일반적으로 상이한 접근방식이 문제가 된다. 한편으로는, 세라믹체는 전기적으로 충분한 전도성 또는 전기 반도체성 세라믹으로 전적으로 제조될 수 있다.
대안적으로, 세라믹체에는 인간 조직과 접촉되는 것으로 의도된 표면 영역에서 전기 전도성 코팅이 제공될 수 있다. 유리하게는, 이러한 코팅은 금속, 전기 전도성 합성 물질 및/또는 전기 전도성 탄소 또는 특히 바람직하게는, 도핑된 세라믹, 바람직하게는, 인듐 옥사이드 및/또는 인듐-틴 옥사이드, 진크 옥사이드, 실리콘 니트라이트, MoSi2, Si3N4-MoSi2-SiC, ZrO2/CaO, Al2O3/TiN, BaTiO3, 실리사이드, 니트라이드, 세라믹 함유 티타늄 및/또는 티타네이트에 의해 형성된다. 금속 코팅으로서, 예를 들어, 플라티늄, 골드, 티타늄 등이 사용될 수 있다. 그러나, 치아 임플란트에서의 바람직한 용도의 경우 금속 코팅은 미학적, 생물학적 또는 알레르기학적 이유로 단지 특정 정도까지 적합할 수 있다. 이에 반해, 특히 바람직한 전기 전도성 또는 전기 반도체성 세라믹이 특별히, 치아 임플란트에 사용할 경우, 코팅의 상응하는 착색을 이용하여 미학적, 생물학적 또는 알레르기학적 요구를 따를 수 있다.
자체가 전기 전도성이지 않은 완전한 세라믹 치아 임플란트 (상부구조 부품/기둥 부품)은 그러한 전기 전도성 또는 전기 반도체성 세라믹으로 코팅될 수 있다. 이러한 코팅은 전적으로 전체 부분에 또는 단지 일부 영역에만 도포될 수 있다. 전기 코팅은 바람직하게는, 임플란트 숄더 (implant shoulder)를 통해 수행된다. 이를 위해, 임플란트 숄더 영역의 접촉 위치에서 더욱 두꺼운 예를 들어, 2배, 5배, 10배 두꺼운 코팅 두께를 제조하는 것이 유리할 것이다. 임플란트의 외측은 물론 내부가 이러한 방식으로 코팅될 경우, 전기 코팅은 또한 임플란트의 내부를 통해 가능할 것이다.
티타늄 임플란트 특히, 티타늄 등급 IV 또는 더욱 순수한 티타늄으로 제조된 티타늄 임플란트의 애노드 스위칭의 경우, 티타늄-옥사이드 층이 형성될 것이며, 이의 형성 직후 이는 전압이 증가되지 않는 한 표면상에서 전기화학적 과정을 매우 크게 저하시키거나 방지할 것이다. 따라서, 세정 목적을 위한 애노드 에너지화가 전압을 통해 환자에 위험하지 않으면서 단지 매우 단시간 또는 단일 시간 동안 가능하다. 이러한 티타늄 임플란트가 전기 전도성 또는 전기 반도체성 세라믹으로 코팅되는 경우, 애노드 에너지화하에 티타늄 옥사이드의 성장이 방지될 수 있다. 이러한 방식으로, 장기간에 걸쳐 임플란트 표면을 세정하기 위해 애노드 에너지화를 이용하는 것이 가능할 것이다. 이러한 표면의 또 다른 이점은 금속 이온이 금속 임플란트로부터 분리될 수 없다는 점일 것이다.
게다가, 바람직하게는 세라믹 및/또는 탄소를 기반으로 하는 전기 전도성 또는 반도체성 물질을 임플란트 모듈로서 적합한 비-전기 전도성 세라믹에 첨가하여 전기 전도성 또는 전기 반도체성을 유도하는 것인 또한, 고안가능하다.
뼈 임플란트를 위해 특히, 치아 임플란트의 일부로서 세라믹체를 사용하는 것이 특히 바람직하다. 이어서, 치아 임플란트는 교합에 의해 또는 내부를 통해 세정 목적으로 전기 접촉될 수 있다. 물론, 외부로부터 세정 캐뉼라를 통한 전기 접촉을 이용하는 것이 또한 가능하다.
뼈 임플란트와 관련하여, 상기 언급된 문제는 상기 언급된 유형의 세라믹체로서 상기 임플란트를 설계함으로써 해소된다. 치아 임플란트로서의 구체예에서, 치아 임플란트는 본 발명에 따라 턱뼈에 고정가능한 기둥 부품 및 이와 연결된 상부구조 부품을 포함하며, 기둥 부품은 상기 언급된 유형의 세라믹체로 설계된다. 치아 임플란트는 소위 단일-조각 임플란트로서 설계될 수 있으며, 여기에서 기둥 부품 및 상부구조 부품은 공통의 내장된 기본 몸체의 일부이다. 그러나, 대안적으로, 치아 임플란트는 또한, 한편으로는 기둥 부품 및 다른 한편으로는 상부구조 부품이 서로 독립적인 구성요소 부품이며, 적합한 연결에 의해 결합될 수 있다는 점에서 수개의 부품으로 설계될 수 있다. 상부구조 부품은 특히 틀니 조각을 이 위에 고정시키기 위해 제공될 수 있다.
유리하게는, 기둥 부품은 이트륨-옥사이드-안정화된 및/또는 알루미늄-옥사이드-안정화된 지르코늄 옥사이드를 기반으로 하는 세라믹체로서 설계된다. 턱뼈에서의 성장을 특히 촉진하기 위해, 기둥 부품에는 유리하게는 특히 적합한 표면이 추가로 제공된다. 이를 위해, 바람직하게는 인간 조직과 접촉하도록 의도된 이의 표면 영역의 적어도 일부 영역에 나노크기의 포어를 포함하는 구조 또는 다르게는 나노크기로 구성된 구조가 제공되며, 내부 용적과 비교하여 이트륨 옥사이드 또는 알루미늄 옥사이드 부분이 감소된 이트륨-옥사이드-안정화된 및/또는 알루미늄-옥사이드-안정화된 지르코늄 옥사이드를 기반으로 하는 공핍 구역 (depletion zone)을 갖는다.
특히, 본 발명으로 달성된 이점은 특히, 충분히 전도성인 표면을 갖는 세라믹체의 디자인을 통해, 이러한 디자인의 몸체가 또한 상기 언급된 특허 출원에 기술된 처리 및 세정 방법으로 또한 처리될 수 있다는 점에 있다. 세라믹체에 있어서, 역시 특히 세라믹 설계된 뼈 임플란트 또는 치아 임플란트에 있어서, 생물막의 신뢰할 만한 제거가 관련 몸체의 심지어 국소적으로 제한된 공간 영역으로부터 높은 국소적 정밀함으로 가능하다. 이를 위해, 특히 유효한 것으로서 인식된 전해질 세균 치사의 세정 개념이 신뢰가능하게 적용될 수 있다. 구체적으로, 처리가 필요한 대상의 단지 제한된 박테리아 침입의 경우에는, 이러한 세정이 특히 요구 중심 방식으로 수행될 수 있으며, 삽입된 치아 임플란트의 처리의 경우, 이러한 세정은 심지어 의치 또는 가능하게는 교대의 제거 없이 수행될 수 있다.
본 발명의 예시적인 구체예가 도면에 의해 상세하게 설명된다.
도 1은 생물막으로 오염된 구성요소의 세정을 위한 처리 시스템을 보여주며,
도 2는 도 1의 처리 시스템의 확대된 상세도이다.
동일한 부분은 두 도면에서 동일한 도면 부호로 표시된다.
본 발명의 기본 원리는 도 1에 도시된 처리 시스템(1)에 의해 하기에서 설명된다. 그러나, 물론 대안적으로 또는 추가적으로, 종래 공개되지 않은 참조 번호 10　2012　022　593.8의 독일 특허 출원에 기술된 처리 시스템을 사용하는 것이 가능하며, 이의 전체 기재내용은 참조로서 또한 통합된다.
도 1에 따른 처리 시스템(1)이 생물막으로 오염된 구성요소 부품 특히, 임플란트 부품을 세정하기 위해 제공된다. 처리 시스템(1)은 전해질 세정 개념으로 설계되며, 여기에서 처리가 필요한 구성요소가 의도적이고 국소화된 방식으로, 특정하고 적합하게 선택된 처리액 및 이어서, 처리가 필요한 구성요소를 통한 전류 유동으로 하전되며, 처리액이 발생한다. 이를 위해, 처리 시스템(1)은 매질 캐뉼라(2)를 포함하며, 이러한 캐뉼라 내에서 처리액이 수송되며, 배출구 개구(4)를 경유하여 공급될 수 있다. 매질 캐뉼라(2)의 말단 영역이 신장된 디자인이어서, 처리액의 의도적으로 국소화되고 제어된 공급이 가능하다. 매질 캐뉼라 측면 상에서, 매질 캐뉼라(2)는 연결 호스(6)를 통해 처리액을 위한 저장부(8)와 연결된다.
