ES2228963T3 - Metodo para separar una pelicula y un sustrato. - Google Patents
Metodo para separar una pelicula y un sustrato.Info
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Abstract
Método para separar una película (1) y un sustrato (2) en el que está dispuesta una capa de sacrificio (7) entre la película y el sustrato, comprendiendo el método las siguientes etapas: a) se dispone sobre la película (1), una parte como mínimo, de una hoja (5), por lo que se produce un contacto adhesivo entre la película y la hoja; b) estando la hoja y la película en contacto adhesivo a continuación se doblan hacia afuera del sustrato (2); y c) la película (1) se separa de forma ininterrumpida del sustrato (2), en el que la capa de sacrificio (7) se separa parcialmente, como mínimo, durante la etapa c) con la ayuda del ataque con ácido, facilitando de este modo la separación de la película del sustrato, caracterizado porque, como mínimo, una parte de la hoja (5) se une a una superficie circunferencial de un rodillo (10), cuya superficie circunferencial (14) toca prácticamente el sustrato (2), y en el que durante la etapa b) el sustrato con la película, con relación al rodillo (10) se alimenta al rodillo, mientras el rodillo se hace girar de modo que durante la etapa c) una parte en aumento de la película (1) se dobla alrededor de la superficie circunferencial (14), mientras una parte en aumento del sustrato (2) del cual se ha separado la película se lleva, con relación al rodillo, fuera del rodillo.
Description
Método para separar una película y un
sustrato.
La presente invención se refiere a un método para
separar una película y un sustrato, en el que está dispuesta una
capa de sacrificio entre la película y el sustrato, comprendiendo el
método las siguientes etapas: a) se dispone, como mínimo, sobre la
película una parte de una hoja, por lo que se produce un contacto
adhesivo entre la película y la hoja; b) estando la hoja y la
película en contacto adhesivo, a continuación se doblan hacia afuera
del sustrato; y c) la película se separa de forma ininterrumpida del
sustrato, en el que la capa de sacrificio es, como mínimo,
parcialmente eliminada, como mínimo, durante la etapa c) con la
ayuda del ataque con ácido, facilitando de este modo la separación
de la película del sustrato.
Tal método es conocido por sí mismo a partir del
documento US-A-4883561. Tal método
encuentra aplicación allí donde la separación de una película y un
sustrato ha de tener lugar después que la película ha sido dispuesta
sobre el sustrato con la ayuda de un proceso de crecimiento,
diseñado especialmente para dicho propósito, o de acuerdo con un
método diferente de producción. La aplicación concierne en
particular a la separación desde un sustrato de una película
semiconductora monocristalina que es adecuada para la producción de
componentes optoelectrónicos. Pueden ser considerados aquí, por
ejemplo, los diodos emisores de luz, los láseres y las células
solares. Tal película consiste típicamente en una estructura
construida de varias capas, que ha sido depositada sobre un sustrato
que tiene una estructura atómica adecuada para ello. Típicamente el
sustrato es de un grado elevado de calidad y costoso. Es por lo
tanto importante que el sustrato, después de despojarlo de la
película, pueda ser utilizado de nuevo para disponer encima del
mismo una nueva película. Típicamente la película corresponde a una
placa delgada tipo oblea y posiblemente incluso a una película
monocristalina, que además puede ser muy frágil. El término
película, en este contexto, comprende una película cuyo espesor, por
ejemplo, está entre 10 nanómetros y 100 micrómetros. En un método
conocido, durante la separación de la película del sustrato, el
sustrato está suspendido de una varilla, de modo que la película
está situada debajo del sustrato en un plano orientado
horizontalmente o diagonalmente. Una parte de una hoja está
dispuesta sobre la película, por lo que se produce un contacto
adhesivo entre la película y la hoja, que puede tener lugar, por
ejemplo, porque la hoja está dotada de una capa ligeramente
adherente en la superficie. Estando la hoja y la película en
contacto adhesivo, a continuación se doblan hacia afuera del
sustrato por suspensión de un peso desde una parte de la hoja no en
contacto con la película. De este modo se curva la parte de la hoja
situada entre el punto de acoplamiento del peso y el punto en que la
hoja hace contacto con la película. Puesto que la película está en
contacto adhesivo con la hoja, la película se dobla cierta magnitud
hacia fuera desde el sustrato. De este modo, cuando el vínculo entre
la película y el sustrato es suficientemente débil, la película se
separará del sustrato. Una desventaja de este método es que la
curvatura de la película y de la hoja, en el punto en que la
película se separa del sustrato, cambia según que una parte mayor de
la película se haya separado del sustrato. Esta curvatura puede
llegar a ser tan grande, es decir, el radio de curvatura de la parte
de hoja curvada llega a ser tan pequeño, que se rompe la película,
que se había hecho crecer cuidadosamente. Un problema todavía mayor
es que la hoja puede empezar a vibrar, lo cual ocasiona una
variación de la curvatura de la hoja y puede acompañarse por la
formación de una rotura progresiva en la película.
