ES2299821T3 - Proceso para la purificacion de (hidro)halocarbonos. - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 83
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 title claims abstract description 39
- 238000000746 purification Methods 0.000 title description 8
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 63
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 59
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 51
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 claims abstract description 50
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 48
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 61
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 61
- LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoroethane Chemical compound FCC(F)(F)F LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- AWTOFSDLNREIFS-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3-pentafluoropropane Chemical compound FCC(F)(F)C(F)F AWTOFSDLNREIFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- MSSNHSVIGIHOJA-UHFFFAOYSA-N pentafluoropropane Chemical compound FC(F)CC(F)(F)F MSSNHSVIGIHOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 11
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- NPNPZTNLOVBDOC-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluoroethane Chemical compound CC(F)F NPNPZTNLOVBDOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- CETBSQOFQKLHHZ-UHFFFAOYSA-N Diethyl disulfide Chemical compound CCSSCC CETBSQOFQKLHHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims description 10
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 150000005828 hydrofluoroalkanes Chemical class 0.000 claims description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- YFMFNYKEUDLDTL-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)C(F)(F)F YFMFNYKEUDLDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- -1 1,1,1-trifluoroethyl Chemical group 0.000 claims description 6
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N Chlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)Cl VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- JJWKPURADFRFRB-UHFFFAOYSA-N carbonyl sulfide Chemical compound O=C=S JJWKPURADFRFRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N difluoromethane Chemical compound FCF RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N dimethyl disulfide Chemical compound CSSC WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N hexafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)F WMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Chemical compound O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 5
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 5
- UJPMYEOUBPIPHQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoroethane Chemical compound CC(F)(F)F UJPMYEOUBPIPHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1-fluoroethane Chemical compound CC(F)(Cl)Cl FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DDMOUSALMHHKOS-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(F)Cl DDMOUSALMHHKOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BHNZEZWIUMJCGF-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,1-difluoroethane Chemical compound CC(F)(F)Cl BHNZEZWIUMJCGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BOUGCJDAQLKBQH-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,2,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(Cl)C(F)(F)F BOUGCJDAQLKBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)Cl OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CYXIKYKBLDZZNW-UHFFFAOYSA-N 2-Chloro-1,1,1-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)CCl CYXIKYKBLDZZNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XWCDCDSDNJVCLO-UHFFFAOYSA-N Chlorofluoromethane Chemical class FCCl XWCDCDSDNJVCLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 claims description 4
- PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N dichlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)(Cl)Cl PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000019404 dichlorodifluoromethane Nutrition 0.000 claims description 4
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 claims description 4
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N octafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N pentafluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)F GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 3,3-dichloro-1,1,1,2,2-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(Cl)Cl COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 3
- BSRRYOGYBQJAFP-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3-hexafluorobutane Chemical compound CC(F)C(F)(F)C(F)(F)F BSRRYOGYBQJAFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QZFIQARJCSJGEG-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoro-2-(1,2,2,2-tetrafluoroethoxy)ethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)OC(F)C(F)(F)F QZFIQARJCSJGEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WZLFPVPRZGTCKP-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3-pentafluorobutane Chemical compound CC(F)(F)CC(F)(F)F WZLFPVPRZGTCKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CXIGIYYQHHRBJC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,4,4,4-hexafluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCC(F)(F)F CXIGIYYQHHRBJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004338 Dichlorodifluoromethane Substances 0.000 claims description 2
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N octafluorocyclobutane Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000019407 octafluorocyclobutane Nutrition 0.000 claims description 2
- 229960004692 perflenapent Drugs 0.000 claims description 2
- 229960004624 perflexane Drugs 0.000 claims description 2
- KAVGMUDTWQVPDF-UHFFFAOYSA-N perflubutane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KAVGMUDTWQVPDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229950003332 perflubutane Drugs 0.000 claims description 2
- ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N perfluorohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NJCBUSHGCBERSK-UHFFFAOYSA-N perfluoropentane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F NJCBUSHGCBERSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229960004065 perflutren Drugs 0.000 claims description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims description 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims description 2
- 229960002415 trichloroethylene Drugs 0.000 claims description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000006337 tetrafluoro ethyl group Chemical group 0.000 claims 1
- WZEOZJQLTRFNCU-UHFFFAOYSA-N trifluoro(trifluoromethoxy)methane Chemical compound FC(F)(F)OC(F)(F)F WZEOZJQLTRFNCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 abstract 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 13
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 10
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethanethiol Chemical compound CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- CJENPNUXCMYXPT-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,2-difluoroethene Chemical compound FC=C(F)Cl CJENPNUXCMYXPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N Dimethyl sulfide Chemical compound CSC QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- WXGNWUVNYMJENI-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)F WXGNWUVNYMJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AHFMSNDOYCFEPH-UHFFFAOYSA-N 1,2-difluoroethane Chemical compound FCCF AHFMSNDOYCFEPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPBWSPZHCJXUBL-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1-fluoroethene Chemical class FC(Cl)=C FPBWSPZHCJXUBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- IOCGMLSHRBHNCM-UHFFFAOYSA-N difluoromethoxy(difluoro)methane Chemical compound FC(F)OC(F)F IOCGMLSHRBHNCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- DFEYYRMXOJXZRJ-UHFFFAOYSA-N sevoflurane Chemical compound FCOC(C(F)(F)F)C(F)(F)F DFEYYRMXOJXZRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- CWIFAKBLLXGZIC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(2,2,2-trifluoroethoxy)ethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)OCC(F)(F)F CWIFAKBLLXGZIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013162 Cocos nucifera Nutrition 0.000 description 1
- 244000060011 Cocos nucifera Species 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- PIWKPBJCKXDKJR-UHFFFAOYSA-N Isoflurane Chemical compound FC(F)OC(Cl)C(F)(F)F PIWKPBJCKXDKJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004236 Ponceau SX Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- UNYSKUBLZGJSLV-UHFFFAOYSA-L calcium;1,3,5,2,4,6$l^{2}-trioxadisilaluminane 2,4-dioxide;dihydroxide;hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[OH-].[OH-].[Ca+2].O=[Si]1O[Al]O[Si](=O)O1.O=[Si]1O[Al]O[Si](=O)O1 UNYSKUBLZGJSLV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052676 chabazite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960003537 desflurane Drugs 0.000 description 1
- DPYMFVXJLLWWEU-UHFFFAOYSA-N desflurane Chemical compound FC(F)OC(F)C(F)(F)F DPYMFVXJLLWWEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000796 flavoring agent Substances 0.000 description 1
- 235000019634 flavors Nutrition 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- SGAMQLNREKTWEK-UHFFFAOYSA-N fluoro(fluoromethoxy)methane Chemical compound FCOCF SGAMQLNREKTWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229960002725 isoflurane Drugs 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 1
- 125000001741 organic sulfur group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000003380 propellant Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 229960002078 sevoflurane Drugs 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/02—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material
- B01J20/10—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material comprising silica or silicate
- B01J20/16—Alumino-silicates
- B01J20/18—Synthetic zeolitic molecular sieves
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D15/00—Separating processes involving the treatment of liquids with solid sorbents; Apparatus therefor
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- B01D—SEPARATION
- B01D15/00—Separating processes involving the treatment of liquids with solid sorbents; Apparatus therefor
- B01D15/08—Selective adsorption, e.g. chromatography
- B01D15/26—Selective adsorption, e.g. chromatography characterised by the separation mechanism
- B01D15/34—Size selective separation, e.g. size exclusion chromatography, gel filtration, permeation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/02—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material
- B01J20/20—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material comprising free carbon; comprising carbon obtained by carbonising processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/28—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof characterised by their form or physical properties
- B01J20/28054—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof characterised by their form or physical properties characterised by their surface properties or porosity
- B01J20/28078—Pore diameter
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C17/389—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by adsorption on solids
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
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Abstract
Un proceso para el tratamiento de una composición que comprende uno o más (hidro)halocarbonos deseados y una o más impurezas indeseables que contienen azufre para reducir al menos una impureza indeseable que contiene azufre, comprendiendo el proceso el contactar la composición con un adsorbente que comprende un tamiz molecular ácido estable que tiene un tamaño de poros de 2 a 10 A y/o un carbono activado.