또한, 처리 시스템(1)은 전기 시스템으로서 특별히 구성된다. 설계 원리로서, 이는 전류 특히, 전류 임펄스를 사용하여 매질 캐뉼라(2) 내에서 운반되는 매질, 특히 매질 캐뉼라 내에서 운반되는 처리액의 하전을 가능하도록 제공된다. 처리 시스템(1)은 전류가 처리를 필요로 하는 구성요소로 공급될 수 있으며, 이러한 구성요소는 전극으로서 사용될 수 있다는 설계 원리에 따라 구성된다. 이를 위해, 처리 시스템(1)은 전류 경로를 형성하는 전도 요소(10)를 포함한다. 예시적 구체예에서, 상기 전도 요소(10)는 "통상적인" 전극의 방식으로, 즉 특히 금속으로 제조된 전기 전도성 니들형 요소로서 설계된다. 전도 요소(10)의 외측에는 전기 절연이 제공되며, 단지 이의 자유 단부(12)에만 노출된 금속 접촉 팁(14)을 갖는다. 작동시, 금속 접촉 팁은 처리를 필요로하는 구성요소에 대해 적절하게 가압될 수 있으며, 이에 따라 상기 구성요소와의 전기 접촉을 성립시킨다. 전기적으로 전도 요소(10)는 전기 공급 유닛(16) 특히, 전류원 또는 전압원의 극중 하나와 연결된다.
공급된 전류 또는 공급된 전압이 제어되고 조절될 수 있는 제어 유닛(18)은 전기 공급 유닛(16)과 결합된다. 게다가, 제어 유닛은 또한, 연결 호스(6)의 상세하게 도시되지 않은 수송 시스템 상에서 작동하며, 이에 의해 연결 호스(6)를 통한 처리액의 유속이 조절될 수 있다.
대향 전극(opposite pole) 또는 상대 전극을 형성하기 위해, 매질 캐뉼라(2) 내에서 운반된 처리액의 전기 전도성을 이용하도록 제공된다. 이를 위해, 매질 캐뉼라(2)의 내부는 이의 부분에 있어서 케이블(19)을 통해 전기 연결되며, 케이블은 전기 전도 방식으로 매질 캐뉼라(2)의 내부와 연결되며, 전기 공급 유닛(16)의 다른 극에 연결된다. 따라서, 매질 캐뉼라(2)의 배출구 개구(4)는 전기적 의미에서 접촉부 또는 전기 접촉점을 형성하며, 이러한 접촉부 또는 전기 접촉점을 통해 처리를 필요로하는 구성요소로의 전류 유동이 실행된다. 매질 캐뉼라(2) 및 이의 배출구 개구(4)를 가능하게는, 처리를 필요로하는 구성요소의 인접지에서 적절하게 위치시키고 전기 접촉부로서 배출구 개구를 사용함으로써, 처리 및 세정을 위해 인가되는 전류가 박테리아에 의해 손상된 처리가 필요한 구성요소의 표면 구역을 통과하여 그리고 이 표면 구역으로부터 가능한 직접적으로, 즉 특히 추가의 신체 조직 등을 통한 어떠한 "우회(detour)" 없이 접촉 표면으로서 기능하는 배출구 개구(4)로 유동할 수 있음이 달성된다. 따라서, 매질 캐뉼라 내에서 운반되는 전기 전도성 처리액을 포함하는 매질 캐뉼라(2) 및 대응하는 연결 요소는 예시적인 구체예에서 제 2 전도 요소를 형성하여, 배출구 개구(4)로의 전류 경로를 형성한다.
매질 캐뉼라(2)는 적합하게 선택된 전기 절연 기본 물질 예를 들어, 합성 물질로 제조된다. 그러나, 전기 전도 요소로서 매질 캐뉼라(2)에 존재하는 처리액의 활용을 추가로 촉진시키고 특히 신뢰할만한 전기 접촉을 보장하기 위해, 매질 캐뉼라(2)의 내부 즉, 처리액을 향하여 면하는 내면에 전기 전도성 코팅이 제공된다.
도 2에 따른 확대된 도면으로부터 확인할 수 있는 바와 같이, 매질 캐뉼라(2)는 의도적이고 국소화된 방식으로 처리가 필요한 구성요소에 처리액을 공급하도록 설계된다. 이어서, 이러한 구성요소는 이의 부품을 위한 전극으로서 사용되어야 하며, 전도 요소(10)를 통해 접촉되어야 한다. 그러나, 처리가 필요한 구성요소는 세라믹체(20)이며, 이는 예시적 구체예에서, 환자 구강 뼈로 삽입된 치아 임플란트(24)의 기둥 부품(22)으로서 설계된다. 그러나, 물론 다른 구체예가 또한 고안가능하며, 여기에서 세라믹체 예를 들어, 임의의 구조의 뼈 임플란트 또는 의치 구성요소 예를 들어, 치아 임플란트의 상부구조 부품은 생물막으로의 오염으로부터 융통성 있고 집중된 방식으로 세정되어야 한다.
예시적 구체예에서, 치아 임플란트(24)는 기둥 부품(22) 이외에 상부구조 부품(26)을 포함하며, 이는 연결 나사 (28)에 의해 기둥 부품(22)상에 고정될 수 있으며, 틀니 조각(30)을 수반한다. 물론, 대신에 치아 임플란트(24)는 단일-조각 디자인일 수 있으며, 기둥 부품(22) 및 상부구조 부품(26)은 하나의 동일한 기본 몸체의 구성요소 부품이다. 도 2는 또한, 턱뼈(36)에서 기둥 부품의 외부 나삿니(32) 영역에서 기둥 부품(22)에 인접하게 공간적으로 제한된 공간 영역(34)을 보여주며, 이는 임플란트 주변 염에 걸렸으며 상응하게 박테리아로 감염된 것이다.
일반적으로, 치아-임플란트 시스템, 특히 또한 2-부품의 임플란트 시스템들은 염증들 또는 염증 포커스(focus)가 삽입 장소 근처의 조직 영역 내로, 특히 턱 안으로 절단되는 외부 나삿니(32)의 영역에 박테리아 또는 세균이 침투하여 발생할 수 있다. 특히 또한 소위 임플란트 주위염의 결과로서 이 같은 염증은, 특히 염증이 발생되고 장기간에 걸쳐 유지될 수 있을 경우, 삽입 장소의 영역에서 조직 및 뼈의 심각한 악화를 초래할 수 있다. 적절한 대응조치들 없이, 이러한 악화는 뼈로부터 전체 임플란트 시스템을 제거하고 이를 다른 의치로 대체할 필요성을 초래할 수 있다. 따라서 임플란트 주변 염에 의해 유발된 이러한 가장 바람직하지 않은 영향은 임플란트 시스템의 총 손실을 초래하여, 예를 들어 턱뼈 내의 손상된 영역을 긁어내고 새로운 임플란트 시스템으로의 처리와 같은 재생 수술 조치가 필요하게 될 수 있다. 게다가, 이 같은 제거는 뼈의 손실 또는 조직 물질의 다른 손실을 수반할 수 있으며 이는 극단적인 경우 심지어 다른 임플란트로의 새로운 처리를 완전히 불가능하게 할 수 있다. 임플란트 주변 염에 의해 유발된 새로운 처리의 이 같은 필요성은 임플란트 시스템의 제 1 삽입 후 예를 들어 수년 또는 심지어 수십년까지의 비교적 긴 기간 후 발생할 수 있다.
임플란트 주변 염과 관련하여 관측된 세균 또는 박테리아는 원칙적으로 치아 임플란트(24)의 구성요소의 내부에 서식할 수 있지만 대체로 세균 또는 박테리아는 바람직하게는 주변 조직 또는 뼈 물질과의 접촉 영역에서 즉, 특히 외부 나삿니(32)의 영역에서, 턱뼈(36) 내로 삽입된 기둥 부품(22)의 표면 상에 직접 들러붙는다. 외부 나삿니의 영역에서, 치아 임플란트의 삽입 후 특히 조직 또는 뼈의 성장을 증진하고 기둥 부품(22)의 치유를 지원하기 위해 기둥 부품(22)의 표면에는 거칠기(roughening) 등이 제공될 수 있다. 그러나, 임플란트 시스템에 대해 특히 선호하는 것으로서 실제로 고려된 특히 표면의 이 같은 거칠어진 영역에서, 세균 또는 박테리아의 서식이 증가될 수 있고 거칠기는 존재하는 세균 또는 박테리아의 분명한 제거를 심지어 더 어렵게 한다.