La capa de sacrificio debe entenderse en este
contexto que significa una capa cuya composición química es
diferente de la de la película y de la del sustrato. Esta capa de
sacrificio dispuesta deliberadamente comprende, como mínimo, una
capa atómica. En este caso, una función del doblado de la hoja y de
la película en un contacto adhesivo comprende a continuación además
mantener abierta una hendidura que, parcialmente, como resultado del
proceso de atacado con ácido, se forma entre el sustrato y la
película que se separa del sustrato.
El objetivo de la invención es controlar la
curvatura de la hoja durante la separación de la película del
sustrato.
El objetivo mencionado se ha conseguido con el
método según la invención, que se caracteriza porque, como mínimo,
una parte de la hoja se une a una superficie circunferencial de un
rodillo, cuya superficie circunferencial toca prácticamente el
sustrato, y en el que durante la etapa b) el sustrato con la
película, se suministra al rodillo, mientras el rodillo se hace
girar de tal modo que durante la etapa c) una parte creciente de la
película se dobla alrededor de la superficie circunferencial,
mientras una parte creciente del sustrato del cual se ha separado la
película, con respecto al rodillo, se lleva fuera del mismo.
Esto proporciona la ventaja de que la hoja, en el
punto en que la película se separa del sustrato, inicia su curvatura
siguiendo la curva del rodillo. La curvatura, o el radio de
curvatura, del rodillo se selecciona de modo que sea suficientemente
grande para separar la película del sustrato, pero suficientemente
pequeño para evitar la rotura de la película. La curvatura no
disminuirá o aumentará cuando una parte creciente de la película se
separe del sustrato. Por consiguiente, es mínima la probabilidad de
dañar la película y/o el sustrato. Además, la película está
soportada por la hoja, tanto durante la separación como directamente
después de la separación del sustrato, lo cual también impide
sustancialmente cualquier probabilidad de daño directo de la
película, después de la separación del sustrato.
Otra realización preferente del método según la
invención se caracteriza porque, como mínimo, durante la etapa c) el
sustrato se lleva afuera del rodillo, sustancialmente en vertical
hacia arriba. Esto proporciona la ventaja de que el agente de ataque
se recoge en la hendidura, que se forma parcialmente por la película
curvada y el sustrato, para hacer posible que la capa de sacrificio
sea atacada y eliminada por ácido. Si, por contraste, en el conocido
método de la capa de sacrificio dispuesta entre la película y el
sustrato debiera ser atacada por ácido por el agente de ataque, el
agente de ataque se mantiene en posición exclusivamente por una
acción de capilaridad, lo cual significa que las tensiones
superficiales juegan un papel codeterminante en la forma en que el
agente de ataque llega al contacto con la capa de sacrificio. En
esta realización según la invención, la gravedad y la orientación de
la hendidura determinan notablemente la manera en que el agente de
ataque llega al contacto con la capa de sacrificio. En este caso, no
es posible que el agente de ataque, como resultado de tensiones
superficiales desfavorables, fluya fuera de la capa de
sacrificio.
Una realización particular del método según la
invención se caracteriza porque, como mínimo, durante la etapa c) el
agente de ataque se suministra en una posición tal que el agente de
ataque fluye a la capa de sacrificio por la influencia de la
gravedad. Esto proporciona la ventaja de que la administración del
agente de ataque puede tener lugar a alguna distancia de la
hendidura, que está formada por la película curvada y el sustrato,
de modo que se necesitan imponer requerimientos menos rigurosos
sobre la precisión de la posición en la que el agente de ataque se
libera desde un instrumento de administración del agente. Además, la
probabilidad de que el instrumento de administración del agente haga
tope accidentalmente contra la frágil película o la hoja, y la
película se rompa, se vuelve menor porque puede mantenerse una
distancia de seguridad entre la película y el instrumento de
administración del agente.
