ES2291964T3 - Material aislante. - Google Patents
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Abstract
Material aislante que consta de una estructura (matriz) porosa inorgánica, que puede obtenerse por moldeo o por aplicación sobre un sustrato de una composición que contiene a) como ligante un sol que contiene nanopartículas y/o policondensados o productos previos de los mismos y b) un agente formador de poros sólido, y se reticula la composición formándose una estructura porosa y poros adicionales debidos al agente formador de poros.
Description
Material aislante.
La presente invención se refiere a un material
aislante de estructura porosa inorgánica, a un procedimiento para
su fabricación y a su utilización.
Los materiales aislantes inorgánicos tienen a
menudo el problema de adolecer de diversas deficiencias. Por
ejemplo, en el caso de materiales aislantes que pueden utilizarse en
un intervalo relativamente grande de temperaturas, la moldeabilidad
del material para obtener la geometría deseada suele ser un
problema, de modo que la fabricación es cara o se tiene que adaptar
a una geometría más sencilla. Por lo general, el efecto aislante es
claramente inferior al de las masas aislantes orgánicas típicas,
como la espuma de polímeros (p.ej. el Styropor®).
En algunos materiales aislantes del estado de la
técnica se utiliza entre otros el vidrio, p.ej. en forma de espumas
de vidrio. El vidrio ordinario se reblandece o funde por lo genera
entre 500 y 600ºC, como máximo a 700ºC, por lo cual los materiales
aislantes convencionales que contienen vidrio normalmente no pueden
rebasar este límite de temperatura. A ello hay que añadir que las
varillas de vidrio macizas son mucho menos aislantes que las
porosas. En general no es posible la mecanización ni el moldeo
ulterior, de modo que solamente son viables las geometrías simples.
Existe, pues, demanda de materiales aislantes económicos y muy
aislantes, que puedan utilizarse también a temperaturas
elevadas.
El objetivo de la presente invención consiste,
pues, en desarrollar materiales aislantes moldeables, que tengan
una gran estabilidad a la temperatura y posean al mismo tiempo un
gran efecto aislante y puedan utilizarse a temperaturas superiores
a 500ºC o incluso superiores a 700ºC. Los materiales aislantes y el
procedimiento empleando deberían ser baratos y permitir la
fabricación de geometrías complejas.
El objetivo de la invención ha podido alcanzarse
con un material aislante que consta de una estructura inorgánica
porosa, en la que se forman poros adicionales con un agente formador
de poros, que puede fabricarse de una composición que contiene un
ligante que forma la estructura porosa y de una carga de relleno que
forma los poros. El ligante consta de un sol que contiene
nanopartículas y/u otro compuesto previo inorgánico, eventualmente
modificado con compuestos orgánicos, que forma la estructura porosa.
El sol puede estabilizarse con los procedimientos habituales, p.ej.
ajustándolo a un potencial \zeta adecuado. Otra forma de
estabilizar el sol consiste en una modificación de la superficie de
sus partículas, p.ej. con uno o varios silanos de la fórmula
general:
(I)R_{n}SiX_{4-n}
en la que los grupos X son iguales
o distintos y significan grupos hidrolizables o grupos hidroxilo y
los restos R son iguales o distintos y significan alquilo,
alquenilo, alquinilo, arilo, aralquilo o alquilarilo y n es el
número 0, 1, 2 ó 3. Pueden utilizarse también otros modificadores
superficiales, en el supuesto de que tengan un anclaje suficiente
sobre la superficie de las nanopartículas, p.ej. las
\beta-dicetonas, los ácidos orgánicos, los
aminoácidos o las proteínas. Por otro lado pueden añadirse al
ligante otros componentes orgánicos, p.ej. oligómeros o similares,
para ajustar su reología a valores adecuados. Se ha constatado que
es ventajosa la adición de silanos del tipo SiX_{4} (X tiene el
significado recién definido) y de alcóxidos del tipo MX_{b}, en
el que b indica la valencia del átomo central y M puede tener el
significado definido a
continuación.
Para conseguir un efecto aislante excelente se
añade un sólido al ligante, que es capaz de generar otra estructura
porosa. Para ello puede recurrirse por ejemplo a microesferas de
vidrio huecas o a otras cargas de relleno que generan poros, p.ej.
las que se descomponen o volatilizan por calor y, de este modo,
generan poros, p.ej. sales que se volatilizan, como el NH_{4}Cl o
compuestos orgánicos en polvo, p.ej. serrín muy fino, la harina y
las esferillas de polímeros.
De modo sorprendente, la combinación del ligante
recién mencionado y la carga de relleno formadora de poros
constituye ahora una masa fácil de moldear, de colar, que
eventualmente puede reticular incluso a temperatura ambiente y que
eventualmente a temperatura elevada, por calcinación de los
componentes orgánicos, en el supuesto de que estén presentes, puede
transformarse en un material totalmente inorgánico.
Es idóneo tanto para recubrimientos como para
artículos moldeados. La estabilidad a la temperatura puede incluso
incrementarse con el uso de materiales refractarios. Los componentes
empleados son de por sí relativamente baratos y permiten el uso de
procedimientos simples y económicos de moldeo.
Por consiguiente, la presente invención
proporciona un material aislante, que consta de una estructura
(matriz) inorgánica, porosa, dicho material aislante puede
obtenerse formando una composición que contiene a) como ligante un
sol que contiene nanopartículas y/o policondensados o compuestos
previos de los mismos y b) un agente sólido formador de poros y se
aplica sobre un sustrato y se reticula la composición con formación
de la estructura porosa y de los poros adicionales generados por el
agente formador de poros. El sol del ligante es un sol que forma
una fase ligante inorgánica, sólida, porosa. Con el agente formador
de poros se generan poros adicionales dentro de la estructura
porosa, de ello resulta una estructura heteroporosa.
Los poros adicionales dentro de la estructura
pueden adaptarse para lograr las propiedades deseadas, p.ej. en lo
tocante al tamaño de los poros, mediante el proceso de la invención
de modo sencillo gracias a la elección de un agente formador de
poros adecuado y de la cantidad empleada. Los poros adicionales son
con preferencia macroporos, es decir, poros que tienen un diámetro
medio superior a 50 nm. Pero habitualmente el diámetro medio de los
poros será por lo menos de 300 nm y en especial por lo menos de 0,5
\mum. El material aislante de la invención presenta con
preferencia poros adicionales dentro de su estructura que tienen un
diámetro medio del orden de micras, es decir, de 1 \mum o más,
p.ej. entre 1 \mum y 1.000 \mum, con preferencia entre 1 \mum
y 500 \mum.
El diámetro de los poros se determina con
preferencia por porosimetría Hg. Otras posibilidades son p.ej. el
procedimiento BET y la microscopía electrónica. En función del
tamaño de los poros (p.ej. en el caso de los poros pequeños de la
estructura) pueden ser convenientes otros procedimientos de
medición. En el supuesto de que no sea adecuada la porosimetría Hg
podrán aplicarse los procedimientos descritos p.ej. en el manual
Ullamnns Encyklopädie der technischen Chemie, 4ª edición, tomo 5,
páginas 751 y 752. Se puede realizar un cálculo o determinación
indirecta de los poros adicionales a partir del diámetro interior
del cuerpo hueco o del diámetro medio de las partículas utilizadas
que se descomponen o se vaporizan por calor, en el supuesto de que
no haya variaciones durante la fabricación del material
aislante.
El diámetro medio de los poros de la estructura
porosa por lo general es menor que el diámetro medio de los poros
adicionales, es con preferencia mucho menor, p.ej. el diámetro medio
de los poros adicionales formados a partir del agente formador de
poros será p.ej. por lo menos 3 veces mayor, con preferencia por lo
menos 5 veces mayor que el diámetro medio de los poros de la
estructura porosa. Los poros de la estructura son por lo general
poros finos del intervalo submicrométrico (inferiores a 1 \mum).
Con arreglo a la nomenclatura de la IUPAC se trata de una
estructura micro-, meso- o macroporosa, situándose el diámetro medio
de los poros con preferencia por debajo de 200 nm, con preferencia
especial por debajo de 50 nm (mesoporosa) y con preferencia muy
especial por debajo de 2 nm (microporosa).
Además, si fuera necesario, el tamaño de los
poros de la estructura puede determinarse en una probeta fabricada
en las mismas condiciones, pero sin emplear ningún agente formador
de poros. Estos resultados pueden tomarse en consideración para
determinar el tamaño de los poroso adicionales, si fuera
necesario.
La proporción volumétrica entre la totalidad de
los poros (poros de la estructura + poros adicionales) y la
estructura del material aislante acabado se elige con preferencia de
manera que haya por lo menos un 10% en volumen de poros y por tanto
como máximo un 90% en volumen de estructura, en especial por lo
menos un 12% en volumen de poros y como máximo un 88% en volumen de
estructura y con preferencia especial por lo menos un 15% en
volumen de poros y como máximo un 85% en volumen de estructura. Un
límite máximo adecuado para la proporción volumétrica se sitúa en
como máximo un 95% en volumen de poros y como mínimo un 5% en
volumen de estructura. En el caso de existir cuerpos huecos, el
material que envuelve a la cavidad vacía o a las cavidades vacías
se cuenta como volumen de estructura. Por lo general, la porción
volumétrica aportada por los poros adicionales es mucho mayor que
la aportada por los poros de la estructura.
La composición utilizada según la invención
comprende un sol de nanopartículas y/o policondensados o productos
previos de estos últimos. Las nanopartículas son partículas de
sólidos inorgánicos de tamaño nanométrico. Son con preferencia
nanopartículas de metales, incluidas las aleaciones de metales,
compuestos metálicos, en especial chalcogenuros metálicos, con
preferencia especial óxidos y sulfuros, en esta caso los metales
pueden incluir también al B, Si y Ge. Se puede utilizar un tipo de
nanopartículas o una mezcla de nanopartículas.