따라서, 시작하는 임플란트 주변염 또는 이미 존재하는 임플란트 주변염의 경우 및 이미 삽입된 임플란트 시스템의 보존 하에서 염증 포커스와 효과적으로 싸우고 침투된 세균을 치사시키기 위해 적절한 대응조치가 긴급히 요구되어 그 후에 건강한 조직 또는 건강한 뼈 물질이 외부 나삿니(32) 주변 영역에서 다시 성장할 수 있다. 이를 위해, 손상된 영역에서 세균 또는 박테리아의 분명한 치사에 부가하여 또한 세균 또는 박테리아의 물질 잔류물 및 관련된 공간 영역으로부터 단편을 확실히 제거하는 것이 바람직할 수 있어, 그 후 손상된 영역이 다시 건강한 조직 또는 뼈 물질로 채워질 수 있고 기둥 부품(22)의 외측 표면과 주변 조직 또는 뼈 물질 사이의 밀접한 연결이 다시 발생할 수 있다. 또한, 치사된 박테리아의 유기 잔류물을 포함하는 박테리아 층에 의해 형성된 생물막이 확실히 제거되어야 한다.
이를 위해, 즉, 기둥 부품(22)의 삽입 영역에서 세균 또는 박테리아를 치사하기 위해 그리고 특히 또한 후속하여 치사한 박테리아의 물질 및 조직의 잔류물을 린싱, 제거 및 운반하기 위해 처리 요소(1)가 제공된다. 이의 디자인 및 기본적 구성에 있어서, 처리 요소(1)는 2개의 주요 개념을 기반으로 하며; 이들 각각은 독림적으로 발명으로서 간주되며; 한편으로, 이는 살균성이나 인간 유기체에 의해 관용적인 세정제 또는 살균제의 특별한 공급을 통해 치아 임플란트(24)의 삽입 영역에 존재하는 세균 또는 박테리아를 특별히 치사하도록 설계된다. 다른 한편으로, 이는 기둥 부품(22)의 표면상에, 특히 외부 나삿니(32)의 영역에 여전히 부착되어 있는 세균 및/또는 박테리아의 어떠한 잔류물 또는 단편도 전류 임펄스의 전류로의 적합한 하전을 통하여 기둥 부품(22)의 외면으로부터 제거하고 이어서 이 같은 잔류물을 씻어 버리도록 설계된다.
따라서, 시스템의 구성, 및 처리 방법의 제공된 단계 둘 모두에 있어서 발명으로서 독립적으로 고려되는 제 1 양태에서, 처리 시스템(1)은 세균 또는 박테리아를 치사시키기 위한 처리액을 특별히 공급하기 위해 및/또는 기둥 부품(22)의 삽입 영역 내로 삽입된 임플란트 부품, 특히 치아 임플란트의 외부 나삿니(32)의 영역을 세정하기 위해 구조적으로 그리고 기능적으로/개념적으로 설계된다.
사용된 처리액의 기본 구성성분의 선택 및 조성 및 시스템의 구성, 및 처리 방법의 제공된 단계 둘 모두에 있어서 독립적으로 발명의 제 2 양태에서, 처리 시스템(1)은 기둥 부품(22)의 외면으로부터 치사된 박테리아 또는 세균, 각각 이의 잔류물 또는 단편을 확실히 분리하도록 설계되어, 이어서 이들이 씻겨 제거될 수 있어서, 이후 건강한 조직 또는 뼈 재료가 다시 기둥 부품(22)의 표면과 접촉할 수 있고 기둥 부품이 다시 건강한 조직 또는 뼈 물질 내로 완전히 성장할 수 있다. 표면으로부터 박테리아 또는 세균, 각각 이들의 잔류물 또는 단편을 분리하기 위해, 전도성 처리액으로 박테리아 또는 세균을 적시고 이를 전류로 하전하는 것이 제공된다. 또한 가장 놀랍게도, 상기 표면이 거칠어져서 사실 특히 이의 표면 구조로 인해 유기 물질의 부착을 증진하는 경우에도, 처리액 중의 적합하게 선택된 이온 농도와 함께 전류로의 이러한 펄싱된 하전이 매우 확실한 방식으로 표면 아래로부터 박테리아 또는 세균, 각각 이들의 잔류물 또는 단편의 분리를 정확히 수행하는 것으로 간주됨이 판명되었다.
이는 기둥 부품(22)의 외면 영역에서 즉, 특히 외부 나삿니(32)의 영역에서 적합하게 선택된 처리액을 사용하여 전류로 기둥 부품(22)을 하전하는 것이 처리액에서의 전해질 반응을 유도하고, 따라서 가능하게는 표면의 인접지에서 가스 버블의 생성을 유도한다는 놀라운 발견에 기초한다. 기둥 부품(22) 표면상에서의 가스 버블의 이러한 형성을 통해, 표면에 부착된 세균 또는 박테리아의 구성요소 또는 단편이 또한 분리되고 완전히 제거되어, 이들은 이러한 영역에서 세균의 새로운 서식을 위한 기반 또는 영양소 매질을 제공할 수 없게된다. 남아 있는 것은 기둥 부품(22)의 세균, 박테리아 또는 이들의 구성요소 또는 잔류물로부터 세정된 거친 다공성의 표면이며 이는 재성장하는 뼈 조직내로의 앞으로의 통합을 위한 기반으로서 우수하게 제공될 수 있다.
그러나, 이러한 처리 개념에 있어서, 기둥 부품(22) - 또는 일반적으로 처리가 필요한 구성요소 -이 처리 시스템(1)의 전극으로서 사용될 수 있음이 요구된다. 기둥 부품(22)을 구성하는 세라믹체(20)는 이를 위해 특별히 적합하게 설계된다. 이를 가능하게 하기 위해, 세라믹체(20)는 인간 조직과의 접촉이 의도된 이의 표면 영역(40)에서 충분힌 높은 전기 전도성을 지니며, 따라서, 최대 10-2 Ωcm, 바람직하게는, 최대 10-5 Ωcm의 충분히 낮은 비전기저항을 갖는다.
세라믹체(20)의 수개의 구체예는 이러한 전기 전도성을 특별하게 제공하기 위한 고려사항으로 유도될 수 있다. 한편으로는, 완전한 치아 임플란트(24) 또는 적어도 이의 기둥 부품(22)은 전기 전도성 또는 전기 반도체성 세라믹으로 전적으로 제조될 수 있으며, 이는 이어서 교합에 의해 또는 내부를 통해 세정 목적으로 전기 접촉될 수 있다. 물론, 외부로부터 매질 캐뉼라(2)를 통한 전기 코팅을 이용하는 것이 또한 가능하다.
대안적으로, 바람직하게는 세라믹 및/또는 탄소를 기반으로 하는 전기 전도성 또는 반도체성 물질을 임플란트 모듈로서 적합한 비-전기 전도성 세라믹에 첨가하여 전기 전도성 또는 전기 반도체성을 유도하는 것인 또한, 고안가능하다.
추가의 대안으로서, 치아 임플란트(24) 또는 이의 기둥 부품(22)은 예시적 구체예에서 제공된 바와 같이 완전한 세라믹의 비-전기 전도성 세라믹체(20)로서 설계될 수 있다. 그럼에도 불구하고, 표면 영역(40)에서 요망되는 전기 전도성을 보장하기 위해, 표면 영역에 전기 전도성 또는 전기 반도체성 코팅(42)이 제공된다. 이러한 코팅(42)은 전적으로 기둥 부품(22) 표면의 전체 부분 또는 단지 일부 영역에만 적용될 수 있으며; 도시된 예시적 구체예에서, 이는 단지 기둥 부품(22)에만 적용된다. 물론, - 의도된 용도에 따라 - 또한, 예를 들어, 보철 구성요소로서 제공된 상부구조 부품(26)과 같은 그 밖의 구성요소에 완전히 또는 부분적으로 코팅(42)을 제공하는 것이 가능하다. 예시적 구체예에서, 임플란트 숄더(44)에 전기 접촉부가 제공된다. 상기 임플란트 숄더(44)의 영역에서, 코팅(42)은 나머지 표면 영역(40)의 코팅(42) 두께보다 더 큰 두께 예를 들어, 2배, 5배, 10배의 두께를 갖는다. 임플란트의 외측은 물론 내측이 이러한 방식으로 코팅될 경우, 전기 코팅은 또한 임플란트의 내측 통해 가능할 것이다.
기둥 부품(22)은 이트륨-옥사이드-안정화된 및/또는 알루미늄-옥사이드-안정화된 지르코늄 옥사이드를 기반으로 하는 세라믹체(20)로서 설계된다. 또한, 인간 조직과 접촉하도록 의도된 이의 표면 영역 (40)의 적어도 일부 영역에 나노크기의 포어를 포함하는 구조 또는 다르게는 나노크기로 구성된 구조가 제공되며, 내부 용적과 비교하여 이트륨 옥사이드 또는 알루미늄 옥사이드 부분이 감소된 이트륨-옥사이드-안정화된 및/또는 알루미늄-옥사이드-안정화된 지르코늄 옥사이드를 기반으로 하는 공핍 구역을 갖는다.