Una realización particular del método según la
invención se caracteriza porque, como mínimo, durante la etapa c) el
rodillo está inclinado ligeramente, de modo que la hendidura y la
capa de sacrificio están orientadas con una ligera inclinación a lo
largo del sustrato. Esto proporciona la ventaja de que el agente de
ataque puede ser suministrado en una posición tan elevada sobre la
hendidura orientada con una ligera inclinación a lo largo del
sustrato, que el agente de ataque puede fluir a lo largo de la capa
de sacrificio completa por influencia de la gravedad. Además, esto
proporciona la ventaja de que el agente de ataque se refresca
continuamente, que los productos del ataque por ácido se descargan,
y que la capa de sacrificio completa, tal como está expuesta allí
donde la película se dobla hacia afuera desde el sustrato, puede ser
separada con la ayuda del ataque por ácido. El refrescado del agente
de ataque lleva también a que se acelere el proceso de ataque con
ácido. En el método conocido, podría haber sido necesario tener
cuidado con que el agente de ataque se provea o se refresque a lo
largo de la capa de sacrificio completa tal como está expuesta allí
donde la película se curva desde el sustrato, con la ayuda de su
inyección, por ejemplo. En el método conocido, esta inyección, en
vista de la presión mecánica ejercida comporta adicionalmente la
probabilidad de una curvatura indebida de la hoja y/o formación de
rotura en la película.
Una realización todavía más avanzada del método
según la invención se caracteriza porque durante la etapa c), antes
de que la película completa haya sido separada del sustrato, como
mínimo, se detiene el giro del rodillo, mientras la parte última de
la película se separa del sustrato únicamente por ataque con ácido y
eliminación de la capa de sacrificio, de modo que se evita un
posible desmenuzado de la parte última de la película y/o del
sustrato. Cuando solo una pequeña superficie de la película está
todavía en contacto con el sustrato, las fatigas de doblado pueden
no ser absorbidas por más tiempo por una parte de película que
todavía está doblada fuera del sustrato. Localmente, entonces, el
alargamiento atendiendo a los esfuerzos, puede exceder el
alargamiento máximo permisible de la película, lo cual puede llevar
al desmenuzamiento de la parte última de la película. Con la medida
mencionada, antes de que ocurra la situación de desmenuzamiento, la
capa de sacrificio se elimina solamente por medio de atacado con
ácido, sin que la película se doble más afuera del sustrato. Así, la
parte última de la película se separa del sustrato, aunque algo más
lentamente que la primera parte, en tanto se evita el
desmenuzamiento de la parte última de la película. Preferentemente,
tanto el giro del rodillo y el desplazamiento del sustrato con
relación al rodillo se detienen cuando la película se separa del
sustrato solo por atacado con ácido y eliminación de la capa de
sacrificio.
La invención será explicada a continuación
haciendo referencia a los dibujos. En los dibujos:
La figura 1a muestra un método conocido para
separar una película de un sustrato;
la figura 1b muestra un método según la figura
1a, en el que la separación de la película del sustrato está en una
etapa más avanzada que la de la figura 1a;
la figura 2a muestra una realización de un método
según la invención;
la figura 2b muestra una realización según el
método, como se mostró en la figura 2a, en el que la separación de
la película del sustrato está en una etapa más avanzada que en la
figura 2a.