Las nanopartículas pueden ser de cualquier
compuesto metálico. Son ejemplos de ello los óxidos (eventualmente
hidratados), tales como el ZnO, CdO, SiO_{2}, GeO_{2},
TiO_{2}, ZrO_{2}, CeO_{2}, SnO_{2}, Al_{2}O_{3} (en
especial la boehmita, AlO(OH), también en forma de hidróxido
de aluminio), B_{2}O_{3}, In_{2}O_{3}, La_{2}O_{3},
Fe_{2}O_{3}, Fe_{3}O_{4}, Cu_{2}O, Ta_{2}O_{5},
Nb_{2}O_{5}, V_{2}O_{5}, MoO_{3} o WO_{3}; otros
chalcogenuros, p.ej. sulfuros (p.ej. CdS, ZnS, PbS y Ag_{2}S),
selenuros (p.ej. GaSe, CdSe y ZnSe) y telururos (p.ej. ZnTe o
CdTe); halogenuros, p.ej. AgCl, AgBr, AgI, CuCl, CuBr, CdI_{2} y
PbI_{2}; carburos, p.ej. CdC_{2} o SiC; arseniuros, como el
AlAs, GaAs y GeAs; antimonuros como el InSb; nitruros, p.ej. BN,
AlN, Si_{3}N_{4} y Ti_{3}N_{4}; fosfuros, como el GaP, InP,
Zn_{3}P_{2} y Cd_{3}P_{2}; fosfatos, silicatos, circonatos,
aluminatos, estannatos y los correspondientes óxidos mixtos (p.ej.
óxido de indio y estaño (ITO), óxido de antimonio y estaño (ATO),
óxido de estaño dopado con flúor (FTO), pigmentos fluorescentes de
compuestos que contienen Y o Eu, espinelas, ferritas u óxidos mixtos
de estructura de Perowskita, como el BaTiO_{3} y el
PbTiO_{3}).
Las nanopartículas son con preferencia un óxido
o un óxido hidratado de Si, Ge, Al, B, Zn, Cd, Ti, Zr, Ce, Sn, In,
La, Fe, Cu, Ta, Nb, V, Mo o W, con preferencia especial de Si, Al,
B, Ti y Zr. Se utilizan con preferencia especial los óxidos o los
óxidos hidratados. Las partículas de sólidos inorgánicos
nanométricos preferidas son las de SiO_{2}, Al_{2}O_{3},
AlOOH, Ta_{2}O_{5}, ZrO_{2} y TiO_{2}, siendo preferido en
especial el SiO_{2}.
La fabricación de estas partículas nanométricas
puede realizar por el método habitual, p.ej. por pirólisis con
llama, procedimiento de plasma, técnicas coloidales, procesos de
tipo sol-gel, procesos controlados de crecimiento a
partir de partículas sembradas, procedimiento MOCVD y procedimientos
en emulsión.
Estos procedimientos se han descrito con detalle
en la bibliografía técnica. El procedimiento sol-gel
se describe a continuación.
Las nanopartículas pueden utilizarse en forma de
polvo o directamente en forma de dispersión en un agente
dispersante.
Son ejemplos de dispersiones comerciales el sol
de sílice acuoso de la empresa Bayer AG (productos Levasil®) así
como los organosoles coloidales de Nissan Chemicals
(IPA-ST, MA-ST,
MEK-ST, MIBK-ST). En forma polvo
cabe mencionar p.ej. los ácidos silícicos pirógenos de Degussa
(productos Aerosil).
Las nanopartículas poseen un diámetro medio de
partícula (volumétrico, medición: a ser posible por rayos X, en
caso contrario por dispersión dinámica de luz láser con un
analizador de partículas ultrafinas: Ultrafine Particle Analyzer
(UPA), Leeds Northrup) inferior a 1 \mum, por lo general inferior
a 500 nm. Las nanopartículas poseen con preferencia un tamaño medio
de partícula no superior a 200 nm, con preferencia especial no
superior a 100 nm y en particular no superior a 50 nm y superior a
1 nm y con preferencia superior a 2 nm, p.ej. de 1 a 20 nm.
Las nanopartículas están presentes en especial
en forma de un sol o de una suspensión, que se estabiliza por los
procedimientos habituales. La estabilización puede realizarse por
ejemplo por ajuste de la carga de la superficie de las partículas
y, por tanto, del potencial zeta de las partículas. El potencial
zeta puede ajustarse a un nivel apropiado p.ej. por variación del
pH o por modificación de la superficie de las partículas con grupos
cargados. Para ello pueden utilizarse p.ej. ácidos inorgánicos u
orgánicos. La estabilización de las nanopartículas puede realizarse
también por modificación de su superficie con otros compuestos o
grupos. La modificación de la superficie se explica a
continuación.
En una forma ventajosa de ejecución se emplea
como ligante un nanocompuesto de nanopartículas modificadas
superficialmente. El nanocompuesto de nanopartículas modificadas
superficialmente puede obtenerse por reacción de compuestos
hidrolizables o de compuestos orgánicos con grupos funcionales
adecuados con las nanopartículas. Los compuestos hidrolizables
pueden formar además eventualmente un policondensado, en el que se
hallan empotradas las nanopartículas modificadas
superficialmente.
La modificación de la superficie de las
partículas sólidas nanométricas es un procedimiento conocido, que
la empresa solicitan ya ha descrito p.ej. en WO 93/21127 (DE
4212633) o en WO 96/31572. La fabricación de las nanopartículas
modificadas superficialmente puede realizarse en principio por dos
métodos distintos, a saber, por un lado por la modificación de la
superficie de las nanopartículas ya fabricadas y por otro por
fabricación de estas nanopartículas empleando uno o más compuestos
que dispongan de los grupos funcionales correspondientes. Los dos
métodos se describen con detalle en las solicitudes de patente
recién mencionadas.
Como agente de modificación superficial, en
especial para la modificación superficial de nanopartículas ya
existentes, son idóneos p.ej. los ácidos orgánicos o los compuestos
orgánicos con otros grupos funcionales o silanos hidrolizables que
posean por lo menos un grupo no hidrolizable, que reaccionan y/o
(por lo menos) interaccionan con los grupos existentes en la
superficie de las partículas sólidas, de modo que se consigue un
robustez de anclaje suficiente. Por ejemplo, en las nanopartículas
p.ej. de óxidos metálicos existen como grupos superficiales grupos
reactivos en forma de valencias residuales, por ejemplo grupos
hidroxi o grupos oxi. Otra forma de la modificación superficial
recurre como proceso de anclaje a compuestos complejos, a
interacciones polares o a uniones iónicas.
La modificación superficial de las partículas
nanométricas puede realizarse p.ej. por mezclado de las partículas
nanométricas con los agentes de modificación superficial idóneos que
se indican a continuación, eventualmente en un disolvente y en
presencia de un catalizador. En el caso de los silanos basta con un
agente modificador de la superficie, p.ej. a menudo por agitación
de varias horas con las partículas nanométricas a temperatura
ambiente para conseguir dicha modificación. Como es obvio, las
condiciones oportunas, tales como la temperatura, las proporciones
ponderales, la duración de la reacción, etc. dependerán de los
reactivos especiales en cuestión y del grado de ocupación
superficial deseado.
Los agentes de modificación superficial pueden
formar enlaces p.ej. covalentes, iónicos (de tipo sal) o de
coordinación con la superficie de las partículas sólidas
nanométricas, mientras que en el caso de interacciones a secas cabe
mencionar por ejemplo las interacciones
dipolo-dipolo, los enlaces de puente de hidrógeno y
las interacciones de van der Waals. Es preferida la formación de
enlaces covalentes, iónicos y/o de coordinación. Se entiende por
enlace de coordinación la formación de un complejo. Entre el agente
de modificación superficial y la partícula puede tener lugar p.ej.
una reacción ácido-base según Brönsted o Lewis, la
formación de un complejo o una esterificación.
Según la invención es preferido además que los
agentes de modificación de la superficie tengan un peso molecular
relativamente bajo. Por ejemplo, el peso molecular puede ser
inferior a 1.500, en especial inferior a 1.000 y situarse con
preferencia por debajo de 500 o debajo de 400 o incluso debajo de
300. Esto no excluye, obviamente, un peso molecular sustancialmente
mayor de los compuestos (p.ej. hasta 2.000 o incluso mayor).
Los ejemplos de grupos funcionales idóneos del
agente modificador de la superficie para el anclaje sobre las
nanopartículas son los grupos ácido carboxílico, los grupos
anhídrido, los grupos amida de ácido, los grupos amino (primarios,
secundarios, terciarios y cuaternarios), los grupos SiOH, los restos
hidrolizables de silanos (el grupo SiX que se describe a
continuación en la fórmula (I)), y los grupos
-C-H-ácido, p.ej. los compuestos
\beta-dicarbonilo. En una molécula pueden existir
incluso varios grupos de este tipo al mismo tiempo (betaínas,
aminoácidos, EDTA, etc.).
Son ejemplos de compuestos que pueden utilizarse
para la modificación superficial los ácidos mono- o policarboxílicos
(con preferencia los ácidos monocarboxílicos), saturados o
insaturados, eventualmente sustituidos (p.ej. con hidroxi), de 1 a
24 átomos de carbono (p.ej. el ácido fórmico, ácido acético, ácido
propiónico, ácido butírico, ácido pentanoico, ácido hexanoico,
ácido acrílico, ácido metacrílico, ácido crotónico, ácido cítrico,
ácido adípico, ácido succínico, ácido glutárico, ácido oxálico,
ácido maleico y ácido fumárico) y los ácidos monocarboxílicos de 1
a 24 átomos de carbono con enlaces éter (p.ej. ácido
metoxi-acético, ácido dioxaheptanoico y ácido
3,6,9-trioxadecanoico) así como sus anhídridos, los
ésteres (con preferencia los ésteres de alquilo
C_{1}-C_{4}) y las amidas, p.ej. el metacrilato
de metilo.