코팅(42)은 금속, 전기 전도성 합성 물질 및/또는 전기 전도성 탄소에 의해 형성될 수 있다. 그러나, 예시적 구체예에서, 코팅(42)은 도핑된 세라믹, 바람직하게는, 인듐 옥사이드 및/또는 인듐-틴 옥사이드, 진크 옥사이드, 실리콘 니트라이트, MoSi2, Si3N4-MoSi2-SiC, ZrO2/CaO, Al2O3/TiN, BaTiO3, 실리사이드, 니트라이드, 세라믹 함유 티타늄 및/또는 티타네이트에 의해 형성된다.
이러한 전기 전도성 코팅(42)은 그 자체가 금속인 치아 임플란트에 대해 더욱 유리할 수 있다. 티타늄 임플란트 특히, 티타늄 등급 IV 또는 더욱 순수한 티타늄으로 제조된 티타늄 임플란트의 애노드 스위칭의 경우, 티타늄-옥사이드 층이 형성될 것이며, 이의 형성 직후 이는 전압이 증가되지 않는 한 표면상에서 전기화학적 과정을 매우 크게 저하시키거나 방지할 것이다. 따라서, 세정 목적을 위한 애노드 에너지화가 전압을 통해 환자에 위험하지 않으면서 단지 매우 단시간 또는 단일 시간 동안 가능하다. 이러한 티타늄 임플란트가 전기 전도성 또는 전기 반도체성 세라믹으로 코팅되는 경우, 애노드 에너지화하에 티타늄 옥사이드의 성장이 방지될 수 있다. 이러한 방식으로, 장기간에 걸쳐 임플란트 표면을 세정하기 위해 애노드 에너지화를 이용하는 것이 가능할 것이다. 이러한 표면의 또 다른 이점은 금속 이온이 금속 임플란트로부터 분리될 수 없다는 점일 것이다.
표면의 신뢰성 있는 세정의 의미에서 바람직한, 삽입된 기둥 부품(22)으로부터 표면 부착된 생물막 구성요소의 이러한 분리의 특정 증진은 전류로 하전하는 동안 유리하고 특히 잘 맞는 과정 안내를 통하여 달성될 수 있다. 상기 과정 안내는 전류 유동으로 인해, 삽입된 표면 영역에서 발생하는 가스 버블의 전해질 형성이 특히 증가되게 하는 것일 수 있다. 여기서, 기둥 부품(22)은 캐소드 또는 애노드 스위칭될 수 있다. 특히, 기둥 부품(22)의 적어도 일시적인 캐소드 스위칭의 경우, 가스 버블의 형성에 특히 효율적인 방식에 기여하는 수소 가스는 전해질 유도를 통해 발생하며, 반면 기둥 부품(22)의 애노드 스위칭의 경우, 처리액의 조성에 따라, 염소 가스, 산소, 질소, 일산화탄소 및/또는 이산화탄소가 발생한다. 이렇게 형성되는 가스 버블은 주변 액체에서 부풀어오르고 따라서 비말동반 작용을 발생시키고, 이러한 작용을 통해 상기 언급된 표면 구성요소가 또한 제거되고 외부쪽으로 방출된다. 예를 들어, 가장 놀랍게도 양이온을 함유하는 용액, 예를 들어 염류 수용액을 사용할 경우, 이러한 이온은 기둥 부품이 캐소드 스위칭될 때 기둥 부품(22) 상에 침착되고 이에 따라 가스 버블의 형성을 확실히 증가시킨다. 예를 들어, 기둥 부품(22)의 캐소드 스위칭의 경우 Na+ 이온의 존재는 가스 버블의 상당한 형성을 초래하는데, 이는 Na+가 주위 물과 반응하여 NaOH를 형성하고 수소를 방출하기 때문이다.
독립적인 발명의 또 다른 양태에서, 또한 시스템의 구성, 및 처리 방법의 제공된 단계 둘 모두와 관련하여, 처리 시스템(1)은 앞에서 언급된 양태의 특히 단순하고 효율적인 조합에 대해 설계된다. 이는 세정액의 제공된 공급 및 박테리아 및 세균의 잔류물 및 단편의 특정 분리 모두가 통상적인 시스템에서 위에서 언급된 전류 임펄스를 인가함으로써 그리고 이에 따라 특히 간단한 수단으로 달성될 수 있다는 개념을 기초로 한다.
사용된 처리액은 이들 양태의 관점에서 적합하게 선택되고 구성된다. 처리액의 기본 구성성분의 선택 및 조성은 특히 의도된 기능, 즉 처리가 필요한 표면의 공간 영역 내의 전류의 인가를 고려하여 선택되고, 이는 특히 처리액의 전기 전도도가 이를 위해 충분히 높음을 보장한다. 이는 특히 처리액 내의 선택된 충분히 높은 이온 밀도에 의해 보장되어야 한다. 이를 위해, 바람직하게는 수용액 중의 금속 염은 처리액의 기본 구성성분으로서 제공된다. 상기 금속 염은 전류 수송을 위한 이온을 공급하며, 또한 각각의 전극 반응 후 발생하는 전환 생성물은 또한 적절한 생화학적 효과를 가질 수 있다. 충분히 높은 전기 전도도를 특별히 선택함으로써, 삽입된 임플란트에서 세정 방법의 수행 동안 처리액을 통하여 그리고 이에 따라 처리를 필요로 하는 부품 및 구성요소를 통하여 그러나 환자의 신체 조직을 통하지 않고 전류가 유동하는 것이 보장되어야 하며, 따라서, 연조직, 뼈, 혈액, 및/또는 다른 신체 물질을 통한 원하지 않는 전류 유동을 통한 환자에 대한 위험이 최소화될 수 있다. 처리액의 전기 전도도는 가능하다면, 혈액, 뼈, 연조직, 지방 조직, 또는 다른 신체 물질의 전기 전도도의 배수가 되어야 한다.
결론적으로, 하기 전도도 값은 특히 처리액의 기본 구성성분의 선택 및 조성을 고려하여 취한다 (전기 전도도 σ는 통상적인 단위 mS/cm로 표시된다):
피부: 0.03 - 0.1　mS/cm
뼈: 0.06 - 0.2　mS/cm
지방 조직: 0.20 - 1.0　mS/cm
근육 조직: 0.80 - 2.5　mS/cm
혈액: 대략 6.7　mS/cm
다른 체액: 대략 15　mS/cm
환자에 대한 위험 잠재성을 적절히 낮게 유지하고 전류 유동을 원하는 구역으로 제한하기 위해, 전기 전도도는 이에 따라 다른 체액의 전도도의 적어도 2 배, 바람직하게는 5배, 특히 바람직하게는 10배가 되어야 한다. 따라서, 처리액의 전기 전도도는 적어도 30 mS/cm, 바람직하게는 적어도 75 mS/cm 및 특히 바람직하게는 적어도 150 mS/cm의 값을 가져야 한다. 혈액과 비교하면, 이는 처리액의 전기 전도도가 바람직하게는 혈액의 전도도의 적어도 대략 5배, 바람직하게는 적어도 대략 10 배 및 특히 바람직하게는 적어도 대략 20 배가 됨을 의미한다. 측정은, 이러한 방식으로 선택된 처리액을 적용할 경우, 신체 조직, 혈액, 체액 등에 노출되는 전기 전압이 6 V 미만, 바람직하게는 3 V 미만, 특히 바람직하게는 1.5 V 미만이어서 전압들이 낮게 유지될 때 환자에 대한 손상이 확실히 배제될 수 있다는 것을 보여준다. 이 같은 전도도를 달성하도록, 특히 처리액 내 및 처리액을 형성하는 기본 구성성분 내의 이온 농도는 충분히 높게 선택되고; 이를 위해, 부식성 용액, 산, 염, 및/또는 기타 이온 형성 물질 또는 물질의 조성이 사용될 수 있다.
처리액의 기본 구성성분의 선택 및 조성에는 오염된 임플란트 표면의 세정 또는 전해질 처리의 생물막-분리 작용이 가능하다면, 서로 상보적으로 이용되어야 하는 수 개의 원인의 조합을 기초로 한다는 점이 특히 높은 정도로 고려된다. 한편으로, 전류가 바람직하게는 전극의 영역에서 전해질을 통하여 유동할때 가스 또는 가스 버블이 형성될 수 있고, 이러한 가스 또는 가스 버블은 생물막에 대한 분리(기계적) 효과를 갖는다. 이러한 가스는 전극으로서 기능하는 임플란트 표면에서 바로 및 이에 따라 상기 임플란트 표면과 생물막 사이에서 발생한다. 발생하는 가스 버블의 성장 속도 및 최대 크기는 분리 과정에 영향을 끼친다.
전해질 과정의 임플란트-세정 또는 생물막 분리 작용에 대한 두 번째 이유는 임플란트 표면 상의 생물막의 접착 상, 즉 글루잉(gluing) 또는 고정 메카니즘 상의 전해질적으로 생성된 물질 또는 물질의 조성물의 분해, 파괴, 및 용해 작용이다.