Description
Proceso para la purificación de
(hidro)halocarbonos.
Esta invención se refiere a un proceso para
reducir la concentración de impurezas indeseables que contienen
azufre, y preferiblemente, de compuestos orgánicos halogenados
indeseables en composiciones de (hidro)halocarbonos.
Los (hidro)halocarbonos por lo general
tienen un olor ligeramente etéreo. La contaminación mediante
impurezas que contienen azufre puede causar una pestilencia
momentánea o aún a más largo plazo.
La pestilencia puede ser causada tanto por
compuestos inorgánicos u orgánicos que contienen azufre, tales como
sulfuro de hidrógeno, bisulfuro de carbono, sulfuro de carbonilo,
dióxido de azufre, trióxido de azufre, ácido sulfúrico,
dimetildisulfuro, etanetiol y dietildisulfuro.
Las impurezas que contienen azufre pueden ser
introducidas en los (hidro)halocarbonos durante su
manufactura, por ejemplo a partir de contaminantes en el ácido
hidrofluórico. El ácido hidrofluórico puede contener contaminantes
que contienen azufre tales como dióxido de azufre, trióxido de
azufre, sulfuro de hidrógeno y ácido sulfúrico, que pueden
reaccionar con (hidro)halocarbonos y/o sus precursores
durante la producción para formar impurezas que contienen azufre
tales como dimetildisulfuro, etanetiol y dietildisulfuro. Algunas de
estas impurezas sobreviven a los procesos conocidos de separación y
residen en el material en bruto.
La pestilencia puede ser desagradable en
cualquier uso de (hidro)halocarbonos, particularmente en usos
dispensados y más particularmente en productos farmacéuticos en los
que los (hidro)halocarbonos son ingeridos por el cuerpo.
Es, por tanto, deseable eliminar las impurezas
que contienen azufre en (hidro)halocarbonos, tales como
alcanos halogenados, alquenos y éteres. Tal eliminación es
particularmente importante en caso de productos de grado
farmacéutico, tales como los utilizados como impelentes en los
inhaladores presurizados dosificadores.
Las tecnologías de purificación que son bien
conocidas en la técnica, tales como la destilación, son por lo
general inapropiadas para eliminación de impurezas que contienen
azufre a partir de (hidro)halocarbonos. La destilación no
logra la elevada pureza requerida para aportar
(hidro)carbonos sin pestilencia.
Los procesos conocidos, por tanto, por lo
general no eliminan toda la pestilencia que causan las impurezas
que contienen azufre.
Las tecnologías utilizadas por la técnica para
eliminar las impurezas orgánicas halogenadas de alcanos halogenados
incluyen el uso de tamices moleculares. Los ejemplos del uso de
tamices moleculares para eliminar tales impurezas se describen en
las Patentes US-A-6 274 782,
US-A-4 906 796 y
US-A-5 288 930,
WO-A-01/83 412.
La Patente
US-A-6 274 782 describe la
separación de 1,1-difluoroetano
(R-152a) del hexafluoroetano (R-116)
utilizando una combinación de tamices moleculares 5A, 10X y
13X.
La Patente
US-A-4 906 796 describe la
purificación de 1,1,1,2-tetrafluoroetano
(R-134a) utilizando tamices moleculares de carbono
y zeolitas. El proceso descrito elimina el clorodifluoroeteno
(R-1122) del R-134a.
La Patente
US-A-5 288 930 describe la
eliminación de clorodifluoroeteno (R-1122) del
1,1,12-tetrafluoroetano (R-134a)
utilizando una zeolita que tiene un tamaño de poros de 3,5 a 4,8
\ring{A} con potasio como el ión de compensación.
La enumeración o discusión de un documento de
publicación anterior en esta solicitud no debe tomarse
necesariamente como un reconocimiento de que el documento es parte
de la técnica actual o es de conocimiento general común.
Los tamices moleculares utilizados previamente
para eliminar impurezas orgánicas halogenadas de alcanos halogenados
por lo general tampoco eliminan las impurezas que contienen azufre
al grado necesario como para eliminar la pestilencia.
Hay por tanto, una necesidad de un proceso que
reduzca efectiva y eficientemente la concentración de impurezas que
contienen azufre o que elimine estas impurezas de
(hidro)halocarbonos.
La presente invención brinda un nuevo proceso
para la reducción de la concentración de al menos una impureza
indeseable que contiene azufre, y, preferiblemente, de al menos un
hidrocarburo halogenado indeseable de una composición de
(hidro)halocarbonos.
En correspondencia con un primer aspecto de la
presente invención, se brinda un proceso para el tratamiento de una
composición que comprende uno o más (hidro)carbonos deseados
y una o más impurezas indeseables que contienen azufre para reducir
la concentración de al menos una de las impurezas indeseables que
contienen azufre, comprendiendo el proceso el contactar la
composición con un adsorbente que comprende un tamiz molecular,
ácido estable, que tenga un tamaño de poros de 2 a 10 \ring{A} y/o
un carbono activado.