En la figura 1a, se muestra un método conocido
para separar una película (1) del sustrato (2). El sustrato (2) está
dispuesto en la cara extrema inferior (3) de una varilla (4) que
está, por ejemplo, dirigida verticalmente hacia arriba y sirve como
soporte del sustrato. Una parte de una hoja (5) está dispuesta sobre
la película (1). La hoja (5) está en contacto adhesivo con la
película (1). Un peso (6) está suspendido de una parte de la hoja
(5) que no está en contacto adhesivo con la película (1). De este
modo la hoja se dobla fuera del sustrato (2). Dando una unión
suficientemente débil entre la película (1) y el sustrato (2), la
película (1) se separa del sustrato (2) mediante el curvado de la
hoja (5). Como resultado, la hoja (5) se dobla hacia afuera todavía
más desde el sustrato. Como resultado, una parte en aumento de la
película (1) se separa del sustrato (2). Este método conocido para
separar una película (1) de un sustrato (2) se utiliza a menudo en
combinación con el uso de una capa de sacrificio (7), que está
dispuesta entre la película (1) y el sustrato (2). La capa de
sacrificio (7) puede eliminarse por ataque con ácido mediante un
agente de ataque (8). El agente de ataque (8), debido a una acción
capilar, puede desplazarse dentro de la hendidura (9) que se forma
entre la parte curvada de la película (1) y el sustrato (2). La
curvatura de la hoja (5) y la película (1) pueden, en una primera
aproximación, ser descritas por una radio de curvatura (R). Cuando
una parte en aumento de la película (1) se separa del sustrato (2),
el radio de curvatura (R) puede disminuir. Los esfuerzos que se
presentan en la película llevan eventualmente a formación de rotura
en la película (1). Debido a ciertas condiciones, la hoja (5) puede
empezar a vibrar, lo cual comporta una variación de curvatura de la
hoja (5) y es acompañada a menudo por una progresiva formación de
rotura en la película (1). Además, el agente de ataque (8), con un
radio decreciente de curvatura (R), es decir, con una curvatura en
aumento de la parte de la película (1) que se separa del sustrato
(2), puede fluir fuera de la hendidura (9) por influencia de la
gravedad. El refrescado del agente de ataque (8) tendrá que tener
lugar enérgicamente, por ejemplo, mediante su inyección, que se
acompaña por una presión mecánica ejercida sobre la hoja (5) y/o la
película (1), frágil y hecha crecer cuidadosamente. Esto también,
debido al cambio en la curvatura de la hoja (5), puede llevar a la
rotura de la película (1).
Se muestra en la figura 2a una realización del
método según la invención. Una parte de la hoja (5), en este método,
se fija a una superficie circunferencial (14) de un rodillo (10). La
superficie circunferencial (14) toca prácticamente el sustrato (2).
Una parte de la hoja (5) está en contacto adhesivo con la película
(1). El sustrato (2), con la película (1), se suministra al rodillo
(1), mientras el rodillo (10) se hace girar de modo que una parte en
aumento de la película (1) se curva alrededor de la superficie
circunferencial (14), mientras una parte en aumento del sustrato
(2), con relación al rodillo (10), se lleva fuera del rodillo (10).
De esta manera, la película (1) se separa del sustrato (2). La
dirección en la que el rodillo (10) gira se indica en la figura 2a
con la flecha (11). Una capa de sacrificio (7) se expone a un agente
de ataque (8) porque la hoja (5) y la película (1) se doblan hacia
afuera del sustrato (2). El agente de ataque (8) puede atacar la
capa de sacrificio (7), de modo que se facilita quitar la película
(1) del sustrato (2). El sustrato (2) se transporta sustancialmente
en vertical hacia arriba, desde el rodillo (10). El agente de ataque
(8) puede entonces ser suministrado en una posición seleccionada tal
que el agente de ataque (8), por la influencia de la gravedad,
desplaza la capa de sacrificio (7) expuesta en la hendidura (9). En
una realización muy especial, el rodillo puede inclinarse cierta
magnitud. Como resultado, la hendidura y la capa de sacrificio
presente en ella se orientan con una ligera inclinación a lo largo
del sustrato. Como resultado, el agente de ataque (8) puede ser
suministrado en una posición tal que el agente de ataque (8),
mientras fluye bajo la influencia de la gravedad, puede fluir a lo
largo de la capa de sacrificio (7) completa tal como está expuesta
allí donde la película (1) se dobla hacia afuera desde el sustrato
(2). Como resultado, tiene lugar un refrescado continuo del agente
de ataque (8), y los productos de ataque se descargan mejor (según