Son también apropiados los compuestos amínicos,
por ejemplo las sales amónicas y las mono- o
poli-aminas. Son ejemplos de estos modificadores de
superficie las sales de amonio cuaternario de la fórmula
NR^{1}R^{2}R^{3}R^{4+}X^{-}, en la que de R^{1} a
R^{4} son grupos alifáticos, aromáticos o cicloalifáticos
eventualmente diferentes entre sí, con preferencia de 1 a 12 átomos
de carbono, en especial de 1 a 8, p.ej. grupos alquilo de 1 a 12
átomos de carbono, en especial de 1 a 8 y con preferencia especial
de 1 a 6 (p.ej. metilo, etilo, n- e i-propilo,
butilo o hexilo) y X^{-} significa un anión orgánico o inorgánico,
p.ej. acetato, OH^{-}, Cl^{-}, Br^{-} o I^{-}; mono- y
poliaminas, en especial las de la fórmula general
R_{3-n}NH_{n}, en la que n es el número 0, 1 ó
2 y los restos R con independencia entre sí con grupos alquilo de 1
a 12 átomos de carbono, en especial de 1 a 8 y con preferencia
particular de 1 a 6 y las etilenopoliaminas (p.ej. la etilendiamina,
dietilentriamina, etc.). Otros ejemplos son los aminoácidos; las
iminas; los compuestos \beta-dicarbonilo de 4 a
12 átomos de carbono, en especial de 5 a 8, p.ej. la acetilacetona,
la 2,4-hexanodiona, la
3,5-heptanodiona, el ácido acetoacético y el
acetoacetato de alquilo C_{1}-C_{4}, por ejemplo
el acetoacetato de etilo; y los silanos hidrolizables, p.ej. los
silanos hidrolizables que tienen por lo menos un grupo hidrolizable,
p.ej. los silanos de las fórmulas generales (I) y (II).
Para la modificación de la superficie de las
nanopartículas pueden utilizarse también silanos hidrolizables y/u
organosilanos u oligómeros de los mismos, siendo especialmente
preferido un silano que tenga por lo menos un grupo no
hidrolizable. Esta modificación superficial con silanos
hidrolizables es especialmente preferida en el caso de
nanopartículas de SiO_{2}. El nanocompuesto que contiene
nanopartículas puede fabricarse, por tanto, con preferencia por
reacción de las nanopartículas con uno o más silanos de la fórmula
general:
(I)R_{n}SiX_{(4-n)}
en la que los restos X son iguales
o distintos y significan grupos hidrolizables o grupos hidroxi, los
restos R son iguales o diferentes y significan grupos no
hidrolizables y n es el número 0, 1, 2 ó 3, o con un oligómero
derivado de los mismos; para un silano n es con preferencia mayor
que
0.
En la fórmula general (I), los grupos
hidrolizables X, que pueden ser iguales o distintos entre sí, son
por ejemplo hidrógeno o halógeno (F, Cl, Br o I), alcoxi (con
preferencia alcoxi C_{1-6}, p.ej. metoxi, etoxi,
n-propoxi, i-propoxi y butoxi),
ariloxi (con preferencia ariloxi C_{6-10}, p.ej.
fenoxi), aciloxi (con preferencia aciloxi
C_{1-6}, p.ej. acetoxi o propioniloxi),
alquilcarbonilo (con preferencia alquilcarbonilo
C_{2-7}, p.ej. acetilo), amino, monoalquilamino o
dialquilamino con preferencia de 1 a 12 átomos de carbono, en
especial de 1 a 6. Los restos hidrolizables preferidos son los
halógenos, los grupos alcoxi y los grupos aciloxi. Los restos
hidrolizables especialmente preferidos son los grupos alcoxi
C_{1-4}, en especial el metoxi y el etoxi.
Los restos no hidrolizables R, que pueden ser
iguales o distintos entre sí, pueden ser resto no hidrolizables R
con un grupo funcional, a través del cual puede ser posible p.ej.
una reticulación, o resto no hidrolizables R sin ningún grupo
funcional. El resto no hidrolizable R sin grupo funcional es por
ejemplo el alquilo (con preferencia alquilo
C_{1-8}, por ejemplo metilo, etilo,
n-propilo, isopropilo, n-butilo,
s-butilo y tert-butilo, pentilo,
hexilo, octilo o ciclohexilo), alquenilo, alquinilo, arilo (con
preferencia arilo C_{6-10}, p.ej. fenilo y
naftilo) así como los correspondientes alquilarilo y arilalquilos.
Los restos R y X pueden tener uno o más sustituyentes habituales,
p.ej. halógeno o alcoxi.
Los ejemplos especiales de grupos funcionales
son los grupos epóxido, hidroxi, éter, amino, monoalquilamino,
dialquilamino, anilino eventualmente sustituido, amida, carboxi,
acrilo, acriloxi, metacrilo, metacriloxi, mercapto, ciano, alcoxi,
isocianato, aldehído, alquilcarbonilo, anhídrido de ácido y ácido
fosfórico. Estos grupos funcionales están unidos con el átomo de
silicio mediante grupos puente alquileno, alquenileno o arileno,
que pueden estar interrumpidos por grupos oxígeno o -NH-. Los grupos
puente mencionados y eventualmente los sustituyentes existentes,
como en el caso de los grupos alquilamino, se derivan p.ej. de los
restos alquilo, alquenilo o arilo mencionados antes o a
continuación. Obviamente, el grupo R puede tener también más de un
grupo funcional.
Los ejemplos concretos de restos R no
hidrolizables con grupos funcionales, que permiten una reticulación,
son el resto glicidil- o glicidiloxi-alquileno
C_{1-20}, p.ej. el
\beta-glicidiloxietilo,
\gamma-glicidiloxipropilo,
\delta-glicidiloxibutilo,
\varepsilon-glicidiloxipentilo,
\omega-glicidiloxihexilo y el
2-(3,4-epoxiciclohexil)etilo, un resto
(met)acriloxi-alquileno
C_{1-6}, en el que el alquileno
C_{1-6} es p.ej. un metileno, etileno, propileno
o butileno, y un resto 3-isocianatopropilo.
Con preferencia especial, la modificación de la
superficie de las nanopartículas se realiza con uno o más silanos
de la fórmula:
(I)R_{n}SiX_{(4-n)}
en la que los restos X son iguales
o distintos y significan grupos hidrolizables o grupos hidroxi, los
restos R son iguales o distintos y significan resto no
hidrolizables que se eligen entre alquilo, alquenilo, alquinilo,
arilo, aralquilo y alquilarilo, y n es el número 0, 1, 2 ó 3, siendo
preferido por lo menos para un silano que n sea el número 1, 2 ó 3,
o un oligómero derivado de los
mismos.
El resto no hidrolizable R es alquilo (con
preferencia alquilo C_{1-8}, tal como metilo,
etilo, n-propilo, isopropilo,
n-butilo, sec-butilo y
tert-butilo, pentilo, hexilo, octilo o ciclohexilo),
alquenilo (con preferencia alquenilo C_{2-6},
p.ej. vinilo, 1-propenilo,
2-propenilo y butenilo), alquinilo (con preferencia
alquinilo C_{2-6}, p.ej. acetilenilo y
propargilo), arilo (con preferencia arilo
C_{6-10}, p.ej. fenilo y naftilo) así como
alquilarilo y aralquilo (que se derivan con preferencia de los
grupos alquilo y arilo recién mencionados, p. ej. bencilo,
feniletilo, tolilo y etilfenilo). Los restos R y X pueden tener
opcionalmente uno o más sustituyentes habituales, p.ej. halógeno o
alcoxi. Los restos R preferidos son el alquilo, alquenilo y
alquinilo de 1 a 4 átomos de carbono y arilo, aralquilo y
alquilarilo de 6 a 10 átomos de
carbono.
carbono.
Son ejemplos preferidos los
alquiltrialcoxisilanos, tales como el
metiltri(m)etoxisilano, dialquiidialcoxisilano,
ariltrialcoxisilanos, como el feniltri(m)etoxisilano,
y diarildialcoxi-silanos, como el
difenildi(m)etoxisilano, en los que alquilo es
alquilo C_{1-4} y alcoxi es metoxi o etoxi. Son
compuestos preferidos el metiltrietoxisilano (MTEOS), el
etiltrietoxisilano, el feniltrietoxisilano (PTEOS), el
dimetildimetoxisilano y el dimetildietoxisilano.
En una forma especialmente preferida de
ejecución, la modificación de la superficie se realiza por lo menos
con un silano de la fórmula R_{n}SiX_{4-n} (I),
en la que n es el número 1 ó 2 y por lo menos un silano de la
fórmula SiX_{4} (II), en la que X tiene el significado definido
para la fórmula (I).
Son ejemplos de silanos de la fórmula (II) el
Si(OCH_{3})_{4},
Si(OC_{2}H_{5})_{4},
Si(O-n- o
-i-C_{3}H_{7})_{4},
Si(OC_{4}H_{9})_{4}, SiCl_{4}, HSiCl_{3},
Si(OOCCH_{3})_{4}. Entre estos silanos son
preferidos los tetraalcoxisilanos, siendo especialmente preferidos
los que llevan alcoxi C_{1-4}. Son preferidos en
especial el tetrametoxisilano y el tetraetoxisilano (TEOS), el más
preferido es el TEOS.
La modificación de la superficie se realiza con
preferencia con tetralcoxisilano y por lo menos un silano elegido
entre alquiltrialcoxisilanos, dialquiidialcoxisilanos,
ariltrialcoxisilanos y diarildialcoxisilanos, siendo preferidas en
especial las mezclas de metiltrietoxisilano (MTEOS) y TEOS. Cuando
se reemplaza una parte del MTEOS por dimetildietoxisilano, se
obtienen después de la reticulación productos más flexibles, lo cual
puede ser ventajoso. Puede utilizarse p.ej. solamente el MTEOS.