Si la composición a ser tratada comprende
también uno o más compuestos orgánicos halogenados indeseables, el
proceso puede reducir también la concentración de al menos un
compuesto orgánico halogenado indeseable.
El proceso por lo general elimina al menos el
50% por peso, más preferiblemente al menos el 90% por peso y aún
más preferiblemente al menos el 98% por peso de impurezas que
contienen azufre. Preferiblemente, el proceso reduce la
concentración de impurezas que contienen azufre a niveles por debajo
del límite de detección mediante el olfato y/o mediante
cromatografía con detección fotométrica mediante llama pulsante
establecida en modo "azufre". Por tanto, el proceso es por lo
general efectivo en la eliminación de la pestilencia causada por
las impurezas que contienen azufre.
El proceso no reduce necesariamente la
concentración de todas las una o más impurezas indeseables que
contienen azufre, pero puede hacerlo. De manera similar, cuando la
composición a ser tratada comprende uno o más compuestos orgánicos
halogenados indeseables, ésta no reduce necesariamente la
concentración de cada uno de estos compuestos, pero puede
hacerlo.
El proceso por lo general puede utilizarse para
tratar cualquier (hidro)halocarbono que sea preparado
mediante cualquier método. Es particularmente apropiado para el
tratamiento de cualquier (hidro)halocarbono que sea
preparado utilizando el ácido hidrofluórico. Como se discutió
anteriormente, el ácido hidrofluórico a menudo contiene impurezas
que contienen azufre que pueden ser transferidas al producto de
(hidro)halocarbono o pueden reaccionar para formar
ulteriores compuestos que contengan azufre.
Mediante el término
"(hidro)halocarbono" queremos significar un compuesto
que contiene carbono, uno o más átomos halógenos y, opcionalmente,
hidrógeno y/o oxígeno. El (hidro)halocarbono puede ser
saturado o no saturado. Preferiblemente, el
(hidro)halocarbono tiene una longitud de cadena de carbonos
de uno a cuatro.
La composición a ser tratada puede contener uno
o más (hidro)halocarbonos deseados seleccionados entre
alcanos halogenados, alquenos halogenados y éteres halogenados.
Preferiblemente, la composición a ser tratada
comprende al menos un (hidro)halocarbono deseado seleccionado
entre hidrofluoroalcanos, hidroclorofluoroalcanos,
clorofluoroalcanos, perfluoroalcanos, percloroalquenos,
hidrocloroalquenos e (hidro)fluoroéteres. El proceso de la
presente invención es particularmente apropiado para el tratamiento
de composiciones en las que el o cada (hidro)halocarbono
deseado contiene átomos de flúor como los únicos átomos de
halógeno, por ejemplo hidrofluoroalcanos, perfluoroalcanos y/o
(hidro)fluoroéteres. Se prefiere particularmente que el o
cada compuesto deseado sea un hidrofluoroalcano.
Mediante el término "hidrofluoroalcano" nos
referimos a un alcano que contiene sólo átomos de carbono, hidrógeno
y flúor.
Mediante el término
"hidroclorofluoroalcano" nos referimos a un alcano que contiene
sólo átomos de carbono, cloro, flúor e hidrógeno.
Mediante el término "clorofluoroalcano" nos
referimos a un alcano que contiene sólo átomos de carbono, cloro y
flúor.
Mediante el término "perfluoroalcano" nos
referimos a un alcano que contiene sólo átomos de carbono y
flúor.
Mediante el término "percloroalqueno" nos
referimos a un alqueno que contiene sólo átomos de carbono y
cloro.
Mediante el término "hidrocloroalqueno" nos
referimos a un alqueno que contiene sólo átomos de carbono,
hidrógeno y cloro.
Mediante el término
"(hidro)fluoroéter" nos referimos a un éter que contiene
átomos de carbono, flúor y oxígeno y opcionalmente átomos de
hidrógeno.
Los hidrofluoroalcanos deseados que pueden ser
purificados incluyen 1,1,1,2-tetrafluoroetano
(R134a), 1,1,1,2,3,
3,3-heptafluoropropano (R-227ea), 1,1-difluoroetano (R-152a), 1,1,1-trifluoroetano (R-143a), pentafluoroetano (R-125), difluorometano (R-32), 1,1,1,3,3-pentafluoropropano (R-245fa), 1,1,2,2,3-pentafluoropropano (R-245ca), 1,1,1,
3,3-pentafluorobutano (R-365mfc) y hexafluorobutano (R-356). El uso del proceso de la presente invención para purificar 1,1,1,2-tetrafluoroetano (R-134a) y/o 1,1,1,2,3,3,3- heptafluoropropano (R-227ea) es particularmente preferido.
3,3-heptafluoropropano (R-227ea), 1,1-difluoroetano (R-152a), 1,1,1-trifluoroetano (R-143a), pentafluoroetano (R-125), difluorometano (R-32), 1,1,1,3,3-pentafluoropropano (R-245fa), 1,1,2,2,3-pentafluoropropano (R-245ca), 1,1,1,
3,3-pentafluorobutano (R-365mfc) y hexafluorobutano (R-356). El uso del proceso de la presente invención para purificar 1,1,1,2-tetrafluoroetano (R-134a) y/o 1,1,1,2,3,3,3- heptafluoropropano (R-227ea) es particularmente preferido.
Los hidroclorofluoroalcanos que pueden ser
purificados incluyen clorodifluorometano (R-22),
1,1-dicloro-1-fluoroetano
(R-141b),
1-cloro-1,1-difluoroetano
(R-142b), 1,1,1-
trifluoro-2-cloroetano
(R-133a),
2,2-dicloro-1,1,1-trifluoroetano
(R-123),
2-cloro-1,1,1,2-tetrafluoroetano
(R-124) y dicloropentafluoropropano
(R-225), todos isómeros.
Los clorofluoroalcanos deseados que pueden ser
purificados incluyen diclorodifluorometano (R-12),
1,2-dicloro-1,1,2,2-tetrafluoroetano
(R-114) y
1,1,1-tricloro-2,2,2-trifluoroetano
(R-113a).
Los perfluoroalcanos deseados que pueden ser
purificados incluyen perfluorometano (R-14),
perfluoroetano (R-116), perfluoropropano
(R-218), perfluorobutano, perfluorociclobutano,
perfluoropentano y perfluorohexano.