전해질 과정의 세정 또는 분리 효과에 대한 세 번째 이유는 임플란트 물질의 물질-부식 효과를 기초로 하며, 이러한 물질-부식 효과를 통하여 정확히 말해서 임플란트의 구성 요소 부품 또는 입자가 임플란트의 표면 영역에서 임플란트로부터 추출된다.
전해질 과정의 세척 또는 분리 효과에 대한 네 번째 이유는 이를 허용하는 금속 임플란트의 산화물 층의 형성을 기초로 한다. 이 경우, 금속 기재 물질의 금속 원자는 가능하게는 인가된 전압으로 인해 이미 존재하는 산화물 층을 관통하고 전해질의 물질과 반응한다 (주로 산소=>금속 산화물의 형성). 산화물 층을 형성하지 않거나 기계적으로 안정한 산화물 층을 형성하지 않는 금속에서, 후속하여 용해되는 물질(주로 염)의 비-산화 조성물이 또한 발생할 수 있다.
처리액을 형성하기 위해 제공된 기본 구성성분은 이러한 작용을 고려하여 적절히 선택되어 서로 조합된다. 더욱이, 독성 효과 또는 다른 방식으로 환자에게 위험하거나 불쾌한 효과가 발생하지 않아서 처리액이 또한 삽입된 치아 임플란트 상에 즉 환자의 구강 내에 적용되기에 적합한 것을 기본적 설계 목표로서 고려된다. 예시적인 구체예에서, 제공된 기본 구성성분은 바람직하게는 물로 희석된, 적어도 한편으로 하나의 염 및 다른 한편으로 하나의 산이 이의 선택 및 조성은 특히 상기에서 언급된 기준을 따른다. 산, 인산, 시트르산, 포름산, 에탄산, 락트산, 카르보닉산 또는 이들의 조합을 제공하는 것이 특히 바람직하다. 대안적으로 또는 부가적으로, 염으로서, 소듐, 칼슘, 알루미늄, 마그네슘, 틴 또는 포타슘 아이오다이드, 클로라이드, 니트레이트, 카보네이트 또는 하이드로겐 카보네이트, 및/또는 암모늄 클로라이트, 니트레이트 또는 아이오다이드, 또는 이들의 조합물을 제공하는 것이 특히 바람직하다.
기둥 부품(22)은 처리액으로의 처리 동안 바람직하게는 캐소드로 스위칭된다. 이러한 경우, 양으로 하전된 이온(양이온)은 기둥 부품(22)의 표면에 흐른다. 이러한 이온은 예를 들어, 이온성 액체들로부터 특히 H+ 이온, 금속 이온 또는 장쇄 탄화수소 이온일 수 있다. 처리액을 위한 기본 구성 성분으로서 제공된 염은 이 경우 양이온의 특성을 고려하여 특히 의도적으로 선택되는데, 이 양이온은 위에서 언급된 과정을 촉진하거나 제 1 장소에서 가능하게 한다. 가능한 높은 전기 전도성을 발생시키기 위하여 작은 이온(H+ 이온 또는 금속 양이온)이 특히 적합하며, 이는 게다가 다른 특히 유리한 작용의 방식으로, 비교적 용이한 방식으로 가능한 존재하는 생물막을 관통하는 것이 가능하다. H+ 이온은 기둥 부품(22)에 의해 형성된 캐소드 상의 원소 수소 H로 환원된다. 이는 버블의 형성을 생성한다.
알칼리 금속, 알칼리 토금속 및/또는 알루미늄은 주변 물과 캐소드 상에서 반응하여 원소 수소 및 이의 금속 양이온 및 OH- 이온을 형성한다. 이는 수소 버블 및 사용된 금속 이온의 하이드록시드가 형성됨을 의미한다. 따라서, 이러한 구성요소의 조합을 통하여, 발생하는 수소의 분리 효과에 부가하여 금속 하이드록시드가 항균 작용 및 생물막 상의 희석 또는 용해 영향 또는 생물막의 접착 메커니즘을 가짐이 달성된다.
신체 조직과의 불친화성을 회피하도록, 특히 신체 내에서 자연적으로 생성된 금속 양이온(예를 들어, 포타슘 및/또는 소듐 이온)은 금속 양이온로서 특히 바람직하다. 또한, 칼슘, 마그네슘 및/또는 알루미늄 이온이 또한 적절하다. 따라서, 처리액을 위한 기본 구성성분으로서 제공된 염은 특히 바람직하게는 이러한 금속의 염인데, 이는 특히 이러한 금속 양이온이 어떻게 해서든지 예를 들어 물 내에 용해된 오로지 염의 형태로 이용가능하게 될 수 있기 때문이다.
이러한 금속 염은 상기 언급된 금속과 적절한 할로겐, 예를 들어 황, 인, 질소, 불소, 염소, 요오드, 브롬, 탄화수소, 산소, 붕소, 또는 다른 비금속의 화합물일 수 있다. 할로겐은 유리하게는 원리 "음이온이 클수록, 전기 전도도가 낮다"를 고려하여 일반적으로 요망되는 높은 전기 전도도의 관점에서 적절하게 선택된다. 더욱이, 바람직하게는 건강 또는 임플란트 주변 조직에 영향을 끼치지 않는 물질만이 음이온으로서 고려된다. 더욱이, 불쾌한 냄새 또는 맛의 화합물을 원하지 않는다는 것이 고려되어야 한다. 이러한 이유들 때문에, 산소 또는 다른 원소와 조합되는 황 음이온 또는 황 함유 음이온이 오히려 적합하지 않은 것으로서 고려된다. 이는 또한 가능하게는 또한 다른 원소와 조합된 불소, 브롬, 질소, 및 붕소 이온에 적용한다.
이와 대조적으로, 포스페이트, 포스페이트 이온 및 하이드로겐 포스페이트 이온은 대부분 거의 어떠한 해로운 작용도 갖지 않거나 전혀 갖지 않는다. 염소 이온 또는 염소 함유 이온은 대부분 항균 작용을 갖는다. 그러나, 염소 이온이 전해질적으로 산화되어 원소 상태로 물 내에 존재하는 경우, 염산 및 차아염소산이 형성될 것이다. 캐소드로 발생된 하이드록시드와 조합하여, 이는 중화를 초래할 것이지만 검사는 임플란트(애노드)에 대한 상대전극에 발생하는 염소가 전해질로부터 가스의 형태로 상당한 정도로 방출됨을 보여주었다는 것이 사실이다. 처리 동안 염소를 완전히 흡입하는 것이 가능하지 않은 경우, 폐 및/또는 점막내의 극심한 소작(cauterization)이 초래될 수 있다. 이러한 경우, 환자에 대한 이익 또는 환자의 위험 중 어느 것이 더 큰지 여부에 대한 균형이 맞추어져야 한다.
더욱이, 알루미늄, 포타슘, 소듐, 칼슘, 또는 마그네슘의 포스페이트와 관련하여, 또한 포스페이트의 물에서의 용해도가 매우 낮아서 전해질의 충분한 전기 전도도가 보장되지 않는다(그러나, 이들 포스페이트는 pH 값을 완충하기 위한 전해질의 첨가물로서 매우 잘 맞는다)는 점에 주의하여야 한다. 4개의 위에서 언급된 금속 중 염화물이 물에서 충분한 용해성을 가지며 생물막 상의 우수한 세정 및 치사 작용을 가지지만, 염화물은 최적으로서 고려되지 않을 수 있다. 니트레이트 및/또는 니트라이트의 경우, NOx 가스의 형성을 통한 환자의 위험성이 예측되어야 한다. 이러한 이유 때문에, 니트레이트 또는 니트라이트의 사용은 권장되지 않는다.
상술된 설계 목표를 고려하여, 특히 환자에 대한 특히 우수한 친화성에 대해, 요오드가 바람직한 구체예에서 할로겐으로서 제공된다. 포타슘 및 소듐의 요오드 염이 인간 신체 내에 자연적으로 존재하는 것이 특히 유리하다. 애노드 상의 요오드 이온의 산화를 통하여, 무엇보다도 원소 요오드가 발생하고 이 원소 요오드는 소듐-아이오다이드/포타슘-아이오다이드 용액 내에 용해될 수 있다. 요오드-포타슘-아이오다이드 용액 또는 요오드-소듐-아이오다이드 용액이 이에 의해 발생될 것이다. 두 용액 모두 강한 살균제이며, 이는 자체적으로 인간 의약으로서 입증되었다.