un método conocido). El sustrato (2) puede guiarse con ayuda de
sujeción o succión contra una pared (12), de manera tal que no
cambie la dirección y la orientación del sustrato (2) durante la
separación de la película (1) del sustrato (2). El rodillo (10) gira
a una velocidad angular \omega, mientras el sustrato (2), con
relación al rodillo (10), se desplaza a una velocidad V_{s}, con
V_{s} siendo prácticamente igual a \omega x R_{r}, donde
(R_{r}) corresponde al radio del rodillo (10). El agente de ataque
(8) y la capa de sacrificio (7) se hacen a medida uno de otra, de
modo que la capa de sacrificio (7) se ataca a una velocidad V_{c}
que en magnitud es, como mínimo, sustancialmente igual a la
velocidad de desplazamiento V_{s} del sustrato (2), y en dirección
es sustancialmente opuesta a la misma. Como muestra la figura 2b,
antes de que la película completa (1) haya sido separada del
sustrato (2), se detiene el giro del rodillo (10). Una última parte
de la película (1) se separa entonces del sustrato (2)
exclusivamente por ataque de la capa de sacrificio (7). Esto evita
el desmenuzado de la última parte de la película (1) y/o del
sustrato (2). En la práctica, el método se lleva a cabo de modo que
la capa de sacrificio (7) se ataca a una velocidad ligeramente mayor
que \omega x R_{r}. Sin embargo, si, debido a las
circunstancias, temporalmente se mantiene que la capa de sacrificio
(7) sea atacada y eliminada ligeramente más deprisa que \omega x
R_{r}, la eliminación por ataque de la capa de sacrificio (7)
resultará ligeramente más difícil porque la capa de sacrificio (7)
no ha sido capaz de exponerse todavía ella misma al agente de ataque
(8), puesto que in situ la película (1) con la hoja (5)
todavía no ha sido separada del sustrato (2) o no lo ha sido
suficientemente. A través de un proceso de mayor o menor
autorregulación, el ataque de la capa de sacrificio (7) será
realizado, por consiguiente, de modo que el ataque tenga lugar donde
la película (1) se separa del sustrato (2). Una separación, según la
invención, de una película monocristalina hecha crecer
cuidadosamente de un sustrato, por el cual se ataca una capa de
sacrificio incluida entre la película y el sustrato, puede tener
lugar con una velocidad de desprendimiento que está entre unos pocos
milímetros por hora y decenas de centímetros por hora.
En el método según la invención, la eliminación
por ataque de la capa de sacrificio (7) puede además no estar
limitada por la descarga de productos de ataque gaseosos, que es una
ventaja sobre un método conocido para separar una película (1) y un
sustrato (2), en el que el sustrato (2) puede hacer más difícil el
flujo hacia arriba de los productos del ataque.
La invención no está limitada en modo alguno a la
realización mostrada de ejemplo.
Aunque en la realización mostrada de ejemplo, una
hoja (5) se ha tratado como un material más flexible, enrollable,
semejante a una lámina, el término hoja dentro del contexto de la
invención comprende también un material que sea relativamente
rígido. En principio, cualquier superficie que esté dispuesta en la
película (1) y que puede curvarse parcialmente alrededor de un
objeto cilíndrico, o está conformada para curvarse, como mínimo,
siguiendo un radio de curvatura sustancialmente constante, dentro
del significado de la invención, puede ser considerado como una hoja
(5). De acuerdo con ello, también la hoja (5) puede, por ejemplo,
corresponder a una camisa fijada o enrollada en el rodillo (10).
El sustrato (2) puede ser mantenido en una
posición fija mientras se hace avanzar el rodillo (10), mientras
gira, sobre el sustrato (2), de manera que la película (1) se separa
del sustrato (2). El contacto adhesivo entre la hoja (5) y la
película (1) puede ser promovido al disponer una capa de cera entre
la hoja (5) y la película (1). El contacto adhesivo entre la
película y la hoja debe entenderse que comprende un contacto que
llega a ser adherente con la ayuda de una succión por vacío a través
de las aberturas de la hoja. La película, después de haber sido
separada del sustrato, puede ser transferida opcionalmente mediante
otra técnica a un soporte de otro material. La añadidura de la hoja
en la superficie circunferencial del rodillo también puede
realizarse con la ayuda de succión por vacío. La hoja también puede
ser fijada a la superficie circunferencial del rodillo por medio de
un agente que aumente la fricción y/o un medio de tensionado, de
modo que la hoja se soporte contra la superficie
circunferencial.
El método se presta asimismo en grado sumo a la
adaptación a las propiedades de la película (1) y del sustrato (2).
Así, el radio de curvatura R_{r} del rodillo (10) puede
seleccionarse de modo que aún una película (1) muy frágil pueda ser
separada del sustrato (2). Como ya se mencionó anteriormente, la
película puede comprender una película monocristalina. Resultará
evidente también que el uso de un rodillo con un radio que varíe
gradualmente de curvatura en la dirección radial y/o axial cae
dentro del método de la invención. En efecto, el control de la
curvatura de la hoja (5) puede tener lugar mientras que la hoja (5)
se dota de una superficie doblada gradualmente. También la rigidez
de la hoja (5) y la resistencia del contacto adhesivo entre la hoja
(5) y la película (1) pueden ser adaptadas a las condiciones
requeridas, tales como el espesor obtenido y la resistencia de
doblado de la película (1) y la resistencia de la ligazón entre la
película (1) y el sustrato (2). De esta manera, asimismo un gran
número de sustratos (2) con películas (1) dispuestas encima de ellos
pueden pasar en serie a lo largo del mismo gran rodillo (10),
mientras la película (1), se separa del sustrato (2) sin daño. El
método es por consiguiente altamente adecuado para productos de gran
calidad industrial. El agente de ataque y la estructura y/o la
composición de la capa de
sacrificio serán en muchos casos realizados a la medida uno de otro por la persona experta para conseguir una velocidad de ataque óptima mientras se mantiene una calidad de película adecuada. Si se desea, el agente de ataque puede también ser suministrado dentro de la hendidura (9) o en la capa de sacrificio (7) a través de una inyección vigorosa, evitando con ello una presión mecánica indebidamente alta. A través de la curvatura fija, se evitará la formación de rotura en la película (1). Como resultado, la velocidad de ataque aumenta, haciendo posible también por consiguiente una elevada velocidad angular del rodillo (10) y/o un radio mayor del rodillo (10), y una velocidad de desplazamiento más elevada del sustrato (2).
sacrificio serán en muchos casos realizados a la medida uno de otro por la persona experta para conseguir una velocidad de ataque óptima mientras se mantiene una calidad de película adecuada. Si se desea, el agente de ataque puede también ser suministrado dentro de la hendidura (9) o en la capa de sacrificio (7) a través de una inyección vigorosa, evitando con ello una presión mecánica indebidamente alta. A través de la curvatura fija, se evitará la formación de rotura en la película (1). Como resultado, la velocidad de ataque aumenta, haciendo posible también por consiguiente una elevada velocidad angular del rodillo (10) y/o un radio mayor del rodillo (10), y una velocidad de desplazamiento más elevada del sustrato (2).
Se comprende que tales modificaciones y
variaciones caen cada una dentro del alcance de la invención.
Claims (9)
1. Método para separar una película (1) y un
sustrato (2) en el que está dispuesta una capa de sacrificio (7)
entre la película y el sustrato, comprendiendo el método las
siguientes etapas: a) se dispone sobre la película (1), una parte
como mínimo, de una hoja (5), por lo que se produce un contacto
adhesivo entre la película y la hoja; b) estando la hoja y la
película en contacto adhesivo a continuación se doblan hacia afuera
del sustrato (2); y c) la película (1) se separa de forma
ininterrumpida del sustrato (2), en el que la capa de sacrificio (7)
se separa parcialmente, como mínimo, durante la etapa c) con la
ayuda del ataque con ácido, facilitando de este modo la separación
de la película del sustrato, caracterizado porque, como
mínimo, una parte de la hoja (5) se une a una superficie
circunferencial de un rodillo (10), cuya superficie circunferencial
(14) toca prácticamente el sustrato (2), y en el que durante la
etapa b) el sustrato con la película, con relación al rodillo (10)
se alimenta al rodillo, mientras el rodillo se hace girar de modo
que durante la etapa c) una parte en aumento de la película (1) se
dobla alrededor de la superficie circunferencial (14), mientras una
parte en aumento del sustrato (2) del cual se ha separado la
película se lleva, con relación al rodillo, fuera del rodillo.
2. Método, según la reivindicación 1,
caracterizado porque, como mínimo, durante la etapa c) el
sustrato (2) se lleva fuera del rodillo (10) sustancialmente en
vertical hacia arriba.
3. Método, según la reivindicación 2,
caracterizado porque, como mínimo, durante la etapa c) el
agente de ataque (8) se suministra en tal posición que el agente de
ataque, por la influencia de la gravedad,
fluye a la capa de sacrificio (7).
fluye a la capa de sacrificio (7).
4. Método, según la reivindicación 3,
caracterizado porque, como mínimo, durante la etapa c) el
rodillo (10) está ligeramente inclinado, de modo que la capa de
sacrificio (7) está orientada con una ligera inclinación a lo largo
del sustrato (2).
5. Método, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque, como
mínimo, durante la etapa c) el rodillo (10) se hace girar a una
velocidad angular \omega, mientras el sustrato (2) se desplaza a
una velocidad V_{s} con relación al rodillo (10), siendo V_{s}
sustancialmente igual a \omega x R_{r}, donde R_{r}
corresponde a un radio del rodillo.
6. Método, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque, como
mínimo, durante la etapa c) el agente de ataque (8) ataca y elimina
la capa de sacrificio (7) a una velocidad V_{c} que en magnitud
es, como mínimo, sustancialmente igual a V_{s} y en dirección
sustancialmente opuesto a V_{s}.
7. Método, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque, como
mínimo, durante la etapa c) se mantiene la orientación y la
dirección del sustrato (2) con relación al rodillo (10).
8. Método, según cualquiera de las
reivindicaciones 2-7, caracterizado porque
durante la etapa c) antes de que la película (1) completa se haya
separado del sustrato (2), como mínimo, se detiene el giro del
rodillo (10), mientras que una parte última de la película se separa
del sustrato solamente por ataque con ácido y eliminación de la capa
de sacrificio (7), evitando de esta manera el desmenuzado de la
última parte de la película (1) y/o del sustrato (2).
9. Método, según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores, en el que la hoja (5) es al mismo
tiempo camisa del rodillo (10).
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL1016431A NL1016431C2 (nl) | 2000-10-18 | 2000-10-18 | Werkwijze voor het scheiden van een film en een substraat. |
NL1016431 | 2000-10-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2228963T3 true ES2228963T3 (es) | 2005-04-16 |
Family
ID=19772266
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES01982937T Expired - Lifetime ES2228963T3 (es) | 2000-10-18 | 2001-10-17 | Metodo para separar una pelicula y un sustrato. |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6974521B2 (es) |
EP (1) | EP1328403B1 (es) |
AT (1) | ATE276883T1 (es) |
AU (1) | AU2002214397A1 (es) |
DE (1) | DE60105836T2 (es) |
ES (1) | ES2228963T3 (es) |
NL (1) | NL1016431C2 (es) |
WO (1) | WO2002032667A1 (es) |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP1314554A1 (fr) * | 2001-11-23 | 2003-05-28 | Kba-Giori S.A. | Dispositif de décollage d'éléments de sécurité |
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WO2008112660A1 (en) | 2007-03-09 | 2008-09-18 | Nexus Biosystems, Inc. | Device and method for removing a peelable seal |
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- 2000-10-18 NL NL1016431A patent/NL1016431C2/nl not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-10-17 US US10/399,418 patent/US6974521B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-10-17 DE DE60105836T patent/DE60105836T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-10-17 AU AU2002214397A patent/AU2002214397A1/en not_active Abandoned
- 2001-10-17 EP EP01982937A patent/EP1328403B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-10-17 ES ES01982937T patent/ES2228963T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-10-17 WO PCT/NL2001/000765 patent/WO2002032667A1/en active IP Right Grant
- 2001-10-17 AT AT01982937T patent/ATE276883T1/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL1016431C2 (nl) | 2002-04-22 |
DE60105836D1 (de) | 2004-10-28 |
EP1328403B1 (en) | 2004-09-22 |
WO2002032667A1 (en) | 2002-04-25 |
ATE276883T1 (de) | 2004-10-15 |
US6974521B2 (en) | 2005-12-13 |
US20040033651A1 (en) | 2004-02-19 |
EP1328403A1 (en) | 2003-07-23 |
AU2002214397A1 (en) | 2002-04-29 |
DE60105836T2 (de) | 2005-10-06 |
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