Un percloroalqueno deseado que puede ser
purificado es el percloroeteno.
Los hidrocloroalquenos deseados que pueden ser
purificados incluyen tricloroeteno y cloruro de vinilo.
Los hidrofluoroéteres deseados que pueden ser
purificados incluyen éter de
1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropilo y fluorometilo
(Sevoflurane/(CF_{3})_{2}CHOCH_{2}F), éter de
1,1,1-trifluoro-2-cloroetilo
y difluorometilo (Isoflurane/CF_{3}CHClO
CF_{2}H), éter de 1,1,1,2-tetrafluoroetilo y difluorometilo (Desflurane/(CF_{3}CHFOCF_{2}H), éter de trifluorometilo y difluorometilo (E-125/CF_{3}OCF_{2}H) y éter de 1,1,1-trifluoroetilo y tetrafluoroetilo (HFE-347pcf/CF_{3}CH_{2}OCF_{2}CF_{2}H).
CF_{2}H), éter de 1,1,1,2-tetrafluoroetilo y difluorometilo (Desflurane/(CF_{3}CHFOCF_{2}H), éter de trifluorometilo y difluorometilo (E-125/CF_{3}OCF_{2}H) y éter de 1,1,1-trifluoroetilo y tetrafluoroetilo (HFE-347pcf/CF_{3}CH_{2}OCF_{2}CF_{2}H).
El proceso puede reducir la concentración de
impurezas inorgánicas y/o orgánicas que contienen azufre. Es
particularmente ventajoso el uso del proceso para reducir la
concentración de impurezas orgánicas que contienen azufre porque
éstas son por lo general más difíciles de eliminar utilizando
tecnologías conocidas por parte de los expertos en la técnica.
Mediante el término "impurezas orgánicas que
contienen azufre" nos referimos a compuestos que contienen al
menos carbono y azufre, incluyendo opcionalmente otros átomos tales
como hidrógeno y oxígeno. Las impurezas orgánicas que contienen
azufre que pueden ser eliminadas/reducidas incluyen (pero no se
limitan a) dimetilsulfuro, etanetiol, dietildisulfuro, bisulfuro de
carbono y sulfuro de carbonilo.
Mediante el término "impurezas inorgánicas que
contienen azufre" nos referimos a compuestos que contienen al
menos azufre, incluyendo opcionalmente otros átomos tales como
hidrógeno y oxígeno. Las impurezas inorgánicas que contienen azufre
que pueden eliminarse/reducirse incluyen (pero no se limitan a)
sulfuro de hidrógeno, dióxido de azufre, trióxido de azufre y/o
ácido sulfúrico.
Antes del tratamiento, las impurezas que
contienen azufre están típicamente presentes en composiciones de
(hidro)halocarbonos a niveles del límite de detección de
alrededor de 0,1% por volumen. Por ejemplo, el dimetilsulfuro puede
estar presente a niveles de 40 ppb y superiores, y/o etanetiol a
niveles de 5 a 10 ppb y/o dietildisulfuro a niveles de 5 a 10
ppb.
El proceso reduce típicamente la concentración
de las impurezas que contienen azufre a niveles por debajo del
límite de detección mediante equipamiento estándar, i.e., de manera
que puedan ser virtualmente eliminadas totalmente. Mediante el
término "límite de detección" nos referimos al punto en el cual
las impurezas que contienen azufre no pueden ser detectadas por el
olfato y/o mediante cromatografía gaseosa con detección fotométrica
por llama de pulso colocada en modo "azufre". Por ejemplo, el
límite de detección mediante cromatografía gaseosa puede estar a
niveles de aproximadamente 5 ppb e inferiores.
El proceso de la presente invención puede
utilizarse para eliminar o reducir la concentración de uno o más
compuestos orgánicos halogenados indeseables. El proceso es
particularmente apropiado en la eliminación/reducción de compuestos
orgánicos halogenados que contengan uno o dos átomos de carbono,
aunque pueden eliminarse también otros compuestos orgánicos
halogenados indeseables. Cuando los compuestos orgánicos halogenados
indeseables contienen dos o más átomos de carbono, pueden ser
saturados o no saturados.
Mediante el término "compuestos orgánicos
halogenados indeseables" nos referimos a compuestos indeseables
que contienen carbono, uno o más átomos halógenos y, opcionalmente,
hidrógeno. Los compuestos orgánicos halogenados indeseables
contienen preferiblemente flúor y/o cloro y/o bromo, de mayor
preferencia flúor y/o cloro.
Los compuestos orgánicos halogenados que pueden
eliminarse/reducirse utilizando el proceso de la presente invención
incluyen (pero no se limitan a) clorofluorometanos, e.g
clorodifluorometano (R-22) y clorofluorometano
(R-31); difluoroetanos, e.g.
1,2-difluoroetano (R-152) y
1,1-difluoroetano (R-152a);
tetrafluoroetanos, e.g. 1,1,1,2- tetrafluoroetano
(R-134a) y 1,1,2,2-tetrafluoroetano
(R-134); clorodifluoroetenos, e.g.
clorodifluoroeteno (R-1122),
cis-clorodifluoroeteno (R-1122a) y
trans-clorodifluoroeteno (R-1122a);
clorofluoroetenos, e.g. clorofluoroeteno (R-1131a),
cis-clorofluoroeteno (R-1131) y
trans-clorofluoroeteno (R-1131).
El proceso utiliza un adsorbente que comprende
un tamiz molecular ácido estable que tiene un tamaño de poros de 2
a 10\ring{A} y/o un carbono activado.
El tamaño de poros del tamiz molecular ácido
estable es preferiblemente de 3 a 5\ring{A}, más preferiblemente
de 3 a 4\ring{A}.
Mediante el término "tamiz molecular ácido
estable" nos referimos a un tamiz molecular que no se descompone
sustancialmente cuando se trata con ácido acuoso de un pH alrededor
de 3.
Los tamices moleculares ácidos estables
apropiados incluyen tamices moleculares lavados con ácido. Mediante
el término "tamiz molecular lavado con ácido" nos referimos a
un tamiz molecular que es lavado con un ácido durante su
preparación. Este lavado con ácido elimina una proporción de las
localizaciones básicas en el tamiz molecular, lo que afecta las
propiedades de absorción del tamiz molecular y reduce/elimina la
reacción con el ácido en contacto con éste. Por ejemplo, los
tamices moleculares ácidos estables apropiados son zeolitas ácidas
estables que pueden obtenerse lavando una zeolita convencional con
una solución acuosa de un ácido tal como el ácido hidroclórico.
Alternativamente, los tamices moleculares ácidos
estables tales como las zeolitas ácidas estables pueden ser
sintetizados específicamente utilizando métodos bien conocidos por
la técnica.
Las zeolitas ácidas estables tienden a tener una
relación Si:Al superior a las zeolitas convencionales que tengan un
diámetro de poros similar. Las zeolitas ácidas estables apropiadas
para su uso en la presente invención incluyen, pero no se limitan
a, aquellas que tienen una relación SiO_{2}: Al_{2}O_{3} de
2:1 o superior. Por ejemplo, puede utilizarse una chabazita que
tenga una relación SiO_{2}: Al_{2}O_{3} de 2:1 o superior.
El experto en la técnica será capaz de
determinar si un tamiz molecular es estable respecto al ácido
utilizando su experiencia general. Esto puede hacerse examinando si
el tamiz molecular se descompone significativamente en ácido.
El tamiz molecular ácido estable puede ser una
zeolita y/o un tamiz molecular de carbono. Preferiblemente, el
tamiz molecular ácido estable comprende una zeolita, por ejemplo una
zeolita lavada con ácido.
Los tamices moleculares de zeolita tienen la
fórmula
M_{x}[(Al_{2}O_{3})_{x}(SiO_{2})_{y}].zH_{2}O,
en la que M es uno o más de sodio, potasio, calcio y magnesio. Esta
fórmula genérica es un estándar industrial y la naturaleza de M y
los valores de x, y, y z varían en función del
fabricante en particular.
Un tamiz molecular de zeolita apropiado para su
uso en el proceso es el AW-300, que es un tamiz
molecular que sería bien conocido para el experto en la
técnica.
Un ejemplo de un tamiz molecular de zeolita que
es apropiado para su uso en el proceso es el MOLSIV^{TM}
AW-300, que puede obtenerse en UOP Limited (EE.UU.).
El MOLSIV^{TM} AW-300 es un tamiz molecular de
gránulos. Éste es un tamiz molecular de arcilla aglutinada,
sintético, resistente al ácido que adsorbe moléculas de diámetros
críticos de hasta 4\ring{A}.
Otro tamiz molecular AW-300
apropiado para su uso en el proceso puede obtenerse en
Sigma-Aldrich (EE.UU.).
Otro tamiz molecular de zeolita apropiado para
su uso en el proceso es el AW-500 que es un tamiz
molecular bien conocido por un experto en la técnica.
Los adsorbentes de carbono activado son bien
conocidos por un experto en la técnica.
Los adsorbentes apropiados de carbono activado
incluyen aquellos que tienen una estructura de microporos, en la
cual más del 60% de la proporción de la distribución del tamaño del
poro cae dentro del intervalo de 2 a 20\ring{A}. Tales
adsorbentes de carbono activado pueden derivarse de cáscara de coco.
Un ejemplo de tal adsorbente de carbono activado es el carbono
activado de grado 207C que puede obtenerse en Sutcliffe Speakman
Carbons Limited (Reino Unido).
El adsorbente puede ser utilizado en la forma de
un polvo, gránulos y/o incrustaciones, que pueden, por ejemplo,
combinarse con gel de sílice. Se prefiere utilizar el adsorbente en
forma de gránulos, ya que son fáciles de manipular a escala
industrial. Los gránulos apropiados incluyen aquéllos en los que la
zeolita está unida con arcilla.
Los presentes inventores han encontrado que los
adsorbentes que comprenden un tamiz molecular ácido estable, que
tienen un tamaño de poros de 2 a 10\ring{A}, y/o un carbono
activado, son altamente efectivos en la eliminación de impurezas
que contienen azufre en (hidro)halocarbonos tales como
1,1,1,2-tetrafluoroetano (R-134a),
1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropano
(R-227ea),
1,1,1,3,3-pentafluoropropano
(R-245fa) y
1,1,2,2,3-pentafluoropropano
(R-245ca). Los adsorbentes utilizados en la presente
invención son más efectivos en la eliminación de impurezas que
contienen azufre en comparación con otros tamices moleculares
conocidos, tales como los 4A, 5A y 13X. Los tamices moleculares 4A,
5A y 13X serían bien conocidos por un experto en la técnica.
Si se requiere, el adsorbente puede secarse
antes de usarlo. Alternativamente el adsorbente puede utilizarse en
la forma en que es obtenido del fabricante. El nivel de humedad
preferido es menor de alrededor del 1,5% por peso.
El proceso puede llevarse a cabo en fase líquida
o de vapor, pero la fase líquida se prefiere ya que es más
económica.
Por supuesto, el proceso debe realizarse a una
temperatura que permita la ocurrencia de la absorción. Esta
temperatura es por lo general menor de alrededor de 200ºC,
preferiblemente menor de alrededor de 150ºC, más preferiblemente
menor de alrededor de 100ºC y aún de mayor preferencia de alrededor
de 60ºC. Por ejemplo, el proceso puede realizarse a temperatura
ambiente o a temperaturas inferiores a la ambiente. El experto en
la técnica podrá determinar fácilmente una temperatura apropiada
tomando en consideración factores tales como la naturaleza de los
compuestos deseados.
El proceso de la presente invención puede
realizarse a cualquier presión suficiente para mantener los
componentes de la composición en la fase líquida o de vapor, como
sea apropiado. Si el proceso se realiza en la fase líquida, es
preferiblemente llevado a cabo a su presión autógena, i.e. la
presión que ejerce el líquido por sí mismo, o superior si se desea.
Si el proceso se realiza en la fase de vapor, es preferiblemente
llevado a cabo a una presión de 0,1 MPa a la presión de saturación.
Para una temperatura dada, la presión de saturación de un
componente puro es la presión a la que ocurre la vaporización del
líquido.
Por lo general, el proceso se realiza circulando
la composición a tratar a través de una cama de pulido que contenga
el adsorbente. La cama de pulido puede ser una cama fluida o
empacada, aunque se prefiere una cama empacada.
El tiempo de contacto depende de la cantidad de
adsorbente utilizando y de su frescura. El experto en la técnica
será capaz de determinar fácilmente un tiempo de contacto apropiado
para un proceso en particular.
La efectividad del adsorbente utilizado en el
proceso se deteriorará con el tiempo. El tiempo para que el
absorbente se deteriore depende de un número de factores, tales como
la relación de la cantidad de adsorbente a la cantidad de la
composición tratada.
El proceso de la presente invención puede
comprender además el paso de regeneración del adsorbente después de
que este ha hecho contacto con la composición de
(hidro)halocarbonos. Por ejemplo, el adsorbente puede
regenerarse contactándolo con un chorro de nitrógeno calentado o
calentándolo mientras el nitrógeno pasa sobre éste.
Debe apreciarse que una composición a ser
tratada puede ser contactada con el adsorbente en más de una vez.
En tal proceso, la composición puede estar sujeta a contactos
repetidos con un tipo de adsorbente o sujeta a contactos con más de
un tipo de adsorbente. El contacto repetido reducirá aún más el
contenido de la una, o más impurezas indeseables que contienen
azufre y, de ser apropiado, del uno, o más compuestos orgánicos
halogenados indesea-
bles.
bles.
Por lo general, la composición a ser tratada
puede ser contactada con el adsorbente tantas veces como sea
necesario para eliminar la pestilencia y/o de manera que ninguna
impureza que contenga azufre sea detectada utilizando la
cromatografía gaseosa con detección de llama pulsante colocada en
modo azufre. El número de veces que una composición es contactada
con el adsorbente depende de un número de factores, tales como la
frescura del adsorbente y el nivel inicial de las impurezas.
Por lo general, no es necesario someter la
composición de (hidro)halocarbono a tratamiento(s)
adicional(es) algu-
no(s) antes de o después del proceso de la presente invención para asegurar que ya no haya pestilencia.
no(s) antes de o después del proceso de la presente invención para asegurar que ya no haya pestilencia.
Sin embargo si se desea, el proceso puede
incluir uno o más pasos de purificación, que pueden ser realizados
antes y/o después del proceso de la presente invención. Los pasos
adicionales de purificación pueden reducir la concentración de
impurezas indeseables contentivas de azufre que son
eliminadas/reducidas por el adsorbente.
Si la composición a ser tratada incluye
compuestos orgánicos halogenados indeseables, pueden utilizarse
pasos purificadores adicionales para reducir la concentración de
esos compuestos halogenados cuya concentración es reducida por el
adsorbente que comprende un tamiz molecular ácido estable que tiene
un tamaño de poros de 2 a 10\ring{A} y/o un carbono activado y/o
otros compuestos halogenados.
Los pasos adicionales de purificación pueden,
opcionalmente, reducir la concentración de otros compuestos
indeseables, tales como el agua.
Cualesquiera métodos de purificación de
(hidro)halocarbonos conocidos por la técnica pueden ser
utilizados como pasos purificadores adicionales. Por ejemplo, puede
utilizarse el tratamiento con tamices moleculares que no sean
tamices moleculares ácidos estables que tengan un tamaño de poros de
2 a 10\ring{A}, y/o con agentes desecantes, y/o destilación.
Las capas de diferentes adsorbentes y/o agentes
desecantes pueden combinarse dentro de una única cama de pulido. El
orden de las capas puede seleccionarse por un experto en la técnica
para garantizar el tratamiento más eficiente.
Si se requiere, la destilación puede realizarse
antes y/o después de que la composición a tratar sea contactada con
el adsorbente(s) y/o el agente(s) desecante en la cama
de pulido.
En correspondencia con otro aspecto de la
invención, se brinda el uso de un adsorbente que comprende un tamiz
molecular ácido estable que tiene un tamaño de poros de 2 a
10\ring{A} y/o un carbono activado para reducir la concentración
de al menos una impureza indeseable que contiene azufre en una
composición de (hidro)halocarbonos, tales como las que se
definieron anteriormente.
Este uso puede reducir la concentración de al
menos un compuesto orgánico halogenado indeseable en una composición
de (hidro)halocarbonos.
En correspondencia con otro aspecto más de la
presente invención, se brinda una composición que está
sustancialmente libre de impurezas indeseables que contienen azufre
obtenida mediante un proceso como se describió anteriormente.
Preferiblemente la composición es
1,1,1,2-tetrafluoroetano (R-134a),
1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropano
(R-227ea),
1,1,1,3,3-pentafluoropropano
(R-245fa),
1,1,2,2,3-pentafluoropropano
(R-245ca) o mezclas de los mismos sustancialmente
libres de impurezas indeseables que contienen azufre.
Mediante la frase "sustancialmente libre de
impurezas indeseables que contienen azufre" nos referimos a que
las impurezas indeseables que contienen azufre están presentes en
una cantidad que es menor de la que resulta en una pestilencia
detectable mediante el olfato y/ por debajo de la cantidad
detectable a través de la cromatografía gaseosa. El experto en la
técnica apreciará que la cantidad exacta de impurezas indeseables
que contienen azufre dependerá de cuáles de las impurezas que
contienen azufre estaban presentes en la composición antes de que
el proceso se realizara debido a que diferentes compuestos tienen
diferentes umbrales de pestilencia y pueden ser detectables a
diferentes niveles utilizando la cromatografía gaseosa.
Las composiciones que pueden obtenerse mediante
un proceso tal como se describió anteriormente pueden utilizarse
como un propulsor, especialmente como un impelente farmacéutico. Los
alcanos halogenados, tales como los hidrofluoroalcanos, por ejemplo
1,1,1,2-tetrafluoroetano (R-134a),
1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropano
(R-227ea),
1,1,1,3,3-pentafluoropropano
(R-245fa),
1,1,2,2,3-pentafluoropropano
(R-245ca) y sus mezclas son apropiados para este
uso.
Las composiciones que pueden obtenerse mediante
un proceso tal como se describió anteriormente pueden utilizarse
también como un refrigerante, como un agente impulsor de espuma,
como un solvente y/o como un agente extintor de incendios.
Por ejemplo el
1,1,1,2-tetrafluoroetano (R-134a)
que puede obtenerse mediante un proceso tal como se describió
anteriormente puede ser utilizado como un solvente, por ejemplo como
un solvente de extracción para productos naturales, preferiblemente
como un solvente de extracción de sabor y/o de fragancia.
La presente invención se ilustra ahora pero no
se limita por los siguientes ejemplos y figuras de 1 a 3.
Las figuras de 1 a 5 son cromatogramas gaseosos
generados utilizando un cromatograma gaseoso Varian 3800 con
detección fotométrica de llama pulsante colocado en modo
"azufre". Las figuras se relacionan con los ejemplos 1 y
3.
Este ejemplo se realizó para mostrar cuán
efectivos son cada uno de los tamices moleculares 4A y
AW-300 en la reducción de los niveles de impurezas
orgánicas que contienen azufre presentes en
R-134a.