En las formas preferidas de ejecución se
utilizan nanopartículas, de modo que el sistema más preferido consta
de una mezcla de MTEOS y TEOS como materiales de partida para la
modificación superficial y eventualmente formación de condensado y
de SiO_{2} como partículas sólidas nanométricas. En el caso de
nanopartículas de distintas de SiO_{2}, a menudo pueden
utilizarse también con preferencia compuestos únicamente orgánicos
para la modificación de la superficie.
En lugar de o además de nanopartículas, la
composición puede contener policondensados o productos previos de
los mismos como sol ligante. Los policondensados pueden obtenerse
por hidrólisis y reacciones de condensación de compuestos
hidrolizables. A medida que progresa la condensación aumenta el
grado de condensación, obteniéndose como producto final una
estructura porosa. Se entiende por productos previos de
policondensados los compuestos hidrolizables, los productos de
hidrólisis y los productos de condensación de un grado de
condensación más bajo. Los soles que contienen estos
policondensados o productos previos se obtienen con preferencia por
el procedimiento llamado sol-gel, que se describe a
continuación.
En una forma preferida de ejecución se utilizan
policondensados o productos previos de los mismos, que se hallan
empotrados dentro de las nanopartículas modificadas superficialmente
o no modificadas. En una forma preferida de ejecución, la
composición contiene un nanocompuesto que puede obtenerse por
hidrólisis y condensación de compuestos hidrolizables en presencia
nanopartículas, con preferencia por el procedimiento llamado
sol-gel, en tal caso en función de la cantidad
utilizada de compuestos hidrolizables además de la modificación de
la superficie se forman también policondensados o productos previos
de los mismos.
En el procedimiento sol-gel se
hidrolizan por lo general compuestos hidrolizables con agua,
eventualmente con catálisis ácida o básica y opcionalmente se
condensan parcialmente. Las reacciones de hidrólisis y/o
condensación conducen a la formación de policondensados o productos
previos de los mismos, p.ej. grupos hidroxi, oxo y/o puentes oxo.
Pueden utilizarse cantidades estequiométricas de agua, pero también
cantidades ligeramente menores o mayores. El sol que se forma puede
ajustarse a la viscosidad deseada de la composición mediante los
parámetros idóneos, p.ej. grado de condensación, disolventes o pH.
Más detalles sobre el proceso sol-gel se encontrarán
p.ej. en C.J. Brinker, G.W. Scherer: "Sol-Gel
Science - The Physics and Chemistry of
Sol-Gel-Processing", Academic
Press, Boston, San Diego, Nueva York, Sydney, (1990). La reacción
puede realizarse en presencia de un disolvente orgánico, con
preferencia de un alcohol. El alcohol puede formarse también durante
la reacción, en caso de utilizarse alcóxidos como materiales de
partida.
En el procedimiento sol-gel
pueden obtenerse soles que contienen nanopartículas o soles que
contienen policondensados. Por ej. una hidrólisis con catálisis
ácida de compuestos hidrolizables de silicio puede conducir a soles,
que contiene policondensados pero no nanopartículas ("polymerized
sol"), mientras que una catálisis básica puede conducir a soles
que contengan nanopartículas ("colloid sol").
Para la fabricación de policondensados o de
productos previos de los mismos se utilizan compuestos hidrolizables
de elementos empleados en vidrio o cerámica o de metales M, en
especial elementos de los grupos principales de III a V y/o de los
grupos secundarios de II a V del Sistema Periódico de los Elementos
y Mg. Se trata con preferencia de los elementos Si, Al, B, Sn, Ti,
Zr, Mg, V o Zn, en especial de Si, Al, Ti, Zr o Mg o mezclas de dos
o más de dichos elementos. Obviamente pueden incorporarse también
otros elementos M formadores de vidrio o de cerámica, en especial
los elementos de los grupos principales I y II del Sistema Periódico
(p.ej. Na, K y Ca) y de los grupos secundarios de VI a VIII del
Sistema Periódico (p.ej. Mn, Cr, Fe y Ni). Pueden utilizarse también
lantánidos.
Los compuestos hidrolizables que pueden
emplearse tienen en especial la fórmula general MX_{b}, en la que
M significa el elemento M formador de vidrio o de cerámica ya
mencionado, X es un grupo hidrolizable o hidroxi, dos grupos X
pueden sustituirse por un grupo oxo, y b es la valencia del elemento
y por lo general es el número 3 ó 4. Son ejemplos de grupos
hidrolizables X, que pueden ser iguales o diferentes entre sí, el
hidrógeno, halógeno (F, Cl, Br o I, en especial Cl o Br), alcoxi
(p.ej. alcoxi C_{1-6}, p.ej. metoxi, etoxi,
n-propoxi, i-propoxi y n-, i-, sec-
o tert-butoxi), ariloxi (con preferencia ariloxi
C_{6-10}, fenoxi), alcariloxi, p.ej. benzoiloxi,
aciloxi (p.ej. aciloxi C_{1-6}, con preferencia
aciloxi C_{1-4}, p.ej. acetoxi o propioniloxi),
amino y alquilcarbonilo (p.ej. alquilcarbonilo
C_{2-7}, p.ej. acetilo). Dos o tres grupos X
pueden unirse entre sí, p.ej. en complejos de
Si-poliol con glicol, glicerina o pirocatequina. Los
grupos mencionados pueden contener además sustituyentes, tales como
halógeno o alcoxi. Los restos hidrolizables X preferidos son
halógeno, grupos alcoxi y grupos aciloxi.
Los compuestos hidrolizables preferidos son
compuestos de silicio. Son ejemplos concretos los silanos ya
mencionados de la fórmula (II). Los compuestos hidrolizables pueden
llevar también sustituyentes no hidrolizables. En este caso pueden
formarse policondensados inorgánicos modificados orgánicamente o
compuestos previos de los mismos. Son ejemplos de tales compuestos
hidrolizables con sustituyentes no hidrolizables los silanos de la
fórmula (I), en la que n es mayor que 0. Para los policondensados
pueden utilizarse también mezclas de compuestos hidrolizables con o
sin sustituyentes no hidrolizables. En especial cuando se pretende
fabricar materiales refractarios puede ser preferido utilizar por
lo menos una parte de compuestos hidrolizables p.ej. de Al, Zr y/o
Ti como componente refractario.
Son ejemplos de compuesto de titanio de la
fórmula TX_{4} el TiCl_{4}, Ti(OCH_{3})_{4},
Ti(OC_{2}H_{5})_{4},
Ti(2-etilhexoxi)_{4},
Ti(n-OC_{3}H_{7})_{4} o
Ti(i-OC_{3}H_{7})_{4}. Otros
ejemplos de compuestos hidrolizables utilizables de los elementos M
son el Al(OCH_{3})_{3},
Al(OC_{2}H_{5})_{3},
Al(O-n-C_{3}H_{7})_{3},
Al(O-i-C_{3}H_{7})_{3},
Al(O-n-C_{4}H_{9})_{3},
Al(O-sec-C_{4}H_{9})_{3},
AlCl_{3}, AlCl(OH)_{2},
Al(OC_{2}H_{4}OC_{4}H_{9})_{3}, ZrCl_{4},
Zr(OC_{2}H_{5})_{4},
Zr(O-n-C_{3}H_{7})_{4},
Zr(O-i-C_{3}H_{7})_{4},
Zr(OC_{4}H_{9})_{4}, ZrOCl_{2},
Zr(2-etilhexoxi)_{4} así como los
compuestos de Zr, que llevan restos complejantes, p.ej. los restos
\beta-dicetona y (met)acrilo, metilato
sódico, acetato potásico, ácido bórico, BCl_{3},
B(OCH_{3})_{3},
B(OC_{2}H_{5})_{3}, SnCl_{4},
Sn(OCH_{3})_{4},
Sn(OC_{2}H_{5})_{4}, VOCl_{3} y
VO(OCH_{3})_{3}.
En las formas preferidas de ejecución, en las
que se emplean silanos hidrolizables de la fórmula (I) con grupos
no hidrolizables y compuestos de partida hidrolizables sin grupos no
hidrolizables, por lo menos el 10% molar de todos los compuestos
hidrolizables empleados poseen también grupos no hidrolizables. Con
preferencia por lo menos el 50% molar y con mayor preferencia por
lo menos el 60% molar de los compuestos hidrolizables utilizados
contienen por lo menos un grupo no hidrolizable. La relación
ponderal entre los compuestos hidrolizables sin grupos no
hidrolizables y los compuestos hidrolizables que tienen por lo menos
un grupo no hidrolizable se sitúa p.ej. con preferencia entre el 5
y el 50% molar y el 50 y el 95% molar
(5-50:50-95) y con preferencia
entre 1:1 y 1:6 y con mayor preferencia entre 1:3 y 1:5, p.ej. en
1:4. Pueden utilizarse también como material de partida oligómeros
parcialmente reaccionados, los datos de cantidad se refieren siempre
a los componentes monómeros de partida.
Cuando se emplean compuestos hidrolizables para
la fabricación de policondensados y nanopartículas, la proporción
entre los compuestos hidrolizables y las nanopartículas se elige con
preferencia de modo que la relación atómica de los elementos
formadores de vidrio o de cerámica (elemento M como elemento central
de los compuestos hidrolizables, ya definidos anteriormente) de los
compuestos hidrolizables y los átomos metálicos (incluidos el Si, B,
Ge, ya definidos antes) de las nanopartículas se sitúa en el
intervalo comprendido entre 5:1 y 1:2, en especial entre 3:1 y
1:1.
Una estructura (matriz) formada principalmente
por SiO_{2} es estable hasta 1.200ºC (punto de reblandecimiento
del SiO_{2}). En una forma preferida de ejecución, a composición
puede contener también componentes refractarios. De este modo es
posible fabricar materiales aislantes muy resistentes a temperaturas
elevadas. Con la adición de un componente refractario pueden
formarse estructuras que tengan un punto de reblandecimiento
superior a 1.200ºC, con preferencia superior a 1.300ºC y con
preferencia especial superior a 1400ºC.