그러나, 소듐 아이오다이드 또는 포타슘 아이오다이드의 순수 용액 또는 이 둘의 혼합물은 소듐 하이드록시드 및/또는 포타슘 하이드록시드의 형성 및 pH-값의 결과적인 증가의 가능한 단점을 수반한다. 사실 매우 일반적으로 금속 하이드록시드가 전해질의 pH-값을 증가시키는 것이 위에서 언급된 금속 하이드록시드의 형성의 문제점으로 고려될 수 있다. 이 같은 증가된 pH-값 및 용해된 금속 하이드록시드의 발생하는 부식성 용액은 환자의 구강 내의 주변 조직 및 특히 뼈 상에 바람직하지 않은 영향을 끼칠 수 있다. 더욱이, 인접한 치아가 손상될 수 있다. 더욱이, 하이드록시드의 형성은 하이드록시드의 매우 낮은 수용해도로 인해 기둥 부품(22) 상에 또는 일반적으로 처리를 필요로 하는 구성요소 부품 상에 하이드록시드의 침전을 초래할 수 있어 추가 전류 유동 및 이에 따라 전체적으로 과정을 저해시킨다. 기껏해야 처리액에서 칼슘 염을 사용하는 경우, 뼈 물질 내에 존재하는 발생하는 칼슘 하이드록시드는 뼈 내로 통합될 수 있으고; 칼슘은 염의 특히 바람직한 구성 성분이다. 이러한 바람직하지 않은 영향을 보완하기 위하여, 처리액은 pH-완충제 또는 pH-감소제의 방식으로 또 다른 기본 구성성분으로서 산을 함유한다.
산은 가능한 경우 환자 또는 임프란트 주변 조직에 위험하지 않지만, 한편으로는 하이드록시드를 중화하고(그리고 가능한 경우 pH-값을 7 초과의 값으로 증가하는 것을 방지함), 이에 의해 다른 한편으로, 반응 제품이 임플란트 몸체를 세정하고 생물막을 제거하는 실제 목표를 위해 기능하여야 하는 방식으로 산은 부분적으로 설계 기준의 방식에서 선택된다. 무기산으로서, 인산 및/또는 포스페이트 산이 상기 목적에 대해 바람직하다. 건강 및/또는 뼈/조직에 대한 위험의 이유 때문에, 이들의 농도는 제한되어야 한다. 또한 무기산으로서 고려되고 치사 및 세정의 전체 목적에 대한 특히 긍정적인 작용을 갖는 특히 바람직한 산은 한편으로 카르보닉산이다. 그러나, 카르보닉산의 사용가능한 양은 물에서의 비교적 낮은 용해도 때문에 제한된다.
이와 반대로, 무기산과 유사한 유기산은 pH-값-감소 및 하이드록시드-중화-H+ 이온을 제공한다. 또한 유기산이 조직 또는 전체적으로 환자에게 어떠한 손상도 일으키지 않거나 기껏해야 약간의 손상을 일으킬 때, 이 같은 유기산은 처리액의 기본 구성 성분으로서 가장 특별히 바람직하다. 유기산은 예를 들어, 알칸산, 과일 산, 카르복실산 뿐만 아니라 하이드록시 카르보닉산이다. α-하이드록시 카르보닉산은 특히 적절한 산로서 판명되었다. 특히, 특히 바람직한 산, 락트산, 시트르산 및 말산은 일반적으로 환자 또는 임플란트 주변 조직의 건강에 위험한 효과를 갖지 않는다. 특히 치석이 또한 발생하는 생물막으로 상당히 덮여져 오염된 임플란트 상에서 에탄산의 비교적 낮은 용량으로 우수한 세정 성공이 달성되었다. 세정뿐만 아니라 살균 효과를 갖지만 건강 이유에 대해 유해하지 않은 다른 산은 푸마르산, 글루콘산, 글리콜산, 살리실산, 만델산, 타르타르산, 옥살산, 및 포름산일 것이다.
하이드록시드 이온 OH- 가 산의 대응하는 H+ 이온으로 중화될 때, 대응하는 금속 하이드록시드의 사용된 산의 금속 염이 부가적으로 생성된 것이다. 따라서, 산의 의도된 사용은 이에 따라 pH-값을 완충하기 위한 장점이 있는 것뿐만 아니라 또한, 비교적 적은 수용성 하이드록시드를 비교적 우수한(well) 수용성 염으로의 전환에 기여하여, 처리를 필요로 하는 구성요소 부품상에 과정에 해로운 원하지 않는 침착물의 침전을 방지한다. 특히, 위에서 언급된 염은 특히 또한 의료 분야에 위에서 언급된 바람직한 물질을 조합할 경우 특별히 사용된다. 락트산에 의한 포타슘, 소듐 및/또는 칼슘 하이드록시드의 중화 동안, 포타슘 락테이트(광역 살균 효과를 가짐), 소듐 락테이트 또는 칼슘 락테이트가 발생한다. 그러나, 생산된 하이드록시드는 시트르산으로 중화되고 포타슘, 소듐 또는 칼슘의 시트레이트가 발생할 것이다. 특히, 소듐 시트레이트의 경우, 이는 혈액의 응고를 방지하기 때문에 특히 유용하다. 과정 동안 흘러나와 임플란트 표면상에 응고하는 혈액이 임플란트 표면까지 이온이 돌아다니는 것을 방지할 수 있고 이에 따라 처리 과정이 전체적으로 계속되기 때문에 특히 유리하다.
이와 반대로, 말산에 의한 하이드록시드의 중화의 경우, 각각의 양이온의 말레이트가 발생하며 이는 또한 공정에 유리한 영향을 끼친다. 에탄산에 의한 하이드록시드의 중화의 경우, 포타슘, 소듐 및/또는 칼슘의 아세테이트가 발생하며 이는 또한 공정에 유리한 영향을 끼친다.
포타슘, 소듐 및/또는 칼슘의 락테이트, 시트레이트, 말레이트, 및/또는 아세테이트는 모두 산 조절 효과를 가지며 매우 친화적이어서 음식 첨가제에 관한 현재의 EU 규정에 따라, 이들의 사용은 어떠한 양적 제한도 가해지지 않는다.
산이 소듐, 포타슘, 마그네슘, 알루미늄, 및/또는 칼슘의 아이오다이드 및/또는 클로라이드와 조합하여 전해질에 사용할 때, 놀랍게도 전해질 적용에서 H+ 이온의 직접적인 환원이 버블의 형성에 매우 긍정적으로 영향을 끼쳐서 생물막이 더 신속하고 우수하게 확실히 벗겨짐이 판명되었다. 높은 생성률로, 다수의 비교적 작은 버블이 발생하는데, 이 작은 거품은 이의 비교적 작은 크기로 인해 생물막을 전체적으로뿐만 아니라 생물막 아래의 표면으로부터 국부적으로 분리할 수 있다. 이러한 방식으로, 생물막은 바람직하게는 다수의 더 작은 단편 대신에 전체적으로 또는 비교적 큰 응집 조각으로 분리되는데, 이는 확실히 개선된 세정 작용을 수반한다.
금속 양이온 대신, 암모늄 양이온이 또한 사용될 수 있다. 그러나, 이러한 경우, 전해질 과정에서 다른 암모늄 화합물(예를 들어, 암모니아)이 생성되는 위험이 존재한다. 이는 환자에 대한 위험을 구성하고 또한 매우 불쾌한 맛 및 냄새를 통하여 감지된다.
생물막이 매우 작은 단편으로 아니면 더 큰 응집 조각으로 부분적으로 제거되는 것이 테스트에서 관찰되었다. 이러한 경우 매우 유리한 세정 결과가 비교적 큰 영역에서 달성되기 때문에 더 큰 응집 조각으로 부분적으로 제거하는 것이 바람직하다. 검사는 또한 분리된 생물막 및/또는 이의 단편의 제거가 임플란트 표면 상에 포옴(foam)의 형성에 의해 촉진된다는 것을 보여준다. 특히 치사 및 분리를 담당하는 상기에서 설명된 금속 염, 산 및 물로 이루어지는 전해질의 사용 후 제 2 전해질을 적용하는 것이 유리한 것으로 판명되었는데, 이는 또한 캐소드 영역에서 포옴의 형성을 보여준다. 포옴의 이 같은 형성은 바람직하게는 전해질에 적어도 3개의 CH2 사슬 링크 또는 적어도 하나의 CH2 사슬 링크 및 적어도 하나의 탄소 고리 화합물을 포함하는 다른 물질을 부가함으로써 달성될 수 있다. 여기서, 예를 들어, 오일 및/또는 클로르헥시딘이 사용될 수 있다. 더욱이, 바람직하게는 I-, Cl- 및/또는 OH- 이온 함유 이온성 액체가 또한 사용될 수 있다. 이온성 액체의 유기 양이온 부분이 임플란트 표면 상에 환원된 특정 환경하에 있고 거기에 남아 있기 때문에, 특히 유리한 구체예에서 이러한 양이온 부분에 뼈 성장 인자을 추가하는 것이 가능하다.
클로라이드 및 아이오다이드가 정확한 비율로 혼합되는 경우, 염소 가스의 교란 형성이 회피될 수 있다. 애노드에서, 아래와 같이 발생된다:
2J + 5Cl + 6H2O → 10HCl + 2HIO3
이는 염산 및 요오드산 모두가 애노드에서 형성됨을 의미한다. 이들 산은 확실히 강한 항균 효과를 가지며 또한 캐소드로 발생된 하이드록시드와 만날 때 다시 중화된다.
