ES2254877T3 - Polvos de recubrimiento curados por radicales libres para recubrimientos de bajo brillo. - Google Patents
Polvos de recubrimiento curados por radicales libres para recubrimientos de bajo brillo.Info
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Abstract
Una composición de un polvo, que comprende: (i) una o más de una resina epoxídica curable por radicales libres y una o más de una segunda resina curable por radicales libres, o, como otra posibilidad, (ii) una o más de una resina de poliéster insaturada curable por radicales libres combinada con una o más de una cera; uno o más de un fotoiniciador de radicales libres; una o más de una resina reticulante cristalina; y opcionalmente, un catalizador de curado térmico, caracterizada porque el polvo de revestimiento tiene un tamaño medio de partícula de 5 a 25 micrómetros.
Description
Polvos de recubrimiento curados por radicales
libres para recubrimientos de bajo brillo.
La presente invención se refiere a unos polvos
curables por radiación ultravioleta y, más particularmente, a unos
polvos que dan unos revestimientos en polvo que poseen un acabado
suave y de bajo brillo, procedimientos para formar tales polvos, y
los revestimientos en polvo que se forman de ese modo.
Los polvos de revestimiento termoendurecibles
son, a temperatura ambiente, materiales sólidos de flujo libre,
secos y finamente divididos. Los polvos de revestimiento tienen una
utilidad particular en aplicaciones de revestimientos industriales
ya que se aplican fácilmente a diversos substratos conductores, usan
muy poco o ningún disolvente orgánico, y el exceso de polvos de
revestimiento se puede reciclar fácilmente.
Una clase de polvos de revestimiento curables son
los polvos curables por radiación ultravioleta (UV). Los polvos
curables por UV poseen la capacidad de fluir, curar, y producir
revestimientos más suaves a temperaturas mucho más bajas de lo que
resultaba posible anteriormente con la química del
termoendurecimiento tradicional. Esto se debe principalmente a la
reacción de curado provocada por radiación fotoiniciada en lugar de
calor. Típicamente, los polvos curables por UV se formulan a partir
de resinas básicas sólidas insaturadas con unas bajas temperaturas
de transición vítrea (T_{g}), tales como poliésteres insaturados,
resinas insaturadas reticulantes copolimerizables tales como
viniléteres, fotoiniciadores, agentes niveladores y de flujo,
aditivos potenciadores del rendimiento, y, opcionalmente, pigmentos
y agentes de relleno.
Durante las operaciones de revestimiento, las
piezas se precalientan preferentemente para eliminar las sustancias
volátiles, después se aplican los polvos curables por UV a un
substrato, por ejemplo, usando técnicas de pulverización
electrostática. El substrato revestido se calienta después para
fusionar los polvos y obtener un revestimiento fundido suave. La
luz cura y endurece el revestimiento para dar un revestimiento
suave, duradero y atractivo. Sin embargo, debido a la gran rapidez
de curado de los revestimientos curables por UV, ha resultado
difícil obtener un revestimiento curado por UV suave y de bajo
brillo y los revestimientos así formados tienden a tener un aspecto
con un brillo relativamente alto. Por motivos de preferencia
estética y de aplicación comercial, los revestimientos de bajo
brillo son deseables para ciertas aplicaciones. Generalmente, la
reducción de brillo puede obtenerse en revestimientos en polvo
tradicionales a través de la introducción de agentes deslustradores,
tales como agentes de relleno o ceras, que suben a la superficie
durante el curado y producen el deslustre a través de la disrupción
de la superficie del revestimiento. Sin embargo, debido a la rapidez
con que curan los polvos curables por UV, no se deja el tiempo
adecuado para que los agentes de relleno y las ceras se floculen
hasta llegar a la superficie, y quedan atrapadas dentro del
revestimiento. Hay una reducción del flujo del revestimiento pero
se da un deslustre escaso. Se pueden usar mayores cantidades de
agentes de relleno o ceras, pero esto tiende a provocar que los
polvos se bloqueen o solidifiquen durante el almacenamiento normal
y/o producir revestimientos con un importante efecto de piel de
naranja, lo que limita la cantidad de reducción de brillo que
podría lograrse.
En la patente de EE.UU. nº 6.348.242 se describen
revestimientos en polvo curables por UV que contienen componentes
cristalinos, en los que el polvo fusionado térmicamente se calienta
aún más para que fluyan los componentes cristalinos, y seguidamente
se enfría para recristalizarlos para formar un acabado de bajo
brillo antes de curar el revestimiento con UV. Sin embargo, la
dependencia de las resinas cristalinas para proporcionar las
propiedades de continuidad de la película o de aspecto de los
revestimientos añade un costoso procedimiento de recristalización a
la formación del polvo y da lugar a unos polvos que carecen de
estabilidad de almacenamiento.
Por consiguiente, sigue existiendo la necesidad
de unos polvos curables por UV que formen revestimientos en polvo
con un bajo brillo. De acuerdo con la presente invención, los
presentes inventores han descubierto unos polvos que son
resistentes al bloqueo y que ofrecen unos revestimientos en polvo
curados por UV sorprendentemente suaves, duraderos y de bajo
brillo.
En un primer aspecto, la presente invención
proporciona un polvo curable por UV para revestimientos en polvo
que comprende (i) una o más de una resina epoxídica curable por
radicales libres y una o más de una segunda resina epoxídica
curable por radicales libres; o, como otra posibilidad, (ii) una o
más de una resina de poliéster insaturada curable por radicales
libres combinada con una o más de una cera, o un o más de un
fotoiniciador de radicales libres; y una o más de una resina
reticulante cristalina; en el que el polvo de revestimiento tiene
un tamaño medio de partícula de entre 5 y 25 micrómetros,
preferentemente entre 5 y 20 micrómetros. El polvo comprende
preferentemente ambas de las una o más de una resinas insaturadas de
poliéster curables por radicales libres combinadas con una o más de
una cera y la una o más de una resina epoxídica curable por
radicales libres. Más preferentemente, una o más de una resina
reticulante cristalina, tal como una resina de viniléter, tiene una
distribución de tamaño de partícula reducida y tiene una
polidispersidad (pD) de tamaño de partícula de entre 1,5 y 4,5.
En un segundo aspecto, la presente invención
proporciona un procedimiento para fabricar un resina suave,
opcionalmente microtexturizado, que comprende la disposición de una
capa del polvo de revestimiento según el primer aspecto de la
presente invención sobre un substrato; la fusión con calor de la
capa de polvo dispuesta para formar un revestimiento en polvo; y el
curado por UV del revestimiento en polvo para conseguir un nivel de
brillo inferior a 60, preferentemente de 1 a 50, en una escala de
brillo de Gardner. En un tercer aspecto, se fabrica un artículo
revestido con polvo según el procedimiento del segundo aspecto de la
presente invención.
En un cuarto aspecto de la presente invención, un
procedimiento para fabricar un polvo con un tamaño de partícula pD
pequeño para dar un acabado suave de bajo brillo curado por UV
comprende uno o más de entre el grupo constituido por la formación
de una emulsión de una composición de un polvo según la presente
invención, seguida del secado por aspersión de dicha emulsión; la
extrusión de una composición de un polvo en un fluido supercrítico
para formar una suspensión supercrítica, seguida del secado por
aspersión de dicha suspensión supercrítica; la extrusión de una
composición de un polvo en un fluido supercrítico en presencia de un
codisolvente para formar una suspensión supercrítica, seguida del
secado por aspersión de dicha suspensión supercrítica; la extrusión
de una composición de un polvo para formar un material extrudido,
seguida del molido a chorro del material extrudido; y combinaciones
de éstas. Preferentemente, una composición de un polvo se extrude en
un fluido supercrítico, con o sin un codisolvente, para formar una
suspensión supercrítica, seguida del secado por aspersión de dicha
suspensión supercrítica.
Para una mejor definición del polvo de
revestimiento y el revestimiento en polvo, el polvo de
revestimiento, polvo o composición de revestimiento en polvo se
refieren en la presente descripción al material particulado, y el
revestimiento en polvo se refiere al revestimiento aplicado a un
substrato o artículo.
Tal como se usa en la presente descripción, a
menos que se indique lo contrario, la frase "por cien partes de
resina" o "pcr" significa la cantidad, en peso, de un
ingrediente por cien partes, en peso, de la cantidad total de
resina contenida en un polvo de revestimiento, incluidas las resinas
reticulantes.
En la forma de realización más preferida de la
presente invención, un polvo curable por UV que proporciona
revestimientos suaves que poseen un aspecto de bajo brillo inferior
a 60º en la escala de brillo de Gardner, comprende una o más de una
resina epoxídica curable por radicales libres; una o más de una
resina de poliéster insaturada curable por radicales libres como
segunda resina curable por radicales libres, un o más de un
fotoiniciador de radicales libres, una o más de una resina
reticulante cristalina, y una o más de una cera. Además de resinas
de poliéster insaturadas, otras segundas resinas curables por
radicales libres pueden incluir (met)acrilouretanos,
vinilésteres, éteres de alilo, ésteres de alilo o mezclas de los
mismos. El término "(met)acrilato" usado en la presente
descripción significa acrilato, metacrilato, y mezclas de los mismos
y el término "(met)acrílico" usado en la presente
descripción significa acrílico, metacrílico y combinaciones de los
mismos.
Debido a la excelente resistencia a la intemperie
y flexibilidad de las resinas de poliéster insaturadas, una
composición en polvo preferida para proporcionar revestimientos de
bajo brillo resistentes a la intemperie comprende una o más de una
resina de poliéster insaturada combinada con una o más de una cera,
un o más de un fotoiniciador y una o más de una resina reticulante
cristalina. La composición en polvo también puede incluir otras
resinas curables por radicales libres, incluidos
(met)acrilouretanos, vinilésteres, éteres de alilo, ésteres
de alilo, o mezclas de los mismos.
También pueden estar presentes otros componentes
tales como catalizadores activados térmicamente, pigmentos, agentes
de relleno, agentes de control del flujo, aditivos de flujo seco,
agentes anticráter, tensioactivos, agentes texturizantes,
fotoestabilizantes, agentes deslustradores, fotosensibilizadores,
agentes humectantes, antioxidantes, plastificantes, opacificantes,
estabilizadores y agentes desgasificantes. Más particularmente, se
puede lograr un lustre de bajo brillo sin el uso de aditivos y/o
agentes de relleno que pueden hacer que el revestimiento resultante
se solidifique y/o se pele.
La composición en polvo emplea un mecanismo de
curado por radicales libres. En los mecanismos de curado por
radicales libres, la funcionalidad reactiva de la resina reacciona
durante el curado por medio de especies intermedias de radicales
libres (no cargadas). La propia resina puede ser un polímero,
oligómero o monómero que tenga al menos dos grupos funcionales sin
reaccionar capaces de reticular, polimerizar, o provocar otra
reacción que conduzca al revestimiento. Por consiguiente, las
resinas curables por radicales libres tienen generalmente, de
media, al menos dos grupos etilénicamente insaturados por enlace
molecular, por ejemplo, a una estructura alifática, aromática,
cicloalifática, aralifática o heterocíclica; o a un oligómero o
polímero tal como, por ejemplo, un polímero o resina epoxídica, un
polímero de poliéster, de poliuretano, de poliéter, de poliolefina,
de policarbonato o (met)acrílico.
Entre las resinas curadas por radicales libres
adecuadas se incluyen, por ejemplo, poliésteres insaturados,
resinas con funcionalidad (met)acrilato tales como resinas
epoxídicas o polímeros epoxídicos con funcionalidad
(met)acrilato, (met)acrilouretanos, vinilésteres,
éteres de alilo, ésteres de alilo, o mezclas que comprendan al
menos uno de los anteriores. Se puede usar una gran variedad de
resinas epoxídicas curables por radicales libres en los polvos de
la presente invención. Las resinas epoxídicas adecuadas poseen una
temperatura de transición vítrea (T_{g}) de entre 30 y 150 grados
C. Entre los ejemplos de resinas epoxídicas adecuadas se pueden
incluir resinas epoxídicas con funcionalidad (met)acrilato,
por ejemplo, una estructura epoxídica alifática, aromática,
cicloalifática, aralifática o heterocíclica, junto con al menos dos
grupos (met)acrilato. Las estructuras útiles ejemplares
están basadas en fenoles monocíclicos, por ejemplo resorcinol o
hidroquinona, o en fenoles policíclicos, por ejemplo bisfenol F o
bisfenol A. Se pueden usar resinas que contengan metacrilato y que
comprendan además cadenas laterales insaturadas, por ejemplo grupos
alilo, vinilo, o viniléter. En una forma de realización preferida
se usa un (met)acrilato epoxídico combinado con resinas de
poliéster insaturadas. Más preferentemente, el acrilato epoxídico y
el poliéster insaturado se mezclan con una resina reticulante
cristalina. Estos materiales se forman habitualmente haciendo
reaccionar ácido (met)acrílico ((M)AA) con cadenas
principales epoxídicas.
Entre las resinas de cadena principal epoxídica
se incluyen, para la reacción con (M)AA, por ejemplo,
epóxidos aromáticos que incluyen grupos tales como bisfenol A,
bisfenol F, bisfenol S y similares, tal como se ilustra
generalmente en la fórmula (1):
en la que R^{1}, R^{2}, R^{3}
y R^{4} son cada uno independientemente un hidrocarburo, o
hidrocarburo fluorado, alifático C_{1} a C_{6}, preferentemente
metilo; n= 1 a 8, preferentemente 1 a 4; y Ep es un epóxido que
comprende generalmente la siguiente estructura
(2):
Las resinas epoxídicas sólidas de bisfenol A
disponibles bajo las denominaciones comerciales
"GT-9013", "GT-7072" y
"GT-6259", de Vantico ejemplifican las resinas
epoxídicas comerciales adecuadas.
Los poliésteres insaturados pueden formarse de
forma convencional a partir de ácidos carboxílicos (o sus
anhídridos) di o polifuncionales y alcoholes di o polihídricos. La
insaturación la proporciona típicamente el ácido carboxílico,
aunque es posible proporcionarla a través del alcohol. Se pueden
emplear alcoholes monohídricos, por ejemplo alcanoles inferiores, o
ácidos carboxílicos monofuncionales (o sus ésteres) para la
terminación de la cadena. Entre los ácidos monofuncionales
adecuados para la terminación de la cadena se incluyen, por
ejemplo, ácido acrílico, ácido metacrílico, y similares.
Entre los ácidos carboxílicos etilénicamente
insaturados di o polifuncionales (o sus anhídridos) se incluyen,
por ejemplo, anhídrido maléico, ácido fumárico, anhídrido itacónico,
anhídrido citracónico, anhídrido mesacónico, ácido aconítico,
anhídrido tetrahidroftálico, anhídrido nádico, ácido metacrílico
dimérico, y similares, prefiriéndose anhídrido maléico, ácido
fumárico o sus mezclas. Se pueden emplear ácidos aromáticos y
saturados junto con los ácidos insaturados para reducir la densidad
de la insaturación etilénica y proporcionar las propiedades
químicas y mecánicas deseadas.
Entre los ácidos di o policarboxílicos aromáticos
o saturados adecuados (o sus anhídridos) se incluyen, por ejemplo,
ácido adípico, ácido succínico, ácido sebácico, ácido malónico,
ácido glutárico, ácido ciclohexano dicarboxílico, ácido dodecano
dicarboxílico, anhídrido ftálico, ácido isoftálico, ácido
tereftálico, ácido tetrahidroftálico, ácido hexahidroftálico, ácido
trimelítico, anhídrido piromelítico, y similares.
Entre los alcoholes di o polihídricos adecuados
se incluyen, por ejemplo, etilenglicol, dietilenglicol,
trietilenglicol, propanodiol, butanodiol, neopentilglicol,
ciclohexanodimetanol, hexanodiol,
2-n-butil-2-etil-1,3-propanodiol,
dodecanodiol, bisfenol A, bisfenol A hidrogenado, trimetilol
propano, pentaeritritol, y similares.
Entre los poliésteres insaturados ejemplares se
incluyen los diésteres de maleato y diésteres de fumarato de las
fórmulas (5) y (6) respectivamente:
en las que R^{9}, R^{10},
R^{11} y R^{12} son cada uno independientemente oligómeros o
polímeros constituidos por glicoles y ácidos mono o
polibásicos.
Preferentemente, las resinas de poliéster
insaturadas son materiales sólidos a temperatura ambiente, y pueden
formularse fácilmente en polvos o en forma particulada. Además, las
resinas preferidas no presentan prácticamente ninguna fluencia en
frío a temperaturas de hasta 90ºF (34ºC) para la larga duración de
almacenamiento deseada. También poseen una T_{g} inferior a la
temperatura de flujo requerida para la conservación de los
substratos sensibles al calor, por ejemplo 40ºC o más,
preferentemente de 45ºC (113ºF) a 149ºC (300ºF). Las resinas pueden
ser cristalinas, semicristalinas, o amorfas, o se puede usar una
combinación de estas formas. Las resinas de poliéster insaturadas
adecuadas tienen generalmente un peso molecular medio ponderado (Mw)
de 400 a 10.000, preferentemente de 1.000 a 4.500. El grado de
insaturación es típicamente de 2 a 20 por ciento en peso (%p),
preferentemente de 4 a 10%p, basado en el peso de la resina de
poliéster insaturada. Además, si la resina de poliéster insaturada
contiene grupos funcionales hidroxilo o grupos funcionales ácidos
depende de la proporción molar de –OH/COOH de la mezcla monomérica.
Las resinas que contienen grupos funcionales hidroxilo pueden tener
un número de hidroxilos de 5 a 100, mientras que las resinas que
contienen grupos funcionales ácidos pueden tener un número de
ácidos de 1 a 80. Para el uso en el procesamiento en emulsión acuosa
para fabricar polvos que tengan una distribución de tamaño de
partícula reducida, los poliésteres preferidos tienen un número de
ácidos de 50 a 80.
Las resinas reticulantes cristalinas aumentan la
densidad de reticulación y mejoran el flujo de los revestimientos
fabricados a partir de las mismas. Las resinas reticulantes
cristalinas adecuadas poseen al menos dos sitios curables por
radicales libres, por ejemplo grupos insaturados, por molécula y
pueden incluir, por ejemplo, resina de diviniléter, una resina de
éter de alilo, o mezclas y combinaciones de las mismas. La T_{g} o
el punto de fusión de las resinas reticulantes cristalinas útiles
en la presente invención oscila entre 40 y 120 grados C,
preferentemente entre 40 y 60 grados C.
Las resinas reticulantes cristalinas comprenden
preferentemente viniléteres que tienen la siguiente fórmula (3)
en la que R^{4} es un grupo
alifático, aromático, cicloalifático, aralifático o heterocíclico;
que también comprenden opcionalmente un o más de un grupo funcional
tal como éter, poliéter, éster, poliéster, uretano, poliuretano, o
una combinación de al menos uno de los grupos o grupos funcionales
anteriores; y n = 2 a 10, preferentemente 2 a 4. URACROS®ZW 3307,
de DSM, N.V. Holanda, es una resina de diviniléter útil en la
presente invención. Entre las resinas cristalinas de viniléter
adecuadas se incluyen, por ejemplo, diviniléter de
ciclohexanodimetanol, diviniléter de dietilenglicol, diviniléter de
etilenglicol, diviniléter de hexanodiol, diviniléter de
tetraetilenglicol, triviniléter de trimetilolpropano, diviniléter de
polialquilenglicol, tereftalatos de diviniléter, tales como
tereftalato de bis((4-eteniloxi)butilo),
1,3-bencenodicarboxilato de
bis((4-eteniloxi)butilo) y
1,3,5-bencenotricarboxilato de
tris((4-eteniloxi)butilo), y viniléteres de
cadena alargada. Entre los viniléteres de cadena alargada
disponibles comercialmente se incluye el diviniléter
Pluriol-E200 (PEG200-DVE), y
diviniléter de poli-THF290
(PTHF290-DVE) de BASF Corp. Además, entre las
resinas cristalinas de viniléter adecuadas se incluyen uretanos
cristalinos terminados en diviniléter. Estas resinas se encuentran
disponibles como resinas cristalinas formadas a partir de la
reacción de viniléteres que contienen grupos funcionales hidroxilo,
tales como viniléter de hidroxibutilo, con diisocianatos
cristalinos, tales como diisocianato de hexametileno, diisocianato
de metilén bis(ciclohexilo) hidrogenado, o biurets o
uretdionas de los mismos. Una resina reticulante cristalina
preferida comprende diisocianato de hexametileno terminado en
diviniléter. Estas resinas tienen una utilidad particular como
agentes reticulantes para las resinas de poliéster insaturadas,
descritas
anteriormente.
También se pueden emplear resinas reticulantes
cristalinas de éster de alilo, tales como el producto de la
reacción de alcohol alílico y ácidos carboxílicos cristalinos (o sus
anhídridos), típicamente anhídrido ftálico. Entre las resinas de
éster de alilo estándar se incluye el producto de reacción de un
éster de alilo, tal como propoxilato de alilo, y un diisocianato de
metileno hidrogenado. Estas resinas tienen una utilidad particular
para su uso con las resinas de poliéster insaturadas, descritas
anteriormente.
En las composiciones de polvos de la presente
invención, la proporción de una o más de una resina epoxídica
curable por radicales libres puede oscilar entre 5 y 60 pcr
combinada con entre 5 y 95 pcr de una o más de una segunda resina
insaturada curable por radicales libres. Además, la proporción de
una o más de una resina de poliéster insaturada puede oscilar entre
5 y 100 pcr combinada con entre 0 y 95 pcr de una o más de una
resina insaturada curable por radicales libres distinta.
Las cantidades relativas de resina curable por
radicales libres y resina reticulante cristalina en el polvo
dependerá de la elección de los materiales empleados. Generalmente,
tales materiales se emplean en cantidades estequiométricas
equivalentes para permitir que la reticulación transcurra hasta
completarse sustancialmente, aunque se puede usar un exceso de
alguna de ellas si se desea. Puede usarse de 1 a 50 pcr de una o más
de una resina reticulante cristalina, preferentemente de 2 a 25
pcr, y más preferentemente de 5 a 20 pcr en el polvo de la presente
invención.
Entre las formas de realización comerciales
adecuadas de las resinas curables por radicales libres se incluye,
por ejemplo, una resina de poliéster insaturada disponible
comercialmente bajo la denominación comercial P-3125
de DMS, N.V., Holanda, y también bajo la denominación comercial
VAN-1743 de Solutia; una resina de acrilouretano
disponible comercialmente bajo la denominación comercial Viatkin
3546 de Solutia; PIOESTER 275, PIONEER P-1942, y
P-1937, todos ellos de Pioneer Plastics, Auburn,
Maine; ATLAC 363E, ATLAC 352, y DION 6694 ES, todos ellos de
Reichold, Research Triangle Park, Carolina del Norte; y la resina de
poliéster insaturada disponible bajo la denominación comercial
Viatkin® 3890 de Solutia.
Entre los fotoiniciadores de radicales libres
para su uso en el polvo de revestimiento según la presente invención
se incluyen, por ejemplo, fotoiniciadores de escisión alfa,
fotoiniciadores de abstracción de hidrógeno, y similares. Entre los
fotoiniciadores de escisión alfa adecuados se incluyen, por ejemplo,
benzoína, éteres de benzoína, cetales de benzoína tales como cetal
de bencil dimetilo, fosfinas de monoacilo, óxidos de bisacilfosfina
tales como óxido de difenil (2,4,6-trimetil
benzoil)fosfina, aril cetonas tales como
1-hidroxi ciclohexil fenil cetona, y similares.
Entre los fotoiniciadores de abstracción de hidrógeno adecuados se
incluyen, por ejemplo, cetona de Michler, y similares, y dimetoxi
fenil acetofenonas, y similares. Otros ejemplos de fotoiniciadores
de radicales libres incluyen benzofenonas, o derivados de
acetofenona, tales como
alfa-hidroxialquilfenilcetonas. La
1-hidroxiciclohexil fenilcetona, disponible bajo la
denominación comercial IRGACURE 184®;
2,2-dimetoxi-2-fenil
acetofenona, disponible bajo la denominación comercial IRGACURE
651®; o
2-hidroxi-etoxifenil-2-hidroxi-2-metilpropan-1-ona,
disponible bajo la denominación comercial IRGACURE 2959®, cada uno
de ellos de Ciba Geigy, Tarrytown, N.Y.; son otros ejemplos de
fotoiniciadores de radicales útiles en la presente invención.
Un experto en la materia puede determinar
fácilmente el contenido total eficaz de fotoiniciador del
revestimiento en polvo, dependiendo de los tipos de sistemas
poliméricos curables por radicales libres empleados, la cantidad de
otros componentes constitutivos, y las demás propiedades deseadas en
el revestimiento. Sin embargo, en general, una cantidad eficaz de
la cantidad total del fotoiniciador de radicales libres es de 0,1 a
10 pcr, preferentemente de 0,5 a 7,5 pcr y más preferentemente de 1
a 3 pcr.
Las ceras útiles en las composiciones del polvo
de la presente invención pueden comprender poliolefina, poliolefina
epoxidada, politetrafluoroetileno, y ceras de hidrocarburo, tales
como polietileno, polipropileno, polietileno oxidado, polipropileno
oxidado, cera de poliolefina microcristalina, parafina, cera montana
o cera de carnauba, en las que dichas ceras tienen una T_{g} o un
punto de fusión de 40 a 120 grados C. Preferentemente, la una o más
de una cera comprende cera de polietileno. Las cantidades de cera
pueden oscilar entre 0,1 y 6,0 pcr, preferentemente entre 0,5 y 3
pcr.
Preferentemente, los componentes del polvo de
revestimiento se procesan en fase sólida para evitar posibles
dificultades de procesamiento. Por ejemplo, las partículas que
contengan cualquier exceso de disolvente pueden experimentar un
apelmazamiento, impidiendo así el procesamiento y la aplicación del
polvo de revestimiento al substrato. Generalmente, algunos de los
fotoiniciadores mencionados anteriormente los suministran vendedores
comerciales en forma de aproximadamente un 50% de sólidos en un
disolvente. Para utilizar estos fotoiniciadores de la forma más
eficaz posible, incluidos todos los demás componentes contenidos en
el disolvente, estos componentes se someten a una evaporación
preliminar u otras etapas de procesamiento para convertir estos
materiales en una forma de polvo o particulada.
Para aumentar la velocidad de reticulación
durante el curado, se pueden emplear opcionalmente catalizadores
térmicos. Se ha descubierto que la inclusión de iniciadores térmicos
de radicales libres ayuda a la curación en la zona cercana al
substrato, particularmente cuando está pigmentado, es opaco, o si se
desean películas de revestimiento gruesas. Entre los catalizadores
adecuados se incluyen, por ejemplo, peróxidos tales como
peroxicetales tales como
1,1-bis(t-butil
peroxi)-3,3,5-trimetilciclohexano,
diacilperóxidos tales como peróxido de benzoilo, peroxiésteres y
peroxicarbonatos; y compuestos de magnesio y metales de transición
basados en ácidos grasos, aceites, o aminas terciarias,
preferentemente jabones de cobalto, tales como octoato de cobalto,
neodecanoato de cobalto, naftenato de cobalto, y octadecanoato de
cobalto. Cualquier experto en la materia puede determinar
fácilmente la cantidad eficaz de catalizador, dependiendo de la
cantidad de reticulación deseada, los tipos de sistemas poliméricos
curables por radicales libres empleados, y las cantidades de
polímero en el polvo de revestimiento. En general, la cantidad
eficaz de catalizador de peróxido puede oscilar entre 0,01 y 5 pcr,
preferentemente entre 0,05 y 3 pcr, más preferentemente entre 0,1 y
2 pcr, prefiriéndose entre todos el intervalo entre 0,5 y 2 pcr.
Además las cantidades eficaces de catalizador metálico pueden
oscilar entre 0,01 y 1 pcr, preferentemente entre 0,05 y 0,75 pcr,
prefiriéndose entre todos el intervalo entre 0,1 y 0,5 pcr.
Se pueden incluir aditivos para ayudar a o
potenciar las propiedades químicas y físicas del revestimiento en
polvo, tales como pigmentos, agentes de relleno, agentes de control
del flujo, aditivos de flujo seco, agentes anticráter,
tensioactivos, fotoestabilizantes, plastificantes, agentes
desgasificantes, agentes humectantes, antioxidantes, agentes
deslustradores, y tensioactivos no iónicos, tales como los ésteres
poliméricos fluoroalifáticos FLUORAD TM FC-4430, de
3M Specialty Materials, St. Paul. Minn., y similares.
Entre los pigmentos adecuados se incluyen, por
ejemplo, dióxido de titanio, óxido rojo de hierro, óxido amarillo
de hierro, verde de ftalocianina, verde de ftalocianina azulado,
verde de ftalocianina amarillento, azul de ftalocianina verdoso,
negro de humo, negro de carbón, sílice, óxidos metálicos, óxidos
metálicos mezclados o combinaciones que comprendan al menos uno de
los anteriores pigmentos. Entre los agentes de relleno adecuados se
incluyen, por ejemplo, carbonato cálcico, sulfato de bario,
wollastonita, mica, caolín, tierra de diatomeas, ácido benzoico,
nilón de bajo peso molecular, o combinaciones que comprendan al
menos uno de los anteriores agentes de relleno.
La cantidad de agentes de relleno y/o pigmentos
puede variarse dependiendo de la opacidad y la coloración deseadas
de la película de revestimiento resultante. En general, las
cantidades eficaces de agentes de relleno y/o pigmentos pueden
oscilar entre 0 y 120 pcr, preferentemente entre 1 y 90 pcr, más
preferentemente entre 1 y 30 pcr. En una forma de realización
preferida, los polvos de revestimiento de bajo brillo son entre
transparentes y translúcidos y contienen una proporción
consecuentemente baja de pigmento, por ejemplo entre 0 y 60 pcr, o
contienen un agente de relleno, pigmento o colorante entre
transparente y translúcido en una cantidad entre 0 y 120 pcr.
Entre los agentes de control del flujo adecuados
se incluyen, por ejemplo, resinas acrílicas, resinas de silicona,
combinaciones que comprenden al menos uno de los anteriores agentes
de control del flujo, y similares. RESIFLOW® P-67,
un modificador de flujo de acrilato de Estron, Calvert City, KY, es
un agente de control de flujo adecuado para su uso en la presente
invención. Entre los aditivos de flujo en seco adecuados se
incluyen, por ejemplo, sílice ahumado, óxido de alúmina, y
similares, o combinaciones que comprendan al menos uno de los
anteriores aditivos de flujo en seco. Entre los agentes anticráter
adecuados se incluyen, por ejemplo, benzoína, derivados de
benzoína, agentes plastificantes de ftalato y fenoxilo de bajo peso
molecular, y similares, o combinaciones que comprendan al menos uno
de los anteriores agentes anticráter. Entre los tensioactivos
adecuados se incluyen, por ejemplo, diol acetilénico, y similares.
Entre los fotoestabilizantes adecuados se incluyen, por ejemplo,
aminas impedidas, fenoles impedidos, o combinaciones que comprendan
al menos uno de los anteriores fotoestabilizantes. En general, las
cantidades eficaces de aditivos de control de flujo, aditivos de
flujo en seco, agentes anticráter, agentes texturizantes,
tensioactivos, o fotoestabilizantes se encuentran individualmente
entre 0,1 y 15 pcr, preferentemente entre 0,5 y 5 pcr.
El polvo de la presente invención puede
producirse o "procesarse" usando técnicas convencionales. Por
ejemplo, la resina curable por radicales libres, el fotoiniciador
de radicales libres, la resina reticulante cristalina, el
catalizador térmico, y cualquier aditivo se pueden mezclar entre sí,
por ejemplo, mezclándolos en seco en las cantidades apropiadas. La
mezcla puede mezclarse después para formar una mezcla fluida, tal
como una mezcla fundida de ingredientes formadores del polvo o una
dispersión de uno o más ingredientes formadores del polvo, por
ejemplo, mediante la extrusión con calentamiento. Se puede formar
una mezcla fluida mezclando preferentemente por debajo del punto de
fusión de cualquier reticulante cristalino presente en la
composición. La composición extrudida se enfría preferentemente
rápidamente y se separa en obleas, y después se puede moler en un
molino clasificador por aire, preferentemente con enfriamiento,
hasta obtener un polvo que tenga un tamaño de partícula medio
inferior a 40 micrómetros, preferentemente inferior a 25
micrómetros, determinados mediante dispersión de láser. Además, el
polvo molido una vez puede molerse dos veces hasta obtener un tamaño
de partícula medio de 20 a 23 micrómetros, lo que da lugar a un
revestimiento suave que posee una superficie microtexturizada. Si
fuera necesario, los polvos molidos una vez o dos veces pueden
clasificarse de acuerdo con su tamaño para proporcionar
revestimientos con una suavidad constante. Los polvos pue-
den clasificarse cribándolos en un filtro de malla de 270 a 400 haciéndolos pasar a través de un clasificador ciclónico.
den clasificarse cribándolos en un filtro de malla de 270 a 400 haciéndolos pasar a través de un clasificador ciclónico.
El tamaño de partícula medio de las composiciones
de polvos oscila preferentemente entre 5 y 25 micrómetros,
determinado mediante dispersión de láser. Preferentemente, tras la
extrusión o el mezclado de los ingredientes y el posterior
enfriamiento, las composiciones, por ejemplo obleas, se procesan
para proporcionar un tamaño medio de partícula pequeño de entre 5 y
20 micrómetros. Los polvos que poseen tamaños medios de partícula
pequeños proporcionan revestimientos suaves para su uso como
revestimientos transparentes o translúcidos en substratos de madera
natural y madera dura tales como arce, roble, nogal, caoba, o
cerezo. Además, el reducido tamaño medio de partícula permite
proporcionar películas de revestimiento más delgadas, por ejemplo,
de entre aproximadamente 0,5 a 6,0 mils (12,7 a 152,4 \mum), con
una suavidad mejorada y una desgasificación reducida. Además, los
polvos con un tamaño de partícula pequeño darán revestimientos que
poseen una buena cobertura en el grano abierto de madera a un
espesor de 1,0 a 2,0 mils (25,4 a 50,8 \mum). Así, los polvos de
pequeño tamaño de la presente invención eliminan los efectos de
formación de puentes en el grano abierto de madera. Para producir
un polvo con un tamaño de partícula medio más pequeño y un
revestimiento suave, las composiciones procesadas antes de la
formación de las partículas, por ejemplo, obleas, se pueden moler
con un molino a chorro, se pueden triturar finamente en un molino
de clasificación por aire o un molino convencional, cribándolos
seguidamente a través de un filtro de malla de 325 a 400, o pueden
secarse por aspersión hasta obtener un tamaño de partícula medio,
según se determina mediante dispersión de láser, de 5 a 20
micrómetros, y más preferentemente de 8 a 16 micrómetros.
Las composiciones de polvo más preferidas poseen
una distribución de tamaño de partícula limitada y una baja
polidispersidad (pD) del tamaño de partícula medio de entre 1,5 y
4,5, preferentemente de 1,5 a 3,0. Los polvos de baja pD poseen
unas excelentes propiedades de manejo y de capacidad de
revestimiento a pesar de su pequeño tamaño de partícula. Los polvos
de baja pD pueden incluir aquellos que se producen mediante el
secado por aspersión de un polvo fundido, una mezcla fluida, una
emulsión acuosa de un polvo procesado, o una suspensión o
dispersión de un polvo procesado, preferentemente como suspensión en
aire a alta presión o fluido supercrítico.
Para fabricar una emulsión acuosa del polvo de la
presente invención, se puede usar cualquier composición en polvo de
resina con funcionalidad ácida que haya sido procesada, por ejemplo,
como material fundido, mezcla fluida, obleas o polvo. Por ejemplo,
las obleas procesadas que comprenden al menos 40 pcr de un poliéster
insaturado que posee un número de ácidos de 40 a 100,
preferentemente de 50 a 80, se pueden moler previamente y cargarse
después en amoniaco acuoso o una solución acuosa de una alquil
(C2-C6) amina inferior, opcionalmente con agitación
o cizalla, calentándolos a continuación para formar una emulsión
viscosa que posee de 20 a 40% en peso, preferentemente de 25 a 35%
en peso de sólidos. La mezcla resultante puede calentarse hasta una
temperatura de entre 30 y 80 grados C, preferentemente entre 45 y
70 grados C, sin embargo se requiere menos calor para las resinas
que tengan un número de ácidos mayor. La proporción equivalente de
amoniaco o alquilamina inferior y los grupos ácidos en el polímero
o resina puede oscilar entre 0,75 y 1,25, preferentemente entre 0,9
y 1,1, y puede ser inferior para resinas que posean un número de
ácidos mayor.
Se puede formar una suspensión o dispersión
supercrítica de polvo o una mezcla fluida de ingredientes para
formar un polvo cargando un "fluido supercrítico" o fluido SC,
es decir, uno que se haya presurizado, calentado, o ambos, hasta un
nivel igual o superior a su punto crítico, en un aparato que
contiene el polvo, mezcla fluida, o emulsión acuosa de la presente
invención. El fluido SC y el polvo, emulsión o mezcla fluida se
pueden cargar en cualquier aparato seleccionado entre el grupo
constituido por una extrusora, una bomba de engranajes, una bomba
de fusión, un mezclador estático, un homogeneizador, un recipiente
usado para formar una emulsión acuosa, una boquilla de
pulverizador, y, preferentemente, una combinación de los mismos. Los
ingredientes para formar un polvo que todavía no se hayan procesado
pueden cargarse con fluido SC en una extrusora, bomba de engranajes
o bomba de fusión para formar una mezcla fluida que puede secarse
por aspersión. Los polvos procesados, suspensiones SC, mezclas
fluidas y emul-
siones de las mismas se pueden cargar directamente en un secador por aspersión con fluido SC o aire a alta presión.
siones de las mismas se pueden cargar directamente en un secador por aspersión con fluido SC o aire a alta presión.
El fluido SC se puede cargar corriente arriba, en
el mismo punto, o corriente abajo del punto en el que se cargan en
la extrusora los ingredientes para fabricar el polvo, o en cualquier
combinación de esos lugares de la extrusora. La extrusión
supercrítica de un polvo puede combinar todos los ingredientes de la
composición del polvo del mismo modo que la extrusión en fundido o
el mezclado en fundido, pero a una menor temperatura de extrusión
que puede ser de entre 10 y 100 grados F (de 6 a 54 grados C) por
debajo de la T_{g} o el punto de fusión de la resina de la
composición del polvo. Tal procedimiento puede eliminar total o
prácticamente las reacciones químicas durante la extrusión o el
procesamiento en fundido y puede evitar el mezclado no deseado de
la resina cristalina durante el procesamiento. Preferentemente, sólo
se carga una parte del fluido SC usado en el procesamiento en un
segundo o un tercer aparato, por ejemplo, una bomba de engranajes,
bomba de fusión, mezclador estático, homogeneizador, o boquilla de
pulverizador, situado corriente abajo de la extrusora.
Para hacer posible el procesamiento de materiales
de mayor viscosidad, por ejemplo resinas y agentes de relleno de
alta T_{g}, a temperaturas más bajas, se pueden cargar los
ingredientes formadores del polvo o una mezcla fluida o emulsión
acuosa y todo o parte del fluido SC en una bomba de engranajes o
bomba de fusión. Esto hace posible el procesamiento en fundido del
polvo en una extrusora sin ninguna reducción perjudicial en la
viscosidad de la mezcla fundida y puede hacer posible el
procesamiento de sólidos con un punto de fusión muy elevado o
difíciles de disolver, por ejemplo pigmentos, debido a que las
bombas proporcionan una presión adicional para disolver los
componentes del polvo y un aumento de presión anterior al rociado.
Cuando se carga una parte del fluido SC en una bomba, el resto se
carga preferentemente en una boquilla rociadora para fabricar el
polvo. Se puede situar cualquier bomba de engranajes o bomba de
fusión corriente abajo de una extrusora en la que se procesan los
ingredientes formadores del polvo.
Se puede cargar una parte del fluido SC en un
mezclador estático u homogeneizador situado corriente abajo de una
extrusora, en la que se carga algo o nada del fluido SC, para
mezclar más los diversos componentes de la composición del polvo,
facilitar la reducción del tamaño de partícula del polvo y para
facilitar el aumento de presión previo al posterior secado por
aspersión. Cuando se carga una parte del fluido SC en un mezclador
estático u homogeneizador, el resto se carga preferentemente en una
boquilla rociadora para fabricar el polvo.
Cuando se carga todo o parte del fluido SC en una
boquilla rociadora situada corriente abajo de una extrusora, bomba
de fusión o bomba de engranajes, recipiente usado para formar una
emulsión acuosa, mezclador estático, u homogeneizador, el fluido
crea una fuerza de atomización que hace posible el secado fine del
polvo por aspersión, mezcla fluida, emulsión acuosa o suspensión
supercrítica que se carga en la boquilla. Otra posibilidad consiste
en usar aire en lugar del fluido SC en el secado por aspersión
asistido por aire junto con una emulsión, una mezcla fluida, una
suspensión supercrítica de polvo o una mezcla fluida, o un polvo
para crear una fuerza de atomización para hacer posible el secado
fino por aspersión. El producto secado por aspersión puede
comprender un polvo o puede comprender un revestimiento en polvo
sobre un substrato.
Los fluidos SC adecuados para su uso en la
presente invención pueden comprender dióxido de carbono, amoniaco,
N_{2}O, metano, etano, etileno, propano, clorotrifluorometano,
trifluoroetano, trifluoropropano y monofluorometano.
Preferentemente, el fluido SC comprende dióxido de carbono o
propano. Los fluidos SC se pueden usar en una cantidad total de
entre 5 y 90% en peso, preferentemente entre 20 y 80% en peso,
basado en el peso total de la suspensión supercrítica resultante.
En la extrusión supercrítica, por ejemplo, el fluido SC puede usarse
preferentemente en una cantidad de entre 5 y 60% en peso, basado en
el peso de la suspensión supercrítica resultante, y el resto del
fluido SC se carga después en un o más de un aparato situado
corriente abajo de la extrusora. En el secado por aspersión
supercrítico, se puede cargar en la boquilla rociadora todo el
fluido SC usado en el procesamiento.
Se pueden combinar codisolventes con fluidos SC.
Tales codisolventes pueden ayudar a disolver completamente algunos
componentes de una mezcla de polvo en una extrusora, bomba de
engranajes o bomba de fusión, mezclador estático, homogeneizador o
boquilla rociadora. Cualquier disolvente o mezcla de disolventes que
sea miscible con el fluido SC y que sea un buen disolvente para un
componente de una composición en polvo es un codisolvente adecuado.
Entre los codisolventes adecuados se pueden incluir
tetrahidrofurano, cetonas tales como acetona, metil etil cetona,
metil isobutil cetona, ciclohexanona y otras cetonas alifáticas;
ésteres tales como acetato de metilo, acetato de etilo, ésteres
alquil carboxílicos; éteres tales como metil t-butil
éter, dibutil éter, metil fenil éter, y otros éteres aromáticos de
alquilo o alifáticos; glicol éteres tales como etoxietanol,
butoxietanol, propoxietanol, butoxipropanol y otros glicol éteres;
ésteres de glicol éter tales como acetato de butoxietoxilo,
propionato de etil etoxilo y otros ésteres de glicol éter; alcoholes
tales como metanol, etanol, propanol, 2-propanol,
butanol, alcohol de amilo y otros alcoholes alifáticos; e
hidrocarburos aromáticos tales como tolueno, xileno y otros
compuestos aromáticos o mezclas de disolventes aromáticos; y nitro
alcanos tales como 2-nitro propano. Los
codisolventes se pueden añadir siempre que haya fluido SC presente y
se pueden añadir en una cantidad de entre 0 y 50% en peso,
preferentemente entre 0 y 15% en peso, basado en el peso total de
la suspensión supercrítica de polvo resultante.
De acuerdo con el procedimiento preferido para
fabricar un polvo, se puede secar por aspersión una emulsión de
dicho polvo, el polvo se puede extrudir, bombear, homogeneizar o
mezclar en un fluido supercrítico y, opcionalmente en presencia de
un codisolvente, para formar una suspensión supercrítica, y a
continuación secar por aspersión dicha suspensión supercrítica, o,
en una combinación de los procedimientos preferidos, se puede secar
una emulsión de la composición para fabricar un polvo y,
opcionalmente procesarse en fluido SC en una o más de una bomba,
homogeneizador, o mezclador estático, y a continuación secar por
aspersión dicha suspensión supercrítica.
Para fabricar un revestimiento en polvo de
acuerdo con la presente invención, el polvo de revestimiento se
aplica del modo usual, por ejemplo, electrostáticamente, al
substrato que se vaya a revestir, opcionalmente precalentado,
pretratado o imprimado. Un substrato tratado se puede calentar hasta
200 grados F (93 grados C), preferentemente entre 165 y 185 grados
F (de 74 a 85 grados C) para facilitar el flujo uniforme del polvo
sobre el substrato. Se pueden aplicar polvos con un tamaño de
partícula pequeño (de 5 a 20 micrómetros de tamaño medio de
partícula) desde un lecho fluidificado, un cepillo magnético o una
boquilla rociadora en un fluido SC o una boquilla asistida por aire
en aire a alta presión. Generalmente se emplean cabinas de rociado
electroestático que alojan bancos de descarga por efecto corona o
pistolas triboeléctricas y recirculadores para hacer recircular los
polvos rociados en exceso de nuevo a la alimentación de polvo.
El tipo de substrato no está particularmente
limitado, e incluye tanto substratos resistentes al calor, tales
como metal, vidrio, acero, cerámica, carbono y grafito, como a
substratos sensibles al calor. Entre los ejemplos de substratos
sensibles al calor se incluyen madera, como por ejemplo maderas
naturales tales como madera dura; tablero duro, bambú laminado,
materiales compuestos de madera, tales como tablero de partículas,
tablero de partículas conductor de la electricidad, cartón duro de
densidad alta, media o baja, tablero de masonita, bambú laminado, y
otros substratos que contienen una cantidad considerable de madera.
Estos substratos pueden rellenarse, pretratarse, o imprimarse con
líquidos curables por radiación ultravioleta, imprimaciones en
polvo, o disolventes o revestimientos suspendidos en agua, tales
como agentes antiestáticos para mejorar la suavidad y reducir las
acumulaciones requeridas de la película. Cualquier disolvente o agua
presente en un substrato puede vaporizarse térmicamente del modo
descrito en la fusión térmica previamente al revestimiento de polvo.
Entre otros substratos sensibles al calor adecuados se incluyen,
por ejemplo, plásticos tales como resinas poliméricas de
acrilonitrilo butadieno estireno (ABS), resinas de polifenilén éter
(PPO), componentes moldeados en láminas (SMC), poliolefinas,
poliolefinas termoplásticas (TPO), policarbonatos, acrílicos,
nilones, otros copolímeros que pueden deformarse o desgasificarse
cuando se revisten y se calientan con polvos de revestimiento
tradicionales curables por calor, y papel, cartón y materiales
compuestos y componentes que posean un carácter sensible al
calor.
Después de aplicarse revistiendo el substrato, se
puede hacer que la capa de polvo de revestimiento fluya hacia
fuera, por ejemplo, mediante la exposición a infrarrojos (IR) para
crear un revestimiento que posea un perfil más consistente.
A continuación, la capa de polvo de revestimiento
se expone a una cantidad de calor eficaz para fusionar (es decir,
fundir) los polvos para obtener una película fundida, suave y
continua. El substrato puede calentarse en el momento de la
aplicación (precalentarse) y/o posteriormente (postcalentarse) para
efectuar la fusión por calor y la formación de la película. El
calentamiento puede realizarse en hornos de infrarrojos, de
convección, o en una combinación de ambos. Cuando se revisten
substratos sensibles al calor, tales como artículos de madera, se
pueden emplear las etapas de precalentamiento y postcalentamiento
para hacer posible una fusión y fluencia más rápidas. Con los
artículos de plástico, el precalentamiento se elimina
preferentemente para limitar la exposición al calor y evitar la
deformación del plástico.
La fusión térmica transcurre generalmente durante
un tiempo eficaz para desgasificar los volátiles del substrato, lo
que evita la formación de defectos superficiales tales como
ampollas, cráteres, y picaduras durante el curado. Preferentemente,
la viscosidad del flujo de la composición del revestimiento en polvo
es lo suficientemente bajo como para producir un revestimiento
suave sobre el substrato. De acuerdo con la presente invención, los
polvos de revestimiento se fusionan térmicamente durante entre 10
segundos y 10 minutos, preferentemente entre 20 segundos y 5
minutos, y más preferentemente entre 30 segundos y 3 minutos. A
medida que aumenta la temperatura de la fusión térmica, son
necesarios unos tiempos de fusión térmica más cortos. De acuerdo con
la presente invención, los polvos de revestimiento se fusionan
térmicamente a entre 120 y 350ºF (49 y 177ºC), preferentemente
entre 150 y 300ºF (65 y 149ºC), y más preferentemente de 180 a 270ºF
(82 y 132ºC). Por ejemplo, los revestimientos en polvo se pueden
fusionar térmicamente a entre 250ºF (121ºC) y 270ºF (132ºC) durante
1 minuto.
Después de que el polvo de revestimiento se haya
fusionado térmicamente sobre el substrato, se puede dejar enfriar,
y después se expone a una fuente de radiación eficaz para activar el
fotoiniciador. Preferentemente, la exposición es a una fuente de
luz ultravioleta, tal como una lámpara de vapor de mercurio estándar
de presión media, una lámpara de vapor de mercurio dopado con
hierro, y/o una lámpara de vapor de mercurio dopado con galio, por
ejemplo, las lámparas Fusion H, D y/o V, respectivamente, de 600
vatios, para curar rápidamente las películas de revestimiento y
obtener unos acabados de bajo brillo suaves y endurecidos. Si se
desea, se puede usar una radiación de luz visible o de haz de
electrones en lugar de la radiación ultravioleta. La activación y
el curado de los iniciadores de radicales libres en el revestimiento
tarda típicamente entre 1 milisegundo y 10 segundos, y típicamente
menos de 3 segundos, dependiendo de las composiciones y
fotoiniciadores particulares.
Los polvos de revestimiento se aplican
generalmente para lograr un espesor del revestimiento en polvo de
entre 0,5 mils (0,0122 milímetros, "mm") y 25 mils (0,635 mm),
preferentemente entre 1,0 y 6,0 mils (de 0,038 a 0,245 mm), más
preferentemente entre 1,0 y 4,0 mils (de 0,0245 a 0,102 mm). Tal
como se menciona anteriormente, los revestimientos son suaves, y
tienen un bajo brillo sin el uso en el revestimiento de agentes
deslustradores que puedan romper la superficie hasta el
revestimiento. También se pueden curar a temperaturas muy bajas,
por ejemplo entre 150 y 180ºF (de 65,6 a 82,2ºC).
A lo largo de todo el procedimiento de
revestimiento previo al enfriamiento de un revestimiento aplicado,
la superficie del substrato revestido no debería exceder de 200
grados F (93 grados C), y no debería exceder preferentemente de 165
a 185 grados F (74 a 85 grados C) durante ninguna parte del
procedimiento de revestimiento. Siempre que el revestimiento se
fusione y se cure, cuanto más baja sea la temperatura del substrato,
mejor será la calidad de las propiedades de bajo brillo y de
suavidad en el revestimiento de los productos.
Ahora se describirán detalladamente algunas
formas de realización de la invención en los siguientes
ejemplos.
Se midió el brillo a 60º según una versión
modificada de ASTM D 523 usando un medidor de brillo BYK Gardner
Micro TRI.
La resistencia a la metil etil cetona
(resistencia MEK), un índice de la resistencia al disolvente y una
indicación de la densidad de reticulación, se midió del siguiente
modo. Se empapó un algodón en MEK y se frotó con una presión
moderada en un movimiento hacia atrás y hacia delante ("una pasada
doble") 50 veces. Se dio un índice relativo en una escala de 1 a
5 definiéndose un índice de 5 como el más resistente al disolvente y
un índice de 1 justificado cuando el revestimiento puede eliminarse
completamente durante el procedimiento para dejar al descubierto el
substrato desnudo. Más concretamente, un índice de 5 corresponde a
"sin desprendimiento", 4 a "un ligero desprendimiento", 3
a "un desprendimiento moderado", 2 a "un desprendimiento
grave" y 1 a "un desprendimiento completo hasta al
substrato".
La suavidad PCI se refiere a la suavidad de un
revestimiento cuando se compara visualmente con un conjunto de
estándares que asignan un índice numérico desde 1 (texturizado)
hasta 10 (muy liso). Los estándares PCI para la suavidad se hallan
disponibles a través ACT Laboratories, Inc. de Hillsdale,
Michigan.
La perfilometría mide la variación local del
revestimiento a lo largo de un centímetro lineal pasando lentamente
la punta de una bola de 12,5 micrómetros de un perfilómetro a lo
largo de una línea de 1 centímetro sobre la superficie del
revestimiento. La variación local de un revestimiento se refiere a
la distancia lineal (altura) en micrómetros entre un pico y su
valle adyacente o entre un valle y su pico adyacente.
Se preparó un polvo de revestimiento que
comprende los componentes en las cantidades que se muestran en la
Tabla 1. Los componentes se mezclaron y se extrudieron usando una
extrusora de coamasado PR-46 Buss a una temperatura
de 25ºC. El material extrudido se trituró usando una trituradora
Brinkman, y después se cribó a través de un filtro de malla de 325
para eliminar las partículas gruesas.
Componente | Partes por cien (pcr) de resina |
Metacrilato epoxídico de bisfenol A | 20 |
Poliéster insaturado | 60 |
Diviniléter | 20 |
Dimetoxi fenilacetofenona | 2,0 |
Oligómero acrílico - modificador de flujo | 1,0 |
Agente deslustrador de cera | 5,0 |
Tensioactivo no iónico fluorado | 0,5 |
El polvo de revestimiento resultante se aplicó
después electrostáticamente a un bloque de madera dura de arce de 6
x 6 x ¾ de pulgada (15 x 15 x 1,8 centímetros). El substrato sólido
de arce se precalentó durante 30 segundos a 300ºF (149ºC) de forma
que su superficie alcanzara 120ºF (49ºC). El polvo de revestimiento
se aplicó electrostáticamente al substrato, y seguidamente se
postcalentó para que fluyera durante 30'' usando calor infrarrojo
al 50% (med. Wave) (450ºF, 232,2ºC) para lograr una temperatura
superficial de 165ºF (74ºC). El polvo de revestimiento se curó
después mediante una exposición a una lámpara V/H de 600 vatios
durante 1 segundo para formar un polvo de revestimiento que tenía
un espesor de película de 1,0 a 1,6 mils (25,4 a 40,6 micrómetros)
y las siguientes características que se muestran en la tabla 2:
Ensayo | Resultados |
Brillo Gardner 60º | 25 a 35 unidades |
Resistencia MEK (50 pasadas dobles) | Sin desprendimiento (excelente) |
Suavidad | 8 (estándar PCI) |
Tal como se muestra en la tabla 2, el
revestimiento en polvo resultante posee un acabado de bajo brillo
medido según una escala de brillo de Gardner de 60º. A diferencia
de esto, un revestimiento similar curado térmicamente requeriría un
precalentamiento de 10 minutos a 375ºF (190,6ºC) y un
postcalentamiento de 5 minutos a 375ºF (190,6ºC) en una pulgada
(2,54 cm) de MDF, y requerirían unas temperaturas de curado de 250 a
375ºF (121 a 190,6ºC) para producir unos resultados similares.
El polvo de revestimiento del ejemplo 1 puede
aplicarse a menores temperaturas tanto de precalentamiento como de
postcalentamiento, que se muestran y se curan mediante ultravioletas
a menores temperaturas de curado que las que se muestran en el
ejemplo.
Ejemplos 2A y
2B
La formulación del polvo usada en el ejemplo se
procesó y se revistió del mismo modo que en el ejemplo 1, a
excepción de que, antes de aplicar el revestimiento, el polvo de
revestimiento se trituró finamente en un molino a chorro (ejemplo
2A) y en un molino de clasificación por aire (Brinkmann Mill)
(ejemplo 2B). Los revestimientos en polvo tenían las propiedades
que se muestran en la tabla 3.
\vskip1.000000\baselineskip
Etapa de triturado del polvo | ||
Ejemplo 2A | Ejemplo 2B | |
Molino microjet modelo Fluid Energy 00 | Brinkman Grind con un filtro de malla 0,5, | |
Propiedad | Boquilla trituradora 90 psi | rotor de 12 puntas, después cribado |
Boquilla empujadora 40 psi | a alta velocidad, malla 270 | |
Espesor | 0,8 a 0,9 mils | 1,4 a 1,7 mils |
(20,32 a 22,86 \mum) | (35,56 a 43,18 \mum) | |
Aspecto | Sin textura visible | Ligera textura visible |
Brillo 60º | 19 | 14 |
Resistencia MEK | Ligero desprendimiento | Ligero desprendimiento |
(50 pasadas dobles) | ||
Tamaño medio de | 9,25 micrómetros | 23,5 micrómetros |
partícula | ||
Formación de puentes | Ninguna | Ligera |
en grano |
\newpage
Tal como puede observarse en el ejemplo 2A, un
polvo con un tamaño de partícula pequeño eliminará sorprendentemente
la formación de puentes en el grano abierto y proporcionará un
polvo con un aspecto de madera natural antes de revestir un
substrato proporciona un revestimiento muy delgado curado por UV que
tiene un brillo muy bajo, una suavidad (aspecto) entre buena y
excelente, y una notable resistencia MEK para un revestimiento en
polvo transparente curado por UV sobre madera dura. Como puede
observarse en el ejemplo B, el triturado de un polvo en un molino
Brinkman reducirá considerablemente la formación de puentes y
proporcionará un revestimiento suave y microtexturizado con una
textura visible mínima.
Ejemplos 3 y
4
Los revestimientos en polvo se procesaron y se
aplicaron de la misma manera que en el ejemplo 1, a excepción de
que se aplicaron sobre un panel de latón pulido. En el ejemplo 3 se
trituraron dos veces en un molino Brinkman hasta un tamaño medio de
partícula de 21 micrómetros, y en el ejemplo 4 se trituraron dos
veces en un molino Brinkman y después se cribaron a través de un
filtro de malla de 325 hasta un tamaño medio de partícula de 20
micrómetros.
Cada uno de los revestimientos de los ejemplos 3
y 4 proporcionaron una superficie suave y microtexturizada sobre la
madera dura y un bajo brillo. Cada revestimiento tenía un espesor de
un mil o 25,4 micrómetros. En el revestimiento del ejemplo 3, los
datos de perfilometría muestran que el 87 por ciento de las
variaciones locales en el revestimiento fueron de menos de seis
micrómetros desde un pico hasta un valle. En el revestimiento del
ejemplo 4, los datos de perfilometría mostraron que el 92 por ciento
de las variaciones locales en el revestimiento fueron de menos de
4,5 micrómetros desde un pico hasta un valle.
Claims (9)
1. Una composición de un polvo, que
comprende:
(i) una o más de una resina epoxídica curable por
radicales libres y una o más de una segunda resina curable por
radicales libres, o, como otra posibilidad,
(ii) una o más de una resina de poliéster
insaturada curable por radicales libres combinada con una o más de
una cera;
uno o más de un fotoiniciador de radicales
libres;
una o más de una resina reticulante cristalina; y
opcionalmente,
un catalizador de curado térmico,
caracterizada porque el polvo de
revestimiento tiene un tamaño medio de partícula de 5 a 25
micrómetros.
2. Una composición de un polvo según la
reivindicación 1, en la que dicha una o más de una resina
reticulante cristalina se encuentra presente en una cantidad de
entre 1 y 50 partes por cien partes de resina.
3. Una composición de un polvo según la
reivindicación 1, que comprende de 5 a 60 partes por cien partes de
resina (pcr) de dicha una o más de una resina epoxídica curable por
radicales libres y de 5 a 95 pcr de dicha una o más de una segunda
resina curable por radicales libres.
4. Una composición de un polvo según la
reivindicación 3, en la que dicha segunda resina curable por
radicales libres comprende una o más de una resina de poliéster
insaturada, y también en la que dicha composición comprende además
una o más de una cera.
5. La composición de polvo según las
reivindicaciones 1 a 4, en la que dicha composición de polvo tiene
una polidispersidad del tamaño de partícula (pD) de entre 1,5 y
4,5.
6. Un procedimiento para fabricar un
revestimiento que tenga un acabado de bajo brillo, que comprende la
disposición de una capa de una composición de un polvo, según
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, sobre un substrato;
la fusión de la composición de polvo dispuesta,
para formar un revestimiento en polvo; y
el curado de dicho revestimiento en polvo para
lograr un nivel de brillo de entre 1 y 50 en la escala de brillo
Gardner de 60º.
7. El procedimiento de la reivindicación 6, en el
que el substrato comprende madera, madera dura, tablero duro, bambú
laminado, materiales compuestos de madera, tablero de partículas,
tablero de partículas conductor eléctrico, tablero duro de alta
densidad de fibras, tablero duro de densidad media de fibras,
tablero duro de baja densidad de fibras, tablero de masonita, bambú
laminado, copolímeros de acrilonitrilo butadieno estireno,
copolímeros de óxido de polifenileno, componentes moldeados en
láminas, poliolefinas, policarbonatos, acrílicos, nilones, papel,
tablero, metal, vidrio, acero, cerámica, carbono, grafito, o una
combinación que comprende al menos uno de los substratos
anteriores.
8. Un artículo revestido con un polvo según el
procedimiento de una cualquiera de las reivindicaciones 6 a 7.
9. Un procedimiento para fabricar una composición
de un polvo según la reivindicación 5, que comprende al menos uno
seleccionado entre el grupo constituido por:
formación de una emulsión acuosa de dicha
composición, seguida por el secado por aspersión de dicha emulsión
para formar un polvo;
extrusión de dicha composición en un fluido
supercrítico para formar una suspensión supercrítica, seguida del
secado por aspersión de dicha suspensión supercrítica para formar un
polvo;
extrusión de dicha composición en un fluido
supercrítico en presencia de un codisolvente para formar una
suspensión supercrítica, seguida del secado por aspersión de dicha
suspensión supercrítica para formar un polvo; y
extrusión de dicha composición para formar una
mezcla fluida, seguida del secado por aspersión de dicha mezcla
fluida para formar un polvo.
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