Se contactó R-134a con cada uno
de los tamices moleculares durante un período de 24 horas a
temperatura ambiente colocando tanto la R-134a como
el tamiz molecular en un contenedor en las cantidades
siguientes:
a) 350 g de R-134a y 42 g de
tamiz molecular 4ª.
b) 500 g de R-134a y 10 g de
tamiz molecular AW-300.
Las figuras 1 a la 3 son cromatogramas gaseosos
generados utilizando un cromatograma gaseoso Varian 3800 con
detección fotométrica de llama pulsante colocado en modo
"azufre". Por tanto, los cromatogramas de gas muestran las
impurezas orgánicas que contienen azufre presentes en la
R-134a.
La figura 1 muestra el cromatograma gaseoso de
la R-134a antes del contacto con el tamiz molecular.
La figura 2 muestra el cromatograma gaseoso de la
R-134a después del contacto con el tamiz molecular
(a) y la figura 3 muestra el cromatograma gaseoso de la
R-134a después del contacto con el tamiz molecular
(b).
Una comparación de las figuras 2 y 3 muestra una
eliminación relativamente pobre de las impurezas orgánicas que
contienen azufre utilizando el tamiz molecular (a) en comparación
con el tamiz molecular (b).
22 toneladas de R-134a licuado
se circularon a través de un recipiente de reacción que contenía 0,5
toneladas del tamiz molecular AW-300 a una tasa de
2,5 toneladas por hora durante un período total de 18 horas a
temperatura ambiente.
Los ejemplos de cómo el proceso de la presente
invención típicamente reducen la concentración de impurezas
halogenadas indeseables particulares en (hidro)halocarbonos
se comportan como sigue:
Después del tratamiento, los niveles de
impurezas que contenían azufre se encontró que estaban por debajo
del límite de detección, tal como se determinó por el olfato.
300 g de R-134a se contactaron
con 25 g de carbono activado (grado 207C comprado a Sutcliffe
Speakman Carbons Limited), durante un período de 24 horas a
temperatura ambiente colocando tanto la R-134a como
el carbono activado en un contenedor. El carbono activado de grado
207C es un carbono de alta actividad en el cual más del 60% de la
proporción de la distribución del tamaño de poros está dentro del
intervalo de 2 a 20 \ring{A}.
Las figuras 4 y 5 son cromatogramas gaseosos
generados utilizando un cromatograma gaseoso Varian 3800 con
detección fotométrica de llama pulsante colocado en modo
"azufre". Por lo tanto, los cromatogramas gaseosos muestran
las impurezas orgánicas que contienen azufre presentes en la
R-134a.
La figura 4 muestra el cromatograma gaseoso de
la R-134a antes de contactar con el carbono
activado. La figura 5 muestra el cromatograma gaseoso de
R-134a después de contactar con el carbono activado.
La figura 5 muestra que todas las impurezas orgánicas que contenían
azufre (al menos dentro del límite de detección de la cromatografía
gaseosa) fueron eliminadas del R-134a después del
contacto con el carbono activado.
\vskip1.000000\baselineskip
US 6 274 782 A
US 4 906 796 A
US 5 288 930 A
WO 0 183 412 A.
Claims (25)
1. Un proceso para el tratamiento de una
composición que comprende uno o más (hidro)halocarbonos
deseados y una o más impurezas indeseables que contienen azufre
para reducir al menos una impureza indeseable que contiene azufre,
comprendiendo el proceso el contactar la composición con un
adsorbente que comprende un tamiz molecular ácido estable que tiene
un tamaño de poros de 2 a 10\ring{A} y/o un carbono activado.
2. Un proceso tal como se reivindica en la
reivindicación 1, en el que la composición a ser tratada comprende
uno o más compuestos orgánicos halogenados indeseables y el proceso
reduce la concentración de al menos una impureza indeseable que
contiene azufre y de al menos un compuesto orgánico halogenado
indeseable.
3. Un proceso tal como se reivindica en la
reivindicación 1 ó 2, en el que la composición a ser tratada
comprende al menos un (hidro)halocarbono deseado que tiene
una longitud de cadena de carbonos de uno a cuatro.
4. Un proceso tal como se reivindica en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, en el que la composición
a ser tratada comprende al menos un (hidro)halocarbono
deseado seleccionado entre alcanos halogenados, alquenos
halogenados y éteres halogenados.
5. Un proceso tal como se reivindica en la
reivindicación 3 ó 4, en el que la composición a ser tratada
comprende al menos un (hidro)halocarbono deseado
seleccionado entre hidrofluoroalcanos, hidroclorofluoroalcanos,
clorofluoroalcanos, perfluoroalcanos, percloroalquenos,
hidrocloroalquenos e (hidro)fluoroéteres.
6. Un proceso tal como se reivindica en la
reivindicación 5, en el que el hidrofluoroalcano es al menos uno de
1,1,1,2-tetrafluoroetano (R-134a),
1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropano
(R-227ea), 1,1-difluoroetano
(R-152a), 1,1,1-trifluoroetano
(R-143a), pentafluoroetano (R-125),
difluorometano (R-32),
1,1,1,3,3-pentafluoropropano
(R-245fa),
1,1,2,2,3-pentafluoropropano
(R-245ca),
1,1,1,3,3-pentafluorobutano
(R-365mfc) y hexafluorobutano
(R-356).
7. Un proceso tal como se reivindica en la
reivindicación 5, en el que el hidroclorofluoroalcano es al menos
uno de clorodifluorometano (R-22),
1,1-dicloro-1-fluoroetano
(R-141b),
1-cloro-1,1-difluoroetano
(R-142b),
1,1,1-trifluoro-2-cloroetano
(R-133a),
2,2-dicloro-1,1,1-trifluoroetano
(R-123),
2-cloro-1,1,1,2-tetrafluoroetano
(R-124) y dicloropentafluoropropano
(R-225).
8. Un proceso tal como se reivindica en la
reivindicación 5, en el que el clorofluoroalcano es al menos uno de
diclorodifluorometano (R-12),
1,2-dicloro-1,1,2,2-tetrafluoroetano
(R-114) y
1,1,1-tricloro-2,2,2-trifluoroetano
(R-113a).
9. Un proceso tal como se reivindica en la
reivindicación 5, en el que el perfluoroalcano es al menos uno de
perfluorometano (R-14), perfluoroetano
(R-116), perfluoropropano (R-218),
perfluorobutano, perfluorociclobutano, perfluoropentano y
perfluorohexano.
10. Un proceso tal como se reivindica en la
reivindicación 5, en el que el percloroalqueno es percloroeteno.
11. Un proceso tal como se reivindica en la
reivindicación 5, en el que el hidrocloroalqueno es al menos uno de
tricloroeteno y cloruro de vinilo.
12. Un proceso tal como se reivindica en la
reivindicación 5, en el que el hidrofluoroéter es al menos uno de
éter de 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropilo y
fluorometilo, éter de
1,1,1-trifluoro-2-cloroetilo
y difluorometilo, éter de 1,1,1,2-tetrafluoroetilo
y difluorometilo, éter de trifluorometilo y difluorometilo, y éter
de 1,1,1-trifluoroetilo y tetrafluoroetilo.
13. Un proceso tal como se reivindica en una
cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que una o más
impurezas indeseables que contienen azufre incluyen al menos uno de
sulfuro de hidrógeno, bisulfuro de carbono, sulfuro de carbonilo,
dióxido de azufre, trióxido de azufre, ácido sulfúrico,
dimetildisulfuro, etanoetiol y dietildisulfuro.
14. Un proceso tal como se reivindica en una
cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que uno o más
compuestos orgánicos halogenados indeseables incluyen al menos uno
de clorofluorometanos, difluoroetanos, tetrafluoroetanos,
clorodifluroetenos y clorofluoroetenos.
15. Un proceso tal como se reivindica en una
cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que el
adsorbente comprende un tamiz molecular ácido estable que tiene un
tamaño de poros de 3 a 5\ring{A}.
16. Un proceso tal como se reivindica en la
reivindicación 15, en el que el adsorbente comprende un tamiz
molecular ácido estable que tiene un tamaño de poros de 3 a
4\ring{A}.
17. Un proceso tal como se reivindica en una
cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que el
adsorbente comprende zeolita.
18. Un proceso tal como se reivindica en la
reivindicación 17, en el que el adsorbente comprende un tamiz
molecular AW-300.
19. Un proceso tal como se reivindica en una
cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que el
adsorbente comprende un carbono activado.
20. Un proceso tal como se reivindica en una
cualquiera de las reivindicaciones precedentes, que se lleva a cabo
en la fase líquida.
21. Un proceso tal como se reivindica en una
cualquiera de las reivindicaciones precedentes, que se lleva a cabo
a una temperatura de menos de 100ºC.
22. Un proceso tal como se reivindica en una
cualquiera de las reivindicaciones precedentes, que comprende
además la regeneración del adsorbente después de que éste haya sido
extraído de la composición de (hidro)halocarbonos.
23. El uso de un adsorbente que comprende un
tamiz molecular ácido estable que tiene un tamaño de poros de 2 a
10\ring{A} y/o un carbono activado para reducir la concentración
de al menos una impureza indeseable que contiene azufre en una
composición de (hidro)halocarbonos.
24. El uso, tal como se reivindica en la
reivindicación 23, para reducir la concentración de al menos una
impureza indeseable que contiene azufre y de al menos un compuesto
orgánico halogenado indeseable en la composición de
(hidro)halocarbonos.
25. El uso tal como se reivindica en la
reivindicación 23 ó 24, en el que la composición de
(hidro)halocarbonos comprende uno o más hidrofluoroalcanos
deseados seleccionados entre
1,1,1,2-tetrafluoroetano (R-134a),
1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropano
(R-227ea),
1,1,1,3,3-pentafluoropropano
(R-245fa) y
1,1,2,2,3-pentafluoropropano
(R-245ca).
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB0303972.4A GB0303972D0 (en) | 2003-02-20 | 2003-02-20 | Process |
GB0303972 | 2003-02-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2299821T3 true ES2299821T3 (es) | 2008-06-01 |
Family
ID=9953410
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES04712622T Expired - Lifetime ES2299821T3 (es) | 2003-02-20 | 2004-02-19 | Proceso para la purificacion de (hidro)halocarbonos. |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7829058B2 (es) |
EP (1) | EP1594827B1 (es) |
JP (1) | JP4880446B2 (es) |
KR (1) | KR101083376B1 (es) |
CN (1) | CN1329356C (es) |
AT (1) | ATE382592T1 (es) |
AU (1) | AU2004213223B2 (es) |
CA (1) | CA2514236C (es) |
DE (1) | DE602004011022T2 (es) |
ES (1) | ES2299821T3 (es) |
GB (1) | GB0303972D0 (es) |
WO (1) | WO2004074225A1 (es) |
Families Citing this family (14)
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GB0611742D0 (en) | 2006-06-14 | 2006-07-26 | Ineos Fluor Holdings Ltd | Desiccants for fluids |
JP5187212B2 (ja) * | 2009-02-03 | 2013-04-24 | セントラル硝子株式会社 | 1,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 |
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2004
- 2004-02-19 CN CNB2004800048217A patent/CN1329356C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2004-02-19 AT AT04712622T patent/ATE382592T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-02-19 AU AU2004213223A patent/AU2004213223B2/en not_active Ceased
- 2004-02-19 JP JP2006502297A patent/JP4880446B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2004-02-19 ES ES04712622T patent/ES2299821T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2004-02-19 US US10/546,336 patent/US7829058B2/en active Active
- 2004-02-19 EP EP04712622A patent/EP1594827B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-02-19 WO PCT/GB2004/000659 patent/WO2004074225A1/en active IP Right Grant
- 2004-02-19 DE DE602004011022T patent/DE602004011022T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2004-02-19 KR KR1020057015176A patent/KR101083376B1/ko active IP Right Grant
- 2004-02-19 CA CA2514236A patent/CA2514236C/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1594827B1 (en) | 2008-01-02 |
CN1751011A (zh) | 2006-03-22 |
JP2006518363A (ja) | 2006-08-10 |
KR101083376B1 (ko) | 2011-11-14 |
KR20050103227A (ko) | 2005-10-27 |
EP1594827A1 (en) | 2005-11-16 |
US20070015944A1 (en) | 2007-01-18 |
GB0303972D0 (en) | 2003-03-26 |
US7829058B2 (en) | 2010-11-09 |
WO2004074225A1 (en) | 2004-09-02 |
CN1329356C (zh) | 2007-08-01 |
CA2514236A1 (en) | 2004-09-02 |
CA2514236C (en) | 2011-10-11 |
ATE382592T1 (de) | 2008-01-15 |
DE602004011022D1 (de) | 2008-02-14 |
JP4880446B2 (ja) | 2012-02-22 |
AU2004213223A1 (en) | 2004-09-02 |
DE602004011022T2 (de) | 2009-01-02 |
AU2004213223B2 (en) | 2009-10-08 |
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