연구소 테스트에서 특히 유리한 세정 특성을 보여주는 처리액의 가장 특히 바람직한 조성은 락트산의 첨가에 의해 대략 2.7 내지 2.9의 pH-값으로 완충된 30 ml 액체(즉, 가능하게는 CO2 풍부 물(H2O)) 당 적어도 5g, 바람직하게는 적어도 10g, 특히 바람직하게는 적어도 20g의 염의 혼합 비율로 소듐 아이오다이드(NaI) 또는 포타슘 아이오다이드(KI)의 수용액을 포함한다.
과정 안내에서, 기둥 부품(22)에서 또는 처리를 필요로 하는 구성요소 부품에서 적어도 50 mA/cm2, 유리하게는 적어도 100 mA/cm2, 특히 바람직하게는 적어도 250 mA/cm2의 평균 전류 밀도가 제공되고, 이러한 전류 밀도는 기둥 부품(22)의 외면에 관련된다(즉, 예를 들어, 거칠기 또는 표면 구조와 같은 어떠한 표면 확장 특성들도 고려하지 않음). 생물막의 분리에 있어서, 50 mA/cm2 내지 300 mA/cm2, 유리하게는 100 mA/cm2 내지 200 mA/cm2의 평균 전류 밀도가 특히 유리한 것으로 판명되었다. 생물막 단편의 제거에 있어서, 평균 전류 밀도는 바람직하게는 300 mA/cm2 내지 5,000 mA/cm2, 또는 특히 유리하게는 1,000 mA/cm2 내지 2,000 mA/cm2의 범위로 증가되어야 한다.
한편으로는 처리액의 공급 및 다른 한편으로의 전류의 하전이 서로 맞춰진 방식으로 수행될 수 있다는 점에 있어서 조직화된 처리 제어를 위해 처리 시스템(1) 및 특히, 이의 제어 유닛(18)이 설계된다. 이를 위해, 예를 들어, 한편으로는, 연결 호스(6) 또는 저장부(8)와 연결된 처리액을 위한 수송 유닛, 및 다른 한편으로는 전기 공급 유닛(16)의 조직화된 활성화가 제어 유닛(18)을 통해 수행되도록 제공될 수 있다.
1 처리 시스템
2 매질 캐뉼라
4 배출구 개구
6 연결 호스
8 저장부
10 전도 요소
12 단부
14 접촉 팁
16 공급 유닛
18 제어 유닛
19 케이블
20 세라믹체
22 기둥 부품
24 치아 임플란트
26 상부구조 부품
28 연결 나사
30 틀니 조각
32 외부 나삿니
34 공간 영역
36 턱뼈
40 표면 영역
42 코팅
44 임플란트 숄더

Claims (10)

  1. 뼈 임플란트 특히, 치아 임플란트(24)에 사용하기 위한 세라믹체(20)로서, 인간 조직과 접촉되도록 의도된 표면 영역(40)에서 최대 10-2 Ωcm의 비전기저항 (specific electric resistance)을 갖는 세라믹체.
  2. 제 1항에 있어서, 인간 조직과 접촉되도록 의도된 표면 영역(40)에서 최대 10-4 Ωcm, 바람직하게는, 최대 10-5 Ωcm의 비전기저항을 갖는 세라믹체(20).
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 인간 조직과 접촉되도록 의도된 표면 영역(40)에서 전기 전도성 코팅(42)에 공급된 세라믹체(20).
  4. 제 3항에 있어서, 코팅(42)이 금속, 전기 전도성 합성 물질 및/또는 전기 전도성 탄소에 의해 형성되는 세라믹체(20).
  5. 제 3항 또는 제 4항에 있어서, 코팅(42)이 도핑된 세라믹, 바람직하게는, 인듐 옥사이드 및/또는 인듐-틴 옥사이드, 진크 옥사이드, 실리콘 니트라이트, MoSi2, Si3N4-MoSi2-SiC, ZrO2/CaO, Al2O3/TiN, BaTiO3, 실리사이드, 니트라이드, 세라믹 함유 티타늄 및/또는 티타네이트에 의해 형성되는 세라믹체(20).
  6. 제 1항 내지 제 5항 중의 어느 한 항에 따른 세라믹체(20)로서 구성된 기본체를 갖는 뼈 임플란트.
  7. 턱뼈(36)에서 고정될 수 있는 기둥 부품(22) 및 이와 결합된 상부구조 부품(26)을 갖는 치아 임플란트(24)로서, 기둥 부품(22)이 제 1항 내지 제 5항 중의 어느 한 항에 따른 세라믹체(20)로서 설계되는 치아 임플란트(24).
  8. 제 7항에 있어서, 인간 조직과 접촉되도록 의도된 표면 영역에서 치아 임플란트의 기둥 부품(22)에 전기 전도성 코팅이 공급되며, 전기 전도성 코팅은 임플란트 숄더(44) 영역에서 나머지 표면과 비교하여 확대된 층 두께를 갖는 치아 임플란트(24).
  9. 제 7항 또는 제 8항에 있어서, 치아 임플란트의 기둥 부품(22)이 이트륨-옥사이드-안정화된 및/또는 알루미늄-옥사이드-안정화된 지르코늄 옥사이드를 기반으로 하는 세라믹체(20)로서 설계된 치아 임플란트(24).
  10. 제 9항에 있어서, 인간 조직과 접촉되도록 의도된 치아 임플란트의 표면 영역(40)의 적어도 일부 영역에서 나노크기의 포어를 포함하는 구조 또는 달리 나노크기로 구성된 구조가 제공되며, 내부 용적과 비교하여 이트륨 옥사이드 또는 알루미늄 옥사이드 부분이 감소된 이트륨-옥사이드-안정화된 및/또는 알루미늄-옥사이드-안정화된 지르코늄 옥사이드를 기반으로 하는 공핍 구역 (depletion zone)을 갖는 치아 임플란트(24).
KR1020157024185A 2013-02-05 2014-02-05 세라믹체 특히, 치아 임플란트로서 사용하기 위한 세라믹체 KR102264638B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102013201885.1A DE102013201885A1 (de) 2013-02-05 2013-02-05 Keramikkörper, insbesondere zur Verwendung in einem Knochenimplantat, insbesondere als Dentalimplantat
DE102013201885.1 2013-02-05
PCT/EP2014/052272 WO2014122189A1 (de) 2013-02-05 2014-02-05 Keramikkörper, insbesondere zur verwendung als dentalimplantat

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150117696A true KR20150117696A (ko) 2015-10-20
KR102264638B1 KR102264638B1 (ko) 2021-06-14

Family

ID=50151257

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020157024185A KR102264638B1 (ko) 2013-02-05 2014-02-05 세라믹체 특히, 치아 임플란트로서 사용하기 위한 세라믹체

Country Status (8)

Country Link
US (1) US10039620B2 (ko)
EP (1) EP2953575B1 (ko)
JP (1) JP6584323B2 (ko)
KR (1) KR102264638B1 (ko)
CA (1) CA2923652C (ko)
DE (1) DE102013201885A1 (ko)
ES (1) ES2712698T3 (ko)
WO (1) WO2014122189A1 (ko)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013201884A1 (de) * 2013-02-05 2014-08-07 Urs Brodbeck Behandlungssystem zur Reinigung eines mit Biofilm verunreinigten Bauteils, insbesondere eines Implantat-Teils
WO2017075364A1 (en) * 2015-10-30 2017-05-04 University Of Florida Research Foundation, Incorporated Dielectric coatings for fixed and removable oral prosthetic restorations
US10563069B2 (en) * 2017-03-30 2020-02-18 International Business Machines Corporation Prevention of biofilm formation
EP3934569B1 (en) * 2019-03-08 2022-09-28 Dentsply Sirona Inc. Treatment apparatus for treating peri-implantitis
DE102019219355B4 (de) * 2019-12-11 2021-11-11 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein Implantat, Implantatkomponente und Verfahren zu deren Herstellung
US11672632B2 (en) 2020-10-05 2023-06-13 Pritidenta Gmbh Multi-layered zirconia dental blank with reverse layers, process for its preparation and uses thereof
EP4371580A1 (de) * 2022-11-17 2024-05-22 Justus-Liebig-Universität Gießen Aufsatz zum reinigen von implantaten

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050058452A (ko) * 2002-08-23 2005-06-16 부트벨딩 아게 골조직 또는 골대체재로 보충된 골조직 내에 이식하기 위한임플란트
JP2006501867A (ja) * 2001-11-30 2006-01-19 インスティテュート シュトラウマン アーゲー 歯科用インプラント
WO2007048264A1 (de) * 2005-10-27 2007-05-03 Thommen Medical Ag Dentalimplantat und verfahren zu dessen herstellung
US20090258327A1 (en) * 2006-07-25 2009-10-15 Holger Zipprich Surface area of a ceramic body and ceramic body
KR20100125346A (ko) * 2008-02-27 2010-11-30 토멘 메디칼 아게 임플란트 및 이의 제조 방법

Family Cites Families (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3420760A (en) 1965-04-30 1969-01-07 Gen Dynamics Corp Process for descaling steel strip in an aqueous organic chelating bath using alternating current
SE414399B (sv) * 1976-03-16 1980-07-28 Hans Scheicher Keramiskt material for anvendning inom medicinen, i synnerhet for framstellning av implantat, fremst odontologiska implantat samt sett for framstellning av materialet
US4351069A (en) * 1979-06-29 1982-09-28 Union Carbide Corporation Prosthetic devices having sintered thermoplastic coatings with a porosity gradient
JPH02255135A (ja) * 1989-03-29 1990-10-15 Takashi Miyazaki 歯科用補綴物
CH688894A5 (de) * 1993-05-07 1998-05-15 Metoxit Ag Verwendung Yttrium stabilisierten Zirkonoxids zur Herstellung von Halbzeugen fuer Prothesen durch Dichtsinterung
FR2725358B1 (fr) * 1994-10-05 1997-01-17 Sadoun Michele Tyszblat Procede de realisation d'une prothese dentaire fixee sur un implant et piece intermediaire pour la mise en oeuvre de ce procede
JP3719531B2 (ja) 1995-05-10 2005-11-24 栗田工業株式会社 汚泥の脱水方法
JPH10179719A (ja) * 1996-12-26 1998-07-07 Nippon Electric Glass Co Ltd 生体インプラント材料及びその製造方法
EP1289453A1 (en) * 2000-05-16 2003-03-12 Rensselaer Polytechnic Institute Electrically conducting nanocomposite materials for biomedical applications
SE0002770D0 (sv) * 2000-07-25 2000-07-25 Biomat System Ab a method of producing a body by adiabatic forming and the body produced
CH694935A5 (de) * 2000-07-26 2005-09-30 Straumann Holding Ag Oberflaechenmodifizierte Implantate.