Se entiendes aquí por componentes refractarios
aquellos componentes que pueden mejorar la estabilidad al calor,
p.ej. en el caso de una estructura formada únicamente por SiO_{2}.
Con la adición del componente refractario se logra con preferencia
que el material tenga un punto de reblandecimiento superior a
1.200ºC.
Con la adición de un componente de Al como
componente refractario p.ej. junto con un componente Si puede
formarse la mullita, un óxido de aluminio y silicio, que tiene una
resistencia a la temperatura que supera ampliamente los 1.600ºC.
Con un componente Zr puede formarse un silicato de circonio, que
también es una composición refractaria. Como material refractario
puede emplearse también el rutilo. Son ejemplos de elementos que
pueden incorporarse al componente refractaria el Al, Zr, Ti, Mg y
Ca. En casos especiales puede ocurrir que baste con una cantidad
relativamente pequeña de componente refractario en una estructura de
SiO_{2} para conseguir un aumento de la resistencia a la
temperatura. Los expertos en la materia están ya familiarizados con
los componentes refractarios idóneos y las proporciones ponderales
necesarias.
El componente refractario adicional, que no
contiene Si, puede incorporarse a la composición de la estructura
mediante la adición de las nanopartículas correspondientes y/o
compuestos hidrolizables o de los policondensados obtenidos a
partir de ellos o de los compuestos previos de los mismos. Pueden
utilizarse las nanopartículas y los compuestos hidrolizables o
policondensados o sus compuestos previos, que se han mencionado
anteriormente a título de ejemplos con ocasión de la fabricación
del ligante o del nanocompuesto, en el supuesto de que quiera
conseguirse una mejora de la resistencia a la temperatura.
Los ejemplos preferidos de componentes
refractarios en forma de nanopartículas son el óxido de titanio, el
óxido de circonio o el óxido de aluminio, que pueden estar
eventualmente hidratados. Se utilizan con preferencia en forma de
sol. Estas nanopartículas pueden utilizarse junto con o en lugar de
las partículas de SiO_{2}, en cuyo caso se prefiere por lo
general que por lo menos una parte del conjunto de nanopartículas
utilizadas sean de SiO_{2}. Son ejemplos de compuestos
hidrolizables empleables como componente refractario los compuestos
hidrolizables ya mencionados de Al, Zr y Ti o los policondensados de
los mismos o los policondensados mixtos con otros compuestos
hidrolizables, p.ej. compuestos de Si, o sus compuestos previos.
Con la composición empleada según la invención,
en especial en el caso de la presencia de un componente refractario
adicional, es también posible de modo sorprendente utilizar cuerpos
huecos para la formación de poros, que de por sí no tendrían una
estabilidad térmica suficiente para el intervalo de temperaturas
previsto, en el que tiene que utilizarse
el material aislante. Este efecto sorprendente se ilustra a continuación el ejemplo de las esferillas de vidrio huecas.
el material aislante. Este efecto sorprendente se ilustra a continuación el ejemplo de las esferillas de vidrio huecas.
Las composiciones habituales de vidrio son
estables por lo general hasta 500 ó 600ºC, en casos excepcionales
hasta 700ºC. Cuando se utilizan esferillas huecas de vidrio para
formar los poros (ver explicaciones que siguen), si la composición
contiene dichas esferillas huecas de vidrio, el artículo hueco que
se forma con ella puede conservar su forman a temperaturas
elevadas, incluso después de se haya reblandecido el vidrio, cuando
se ha procurado que el ligante, con preferencia del ligante
nanocompuesto, haya formado una fase continua, en la que se hayan
integradas las esferillas de vidrio. Ni la fusión de las esferillas
no perjudicaría la forma, de modo que con este sistema el artículo
moldeado de la invención posee una estabilidad a la temperatura
mayor que la que permiten alcanzar p.ej. las esferillas de vidrio
sinterizadas o las espumas de vidrio.
En caso de reparto desigual o de un sistema de
esferillas de vidrio macizas, la estabilidad a la temperatura del
artículo moldeado queda limitada a la estabilidad a la temperatura
del vidrio. Sin embargo, con el material aislante de la invención
de una estructura del ligante, que es sólida en estado reticulado,
se consigue obtener una estructura de artículo moldeado que posee
una estabilidad claramente superior a la temperatura de las
esferillas de vidrio huecas. De este modo se consigue un artículo
moldeado aislante de una estabilidad a la temperatura netamente
superior a la estabilidad a la temperatura de los componentes que
tienen efecto aislante (p.ej. el vidrio). Según el procedimiento de
la invención pueden formarse además poros incluso sin el uso de
esferillas huecas de vidrio, de modo que pueden evitarse los
inconvenientes que eventualmente pudieran resultar el vidrio y se
dispone de un método alternativo para la fabricación de
materiales.
Como disolvente que puede utilizarse para la
composición se toman en consideración tanto el agua como los
disolventes orgánicos o mezclas de los mismos. Se trata en este caso
de los disolventes habituales, que se emplean en el ámbito de los
recubrimientos o de los artículos moldeados. Son ejemplos de
disolventes orgánicos idóneos los alcoholes, con preferencia los
alcoholes alifáticos inferiores (alcoholes
C_{1}-C_{8}), por ejemplo el metanol, etanol,
1-propanol, i-propanol y
1-butanol, las cetonas, con preferencia las
dialquilcetonas inferiores, por ejemplo la acetona y la
metilisobutilcetona, los éteres, con preferencia los éteres de
dialquilo inferior, como el éter de dietilo o los monoéteres de
dioles, las amidas, por ejemplo la dimetilformamida, el
tetrahidrofurano, el dioxano, los sulfóxidos, las sulfonas o el
butilglicol y sus mezclas. Se utilizan con preferencia los
alcoholes. Pueden emplearse también disolventes de alto punto de
ebullición. En el procedimiento sol-gel, el
disolvente puede ser también un alcohol formado por hidrólisis a
partir de compuestos alcoholato.
En una forma preferida de ejecución, la
composición que forma la estructura (matriz), es decir, la
composición que contiene las nanopartículas y/o los policondensados
o los compuestos previos de los mismos o los nanocompuestos
(ligantes), pero ningún otro componente, de los que se emplean para
formar poros, tiene un contenido de sólidos del 30 al 60% en peso.
Variando el contenido de sólidos y tomando en consideración el tipo
y la cantidad del material formador de poros adicional puede
ajustarse la consistencia de la composición con vistas a su
transformación.
Para la formación de poros adicionales, la
composición contienen uno o más agentes formadores de poros sólidos,
con ellos se formarán poros adicionales que junto con los poros
propios de la estructura formarán una estructura heteroporosa de
poros de diferentes tamaños medios. La formación de poros
adicionales en el material aislante puede realizarse por adición de
cuerpos huecos a la composición que contiene el ligante. Estas
partículas sólidas huecas pueden tener cualquier forma, pero por lo
general serán cuerpos huecos esféricos. El forro de los cuerpos
huecos podrá elegirse de cualquier material. Son ejemplos de ello el
vidrio, la cerámica o el plástico, tales como las esferillas huecas
de vidrio, las esferillas huecas de corindón o las esferillas
huecas de plástico, siendo preferidas las esferillas huecas de
vidrio y en especial las microesferillas huecas de vidrio. Estos
cuerpos huecos son productos comerciales.
En este caso, los poros se forman por la cavidad
vacía del cuerpo hueco, de modo que el diámetro interior promedio
de los cuerpos huecos corresponde por lo general al diámetro medio
de los poros formados, en el supuesto de que no haya habido
variaciones debidas p.ej. a la destrucción parcial de algunos
cuerpos huecos de una determinada fracción de tamaño.
El número de poros resultantes dependerá
naturalmente de la fracción porcentual de los cuerpos huecos
empleados en relación a la cantidad de ligante. Teniendo en cuenta
lo dicho antes, los expertos podrán determinar sin más el tipo y el
tamaño de los cuerpos huecos y de la cantidad añadida en función de
la porción de poros deseada dentro de la estructura y del diámetro
medio deseado de los poros. Naturalmente podrán utilizarse también
cuerpos huecos de diversos tamaños, con el fin de formar poros de
diferentes tamaños.
Aunque las esferillas metálicas huecas pueden
utilizarse también en principio, en realidad confieren una
conductividad térmica elevada, un mayor peso y, debido a las
diferencias de coeficiente de dilatación térmica, pueden generar
tensiones en el material aislante. Con la disolución total de la
estructura metálica de dichas esferillas huecas y la incorporación
del metal en la estructura del ligante, p.ej. por oxidación del
aluminio en caso de emplear esferillas huecas de Al, el uso de
esferillas metálicas huecas podría ser conveniente y en el caso del
óxido de aluminio formado podría conseguir incluso un componente
refractario.
Empleando esferillas huecas de vidrio se
consigue una proporción ventajosa entre la estructura y las
esferillas huecas de vidrio p.ej. haciendo que la estructura
constituye del 1 al 20% en peso de la capa final o del artículo
moldeado final.
Como alternativa, los poros adicionales pueden
generarse por adición de partículas, que se descompongan o se
evaporen por acción del calor, a la composición y someterla a un
tratamiento térmico ulterior para descomponer y/o evaporar dichas
partículas. Se entiende por partículas que pueden descomponerse por
acción del calor aquellas que se descomponen a la temperatura
aplicada para el tratamiento térmico y se transforman por lo menos
en su mayor parte y con preferencia en su totalidad en componentes
volátiles, sublimables o evaporables.
Para ello puede ser especialmente preferido el
uso de partículas que se descompongan o se evaporen por acción del
valor y que además sean huecas, porque, comparadas con las
partículas macizas, es menor la cantidad de material que tiene que
descomponerse para formar poros que tengan un diámetro
aproximadamente igual. Para ello son idóneos p.ej. los cuerpos
huecos de un plástico que pueda descomponerse por acción del calor,
p.ej. las esferillas huecas de poliestireno.
Los diámetros medios de poro resultantes pueden
equivaler aproximadamente al diámetro medio de las partículas, que
se descomponen por calor, utilizadas. Los poros formados pueden ser
incluso mayores que el tamaño de las partículas, que se descomponen
por calor, debido a los gases liberados. Al igual que en el caso de
los cuerpos huecos, los expertos podrán determinar sin más el tipo
y tamaño de las partículas, que se descomponen por calor, y la
cantidad a añadir en función del porcentaje de poros deseado en la
estructura y del diámetro medio de poro deseado. Naturalmente
podrán utilizarse también partículas destruibles de diversos
tamaños, con el fin de obtener poros de tamaños diversos.
La capacidad de las partículas de descomponerse
por acción del calor puede resultar p.ej. de la termolabilidad de
los compuestos y/o de su oxidabilidad. En cualquier caso, las
partículas sometidas a la acción del calor se descomponen en
componentes volátiles o evaporables, que pueden escapar de la
estructura en formación para generar poros. Son con preferencia
materiales que se descomponen sin dejar restos. Eventualmente pueden
quedar también restos, en el supuesto que se hayan formado los
poros deseados.
Son ejemplos de materiales idóneos, que se
descomponen o se evaporan por acción del calor, los nitratos
metálicos, el NH_{4}Cl, los carbonatos, las sales orgánicas, como
las sales de ácidos carboxílicos, el negro de humo o los plásticos,
p.ej. en forma de esferillas de polímero, que se descomponen por
procesos oxidantes a las temperaturas aplicadas y pueden utilizarse
p.ej. en forma de polvo de un tamaño idóneo. Otros ejemplos
concretos de materiales que pueden descomponerse o evaporarse por
acción del calor son los copolímeros de
etileno-acetato de vinilo en polvo, el alcohol
polivinílico en polvo, los fenoplastos en polvo, las resinas de
urea-formaldehído en polvo, las resinas de
poliéster en polvo, la harina, las proteínas, los polisacáridos, las
ceras, las resinas de silicona en polvo y el serrín con finura de
harina.
Pueden utilizarse también los hinchantes
habituales, que los expertos ya conocen, por ejemplo el grafito
expandido o sustancias, como la melamina, que liberan nitrógeno.
Los hinchantes pueden conducir a una expansión del volumen del
ligante. Pueden utilizarse hinchantes que se descompongan por
reacción química o por catálisis, de modo que en este caso no se
necesita ningún tratamiento térmico para la formación de los poros
adicionales.
Es preferido que las partículas empleadas no
sean solubles en la composición, a la que se incorporan, o que su
velocidad de disolución sea bastante lenta. Deberían tener también
una dispersabilidad apropiada. Los expertos podrán elegir las
partículas en consonancia. El tamaño medio de partícula se elige del
modo indicado anteriormente con ocasión del tamaño de poro deseado,
son adecuados los materiales finamente dispersados, con el fin de
que generen poros finos. Para un buen efecto aislante son idóneas en
general las partículas que tienen un tamaño medio (volumétrico,
procedimiento de desviación de láser (evaluación según Mie)) de 1 a
1.000 \mum, con preferencia de 1 a 500 \mum, pero pueden
utilizarse también partículas menores.
Las composiciones de estructura utilizadas según
la invención permanecen porosas hasta temperaturas relativamente
altas, esto permite en los sistemas propiamente dichos a
temperaturas elevadas, que son necesarias para la descomposición,
introducir oxígeno (p.ej. del aire o por insuflación específica) en
la estructura para iniciar procesos de descomposición oxidante, y
soltar productos de descomposición o de calcinación del sistema.
Además de los componentes mencionados pueden
agregarse según convenga otros aditivos que los expertos de este
ámbito técnico ya conocen. Se puede añadir p.ej. un material de
fibras, p.ej. fibras de vidrio para aumentar la resistencia
mecánica. Los componentes de la composición pueden añadirse en
cualquier orden.
Como aditivos pueden agregarse a la composición
p.ej. monómeros, oligómeros o polímeros orgánicos, con el fin de
ajustar la reología o para controlar la cohesión del artículo
moldeado. Estos aditivos pueden tener también función de ligantes.
Los expertos de este ámbito ya conocen los compuestos idóneos. Son
ejemplos de materiales utilizables los monómeros, oligómeros o
polímeros orgánicos, que tengan grupos polares, por ejemplo grupos
hidroxilo, amino primarios, secundarios o terciarios, carboxilo o
carboxilato. Son ejemplos típicos el polivinilalcohol, la
polivinilpirrolidona, la poliacrilamida, la polivinilpiridina, la
polialilamina, el ácido poliacrílico, el poli(acetato de
vinilo), el ácido polimetilmetacrílico, los almidones, la goma
arábiga, otros alcoholes polímeros u oligómeros, p.ej. los
copolímeros de polietileno-polivinilalcohol, el
polietilenglicol y el poli(4-vinilfenol) o
bien los monómeros y oligómeros derivados de los mismos. Como
polivinilalcohol puede utilizarse p.ej. el Mowiol®
18-88, que es un producto
comercial.
comercial.
El material aislante puede utilizarse como
recubrimiento o como artículo moldeado, de modo que la composición
descrita anteriormente puede aplicarse como composición de
recubrimiento o como masa de moldeo. Naturalmente, los expertos
podrán adaptar la composición de forma ya conocida a la finalidad de
uso deseada, p.ej. en lo que respecta a su viscosidad.
En el caso del recubrimiento, la composición se
aplicará sobre un sustrato con arreglo a los procedimientos
habituales, p.ej. inmersión, con rodillo, con rasqueta, por
inundación, por extensión, por pulverización, por centrifugación o
con brocha. El sustrato puede adoptar cualquier forma adecuada. El
sustrato puede ser un material idóneo para la finalidad buscada.
Son ejemplos de materiales idóneos los metales y las aleaciones
metálicas, el vidrio, la cerámica, incluida la cerámica de óxidos,
la cerámica de vidrio, los materiales de construcción, por ejemplo
las piedras, o los plásticos. El sustrato puede estar provisto de
una capa superficial, p.ej. una metalización, un esmalte, una capa
cerámica o un barniz.
El material aislante se emplea con preferencia
en forma de artículo moldeado, pudiendo emplearse para el moldeo
todas las técnicas que los expertos ya conocen, p.ej. dentro de un
molde. De forma simple se pueden realizar incluso geometrías
complejas.
La composición se reticula después de aplicar el
recubrimiento o de efectuar el moldeo. Esto puede realizarse a
temperatura ambiente (aprox. 20ºC), pero normalmente se lleva a cabo
con un tratamiento térmico. El tratamiento térmico puede servir
para reticular la composición y además para compactar, recocer y/o
calcinar parcialmente sus componentes orgánicos. En caso de emplear
partículas, que se descomponen o se evaporan por acción del calor,
el tratamiento térmico sirve además para la formación de los poros
adicionales. Después de la reticulación, el ligante empleado según
la invención forma una estructura porosa.
El recubrimiento o el artículo moldeado se
someten con preferencia a un tratamiento térmico para que reticulen,
para descomponer y evaporar las partículas, suponiendo que existan,
que se descomponen o se evaporan por acción del calor, formando
poros. El tratamiento térmico de reticulación se realiza con
preferencia por lo menos a 40ºC, con preferencia por lo menos a
100ºC, con preferencia especial por lo menos a 150ºC. En especial,
cuando la estructura en formación todavía contiene componentes
orgánicos y/o se utilizan partículas, que se descomponen o se
evaporan por acción del calor, para formar los poros adicionales, es
preferido un tratamiento término por lo menos a 300ºC, con
preferencia por lo menos a 350ºC o por lo menos a 400ºC, con lo cual
los componentes orgánicos se calcinan y/o se forman los poros
adicionales. Con ello se mejora la estabilidad del material al
calor. Las temperaturas mínimas indicadas se refieren a la
temperatura máxima utilizada en un paso de tratamiento. La
temperatura máxima conveniente dependerá de la naturaleza del
material empleado y los expertos la podrán elegir sin más.
El tratamiento término puede realizarse en un
paso, pero con preferencia por lo menos en dos o en tres pasos, en
los que en general cada paso ulterior se efectúa a una temperatura
más elevada. Por ejemplo, en un paso opcional de secado inicial se
realiza un tratamiento térmico a temperaturas relativamente bajas,
p.ej. entre temperatura ambiente y 60ºC. Este paso no es
obligatorio, pero es ventajoso sobre todo en los artículos moldeados
y es aconsejable en muchos casos para alcanzar la resistencia
mecánica inicial que se precisa.
El paso de la reticulación, que puede realizarse
a continuación o directamente sin secado previo, puede llevarse a
cabo a temperatura ambiente y dicha reticulación se consigue por
tratamiento término por lo menos a 40ºC, con preferencia por lo
menos a 100ºC y en especial por lo menos a 150ºC, con preferencia
especial por lo menos a 300ºC y con preferencia muy especial por lo
menos a 350ºC. La reticulación se realiza con preferencia en dos
pasos mediante una reticulación intermedia seguida de una
reticulación final.
\newpage
Para la reticulación intermedia puede efectuarse
p.ej. un tratamiento térmico en un intervalo de temperaturas
superiores a 40ºC, p.ej. entre 100 y 250ºC. La reticulación final se
realiza después p.ej. por lo menos a 300ºC, con preferencia por lo
menos a 350ºC o por lo menos a 400ºC, en este paso se calcinan los
componentes orgánicos eventualmente presentes y/o se expulsan los
agentes formadores de poros, que se descomponen o se evaporan por
acción del calor, liberándose gases que producen la formación
definitiva de los poros adicionales. Con ello se aumenta también la
estabilidad a la temperatura y la resistencia a la fisuración.
La duración que tendrán los pasos de tratamiento
en cada caso dependerá del material y de la temperatura aplicada y
los expertos la podrán elegir sin más. Obviamente, los pasos del
tratamiento término pueden realizarse mediante un programa de
control de temperaturas, que permite elegir las temperaturas idóneas
de calentamiento y de enfriamiento así como los tiempos de
permanencia.
En el supuesto de que se utilicen partículas,
que se descomponen o se evaporan por acción del calor, para la
formación de los poros, su descomposición y la formación de los
poros se efectúa por tratamiento térmico. El material y la
temperatura aplicada deberán elegirse de manera que se alcance la
temperatura de descomposición. La descomposición y la formación los
poros tienen lugar por lo general en el curso de la reticulación.
Cuando se emplean otros hinchantes, la formación de los poros tiene
lugar del modo que los expertos ya conocen.
Cuando la composición contiene componentes
orgánicos, p.ej. en forma de restos orgánicos del nanocompuesto o
en forma de oligómero o de polímeros orgánicos, estos se calcinan
con un tratamiento térmico, de modo que queda de ellos una
estructura inorgánica. La temperatura y la duración idóneas de la
calcinación dependerá de los materiales empleados y los expertos ya
las conocen. Con la presencia de componentes orgánicos a menudo se
reduce el riesgo de fisuración durante la reticulación.
Cuando se emplean silanos hidrolizables con
grupos funcionales, que pueden participar en la reticulación (p.ej.
grupos alquenilo, alquinilo o epóxido), puede ocurrir a temperaturas
elevadas y con la exclusión del O_{2} que estos grupos den lugar
a una reticulación adicional del polímero orgánico, con lo cual la
calcinación puede traducirse en la formación de una armadura de
carbono, que daría solidez a la estructura de los poros. La
reticulación orgánica intermedia puede acelerarse catalíticamente
con la presencia de grupos funcionales idóneos.
Con el ligante, que contiene nanopartículas y/o
policondensados o compuestos previos de los mismos, en la
composición puede obtenerse una estructura porosa. El tamaño de los
poros puede regularse p.ej. a través de la temperatura aplicada y
de la duración de los pasos de tratamiento térmico. Los expertos ya
conocen las condiciones para el ajuste de la porosidad de la
estructura. La estructura fabricada según la presente invención se
mantiene sorprendentemente porosa incluso a temperaturas
relativamente altas.
Se obtiene un material aislante muy estable a la
temperatura. Las piezas moldeadas fabricadas pueden mecanizarse
posteriormente, si fuera necesario. Los artículos moldeados son,
pues, idóneos, para el mecanizado con arranque de material (p.ej.
mecánico o por radiación). Pueden dotarse también de un
recubrimiento.
Por su escasa conductividad térmica, el material
aislante pueden utilizarse muy bien para el aislamiento térmico en
un intervalo de temperaturas muy amplio, p.ej. entre -200ºC o la
temperatura ambiente hasta temperaturas de incluso 2.000ºC.
Las aplicaciones concretas posibles son el
aislamiento del calor y del frío, p.ej. en congeladores, estufas,
aparatos de laboratorio y para fines industriales, p.ej. en
metalurgia y la industria del vidrio, una combinación de
aislamiento y protección contra la llama, el encapsulado térmico de
componentes sensibles a la temperatura en el sector electrónico y
de cables. Otros ámbitos de aplicación son el sector de la
construcción, el sector del transporte, p.ej. automóviles, camiones
y aviones así como la cosmonáutica.
Siguen ejemplos que ilustran la invención
Por hidrólisis y condensación de TEOS y MTEOS en
presencia de un sol acuoso de sílice se obtiene una dispersión
alcohólica de ligante, con un contenido de sólidos entre el 30 y el
60% en peso. Eventualmente se evapora una parte del disolvente para
ajustar la viscosidad. Después de la adición de microesferillas
huecas de vidrio se realiza el mezclado con un agitador de paletas
que gira lentamente, de modo que se forme una mezcla homogénea de
material moldeable. Se elige la porción de esferillas huecas de tal
manera que, en la pieza moldeada reticulada, haya un contenido de
ligante del 5 al 20% en peso. Variando el contenido de ligante puede
ajustarse la consistencia de transformación o procesado.
La mezcla de material moldeable se introduce en
un molde de aluminio de dos partes, entre el noyo y el las paredes
del molde, y se apisona. Inmediatamente después de llenarse el molde
se quitan las paredes del molde y el noyo y la mezcla de masa
moldeable que se ha comprimido sobre él se introducen en una estufa
de secado a 40ºC y se tratan durante 30 min para realizar el secado
inicial de la masa moldeable. Con ello, el artículo moldeado
adquiere la resistencia mecánica inicial que se precisa para la
transformación ulterior.
Antes de la reticulación posterior se separa el
noyo del artículo moldeado, para impedir que el material se pegue
sobre dicho noyo. Entonces se introduce de nuevo el artículo
moldeado en la estufa de secado y se eleva la temperatura a razón
de 5ºC/min hasta 200ºC y entonces se mantiene esta temperatura
durante 12 h. Se enfría lentamente el artículo moldeado a t.amb. y
se saca de la estufa. Se realiza un tratamiento posterior a una
temperatura de hasta 500ºC para hacer que el artículo moldeado sea
estable a la fisuración. Para ello se calienta el artículo moldeado
en una estufa de aire forzado a razón de 1ºK/min hasta 500ºC, se
mantiene a esta temperatura durante unas 2 h y se enfría a t.amb.
con la misma velocidad del calentamiento. El uso de la estufa de
aire forzado en el último paso es especialmente preferido. El
artículo moldeado resultante tiene una conductividad térmica de
0,045 W/m\cdotºK.
a) MTZS 0,75
Se mezclan 65,5 g de MTEOS y 19,1 g de TEOS. Se
hace reaccionar la mitad de la mezcla con agitación intensa con
49,7 g de sol de óxido de circonio de un contenido de sólidos del
60% en peso (29,82 g de IZCO en 19,88 g de agua) con 0,4 ml de
ácido clorhídrico concentrado. Después de 5 min se añade la segunda
mitad de la mezcla de silano y se continúa la agitación del
conjunto durante 5 min más. Después de 24 h se concentra la
dispersión del ligante por destilación del disolvente etanol. Se
obtiene un ligante que tiene un contenido de sólidos del 60% en
peso.
b) MTKZS 0,75
Se hace reaccionar una mezcla de 16,4 g de MTEOS
y 4,8 g de TEOS con 14,2 g de sol de sílice Levasil® 300/30, que
previamente se ajustado con ácido clorhídrico concentrado a un pH de
7, y 0,2 ml de ácido clorhídrico concentrado. Paralelamente se hace
reaccionar una mezcla de 16,4 g de MTEOS y 4,8 g de TEOS con 19,88 g
una dispersión acuosa de circonio al 50% y 0,2 ml de ácido
clorhídrico concentrado. Después de 10 min se reúnen ambas mezclas.
Después de 5 min se trata la mezcla resultante con otra mezcla de
silano, que contiene 32,8 g de MTEOS y 9,6 g de TEOS y se continúa
la agitación durante 5 min. Después de 24 h se concentra la
dispersión de ligante por destilación del disolvente etanol. Se
obtiene un ligante con un contenido de sólidos del 60% en peso.
c) MTKAIS 0,75
Se hace reaccionar una mezcla de 16,4 g de MTEOS
y 4,8 g de TEOS con 14,2 g de gel de sílice Levasil® 300/30, que
previamente se ha ajustado a pH de 7 con ácido clorhídrico
concentrado, y 0,2 ml de ácido clorhídrico concentrado.
Paralelamente se hace reaccionar una mezcla de 16,4 g de MTEOS y 4,8
g de TEOS con 12,2 g de una dispersión de Dispersal al 15% (1,83 g
de Al_{2}O_{3} en 10,37 g de agua) y 0,2 ml de ácido clorhídrico
concentrado. Después de 10 minutos se reúnen ambas mezclas. Pasados
5 min se trata la mezcla resultante con otra mezcla de silano que
contiene 32,8 g de MTEOS y 9,6 g de TEOS y se continúa la agitación
durante 5 min más. Después de 24 h se concentra la dispersión de
ligante por destilación del disolvente etanol. Se obtiene un
ligante con un contenido de sólidos del 60% en peso.
d) MTZAIS 0,75
Se hace reaccionar una mezcla de 16,4 g de MTEOS
y 4,8 g de TEOS con 12,2 g de una dispersión de Dispersal al 15%
(1,83 g de Al_{2}O_{3} en 10,37 g de agua) y 0,2 ml de ácido
clorhídrico concentrado. Paralelamente se hace reaccionar una
mezcla de 16,4 g de MTEOS y 4,8 g de TEOS con 19,88 g de una
dispersión de óxido de circonio al 50% (9,94 g de IZCO en 9,94 g de
agua) y 0,2 ml de ácido clorhídrico concentrado. Después de 10 min
se reúnen las dos mezclas. Pasados 5 min se trata la mezcla
resultante con otra mezcla de silano que contiene 32,8 g de MTEOS y
9,6 g de TEOS y se agita durante 5 min más. Pasadas 24 h se
concentra la dispersión de ligante por destilación del disolvente
etanol. Se obtiene un ligante de un contenido de sólidos del 60% en
peso.
e) Z_{5}-MTKZS 0,75
Se hace reaccionar una mezcla de 16,4 g de
MTEOS, 4,5 g de TEOS y 0,4 g de
tetra-n-propilato de circonio con
14,2 g de Levasil® 300/30, que previamente se ha ajustado a pH = 7
con ácido clorhídrico concentrado, y 0,2 ml de ácido clorhídrico
concentrado. Paralelamente se hace reaccionar una mezcla de 16,4 g
de MTEOS, 4,5 g de TEOS y 0,4 g de
tetra-n-propilato de circonio con
19,88 g de una dispersión de óxido de circonio nanométrico al 50%
en agua y 0,2 ml de ácido clorhídrico concentrado. Después de 10 min
se reúnen las dos mezclas. Pasados 5 min se trata la mezcla
resultante con otra mezcla de silano que contiene 32,8 g de MTEOS y
9,6 g de TEOS y se continúa la agitación durante 5 min más. Pasadas
24 h se concentra la dispersión de ligante por destilación del
disolvente etanol. Se obtiene un ligante de un contenido de sólidos
del 60% en peso.
\newpage
f)
Z_{5}-MTKZS-PT 0,75
Se hace reaccionar una mezcla de 16,4 g de
MTEOS, 4,5 g de TEOS y 0,4 g de
tetra-n-propilato de circonio con
14,2 g de Levasil® 300/30, que previamente se ajusta a un pH de 7
con ácido clorhídrico concentrado, y 0,2 ml de ácido clorhídrico
concentrado. Paralelamente se hace reaccionar una mezcla de 16,4 g
de MTEOS, 4,5 g de TEOS y 0,4 g de
tetra-n-propilato de circonio con
19,88 g de una dispersión de óxido de circonio nanométrico al 50%
en agua y 0,2 ml de ácido clorhídrico concentrado. Después de 10 se
reúnen las dos mezclas. Pasados 5 min se trata la mezcla resultante
con otra mezcla de silano, compuesta por 44,2 g de
feniltrietoxisilano y 9,6 g de TEOS y se continúa la agitación
durante 5 min más. Pasadas 24 h se concentra la dispersión del
ligante por destilación del disolvente etanol. Se obtiene un ligante
con un contenido de sólidos del 60% en peso.
Se mezcla 143 g de ligante de un contenido de
sólidos del 60% en peso según el apartado A) con 50 g de
microesferillas huecas de poliestireno (de 15 a 120 \mum) y se
vierten en un molde. Por pirólisis lenta de los componentes
orgánicos entre 200 y 300ºC se forma un artículo aislante sólido, de
poro fino, muy resistente a la temperatura. Como componentes
hinchantes, que generan cavidades huecas, pueden utilizarse también
copolímeros de etileno-acetato de vinilo en polvo,
alcohol polivinílico en polvo, ceras, serrín en polvo, fenoplastos
en polvo, resina de urea-formaldehído en polvo,
resina de poliéster en polvo, proteínas, polisacáridos, resina de
silicona en polvo, microesferillas huecas de vidrio y mezclas de
los mismos. Finalmente se realiza la fabricación de la fase de
mullita o de silicato de circonio mediante un recocido en torno a
1.750ºC.
Se mezclan 100 g de ligante de un contenido de
sólidos del 60% en peso, obtenido según el apartado A) con 30 g de
componentes expandibles, que pueden descomponer u oxidarse por
medios químicos o físicos. Paralelamente al proceso de reticulación
del ligante se inicia el proceso de descomposición del ligante con
una expansión hasta un volumen de 3 a 10 veces mayor, formándose
una espuma aislante sólida, de poro fino, muy resistente a la
temperatura. Como hinchantes pueden utilizarse p.ej. materiales del
tipo grafito expandido u otras sustancias, tales como melamina, que
liberan nitrógeno.
Claims (29)
1. Material aislante que consta de una
estructura (matriz) porosa inorgánica, que puede obtenerse por
moldeo o por aplicación sobre un sustrato de una composición que
contiene a) como ligante un sol que contiene nanopartículas y/o
policondensados o productos previos de los mismos y b) un agente
formador de poros sólido, y se reticula la composición formándose
una estructura porosa y poros adicionales debidos al agente formador
de poros.
2. Material aislante según la reivindicación 1,
caracterizado porque el tamaño medio de los poros adicionales
es mayor que el de los poros de la estructura.
3. Material aislante según la reivindicación 1 ó
2, caracterizado porque es la estructura porosa es una
estructura microporosa o mesoporosa.
4. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 1 a 3, caracterizado porque la
composición contiene compuestos orgánicos o grupos orgánicos que se
calcinan durante la formación de la estructura inorgánica.
5. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 1 a 4, caracterizado porque los poros
adicionales son macroporos.
6. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 1 a 5, caracterizado porque, como
nanopartículas, la composición contiene por lo menos una partícula
de óxido metálico, con preferencia de SiO_{2}, Al_{2}O_{3},
AlOOH, Ta_{2}O_{5}, TiO_{2} y/o ZrO_{2}, con preferencia
especial una parte de las nanopartículas o la totalidad de ellas
son de SiO_{2}.
7. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 4 a 6, caracterizado porque, como
ligante, la composición contiene un nanocompuesto de
nanopartículas, cuya superficie se ha modificado con compuestos
orgánicos o con compuestos que contienen grupos orgánicos, y los
componentes orgánicos del nanocompuesto se calcinan para formar la
estructura.
8. Material aislante según la reivindicación 7,
caracterizado porque el nanocompuesto se obtiene por
tratamiento de la superficie de las nanopartículas con uno o más
compuestos elegidos entre los silanos hidrolizables que tienen por
lo menos un grupo orgánico no hidrolizable, los ácidos carboxílicos,
los anhídridos, las amidas, los compuestos amino, las iminas, las
\beta-dicetonas, los aminoácidos y las
proteínas.
9. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 1 a 7, caracterizado porque el
nanocompuesto se obtiene por modificación de la superficie de las
nanopartículas con uno o más silanos de la fórmula general:
(I)R_{n}SiX_{4-n}
en la que los grupos X son iguales
o distintos y significan grupos hidrolizables o grupos hidroxilo y
los restos R son iguales o distintos y significan alquilo,
alquenilo, alquinilo, arilo, aralquilo o alquilarilo y n es el
número 0, 1, 2 ó 3, pero con preferencia por lo menos para un silano
n es un número mayor que
0.
10. Material aislante según la reivindicación 9,
caracterizado porque el nanocompuesto se obtiene por
modificación de la superficie de las nanopartículas con por lo
menos un silano de la fórmula
(I)R_{n}SiX_{4-n}
en la que n es el número 1 ó 2 y
por lo menos un silano de la
fórmula
(II)SiX_{4}
en la que X tiene el significado
definido para la fórmula
(I).
11. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 1 a 10, caracterizado porque la
composición, como policondensados o compuestos previos de los
mismos, contiene productos de hidrólisis o productos de condensación
de uno o más compuestos hidrolizables de metales formadores de
vidrio o de cerámica.
12. Material aislante según la reivindicación
11, caracterizado porque un compuesto hidrolizable contiene
por lo menos un sustituyente no hidrolizable.
13. Material aislante según la reivindicación 11
ó 12, caracterizado porque por lo menos un compuesto
hidrolizable se elige entre compuestos de Si, Al, B, Sn, Ti, Zr,
Mg, V y Zn.
14. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 1 a 13, caracterizado porque el sol del
ligante contiene policondensados o un compuesto previo de los mismo
y nanopartículas modificadas superficialmente.
15. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 1 a 14, caracterizado porque la
composición contiene por lo menos un componente refractario.
16. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 1 a 15, caracterizado porque como agente
formado de poros se emplean partículas, que están huecas y/o son de
un material, que se descompone o se evapora por acción del calor, o
un hinchante.
17. Material aislante según la reivindicación
16, caracterizado porque, como agente formador de poros, la
composición contiene un cuerpo hueco.
18. Material aislante según la reivindicación
17, caracterizado porque el cuerpo hueco es de vidrio o de
plástico.
19. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 1 a 17, caracterizado porque la
composición contiene partículas, que se descomponen o evaporan por
acción del calor y que al descomponer o evaporarse térmicamente
generan poros adicionales.
20. Material aislante según la reivindicación
19, caracterizado porque se emplean partículas, que se
descomponen o se evaporan por acción del calor, que son de un
nitrato metálico, una sal orgánica, NH_{4}Cl, negro de humo,
harina, serrín molido fino, cera, proteína, polisacárido, resina de
silicona o plástico.
21. Material aislante según una de las
reivindicaciones 19 y 20, caracterizado porque las
partículas, que se descomponen o se evaporan por acción del calor,
son huecas.
22. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 1 a 21, caracterizado porque la
composición moldeada o aplicada sobre un sustrato se trata
térmicamente por lo menos a 40ºC, con el fin de reticular dicha
composición.
23. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 1 a 22, caracterizado porque la
composición moldeada o aplicada sobre un sustrato se trata
térmicamente por lo menos en dos pasos, a temperaturas
diferentes.
24. Material aislante según la reivindicación 22
ó 23, caracterizado porque la composición se trata
térmicamente a una temperatura por lo menos de 100ºC, con
preferencia por lo menos de 150ºC, para la reticulación intermedia
o para la reticulación final.
25. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 22 a 24, caracterizado porque la
composición se reticula definitivamente a una temperatura por lo
menos de 300ºC, con preferencia de 350ºC.
26. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 4 a 25, caracterizado porque, como
aditivo, la composición contiene por lo menos un monómero,
oligómero o polímero orgánico para controlar la viscosidad y/o la
cohesión del artículo moldeado.
27. Material aislante según una de las
reivindicaciones de 1 a 26, caracterizado porque se presenta
en forma de artículo moldeado o de recubrimiento aplicado sobre un
sustrato.
28. Procedimiento para la fabricación de un
material aislante de estructura inorgánica porosa, en el que se
moldea o se aplica sobre un sustrato una composición que contiene a)
como ligante un sol que contiene nanopartículas y/o policondensados
o productos previos de los mismos y b) un agente formador de poros
sólido, y se reticula la composición formándose una estructura
porosa y poros adicionales debidos al agente formador de poros.
29. Uso del material aislante según una de las
reivindicaciones de 1 a 27 para el aislamiento del calor y del
frío, para la combinación del aislamiento y de la protección contra
el fuego o para el encapsulado térmico de componente sensibles a la
temperatura.
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