JP2002204825A (ja) * 2000-11-13 2002-07-23 Utec:Kk Ｄｌｃ膜、医療器具、人工臓器及びｄｌｃ膜の成膜方法
JP4197893B2 (ja) 2001-12-28 2008-12-17 株式会社オメガ 洗濯・洗浄殺菌水の生成方法とその装置
US20060105297A1 (en) * 2002-12-23 2006-05-18 Nano-Write Corporation Vapor deposited multilayer dental devices
IL154184A0 (en) * 2003-01-29 2003-07-31 Univ Ramot Self powered osteogenesis and osseointegration promotion and maintenance device for endesseous implants
US8684734B1 (en) * 2003-02-27 2014-04-01 Philip Scott Lyren Dental implant with porous body
WO2004101177A2 (de) * 2003-05-16 2004-11-25 Blue Membranes Gmbh Verfahren zur beschichtung von substraten mit kohlenstoffbasiertem material
MXPA05011231A (es) 2003-05-28 2006-09-14 Soheil Asgari Implante con superficies de carbono funcionaliza
WO2009019688A2 (en) * 2007-08-06 2009-02-12 Hanan Terkel Disposable osteogenesis and osseointegration promotion and maintenance device for endosseous implants
KR100539415B1 (ko) * 2004-02-17 2005-12-27 (주) 코웰메디 치과용 임플란트의 어버트먼트 및 그 표면의 심미적 표면처리방법
SE0401808D0 (sv) 2004-07-08 2004-07-08 Astra Tech Ab Dental implanting system
CA2620427C (en) * 2005-08-30 2014-03-11 Zimmer Dental, Inc. Dental implant with improved osseointegration features
FR2894509B1 (fr) * 2005-12-08 2008-02-15 Sidel Sas Procede et dispositif de moulage par etirage-soufflage de recipients, notamment de bouteilles, en matiere thermoplastique a fond petaloide.
US20090092943A1 (en) * 2006-03-06 2009-04-09 Shoshana Tamir Method for manufacturing metal with ceramic coating
JP5000332B2 (ja) 2007-03-07 2012-08-15 バンドー化学株式会社 導電性インク
NZ582100A (en) * 2007-07-03 2013-01-25 Synergy Biosurgical Ag Medical implant with a conductive polymer which is capable of warming up and softening in response to a current flow
EP2018878A1 (de) * 2007-07-25 2009-01-28 Sorin Dr. Lenz Keramikimplantate- Zirkonimplantate- mit einer Titan- oder Titanoxidbeschichtung des intraossären Teiles
EP2106767A1 (en) * 2008-03-31 2009-10-07 Ziterion GmbH Two-part dental implant
PT104438B (pt) * 2009-03-16 2015-08-21 Clínica Médica Santo António De Joane Lda Dispositivo biónico de sensibilidade mastigatória e de oclusão mandibular
US20110183281A1 (en) * 2009-04-07 2011-07-28 University Of Arkansas Ceramic surface coatings for dental applications
US20110003083A1 (en) * 2009-04-13 2011-01-06 Quanzu Yang Method for making functional ceramic films on ceramic materials
EP2437680B1 (en) 2009-06-03 2019-03-13 Straumann Holding AG A medical cleaning kit
US8602782B2 (en) * 2009-11-24 2013-12-10 Zimmer Dental, Inc. Porous implant device with improved core
JPWO2011093414A1 (ja) * 2010-01-27 2013-06-06 国立大学法人 東京医科歯科大学 金属酸化物、金属材料、生体親和材料、および金属酸化物の製造方法
DE102010017886B4 (de) 2010-04-21 2019-04-04 Heinz Günther Römer Vorrichtung zur nachhaltigen Verhinderung der retrograden Verkeimung von wasserführenden Geräten im ärztlichen Bereich
PT2439183E (pt) 2010-10-06 2014-03-11 Ceramoss Gmbh Corpo cerâmico monolítico com região marginal de um óxido misto e superfíce metálica, processo para a sua preparação e sua utilização
US20130236854A1 (en) * 2012-03-07 2013-09-12 Amedica Corporation Ceramic oral implants and related apparatus, systems, and methods
HUE044480T2 (hu) 2012-11-14 2019-10-28 Zyfoma Gmbh Kezelõelem egy fogászati implantátumrésszel való alkalmazásra, kezelõrendszer és eljárás egy fogászati implantátumrész tisztítására
DE102013201883A1 (de) 2013-02-05 2014-08-07 Urs Brodbeck Behandlungsflüssigkeit zur Reinigung eines Implantat-Teils
DE102012022593B8 (de) 2012-11-14 2014-05-15 Urs Brodbeck Behandlungselement zur Verwendung mit einem Dental-Implantat-Teil und Behandlungssystem zur Reinigung eines Dental-Implantat-Teils
DE102013201884A1 (de) * 2013-02-05 2014-08-07 Urs Brodbeck Behandlungssystem zur Reinigung eines mit Biofilm verunreinigten Bauteils, insbesondere eines Implantat-Teils
WO2015168332A2 (en) * 2014-04-30 2015-11-05 Osseodyne Surgical Solutions, Llc Osseointegrative surgical implant

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006501867A (ja) * 2001-11-30 2006-01-19 インスティテュート シュトラウマン アーゲー 歯科用インプラント
KR20050058452A (ko) * 2002-08-23 2005-06-16 부트벨딩 아게 골조직 또는 골대체재로 보충된 골조직 내에 이식하기 위한임플란트
WO2007048264A1 (de) * 2005-10-27 2007-05-03 Thommen Medical Ag Dentalimplantat und verfahren zu dessen herstellung
US20090258327A1 (en) * 2006-07-25 2009-10-15 Holger Zipprich Surface area of a ceramic body and ceramic body
KR20100125346A (ko) * 2008-02-27 2010-11-30 토멘 메디칼 아게 임플란트 및 이의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
EP2953575A1 (de) 2015-12-16
CA2923652A1 (en) 2014-08-14
ES2712698T3 (es) 2019-05-14
WO2014122189A1 (de) 2014-08-14
EP2953575B1 (de) 2018-11-28
KR102264638B1 (ko) 2021-06-14
US10039620B2 (en) 2018-08-07
JP6584323B2 (ja) 2019-10-02
CA2923652C (en) 2021-02-02
US20150359613A1 (en) 2015-12-17
DE102013201885A1 (de) 2014-08-07
JP2016508778A (ja) 2016-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20150115919A (ko) 생물막으로 오염된 구성요소 특히, 임플람트 부품을 세정하기 위한 처리 시스템
CN104902843B (zh) 用于种植牙组件的处理构件以及处理系统
KR102264638B1 (ko) 세라믹체 특히, 치아 임플란트로서 사용하기 위한 세라믹체
KR102287807B1 (ko) 임플란트 부품 세정용 처리액
JP2013141601A (ja) イオン誘導式歯肉溝洗浄システム

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant