EP4359459A1 - Beschichtungsmittel und daraus erhältliche beschichtungen mit verbesserten anschmutzungsresistenzen und (selbst-)reinigungseigenschaften - Google Patents
Beschichtungsmittel und daraus erhältliche beschichtungen mit verbesserten anschmutzungsresistenzen und (selbst-)reinigungseigenschaftenInfo
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- EP4359459A1 EP4359459A1 EP22734954.5A EP22734954A EP4359459A1 EP 4359459 A1 EP4359459 A1 EP 4359459A1 EP 22734954 A EP22734954 A EP 22734954A EP 4359459 A1 EP4359459 A1 EP 4359459A1
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- C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D175/04—Polyurethanes
Definitions
- the invention relates to coating compositions containing polyisocyanates containing aminosilane groups and/or mercaptosilane groups, a stored mixture of hydroxyl-containing compounds and alkoxysilyl-functional siloxanes, and catalysts for the crosslinking of silane groups, the production of these coating compositions and the use for producing coatings on substrates , In particular plastic substrates, such as those used in the automotive industry.
- coating compositions according to the invention which, in addition to polyisocyanates containing aminosilane groups and/or mercaptosilane groups, contain a stored mixture of compounds containing hydroxyl groups and alkoxysilyl-functional siloxanes.
- WO2017/202692 discloses coating compositions and coatings obtainable therefrom with improved resistance to soiling and (self)cleaning properties which are obtainable using aminosilane-functionalized isocyanates in combination with compounds containing hydroxyl groups and alkoxysilyl-functional siloxanes. There is no mention or suggestion of the use of a annealed mixture of hydroxyl-containing compounds and alkoxysilyl-functional siloxanes.
- the present invention relates to two-component coating compositions containing or consisting of a first component (I).
- R 1 , R 2 and R 3 are identical or different radicals and each represent a saturated or unsaturated, linear or branched, aliphatic or cycloaliphatic or an optionally substituted aromatic or araliphatic radical with up to 18 carbon atoms, which optionally has up to 3 Heteroatoms from the series oxygen, sulfur, nitrogen can contain,
- X is a linear or branched organic radical with at least
- R 4 is hydrogen, a saturated or unsaturated, linear or branched, aliphatic or cycloaliphatic or an optionally substituted aromatic or araliphatic radical having up to 18 carbon atoms, or i) a radical of the formula in which R 1 , R 2 , R 3 and X have the meaning given above, or ii) a radical of the formula in which R 5 and R 6 are independently saturated or unsaturated, linear or branched, aliphatic or cycloaliphatic or aromatic organic radicals having 1 to 18 carbon atoms, which are substituted or unsubstituted and/or may have heteroatoms in the chain, iii) a remainder of the formula in which R 9 is hydrogen or a saturated linear or branched, aliphatic or cycloaliphatic organic radical having 1 to 8 carbon atoms, or the general formula (II)
- Y stands for a linear or branched organic radical with at least 2 carbon atoms
- (B) optionally one or more catalysts for the crosslinking of silane groups, and a second component (II), containing or consisting of
- R 11 , R 12 , R 14 and R 15 are independently linear or branched alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms,
- R 10 , R 13 and R 16 are independently a group -LR 17 wherein
- L a linear or branched divalent alkyl group
- component II optionally one or more catalysts for the crosslinking of silane groups, where component II is obtained by storing a mixture of C and D for at least (>) 5 hours and wherein at least one of the two components I and II contains at least one catalyst for the crosslinking of silane groups (B or B'), and B', if present in component II, in the mixture of C and D at the beginning of its storage is already present, or is admixed to the mixture of C and D during its storage, or part of B' is already present in the mixture of C and D at the beginning of its storage and another part is admixed to the mixture during storage.
- Polvisocanate component A Polvisocanate Al
- Any monomeric diisocyanates with aliphatically, cycloaliphatically, araliphatically and/or aromatically bonded isocyanate groups are suitable as starting compounds A1 for the preparation of the polyisocyanate component A.
- Suitable monomeric diisocyanates are those of the general formula (IV)
- Z is a linear or branched, aliphatic or cycloaliphatic radical having up to 18 carbon atoms, preferably 4 to 18 carbon atoms, or an optionally substituted aromatic or araliphatic radical having up to 18 carbon atoms, preferably 5 to 18 carbon atoms , such as 1,4-diisocyanatobutane, 1,5-diisocyanatopentane (PDI), 1,6-diisocyanatohexane (HDI), 1,5-diisocyanato-2,2-dimethylpentane, 2,2,4- or 2,4-, 4-Trimethyl-1,6-diisocyanatohexane, 1,8-diisocyanatooctane, 1,9-diisocyanatononane, 1,10-diisocyanatodecane, 1,3- and 1,4-diisocyanatocyclohexane, 1,4-d
- Further suitable diisocyanates can also be found, for example, in Justus Liebigs Annalen der Chemie Volume 562 (1949), pages 75-136. Particular preference is given to monomeric diisocyanates of the general formula (IV) in which Z is a linear or branched, aliphatic or cycloaliphatic radical having 5 to 13 carbon atoms.
- Very particularly preferred monomeric diisocyanates for preparing polyisocyanate component A are 1,5-diisocyanatopentane, 1,6-diisocyanatohexane, 1-isocyanato-3,3,5-trimethyl-5-isocyanatomethylcyclohexane, 2,4'- and/or 4 ,4'-diisocyanatodicyclohexylmethane or any mixtures of these diisocyanates.
- Suitable starting compounds A1 for the preparation of the polyisocyanate component A are, in addition to the abovementioned monomeric diisocyanates, any oligomeric di- and polyisocyanates obtainable by modifying monomeric aliphatic, cycloaliphatic, araliphatic and/or aromatic diisocyanates with uretdione, isocyanurate, urethane, Allophanate, thiourethane, thioallophanate, biuret, urea, iminooxadiazinedione and/or oxadiazinetrione structure or any mixtures of these oligomeric di- and polyisocyanates.
- oligomeric compounds are produced by methods known per se for isocyanate oligomerization, as described, for example, in J. Prakt. Chem. 336 (1994) 185-200, in DE-A 1 670 666, DE-A 1 954093, DE-A 2414413, DE-A 2452532, DE-A 2641 380, DE-A 3 700209, DE-A 3 900 053 and DE-A 3 928 503 or in EP-A 0 336 205, EP-A 0 339 396 and EP-A 0 798 299 as well as in DE-A 870 400, DE-A 953 012, DE-A 1 090 196, EP-A 0 546 399, CN 105218780, CN 103881050, CN 101717571, US 3 183 112, EP-A 0416338, EP-A 0751 163, EP-A 1 378 529, EP-A 1 378 530, EP- A 2 174 967, JP
- Suitable starting compounds A2 for preparing the polyisocyanate component A are, for example, aminosilanes of the general formula (I)
- R 1 , R 2 and R 3 are identical or different radicals and each a saturated or unsaturated, linear or branched, aliphatic or cycloaliphatic or an optionally substituted aromatic or araliphatic radical with up to 18 carbon atoms, which can optionally contain up to 3 hetero atoms from the group consisting of oxygen, sulfur and nitrogen,
- X is a linear or branched organic radical having at least 2 carbon atoms, which may optionally contain up to 2 imino groups (-NH-), and
- R 4 is hydrogen, a saturated or unsaturated, linear or branched, aliphatic or cycloaliphatic or an optionally substituted aromatic or araliphatic radical having up to 18 carbon atoms, or i) a radical of the formula in which R 1 , R 2 , R 3 and X have the meaning given above, or ii) a radical of the formula in which R 5 and R 6 are independently saturated or unsaturated, linear or branched, aliphatic or cycloaliphatic or aromatic organic radicals having 1 to 18 carbon atoms, which are substituted or unsubstituted and/or may have heteroatoms in the chain, iii) a remainder of the formula is, in which R 9 is hydrogen or a saturated linear or branched, aliphatic or cycloaliphatic organic radical having 1 to 8 carbon atoms.
- suitable aminosilanes of the general formula (I) are 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-aminopropylethyldiethoxysilane, 3-aminopropyldimethylethoxysilane, 3-aminopropyldiisopropylethoxysilane, 3-aminopropyltripropoxysilane, 3 -aminopropyltributoxysilane, 3-aminopropylphenyldiethoxysilane, 3-aminopropylphenyldimethoxysilane, 3-aminopropyltris(methoxyethoxyethoxy)silane, 2-aminoisopropyltrimethoxysilane, 4-aminobutyltrimethoxysilane, 4-aminobut
- R 1 , R 2 and R 3 are each alkyl of up to 6 carbon atoms and/or alkoxy containing up to 3 oxygen atoms, provided that at least one of R 1 , R 2 and R 3 is such an alkoxy group stands,
- X is a linear or branched organic radical having at least 2 carbon atoms
- R 4 is a saturated, linear or branched, aliphatic or cycloaliphatic radical having up to 6 carbon atoms or a radical of the formula in which R 1 , R 2 , R 3 and X have the meaning given above.
- particularly preferred aminosilanes of the general formula (I) are those in which R 1 , R 2 and R 3 are each methyl, methoxy and/or ethoxy, with the proviso that at least one of the radicals R 1 , R 2 and R 3 is a methoxy or ethoxy radical,
- X is a propylene radical (-CH2-CH2-CH2-), and
- R 4 is a linear alkyl group with up to 4 carbon atoms or a group of the formula in which R 1 , R 2 , R 3 and X have the meaning given above.
- N-methyl-3-aminopropyltrimethoxysilane N-methyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-(n-butyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(n-butyl)-3-aminopropyltriethoxysilane, bis(3 -trimethoxysilylpropyl)amine and/or bis(3-triethoxysilylpropyl)amine.
- Preferred aminosilanes of the general formula (I) are, for example, those in which R 4 is a radical of the formula stands in which R 1 , R 2 and R 3 are each alkyl radicals having up to 6 carbon atoms and / or alkoxy radicals containing up to 3 oxygen atoms, with the proviso that at least one of the radicals R 1 , R 2 and R 3 for such an alkoxy radical stands,
- X is a linear or branched organic radical with at least 2
- R 5 and R 6 are independently saturated or unsaturated, linear or branched, aliphatic or cycloaliphatic or aromatic organic radicals having 1 to 18 carbon atoms, which are substituted or unsubstituted and/or have catenary heteroatoms.
- R 4 is a radical of formula stands in which
- R 1 , R 2 and R 3 are each methyl, methoxy and/or ethoxy, with the proviso that at least one of the radicals R 1 , R 2 and R 3 is a methoxy or ethoxy radical,
- X is a propylene radical (-CH2-CH2-CH2-), and
- R 5 and R 6 are independently methyl, ethyl, n-butyl or 2-ethylhexyl.
- aminosilanes are the known silane-functional aspartic acid esters, such as can be obtained according to the teaching of EP-A 0 596 360 by reacting aminosilanes bearing primary amino groups with fumaric acid esters and/or maleic acid esters.
- Suitable starting compounds for preparing these silane-functional aspartic acid esters are therefore basically any aminosilanes of the general formula (I) in which R 1 , R 2 , R 3 and X have the meaning given for formula (I) and R 4 is hydrogen.
- Very particularly preferred silane-functional aspartic acid esters are reaction products of 3-aminopropyltrimethoxysilane and/or 3-aminopropyltriethoxysilane with diethyl maleate.
- Preferred aminosilanes of the general formula (I) are also those in which R 4 is a radical of the formula stands in which
- R 1 , R 2 and R 3 are each alkyl radicals having up to 6 carbon atoms and / or alkoxy radicals containing up to 3 oxygen atoms, with the proviso that at least one of the radicals R 1 , R 2 and R 3 for such an alkoxy radical stands,
- X is a linear or branched organic radical having at least 2 carbon atoms
- R 9 is hydrogen or a saturated linear or branched, aliphatic or cycloaliphatic organic radical having 1 to 8 carbon atoms.
- R 1 , R 2 and R 3 are each methyl, methoxy and/or ethoxy, with the proviso that at least one of the radicals R 1 , R 2 and R 3 is a methoxy or ethoxy radical,
- X is a propylene radical (-CH2-CH2-CH2-), and
- R9 is hydrogen
- aminosilanes are the known silane-functional alkylamides, such as can be obtained, for example, by the processes disclosed in US Pat. No. 4,788,310 and US Pat.
- Suitable starting compounds for preparing silane-functional alkylamides are therefore basically any aminosilanes of the general formula (I) in which R 1 , R 2 , R 3 and X have the meaning given for formula (I) and R 4 is hydrogen.
- R 9 has the meaning given above and
- R 20 is a saturated aliphatic organic radical having 1 to 4 carbon atoms.
- Very particularly preferred silane-functional alkylamides are reaction products of 3-aminopropyltrimethoxysilane and/or 3-aminopropyltriethoxysilane with methyl formate and/or ethyl formate.
- Suitable starting compounds A2 for preparing the polyisocyanate component A are also mercaptosilanes of the general formula (II) R1
- Y is a linear or branched organic radical having at least 2 carbon atoms.
- Suitable mercaptosilanes A2 are, for example, 2-mercaptoethyltrimethylsilane, 2-mercaptoethylmethyldimethoxysilane, 2-mercaptoethyltrimethoxysilane, 2-mercaptoethyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyldimethylmethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, 3-mercaptopropyl3-mercaptopropyltriethoxysilane - topropylethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropylethyldiethoxysilane and/or 4-mercaptobutyltrimethoxysilane.
- Preferred mercaptosilanes A2 for the process according to the invention are those of the general formula (II), in which
- R 1 , R 2 and R 3 are identical or different radicals and each denote a saturated, linear or branched, aliphatic or cycloaliphatic radical having up to 6 carbon atoms, which may optionally contain up to 3 oxygen atoms, and
- Y is a linear or branched alkylene radical having 2 to 10 carbon atoms.
- Particularly preferred mercaptosilanes A2 are those of the general formula (II), in which
- R 1 , R 2 and R 3 each represent an alkyl group containing up to 6 carbon atoms and/or alkoxy groups containing up to 3 oxygen atoms, with the proviso that at least one of the groups R 1 , R 2 and R 3 represents such an alkoxy group stands, and
- Y is a propylene radical (-CH2-CH2-CH2-).
- Very particularly preferred mercaptosilanes A2 are those of the general formula (II), in which
- R 1 , R 2 and R 3 are the same or different groups and are each methyl, methoxy or ethoxy, with the proviso that at least one of R 1 , R 2 and R 3 is a methoxy or ethoxy group, and
- X is a propylene radical (-CH2-CH2-CH2-), in particular 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and/or 3-mercaptopropyltriethoxysilane.
- the polyisocyanates A1 are reacted with the isocyanate-reactive compounds A2 at temperatures of from 20 to 200.degree. C., preferably from 30 to 160.degree.
- the preparation is preferably carried out while maintaining an equivalent ratio of isocyanate groups to isocyanate-reactive groups of 50:1 to 1.05:1, preferably from 30:1 to 1.25:1, particularly preferably 20:1 to 1.5: 1.
- the production of the polyisocyanate component A can be carried out without solvents. If appropriate, however, suitable solvents which are inert towards the reactive groups of the starting components can also be used. Suitable solvents are, for example, the conventional paint solvents known per se, such as e.g. B.
- ethyl acetate butyl acetate, ethylene glycol monomethyl or ethyl ether acetate, l-methoxypropyl-2-acetate (MPA), 3-methoxy-n-butyl acetate, acetone, 2-butanone, 4-methyl-2-pentanone, cyclohexanone, toluene, xylene, Chlorobenzene, mineral spirits, higher-substituted aromatics, such as those commercially available under the names Solventnaphtha, Solvesso®, Isopar®, Nappar® (Deutsche EXXON CHEMICAL GmbH, Cologne, DE) and Shellsol® (Deutsche Shell Chemie GmbH, Eschborn, DE).
- solvents such as propylene glycol diacetate, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl and butyl ether acetate, N-methylpyrrolidone and N-methylcaprolactam, or any mixtures of such solvents.
- the reaction of the starting components A1 and A2 can be carried out with or without the use of catalysts.
- catalysts In particular when using mercaptosilanes (formula II), however, it can be advantageous to also use suitable catalysts to accelerate the SH-NCO reaction, which leads to the formation of thiourethane and/or thioallophanate structures.
- Suitable catalysts are, in particular, the customary urethanization and allophanatization catalysts known from polyurethane chemistry.
- Examples include tert. amines, such as B. triethylamine, tributylamine, dimethylbenzylamine, diethylbenzylamine, pyridine, methylpyridine, dicyclohexylmethylamine, dimethylcyclohexylamine, N,N,N',N'-tetramethyldiaminodiethyl ether, bis-(dimethylaminopropyl)- urea, N-methyl- or N-ethylmorpholine, N- Cocomorpholine, N-Cyclohexylmorpholine, N,N,N',N'-Tetramethylethylenediamine, N,N,N',N'-Tetramethyl-l,3-butanediamine, N,N,N',N' -Tetra methyl- 1 ,6-hexanediamine, pentamethyldiethylenetriamine, N-methylpiperidine, N-dimethylaminoethylpiper
- triethanolamine triisopropanolamine, N-methyl-diethanolamine, N-ethyl-diethanolamine, dimethylaminoethanol and 2-(N,N-dimethyl- aminoethoxy)ethanol, N,N',N"-tris-(dialkylaminoalkyl)hexahydrotriazines, such as N,N',N"-tris-(dimethylaminopropyl)-s-hexahydrotriazine, bis(dimethylaminoethyl)ether and metal salts, such as B.
- Catalysts which are preferably used to accelerate the thiourethanization reaction are tertiary amines, amidines and tin compounds of the type mentioned. Particular preference is given to 1,4-diazabicyclo-(2,2,2)-octane (DABCO), 1,5-diazabicyclo[4.3.0] nonene (DBN), 1,8-diazabicyclo(5.4.0)undecene-7 (DBU), and dibutyltin(IV) dilaurate (DBTL), or any mixtures of these catalysts.
- DABCO 1,4-diazabicyclo-(2,2,2)-octane
- DBN 1,5-diazabicyclo[4.3.0] nonene
- DBU 1,8-diazabicyclo(5.4.0)undecene-7
- DBTL dibutyltin(IV) dilaurate
- catalysts are used to accelerate the thiourethanization reaction, they are used in amounts of 0.001 to 1.0% by weight, preferably 0.01 to 0.5% by weight, calculated as the total amount of catalysts used, based on the total amount of those used Polyisocyanates Al and mercaptosilanes A2 are used.
- Catalysts which are preferably used to accelerate the thioallophanation reaction are zinc and zirconium compounds of the type mentioned above ) stearate, zirconium(IV) n-octanoate, zirconium(IV) 2-ethyl 1-hexanoate and zirconium(IV) neodecanoate, or any mixtures of these catalysts.
- catalysts are used to accelerate the thioallophanation reaction, they are used in amounts of 0.001 to 5% by weight, preferably 0.005 to 1% by weight, calculated as the total amount of catalysts used, based on the total amount of polyisocyanates A1 and mercaptosilanes A2 used Mission.
- the at least one polyisocyanate component A has thioallophanate structures.
- the at least one polyisocyanate component A has thioallophanate structures which are based on the reaction of monomeric aliphatic diisocyanate with a mercaptosilane of the formula II.
- the monomeric aliphatic diisocyanate is PDI and/or HDI.
- the mercaptosilane is mercaptopropyltrimethoxysilane.
- HDI is most preferably used as the monomeric diisocyanate and mercaptopropyltrimethoxysilane as the mercaptosilane.
- the polyisocyanate components A preferably have an NCO content of 1.3 to 24.9% by weight, particularly preferably 4.0 to 23.5% by weight, very particularly preferably 5.0 to 21.0% by weight. -%, and an average NCO functionality preferably from 1.0 to 4.9, particularly preferably from 1.8 to 4.8, very particularly preferably from 2.0 to 4.0.
- the coating compositions of the invention preferably contain at least one catalyst for crosslinking silane groups. This can be contained in the first or the second coating agent component or in both coating agent components. In the latter case, the two components can contain the same or the same or different catalysts.
- These catalysts are any compound capable of accelerating the hydrolysis and condensation of alkoxysilane groups or, preferably, thermally induced silane condensation.
- Suitable catalysts B and B' are acids, such as e.g. B. organic carboxylic acids, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, phosphoric acid monoesters and phosphoric acid diesters, such as. B. dibutyl phosphate, phosphoric acid 2-ethylhexyl ester, phosphoric acid phenyl ester and phosphoric acid bis (2-ethylhexyl) ester, and phosphonic acid and diphosphonic acid, as z. B. are described in WO 2007/033786.
- bases such as. B. the N-substituted amidines l,5-diazabicyclo[4.3.0]non-5-ene (DBN) and l,5-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene (DBU), or also metal salts and metal chelates , such as B. tetraisopropyl titanate, tetrabutyl titanate, Titanium (IV) acetylacetonate, aluminum tri-sec-butylate, aluminum acetylacetonate, aluminum triflate, tin triflate or zirconium ethyl acetoacetate, as z. B. are described in WO 2006/042658.
- Suitable catalysts B and B' are also phosphoric acid and phosphonic acid esters of the type mentioned above, which are present in the form blocked with amines, preferably with tertiary amines. Particularly preferred catalysts of this type are those which release the acidic phosphoric acid and phosphonic acid esters, which actually represent the effective catalysts, in the temperature range of curing automotive topcoats and clearcoats, for example in the range from 100 to 150° C., with elimination of the blocking amine. Suitable amine-blocked phosphoric acid catalysts B and B' are described, for example, in WO 2008/074489 and WO 2009/077180.
- Catalysts B and B' which are also suitable are organic sulfonic acids of the type mentioned above, which are used in blocked form, for example in amine-neutralized form, or as an adduct of epoxides, as described in DE 2 356 768 B1, and above 100 °C release the catalytically active sulfonic acids again.
- catalysts B and B' suitable for crosslinking silane groups are also tetraalkylammonium carboxylates, such as B. tetramethylammonium formate, tetramethylammonium acetate, tetramethylammonium propionate, tetramethylammonium butyrate,
- Tetramethylammonium benzoate Tetramethylammonium benzoate, tetraethylammonium formate, tetraethylammonium acetate, tetraethylammonium propionate, tetraethylammonium butyrate, tetraethylammonium benzoate, tetrapropylammonium formate, tetrapropylammonium acetate, tetrapropylammonium propionate, tetrapropylammonium butyrate, tetrapropylammonium benzoate, tetrabutylammonium formate, tetrabutylammonium acetate, tetrabutylammonium propionate, tetrabutylammonium butyrate and/or tetrabutylammonium benzoate.
- Catalysts B and B' suitable for crosslinking silane groups are also quaternary ammonium and phosphonium polyfluorides, such as those B. from ER-A0 798 299, ER-A0 896 009 and EP-A0 962 455 as trimerization catalysts for isocyanate groups are known.
- suitable catalysts B and B' are also zinc amidine complexes, which can be prepared by the process of WO 2014/016019 by reacting one or more zinc(II) biscarboxylates with amidines.
- Preferred catalysts B and B' for crosslinking silane groups are acidic phosphoric acid esters, phosphonic acid esters and sulfonic acids of the type mentioned, which may be present in blocked form with amines, and tetraalkylammonium carboxylates of the type mentioned.
- Particularly preferred catalysts B and B' are phosphoric acid esters and sulfonic acids blocked with amines and the tetraalkylammonium carboxylates mentioned.
- Very particularly preferred catalysts B and B' are amine-blocked phosphoric acid phenyl ester and phosphoric acid bis(2-ethylhexyl) ester, tetraethylammonium benzoate and tetrabutylammonium benzoate.
- the catalysts B or B' are used in the coating compositions according to the invention in amounts of 0.005% by weight up to 5% by weight, preferably 0.005% by weight up to 2% by weight, particularly preferably 0.005% by weight. -% up to 1% by weight, calculated as the sum of all catalysts B or B' used and based on the total amount of polyisocyanate component A, component C containing hydroxyl groups and siloxane component D.
- Any polyols which carry at least two hydroxyl groups are used as compounds C containing hydroxyl groups.
- Suitable hydroxyl-containing compounds C are, for example, the usual polyhydroxyl compounds known from polyurethane chemistry, such as. B. polyester polyols, polyether polyols, polycarbonate polyols and / or polyacrylate polyols, or any mixtures of such polyols.
- Suitable polyester polyols C are, for example, those having an average molecular weight, which can be calculated from functionality and hydroxyl number, of 200 to 3000, preferably 250 to 2500, with a hydroxyl group content of 1 to 21% by weight, preferably 2 to 18% by weight, such as they can be prepared in a manner known per se by reacting polyhydric alcohols with insufficient amounts of polybasic carboxylic acids, corresponding carboxylic acid anhydrides, corresponding polycarboxylic acid esters of lower alcohols or lactones.
- Polyhydric alcohols suitable for preparing these polyester polyols are, in particular, those with a molecular weight in the range from 62 to 400, e.g. B. 1,2-ethanediol, 1,2- and 1,3-propanediol, the isomeric butanediols, pentanediols, hexanediols, heptanediols and octanediols, 1,2- and 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 4, 4'-(l-Methylethylidene)-biscyclohexanol, 1,2,3-propanetriol, 1,1,1-trimethylolethane, 1,2,6-hexanetriol, 1,1,1-trimethylolpropane, 2,2-bis(hydroxymethyl )-1,3-propanediol or 1,3,5-tris(2-hydroxye
- the acids or acid derivatives used to prepare the polyester polyols C can be aliphatic, cycloaliphatic and/or heteroaromatic in nature and, if appropriate, e.g. B. by halogen atoms, substituted and / or unsaturated.
- suitable acids are, for example, polybasic carboxylic acids with a molecular weight in the range from 118 to 300 or derivatives thereof, such as succinic acid, adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, isophthalic acid, trimellitic acid, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic acid, maleic acid, maleic anhydride, dimeric and trimeric fatty acids, dimethyl terephthalate and bis-glycol terephthalate.
- polybasic carboxylic acids with a molecular weight in the range from 118 to 300 or derivatives thereof, such as succinic acid, adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, isophthalic acid, trimellitic acid, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic acid, maleic acid, maleic anhydride, dimeric and trimeric fatty acids, dimethyl terephthalate and bis-glycol terephthalate.
- Suitable polyester polyols C are also those as are known per se from lactones and simple polyhydric alcohols, such as. B. the above exemplified as Starter molecules can be produced with ring opening.
- suitable lactones for producing these polyester polyols are ⁇ -propiolactone, ⁇ -butyrolactone, ⁇ - and D-valerolactone, ⁇ -caprolactone, 3,5,5- and 3,3,5-trimethylcaprolactone or any mixtures of such lactones.
- lactone polyesters are generally prepared in the presence of catalysts, such as, for example, Lewis or Bronsted acids, organic tin compounds or titanium compounds, at temperatures of from 20 to 200.degree. C., preferably from 50 to 160.degree.
- catalysts such as, for example, Lewis or Bronsted acids, organic tin compounds or titanium compounds
- Suitable polyether polyols C are, for example, those having an average molecular weight, which can be calculated from functionality and hydroxyl number, of 200 to 6000, preferably 250 to 4000, with a hydroxyl group content of 0.6 to 34% by weight, preferably 1 to 27% by weight, as are accessible in a conventional manner by alkoxylation of suitable starter molecules.
- Any desired polyhydric alcohols for example those with a molecular weight in the range from 62 to 400, as described above for the preparation of polyester polyols, can be used as starter molecules to prepare these polyether polyols.
- Alkylene oxides suitable for the alkoxylation reaction are, in particular, ethylene oxide and propylene oxide, which can be used in any order or as a mixture in the alkoxylation reaction.
- Suitable polyacrylate polyols C are, for example, those with an average molecular weight, which can be calculated from functionality and hydroxyl number or can be determined by gel permeation chromatography (GPC), from 800 to 50,000, preferably from 1000 to 20,000, with a hydroxyl group content of from 0.1 to 12% by weight, preferably from 1 to 10 , as can be produced in a manner known per se by copolymerization of olefinically unsaturated monomers containing hydroxyl groups with olefinic monomers which are free of hydroxyl groups.
- GPC gel permeation chromatography
- Suitable monomers for preparing the polyacrylate polyols C are vinyl or vinylidene monomers such as styrene, ⁇ -methyl styrene, o- or p-chlorostyrene, o-, m- or p-methyl styrene, p-tert-butyl styrene, acrylic acid, Acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylic and methacrylic acid esters of alcohols having up to 18 carbon atoms, such as. B.
- vinyl or vinylidene monomers such as styrene, ⁇ -methyl styrene, o- or p-chlorostyrene, o-, m- or p-methyl styrene, p-tert-butyl styrene, acrylic acid, Acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylic and methacrylic acid esters of alcohols having up to 18 carbon atoms, such as
- Preferred compounds C containing hydroxyl groups are polyester polyols, polycarbonate polyols and/or polyacrylate polyols of the type mentioned.
- Particularly preferred compounds C containing hydroxyl groups are polyacrylate polyols of the type mentioned, which can optionally be used as a mixture with polyester polyols and/or polycarbonate polyols of the type mentioned.
- Component C very particularly preferably contains exclusively polyacrylate polyols of the type mentioned.
- the coating compositions of the invention contain at least one alkoxysilyl-functional siloxane D.
- Siloxanes are known to those skilled in the art. These are components of the general formula IGSi-fO-SiR 2 ] n -O-SiR 3 derived from pure silanes (ie binary compounds consisting of Si and H), where R can be hydrogen atoms or alkyl groups.
- the silicon atoms are linked to their neighboring silicon atom via exactly one oxygen atom, they contain at least one Si-O-Si bond. If at least one of the hydrogen atoms is replaced by an organic radical such as an alkyl group, these are also referred to as organosiloxanes.
- Oligomeric or polymeric organosiloxanes (siloxanes with R ⁇ H) have long Si-O main chains and are in turn referred to as silicones.
- the above-described organic residue of the organosiloxane also contains at least one alkoxysilyl group
- at least one hydrogen residue in the organic residue is substituted by an alkoxysilyl group, which means that at least a portion of a hydrogen in the derivative derived from the pure siloxane is substituted by an organic residue, which in turn has a contains an alkoxysilyl functional group, this is referred to in the context of the present invention as an alkoxysilyl functional siloxane (component D).
- An alkoxysilyl functional radical is a functional group derived from an alkoxysilane, a moiety derived from a pure silane containing a Si-OR group. At least one hydrogen atom of a pure silane is therefore substituted by an alkoxy group —OR, ie an alkyl group connected to the silicon via oxygen. Examples which may be mentioned are mono-, di- or tri-methoxy- or -ethoxy-silane. Accordingly, the alkoxysilyl-functional siloxanes D to be used according to the invention are derivatives of the siloxane in which at least one hydrogen atom has been substituted by an organic radical in which at least one hydrogen radical has in turn been replaced by an alkoxysilyl group.
- the alkoxysilyl group is therefore always functional Group of an alkyl group to understand which is attached to the siloxane backbone itself.
- the alkoxysilyl group is therefore always connected to the Si-O-Si structure via a divalent organic radical R, for example an alkylene, and never binds directly to the siloxane backbone of Si-O-Si units.
- alkoxysilyl-functional siloxanes D to be used according to the invention correspond to the general formula (III):
- R 11 , R 12 , R 14 and R 15 are independently linear or branched alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms,
- R 10 , R 13 and R 16 are independently a group -LR 17 wherein
- L a linear or branched divalent alkyl group
- the siloxane D contains at least one —Si(R 18 ) z (OR 19 ) 3-z group.
- the alkoxysilyl-functional siloxanes D can have a linear or branched form, depending on which radicals R 10 , R 13 and/or R 16 contain an alkoxysilyl group.
- the siloxane is branched.
- the siloxane is linear.
- R 16 corresponds to a group -LR 17 in which L is an ethylene group and R 17 is a trialkoxysilane group and R 10 and R 13 are a group -LR 17 in which R 17 is a corresponds to hydrogen atom.
- radicals R 11 , R 12 , R 14 , R 15 , R 18 and R 19 are particularly preferably identical or different alkyl radicals, and these radicals R 11 , R 12 , R 14 , R 15 , R 18 and R 19 are very particularly preferably linear alkyl groups having one to four carbon atoms, and the radicals R 11 , R 12 , R 14 , R 15 , R 18 and R 19 are again very particularly preferably methyl and/or ethyl radicals, in particular methyl radicals.
- Component D contains at least one alkoxysilyl-functional siloxane. Accordingly, alkoxysilyl-functional siloxanes having the alkoxysilyl function in the side chain can coexist with those in which the alkoxysilyl function(s) are terminal to the siloxane chain.
- alkoxysilyl-functional siloxanes D are commercially available from Shin Etsu.
- the coating compositions according to the invention preferably contain from 0.001 to 5% by weight, more preferably from 0.005 to 3% by weight and particularly preferably from 0.01 to 2% by weight, of component E, the percentages by weight in each case are based on the total amount of polyisocyanate component A, isocyanate-reactive component C and siloxane component D.
- the coating materials according to the invention can optionally contain further auxiliaries and additives. These can be contained in the first or the second coating agent component or in both coating agent components. In the latter case, the two components can contain the same or different auxiliaries and additives.
- auxiliaries and additives are present in the second coating material component, they can already be present in the mixture of C and D at the start of storage, or they can be added to the mixture of C and D during storage. It is also possible that some of the auxiliaries and additives are already present in the mixture of C and D at the beginning of its storage and a further part is admixed to the mixture during storage.
- auxiliaries and additives are, in particular, the auxiliaries and additives known to those skilled in the art of paint technology, such as e.g. B. solvents, UV stabilizers, antioxidants, water scavengers, leveling agents, rheology additives, slip additives, defoamers, fillers and / or pigments and inorganic nanoparticles, especially the oxides of Silicon, aluminum, cerium and/or titanium, which can optionally also be used in the form of corresponding sols such as advantageously organosols of silicon dioxide.
- B. solvents e.g. B. solvents, UV stabilizers, antioxidants, water scavengers, leveling agents, rheology additives, slip additives, defoamers, fillers and / or pigments and inorganic nanoparticles, especially the oxides of Silicon, aluminum, cerium and/or titanium, which can optionally also be used in the form of corresponding sols such as advantageously organosols of silicon dioxide.
- the coating materials according to the invention can be diluted, for example, with customary organic solvents.
- Solvents suitable for this purpose are, for example, the paint solvents already described above in the preparation of the polyisocyanates A containing silane groups as solvents to be used as well, which are chemically inert towards the reactive groups of the coating composition components and particularly preferably have a water content of at most 1.0% by weight at most 0.5% by weight based on the solvent used.
- Suitable UV stabilizers can preferably be selected from the group consisting of piperidine derivatives such as 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine, bis- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis(1,2,2,6,6-pentamethyl-1-4-piperidinyl) sebacate, bis(2,2, 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) suberate, bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)dodecanedioate; Benzophenone derivatives such as 2,4-dihydroxy-, 2-hydroxy-4-methoxy-, 2-hydroxy-4-octoxy-, 2-hydroxy-4-dodecyloxy- or 2,2'-dihydroxy-4-dodecyloxy-benzophenone ; Benztriazole derivatives such as 2-(2H-benzotriazol
- one or more of the UV stabilizers mentioned by way of example are added to the coating composition according to the invention, preferably in amounts of 0.001 to 3.0% by weight, particularly preferably 0.01 to 2% by weight, calculated as the total amount of UV stabilizers used, based on the total amount of polyisocyanate component A, isocyanate-reactive component C, component B and B' and siloxane component D is added.
- Suitable antioxidants are preferably sterically hindered phenols, which can preferably be selected from the group consisting of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (ionol), pentaerythritol-tetrakis(3-(3,5-di-tert -butyl-4-hydroxy-phenyl)-propionate), octadecyl-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)-propionate, triethylene glycol bis(3-tert-butyl-4-hydroxy -5-methylphenyl)propionate, 2,2'-thiobis(4-methyl-6-tert-butylphenol) and 2,2'-thiodiethylbis[3-(3,5-di-tert-butyl-4 -hydroxyphenyl)propionate]. If required, these can be used individually or in any combination with one another.
- antioxidants are preferably used in amounts of 0.01 to 3.0% by weight, particularly preferably 0.02 to 2.0% by weight, calculated as the total amount of antioxidants used, based on the total amount of polyisocyanate component A, isocyanate-reactive component C and siloxane component D used.
- water scavengers for example orthoameisenestem, such as. B. triethyl orthoformate, or vinylsilanes, such as. B. vinyltrimethoxysilane.
- orthoameisenestem such as. B. triethyl orthoformate
- vinylsilanes such as. B. vinyltrimethoxysilane.
- water scavengers come, if at all, in amounts of from 0.01% by weight up to 5% by weight, preferably from 0.01% by weight up to 2% by weight, based on the total amount Polyisocyanate component A, isocyanate-reactive component C and siloxane component D are used.
- the coating compositions according to the invention can optionally contain suitable leveling agents, for example organically modified siloxanes, such as e.g. B. polyether-modified siloxanes, polyacrylates and / or fluorosurfactants included.
- suitable leveling agents for example organically modified siloxanes, such as e.g. B. polyether-modified siloxanes, polyacrylates and / or fluorosurfactants included.
- These leveling agents come, if at all, in amounts of 0.01% by weight up to 3% by weight, preferably from 0.01% by weight up to 2% by weight, particularly preferably from 0.05 to 1 .5% by weight, based on the total amount of polyisocyanate component A, isocyanate-reactive component C and siloxane component D, is used.
- auxiliaries and additives are known to the person skilled in the art and, if at all, are used in amounts customary in paint technology.
- auxiliaries and additives can be found, for example, in Bodo Müller, "Additive compact”, Vincentz Network GmbH & Co KG (2009).
- suitable catalysts can be added to the coating compositions according to the invention to control the curing rate, for example the urethanization and allophanatization catalysts customary in isocyanate chemistry, such as tert. amines, such as B.
- Tetramethylethylenediamine N,N,N',N'-Tetramethyl-l,3-butanediamine, N,N,N',N'-Tetramethyl-1,6-hexanediamine, Pentamethyldiethylenetriamine, N-Methylpiperidine, N-dimethylaminoethylpiperidine, N, N'-dimethylpiperazine, N-methyl-N'-dimethylaminopiperazine, 1,2-dimethylimidazole, 2-methylimidazole, N,N-dimethylimidazole-ß-phenylethylamine, 1,4-diazabicyclo-(2,2,2)-octane ( DABCO) and bis-(N,N-dimethylaminoethyl) adipate, amidines such as e.g.
- alkanolamine compounds such as e.g. B. triethanolamine, triisopropanolamine, N-methyl-diethanolamine, N-ethyl-diethanolamine, dimethylaminoethanol and 2- (N, N-dimethyl aminoethoxy) ethanol, N, N', N "-tris (dialkylaminoalkyl) hexahydrotriazines, such as B.
- B. inorganic and / or organic compounds of iron, lead, bismuth, zinc, and / or tin in the usual oxidation states of the metal for example iron (II) chloride, iron (III) chloride, bismuth (III) - bismuth (III )-2-ethylhexanoate, bismuth(III) octoate, bismuth(III) neodecanoate, zinc chloride, zinc 2-ethylcaproate, zinc(II) stearate, zinc(II) n-octanoate, zinc (II) 2-ethyl-1-hexanoate, zinc (II) naphthenate or zinc (II) acetylacetonate, tin (II)
- any further hydrolyzable silane compounds such as e.g. B. tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane,
- hydrolyzable silane compounds are preferably added to component (I). If they are added to component (II), simple preliminary tests on the specific composition must be carried out to ensure that component (II) remains stable over the desired storage time. Turbidity or an increase in viscosity are signs of insufficient stability, for example. If these hydrolyzable silane compounds are admixed to the coating composition component II, they can already be present in the mixture of C and D at the beginning of their storage, or they can be admixed to the mixture of C and D during their storage. It is also possible that some of these hydrolyzable silane compounds are already contained in the mixture of C and D at the beginning of their storage and another part during the storage of the
- the coating composition component I can also contain other polyisocyanates. These can be, for example, monomeric or modified polyisocyanates, as described above under component A1.
- the reactants are usually present in amounts such that there are from 0.5 to 3, preferably from 0.6 to 2.0, particularly preferably from 0.8 to 1.6, isocyanate-reactive groups for each isocyanate group.
- a ratio of NCO groups to isocyanate-reactive groups of at least 1.0 is very particularly preferably set.
- an excess of NCO groups is used, corresponding to a ratio of NCO groups to isocyanate-reactive groups of 1.05 to 1.50.
- the present invention relates to a process for producing a coating composition from a first component (I), containing or consisting of
- (B) optionally one or more catalysts for the crosslinking of silane groups, and a second component (II), containing or consisting of
- (B') optionally one/one or more catalysts for the crosslinking of silane groups, at least one catalyst for the crosslinking of silane groups (B or B') being present in at least one of the two components I and II, characterized in that that components C and D are completely mixed and the mixture is mixed after a period of at least (>) 5 hours, referred to as storage, with component A, optionally in admixture with component B, with B', if present in component II , is already present in the mixture of C and D at the start of storage, or is added to the mixture of C and D during storage, or part of B' is already present in the mixture of C and D at the start of storage and another part is admixed during storage of the mixture.
- a further object of the present invention is a coating composition obtainable by the process described above.
- component II is obtained by storing a mixture of components C and D for at least (>) 5 hours, preferably for at least 24 hours, particularly preferably for at least 48 hours.
- Components C and D are added to each other to create the mixture.
- the beginning of storage is defined as the time when the two components are completely added to each other. While the two materials are being added to each other and for a period after the addition is complete, the mixture is usually agitated to achieve optimal blending of the materials.
- the storage ends at the point in time when a first amount of one of the two coating composition components I or II is brought into contact with the other component in each case.
- component II further components can be contained in component II, such as the catalyst for the crosslinking of silane groups (B'), auxiliaries and additives, etc.
- these compounds can already be present in the mixture of C and D at the start of storage, or can be added to the mixture of C and D during storage. It is also possible for some of these compounds to be present in the mixture of C and D at the start of storage and for another part to be admixed to the mixture during storage.
- Storage is preferably carried out under the usual storage conditions for paints from 5 to 40 °C. Storage at 15 to 25° C., in particular at room temperature (23° C.), is particularly preferred.
- the storage is at least (>) 5 hours, preferably at least 24 hours, particularly preferably at least (>) 48 hours, very particularly preferably at least 72 hours.
- Storage at 23° C. is preferably at least (>) 5 hours, preferably at least 24 hours, particularly preferably at least (>) 48 hours, very particularly preferably at least 72 hours.
- any substrates such as metal, wood, glass, stone, ceramic materials, concrete, hard and flexible plastics, textiles, leather and paper, as well as composite materials, are suitable as substrates for the substrates to be coated with the coating compositions according to the invention are preferably provided with one or more layers such as conventional primers and / or base coat layers.
- the coating compositions according to the invention are used for coating hard and flexible plastics, in particular for plastics in the field of automotive industry.
- the coating compositions of the invention are preferably used as a clearcoat or topcoat.
- Particularly preferred substrates are those for which there are requirements such as low soiling behavior and/or easy cleaning in the event of soiling.
- Suitable methods for applying the coating compositions of the invention to the substrate are, for example, printing, brushing, rolling, pouring, dipping, flow coating and / or preferably spraying such as compressed air spraying, airless spraying, high-speed rotation, electrostatic spray application (ESTA), optionally combined with hot spray application such as Example of hot-air hot spraying.
- spraying such as compressed air spraying, airless spraying, high-speed rotation, electrostatic spray application (ESTA), optionally combined with hot spray application such as Example of hot-air hot spraying.
- Suitable layer thicknesses depend on the application process and, considered as a dry layer thickness, are usually between 5 and 60 ⁇ m, preferably between 10 and 40 ⁇ m, in particular between 12 and 30 ⁇ m.
- volatile substances such as organic solvents are first removed using methods customary in the painting industry. Removal is preferably carried out by drying at elevated temperatures, e.g. in a range from 40 to 250° C., preferably from 40 to 100° C. in ovens and with moving air (convection ovens, jet dryers) and thermal radiation (IR, NIR). Furthermore, microwaves can be used. It is possible to combine several of these drying processes.
- drying conditions are selected such that the maximum temperature reached remains below the limit at which the substrate deforms or suffers other damage.
- the invention therefore also relates to the use of the coating compositions according to the invention for coating substrates, and to the coated substrates themselves.
- the polyols Desmophen 670 BA (Covestro Deutschland AG, Leverkusen, DE) and Setalux D A 365 BA/X (Allnex Germany GmbH, Bitterfeld-Wolfen, DE) were mixed with a commercially available leveling additive (Baysilone Lackadditive OL 17, OMG AG + Co. KG, Langenfeld, DE) and the commercially available catalyst Nacure 4000 (King Industries, Norwalk, US, as catalyst C) and, to adjust the viscosity, the solvents methoxypropyl acetate, solvent naphtha 100 and diacetone alcohol are mixed homogeneously by intensive stirring at room temperature.
- a commercially available leveling additive Boysilone Lackadditive OL 17, OMG AG + Co. KG, Langenfeld, DE
- the commercially available catalyst Nacure 4000 King Industries, Norwalk, US, as catalyst C
- additive KR-410 linear alkoxysilyl functional polysiloxane, Shin-Etsu, Japan
- the base paint mixture was mixed homogeneously and the mixture was stored at room temperature for 72 hours. After 72 hours, the polyisocyanate was added to this mixture for crosslinking.
- additive KR-410 linear alkoxysilyl functional polysiloxane, Shin-Etsu, Japan
- the base paint mixture was mixed homogeneously and the mixture was stored at room temperature for 5 hours. After 5 hours, the polyisocyanate was added to this mixture for crosslinking.
- Table 1 shows the compositions of the individual formulations.
- the mixtures described above were each applied using a spray gun (nozzle: SATA/1.2 mm) to a glass plate cleaned with isopropyl alcohol. After the film had been applied, drying was carried out at room temperature for 10 minutes, then at 80° C. for 30 minutes and at 60° C. for 16 hours.
- the König pendulum damping was determined according to DIN EN ISO 1522:2007.
- Table 2 shows the results of the performance tests in comparison.
- Silane-functional aliphatic polyisocyanate based on HDI (Covestro Deutschland AG, Leverkusen, 100% as supplied, NCO content: 12.3%, viscosity at 23°C: approx. 450 mPas.
- Polyacrylate polyol (Allnex Germany GmbH, Bitterfeld-Wolfen, DE), 65% solution in butyl acetate/xylene (75:25), approx. 2.7% hydroxyl content (based on delivery form), viscosity at 23° C.: approx. 3000 mPas.
- Alkyl acid phosphate catalyst (King Industries, Norwalk, US), acid number about 650 mg KOH/g, use as a 10% solution of the delivery form in MPA.
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Abstract
Die Erfindung betrifft Beschichtungsmittel enthaltend Aminosilangruppen- und/oder Mercaptosilangruppen-aufweisende Polyisocyanate, eine gelagerte Mischung aus Hydroxylgruppen-haltigen Verbindungen und Alkoxysilyl-funktionellen Siloxanen, sowie Katalysatoren für die Vernetzung von Silangruppen, die Herstellung dieser Beschichtungsmittel und die Verwendung zur Herstellung von Beschichtungen auf Substraten, im Besonderen Kunststoffsubstraten, beispielsweise solchen, wie sie in der Automobilindustrie Anwendung finden.
Description
Beschichtungsmittel und daraus erhältliche Beschichtungen mit verbesserten
Anschmutzungsresistenzen und ISelbst-lReinigungseigenschaften
Die Erfindung betrifft Beschichtungsmittel enthaltend Aminosilangruppen- und/oder Mercaptosilangruppen-aufweisende Polyisocyanate, eine gelagerte Mischung aus Hydroxylgruppen- haltigen Verbindungen und Alkoxysilyl-funktionellen Siloxanen, sowie Katalysatoren für die Vernetzung von Silangruppen, die Herstellung dieser Beschichtungsmittel und die Verwendung zur Herstellung von Beschichtungen auf Substraten, im Besonderen Kunststoffsubstraten, beispielsweise solchen, wie sie in der Automobilindustrie Anwendung finden.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es neue Beschichtungsmittel zur Verfügung zu stellen, die sich durch sehr gute Anschmutzungsresistenzen und (Selbst-)Reinigungseigenschaften auszeichnen sollten, und die sich im Besonderen zur Beschichtung von Substraten aus Kunststoffen eigenen sollten.
Diese Aufgabe konnte mit der Bereitstellung der nachfolgend näher beschriebenen erfmdungsge- mäßen Beschichtungsmittel, welche neben Aminosilangruppen- und/oder Mercaptosilangruppen- aufweisenden Polyisocyanaten, eine gelagerte Mischung aus Hydroxylgruppen-haltigen Verbindungen und Alkoxysilyl-funktionellen Siloxanen enthalten, gelöst werden.
Aus der WO2017/202692 sind Beschichtungsmittel und daraus erhältliche Beschichtungen mit verbesserten Anschmutzungsresistenzen und (Selbst)reinigungseigenschaften bekannt, die unter Verwendung von Aminosilan-funktionalisierten Isocyanaten in Kombination mit Hydroxylgruppen- haltigen Verbindungen und Alkoxysilyl-funktionellen Siloxanen erhältlich sind. Die Verwendung einer gelagerten Mischung aus Hydroxylgruppen-haltigen Verbindungen und Alkoxysilyl- funktionellen Siloxanen wird nicht erwähnt oder nahegelegt.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung sind zwei-komponentige Beschichtungsmittel aus einer ersten Komponente (I), enthaltend oder bestehend aus
(A) mindestens eine/r Polyisocyanatkomponente, erhältlich durch Umsetzung (Al) mindestens eines Polyisocyanats mit
(A2) mindestens einer gegenüber Isocyanatgruppen reaktiven Verbindung der allgemeinen Formel (I)
R1
R2— Si - X - N-H
R3 R4
(I), in welcher
R1, R2 und R3 für gleiche oder verschiedene Reste stehen und jeweils einen gesät tigten oder ungesättigten, linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloaliphatischen oder einen gegebenenfalls substituierten aromatischen oder araliphatischen Rest mit bis zu 18 Kohlenstoffato men bedeuten, der gegebenenfalls bis zu 3 Heteroatome aus der Reihe Sauerstoff, Schwefel, Stickstoff enthalten kann,
X für einen linearen oder verzweigten organischen Rest mit mindestens
2 Kohlenstoffatomen steht, der gegebenenfalls bis zu 2 Iminogruppen (-NH-) enthalten kann,
R4 für Wasserstoff, einen gesättigten oder ungesättigten, linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloaliphatischen oder einen gegebenenfalls substituierten aromatischen oder araliphatischen Rest mit bis zu 18 Kohlenstoffatomen steht oder für i) einen Rest der Formel
steht, in welchem R1, R2, R3 und X die vorstehend angegebene Bedeutung haben, oder ii) einen Rest der Formel
steht, in welchem R5 und R6 unabhängig voneinander gesättigte oder ungesättigte, lineare oder verzweigte, aliphatische oder cycloaliphatische oder aromatische organische Reste mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen sind, die substituiert oder unsubstituiert sind und/oder Heteroatome in der Kette aufweisen können, iii) einen Rest der Formel
steht, in welcher R9 für Wasserstoff oder einen gesättigten linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloaliphatischen organischen Rest mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen steht,
oder der allgemeinen Formel (II)
R1
R2— Si - Y - SH
R3 (II), in welcher R1, R2und R3 die für Formel (I) genannte Bedeutung haben und
Y für einen linearen oder verzweigten organischen Rest mit mindestens 2 Kohlenstoffatomen steht,
(B) gegebenenfalls einen/einem oder mehrere/n Katalysatoren für die Vernetzung von Silangruppen, und einer zweiten Komponente (II), enthaltend oder bestehend aus
(C) mindestens eine/r Hydroxylgruppen-haltige/n Verbindung,
(D) mindestens ein/em Alkoxysilyl-fünktionelles/en Siloxan der Formel (III)
R10-SiRn 2-Ax-By-O-SiR12 2-R13 (III), worin A eine Gruppe -[0-SiR14 2]- und B eine Gruppe -[0-SiR15R16]- ist,
R11, R12, R14 und R15 unabhängig voneinander lineare oder verzweigte Alkylgruppen mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen sind,
R10, R13 und R16 unabhängig voneinander eine Gruppe -L-R17 sind, worin
L = eine lineare oder verzweigte 2-bindige Alkylgruppe und
R17 = H oder -Si(R18)z(OR19)3-zmit R18, R19 = eine lineare oder verzweigte Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen und z = 0, 1, oder 2, bevorzugt z = 0, ist, mit der Vorgabe, das mindestens einer der Reste R10 oder R13 und/oder mindestens eine Gruppe B eine Gruppe R17 = -Si(R18)z(OR19)3-z beinhaltet, x unabhängig für eine ganze Zahl von 1 -20 steht, und y unabhängig für eine ganze Zahl von 0-10 steht, wobei bevorzugt x+y < 20 ist, und
(B‘) gegebenenfalls einen/einem oder mehrere/n Katalysatoren für die Vernetzung von Silangruppen, wobei Komponente II durch eine wenigstens ( >) 5-stündige Lagerung einer Mischung aus C und D erhalten wird und
wobei in wenigstens einer der beiden Komponenten I und II mindestens ein Katalysator für die Vernetzung von Silangruppen (B bzw. B‘) enthalten ist, und B‘, sofern in Komponente II vorhanden, in der Mischung aus C und D zu Beginn von deren Lagerung bereits enthalten ist, oder der Mischung aus C und D während deren Lagerung beigemischt wird, oder ein Teil von B‘ in der Mischung aus C und D zu Beginn von deren Lagerung bereits enthalten ist und ein weiterer Teil während der Lagerung der Mischung beigemischt wird.
Polvisocanatkomponente A Polvisocvanat Al
Als Ausgansgverbindungen Al zur Herstellung der Polyisocyanatkomponente A geeignet sind beliebige monomere Diisocyanate der mit aliphatisch, cycloaliphatisch, araliphatisch und/oder aromatisch gebundenen Isocyanatgruppen geeignet, die nach beliebigen Verfahren, z. B. durch Phosgenierung oder auf phosgenfreiem Weg, beispielsweise durch Urethanspaltung, hergestellt werden können.
Geeignete monomere Diisocyanate sind beispielsweise solche der allgemeinen Formel (IV)
OCN - Z - NCO ^ in welcher Z für einen linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloaliphatischen Rest mit bis zu 18 Kohlenstoffatomen, bevorzugt 4 bis 18 Kohlenstoffatomen oder einen gegebenenfalls substituierten aromatischen oder araliphatischen Rest mit bis zu 18 Kohlenstoffatomen, bevorzugt 5 bis 18 Kohlenstoffatomen steht, wie z. B. 1,4-Diisocyanatobutan, 1,5-Diisocyanatopentan (PDI), 1,6- Diisocyanatohexan (HDI), l,5-Diisocyanato-2,2-dimethylpentan, 2,2,4- bzw. 2,4,4-Trimethyl-l,6- diisocyanatohexan, 1,8-Diisocyanatooctan, 1,9-Diisocyanatononan, 1,10-Diisocyanatodecan, 1,3- und 1,4-Diisocyanatocyclohexan, l,4-Diisocyanato-3, 3, 5 -trimethylcy clohexan, l,3-Diisocyanato-2- methylcyclohexan, l,3-Diisocyanato-4-methylcyclohexan, l-Isocyanato-3,3,5-trimethyl-5- isocyanatomethylcyclohexan (Isophorondiisocyanat; IPDI), l-Isocyanato-l-methyl-4(3)- isocyanatomethylcyclohexan, 2,4’- und 4,4'-Diisocyanatodicyclohexylmethan (H12-MDI), 1,3- und
1.4-Bis(isocyanatomethyl)cyclohexan, 4,4'-Diisocyanato-3,3'-dimethyldicyclohexylmethan, 4,4'
Diisocyanato-3,3',5,5'-tetramethyldicyclohexylmethan, 4,4'-Diisocyanato-l,r-bi(cyclohexyl), 4,4'- Diisocyanato-3,3'-dimethyl-l,r-bi(cyclohexyl), 4,4'-Diisocyanato-2,2',5,5'-tetra-methyl-l,l'- bi(cyclohexyl), 1,8-Diisocyanato-p-menthan, 1,3-Diisocyanatoadamantan, l,3-Dimethyl-5,7- diisocyanatoadamantan, 1,3- und l,4-Bis-(isocyanatomethyl)benzol, 1,3- und l,4-Bis(l-isocyanato- l-methylethyl)-benzol (TMXDI), Bis(4-(l-isocyanato-l-methylethyl)phenyl)-carbonat, 1,3- und
1.4-Phenylendiisocyanat, 2,4- und 2,6-Toluylendiisocyanat sowie beliebige Gemische dieser Isomeren, Diphenylmethan-2,4'- und/oder -4,4'-diisocyanat und Naphthylen-l,5-diisocyanat sowie beliebige Gemische solcher Diisocyanate. Weitere ebenfalls geeignete Diisocyanate finden sich darüberhinaus beispielsweise in Justus Liebigs Annalen der Chemie Band 562 (1949) S. 75 - 136.
Besonders bevorzugt sind monomere Diisocyanate der allgemeinen Formel (IV), in welcher Z für einen linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloaliphatischen Rest mit 5 bis 13 Kohlenstoffatomen steht.
Ganz besonders bevorzugte monomere Diisocyanate zur Herstellung der Polyisocyanatkomponente A sind 1,5-Diisocyanaotpentan, 1,6-Diisocyanatohexan, l-Isocyanato-3,3,5-trimethyl-5-isocyanato- methylcyclohexan, 2,4‘- und/oder 4,4‘-Diisocyanatodicyclohexylmethan oder beliebige Gemische dieser Diisocyanate.
Als Ausgansgverbindungen Al zur Herstellung der Polyisocyanatkomponente A geeignet sind, neben den oben genannten monomeren Diisocyanaten, auch beliebige durch Modifizierung von monomeren aliphatischen, cycloaliphatischen, araliphatischen und/oder aromatischen Diisocyanaten erhältliche oligomere Di- und Polyisocyanate mit Uretdion-, Isocyanurat-, Urethan-, Allophanat-, Thiourethan-, Thioallophanat-, Biuret-, Harnstoff-, Iminooxadiazindion- und/oder Oxadiazintrionstruktur oder beliebige Gemische dieser oligomeren Di- und Polyisocyanate. Die Her stellung dieser oligomeren Verbindungen erfolgt nach an sich bekannten Methoden zur Isocyanat- oligomerisierung, wie sie beispielsweise in J. Prakt. Chem. 336 (1994) 185 - 200, in DE-A 1 670 666, DE-A 1 954093, DE-A 2414413, DE-A 2452532, DE-A 2641 380, DE-A 3 700209, DE-A 3 900 053 und DE-A 3 928 503 oder in EP-A 0 336 205, EP-A 0 339 396 und EP-A 0 798 299 sowie in DE-A 870 400, DE-A 953 012, DE-A 1 090 196, EP-A 0 546 399, CN 105218780, CN 103881050, CN 101717571, US 3 183 112, EP-A 0416338, EP-A 0751 163, EP-A 1 378 529, EP- A 1 378 530, EP-A 2 174 967, JP 63260915 und JP 56059828 beispielhaft beschrieben sind. Als monomere Diisocyanate können beispielsweise die zuvor aufgelisteten Diisocyanate eingesetzt werden. Es gelten die dort genannten Vorzugsbereiche.
Gegenüber Isocvanatgruppen reaktive (kurz auch Isocvanat-reaktive) Verbindungen A2
Geeignete Ausgangsverbindungen A2 zur Herstellung der Polyisocyanatkomponente A sind bei spielsweise Aminosilane, der allgemeinen Formel (I)
R1
R2— Si - X - N-H
R3 R4
(I), in welcher
R1, R2 und R3 für gleiche oder verschiedene Reste stehen und jeweils einen gesättigten oder ungesättigten, linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloaliphatischen oder einen gegebenenfalls substituierten aromatischen oder araliphatischen Rest
mit bis zu 18 Kohlenstoffatomen bedeuten, der gegebenenfalls bis zu 3 Hetero atome aus der Reihe Sauerstoff, Schwefel, Stickstoff enthalten kann,
X für einen linearen oder verzweigten organischen Rest mit mindestens 2 Kohlen stoffatomen steht, der gegebenenfalls bis zu 2 Iminogruppen (-NH-) enthalten kann, und
R4 für Wasserstoff, einen gesättigten oder ungesättigten, linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloaliphatischen oder einen gegebenenfalls substituierten aromatischen oder araliphatischen Rest mit bis zu 18 Kohlenstoffatomen steht oder für i) einen Rest der Formel
steht, in welchem R1, R2, R3 und X die vorstehend angegebene Bedeutung haben, oder ii) einen Rest der Formel
steht, in welchem R5 und R6 unabhängig voneinander gesättigte oder ungesättigte, lineare oder verzweigte, aliphatische oder cycloaliphatische oder aromatische organische Reste mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen sind, die substituiert oder unsubstituiert sind und/oder Heteroatome in der Kette aufweisen können, iii) einen Rest der Formel
steht, in welcher R9 für Wasserstoff oder einen gesättigten linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloaliphatischen organischen Rest mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen steht.
Geeignete Aminosilane der allgemeinen Formel (I) sind beispielsweise 3-Aminopropyltri- methoxysilan, 3-Amino-propyltriethoxysilan, 3-Aminopropylmethyldimethoxysilan, 3-Aminopro- pylmethyldiethoxy silan, 3-Aminopropylethyldiethoxysilan, 3-Aminopropyldimethylethoxysilan, 3- Aminopropyldiisopropylethoxysilan, 3 -Aminopropyltripropoxysilan, 3 -Aminopropyltributoxysilan, 3 -Aminopropylphenyldiethoxysilan, 3 -Aminopropylphenyldimethoxysilan, 3 -Aminopropyl- tris(methoxyethoxyethoxy)silan, 2-Aminoisopropyltrimethoxysilan, 4-Aminobutyltrimethoxysilan, 4-Aminobutyltriethoxysilan, 4-Aminobutylmethyldimethoxysilan, 4-Aminobutylmethyl- diethoxysilan, 4-Aminobutylethyldimethoxysilan, 4-Aminobutylethyldiethoxysilan, 4-Aminobutyl- dimethylmethoxysilan, 4-Aminobutylphenyldimethoxysilan, 4-Aminobutylphenyldiethoxysilan, 4- Amino(3 -methylbutyl)methyldimethoxysilan, 4-Amino(3 -methylbutyl)methyldiethoxysilan, 4- Amino(3 -methylbutyl)trimethoxysilan, 3 -Aminopropylphenylmethyl-n-propoxysilan, 3 -Amino- propylmethyldibutoxysilan, 3-Aminopropyldiethylmethylsilan, 3-Aminopropylmethyl- bis(trimethylsiloxy)silan, 11-Aminoundecyltrimethoxysilan, N-Methyl-3-aminopropyltrimeth- oxysilan, N-Methyl-3-aminopropyltriethoxysilan, N-(n-Butyl)-3-aminopropyltrimethoxysilan, N- (n-Butyl)-3-aminopropyltriethoxysilan, N-(2-Aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilan, N-(2- Aminoethyl)-3-aminoisobutylmethyldimethoxysilan, N-(2-Aminoethyl)-3-aminopropyl- methyldimethoxysilan, N-(2-Aminoethyl)-3-aminopropyltris(2-ethylhexoxy)silan, N-(6-Amino- hexyl)-3-aminopropyltrimethoxysilan, N-Benzyl-N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilan, Bis(3-trimethoxysilylpropyl)amin, Bis(3-triethoxysilylpropyl)amin, (Aminoethylaminomethyl)- phenethyltrimethoxysilan, N-Vinylbenzyl-N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylpolysiloxan, N-Vinyl- benzyl-N(2-aminoethyl)-3-aminopro-pylpolysiloxan, 3-Ureidopropyltriethoxysilan, 3-(m- Aminophenoxy)-propyltrimethoxysilan, m- und/oder p-Aminophenyltrimetoxysilan, 3-(3-Amino- propoxy)-3,3-dimethyl-l-propenyltrimethoxysilan, 3-Aminopropylmethylbis(trimethylsiloxy)- silan, 3-Aminopropyltris(trimethyl-siloxy)-silan, 3-Aminopropylpentamethyldisiloxan oder beliebige Gemisch solcher Aminosilane.
Darunter bevorzugt sind Aminosilane der allgemeinen Formel (I), in welcher
R1, R2 und R3 jeweils Alkylreste mit bis zu 6 Kohlenstoffatomen und/oder Alkoxyreste, die bis zu 3 SauerstofFatome enthalten, bedeuten, mit der Maßgabe, dass mindestens einer der Reste R1, R2 und R3 für einen solchen Alkoxyrest steht,
X für einen linearen oder verzweigten organischen Rest mit mindestens 2 Kohlen stoffatomen steht, und
R4 für einen gesättigten, linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloalipha- tischen Rest mit bis zu 6 Kohlenstoffatomen oder einen Rest der Formel
steht, in welchem R1, R2, R3 und X die vorstehend angegebene Bedeutung haben.
Darunter besonders bevorzugte sind Aminosilane der allgemeinen Formel (I), in welcher R1, R2 und R3 jeweils Methyl, Methoxy und/oder Ethoxy bedeuten, mit der Maßgabe, dass mindestens einer der Reste R1, R2 und R3 für einen Methoxy- oder Ethoxyrest steht,
X für einen Propylenrest (-CH2-CH2-CH2-) steht, und
R4 für einen linearen Alkylrest mit bis zu 4 Kohlenstoffatomen oder einen Rest der Formel
steht, in welchem R1, R2, R3 und X die vorstehend angegebene Bedeutung haben.
Darunter ganz besonders bevorzugt sind N-Methyl-3-aminopropyltrimethoxysilan, N-Methyl-3- aminopropyltriethoxysilan, N-(n-Butyl)-3-aminopropyltrimethoxysilan, N-(n-Butyl)-3-amino- propyltriethoxysilan, Bis(3-trimethoxysilylpropyl)-amin und/oder Bis(3-triethoxysilylpropyl)amin.
Bevorzugte Aminosilane der allgemeinen Formel (I) sind beispielsweise auch solche, bei denen R4 für einen Rest der Formel
steht, in welcher
R1, R2 und R3 jeweils Alkylreste mit bis zu 6 Kohlenstoffatomen und/oder Alkoxy- reste, die bis zu 3 Sauerstoffatome enthalten, bedeuten, mit der Maß gabe, dass mindestens einer der Reste R1, R2 und R3 für einen solchen Alkoxyrest steht,
X für einen linearen oder verzweigten organischen Rest mit mindestens 2
Kohlenstoffatomen steht, und
R5 und R6 unabhängig voneinander gesättigte oder ungesättigte, lineare oder verzweigte, aliphatische oder cycloaliphatische oder aromatische organische Reste mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen sind, die substituiert oder unsubstituiert sind und/oder Heteroatome in der Kette aufweisen.
Darunter besonders bevorzugt sind Aminosilane der allgemeinen Formel (I), in welcher
R4 für einen Rest der Formel
steht, in welcher
R1, R2 und R3 jeweils Methyl, Methoxy und/oder Ethoxy bedeuten, mit der Maßgabe, dass mindestens einer der Reste R1, R2 und R3 für einen Methoxy- oder Ethoxyrest steht,
X für einen Propylenrest (-CH2-CH2-CH2-) steht, und
R5 und R6 unabhängig voneinander für einen Methyl-, Ethyl-, n-Butyl- oder 2- Ethylhexylrest stehen.
Bei diesen Aminosilanen handelt es sich um die bekannten silanfunktionellen Asparaginsäureester, wie sie sich nach der Lehre der EP-A 0 596 360 durch Umsetzung von primäre Aminogruppen tragenden Aminosilanen mit Fumarsäureestem und/oder Maleinsäureestem erhalten lassen.
Geeignete Ausgangsverbindungen zu Herstellung dieser silanfünktionellen Asparaginsäureester sind daher grundsätzlich beliebige Aminosilane der allgemeinen Formel (I)
in welcher R1, R2, R3 und X die für Formel (I) genannte Bedeutung haben und R4 für Wasserstoff steht.
Diese werden mit Fumarsäurediestem und/oder Maleinsäurediestem der allgemeinen Formel (V)
umgesetzt, in welcher die Reste R5 und R6 die oben genannte Bedeutung haben.
Ganz besonders bevorzugte silanfunktionellen Asparaginsäureester sind Umsetzungsprodukte von 3-Aminopropyltrimethoxysilan und/oder 3-Aminopropyltriethoxysilan mit Maleinsäurediethylester.
Bevorzugte Aminosilane der allgemeinen Formel (I) sind weiterhin auch solche, bei denen R4 für einen Rest der Formel
steht, in welcher
R1, R2 und R3 jeweils Alkylreste mit bis zu 6 Kohlenstoffatomen und/oder Alkoxy- reste, die bis zu 3 Sauerstoffatome enthalten, bedeuten, mit der Maß gabe, dass mindestens einer der Reste R1, R2 und R3 für einen solchen Alkoxyrest steht,
X für einen linearen oder verzweigten organischen Rest mit mindes tens 2 Kohlenstoffatomen steht, und
R9 für Wasserstoff oder einen gesättigten linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloaliphatischen organischen Rest mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen steht.
Darunter besonders bevorzugt sind Aminosilane der allgemeinen Formel (I), in welcher R4 für einen Rest der Formel
steht, in welcher
R1, R2 und R3 jeweils Methyl, Methoxy und/oder Ethoxy bedeuten, mit der Maßgabe, dass mindestens einer der Reste R1, R2 und R3 für einen Methoxy- oder Ethoxyrest steht,
X für einen Propylenrest (-CH2-CH2-CH2-) steht, und
R9 für Wasserstoff steht.
Bei diesen Aminosilanen handelt es sich um die bekannten silanfunktionellen Alkylamide, wie sie sich beispielsweise nach den in US 4 788 310 und US 4 826 915 offenbarten Verfahren durch Umsetzung von primäre Aminogruppen tragenden Aminosilanen mit Alkylcarbonsäurealkylestem unter Alkoholabspaltung erhalten lassen.
Geeignete Ausgangsverbindungen zur Herstellung silanfunktionellen Alkylamide sind daher grundsätzlich beliebige Aminosilane der allgemeinen Formel (I)
in welcher R1, R2, R3 und X die für Formel (I) genannte Bedeutung haben und R4 für Wasserstoff steht.
Diese werden mit Alkylcarbonsäurealkyle stem der allgemeinen Formel (VI)
R9 - COOR20
(VI), umgesetzt, in welcher
R9 die oben genannte Bedeutung hat und
R20 für einen gesättigten aliphatischen organischen Rest mit 1 bis 4 Kohlenstoff atomen steht.
Ganz besonders bevorzugte silanfunktionelle Alkylamide sind Umsetzungsprodukte von 3-Amino- propyltrimethoxysilan und/oder 3-Aminopropyltriethoxysilan mit Methylformiat und/oder Ethylformiat.
Geeignete Ausgangsverbindungen A2 zur Herstellung der Polyisocyanatkomponente A sind auch Mercaptosilane der allgemeinen Formel (II)
R1
R2— Si - Y - SH
R3 (P), in welcher R1, R2und R3 die für Formel (I) genannte Bedeutung haben und
Y für einen linearen oder verzweigten organischen Rest mit mindestens 2 Kohlen stoffatomen steht.
Geeignete Mercaptosilane A2 sind beispielsweise 2-Mercaptoethyltrimethylsilan, 2-Mercaptoethyl- methyldimethoxysilan, 2-Mercaptoethyltrimethoxysilan, 2-Mercaptoethyltriethoxysilan, 3-Mercap- topropylmethyldimethoxysilan, 3 -Mercaptopropyldimethylmethoxysilan, 3 -Mercaptopropyltri- methoxysilan, 3-Mercaptopropylmethyldiethoxysilan, 3-Mercaptopropyltriethoxysilan, 3-Mercap- topropylethyldimethoxysilan, 3-Mercaptopropylethyldiethoxysilan und/oder 4-Mercaptobutyltri- methoxysilan.
Bevorzugte Mercaptosilane A2 für das erfindungsgemäße Verfahren sind solche der allgemeinen Formel (II), in welcher
R1, R2 und R3 für gleiche oder verschiedene Reste stehen und jeweils einen gesättigten, linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloaliphatischen Rest mit bis zu 6 Kohlen stoffatomen bedeuten, der gegebenenfalls bis zu 3 Sauerstoffatome enthalten kann, und
Y für einen linearen oder verzweigten Alkylenrest mit 2 bis 10 Kohlenstoffatomen steht.
Besonders bevorzugte Mercaptosilane A2 sind solche der allgemeinen Formel (II), in welcher
R1, R2 und R3 jeweils Alkylreste mit bis zu 6 Kohlenstoffatomen und/oder Alkoxyreste, die bis zu 3 Sauerstoffatomen enthalten, bedeuten, mit der Maßgabe, dass mindestens einer der Reste R1, R2 und R3 für einen solchen Alkoxyrest steht, und
Y für einen Propylenrest (-CH2-CH2-CH2-) steht.
Ganz besonders bevorzugte Mercaptosilane A2 sind solche der allgemeinen Formel (II), in welcher
R1, R2 und R3 für gleiche oder verschiedene Reste stehen und jeweils Methyl, Methoxy oder Ethoxy bedeuten, mit der Maßgabe, dass mindestens einer der Reste R1, R2 und R3 für einen Methoxy- oder Ethoxyrest steht, und
X für einen Propylenrest (-CH2-CH2-CH2-) steht, insbesondere 3-Mercaptopropyltrimethoxysilan und/oder 3-Mercaptopropyltriethoxysilan.
Zur Herstellung der Polyisocyanatkomponente A werden die Polyisocyanate A 1 mit den Isocyanat- reaktiven Verbindungen A2 bei Temperaturen von 20 bis 200 °C, vorzugsweise 30 bis 160 °C umgesetzt.
Die Herstellung erfolgt bevorzugt unter Einhaltung eines Äquivalentverhältnisses von Iso- cyanatgruppen zu gegenüber Isocyanaten reaktiven Gruppen von 50 : 1 bis 1,05 : 1, vorzugsweise von 30 : 1 bis 1,25 : 1, besonders bevorzugt 20 : 1 bis 1,5 : 1.
Die Herstellung der Polyisocyanatkomponente A kann lösemittelfrei durchgeführt werden. Gegebe nenfalls können aber auch geeignete, gegenüber den reaktiven Gruppen der Ausgangskomponenten inerte Lösemittel mitverwendet werden. Geeignete Lösemittel sind beispielsweise die an sich bekannten üblichen Lacklösemittel, wie z. B. Ethylacetat, Butylacetat, Ethylenglykolmonomethyl oder -ethyletheracetat, l-Methoxypropyl-2-acetat (MPA), 3-Methoxy-n-butylacetat, Aceton, 2-Butanon, 4-Methyl-2-pentanon, Cyclohexanon, Toluol, Xylol, Chlorbenzol, Testbenzin, höher substituierte Aromaten, wie sie beispielsweise unter den Bezeichnungen Solventnaphtha, Solvesso®, Isopar®, Nappar® (Deutsche EXXON CHEMICAL GmbH, Köln, DE) und Shellsol® (Deutsche Shell Chemie GmbH, Eschborn, DE) im Handel sind, aber auch Lösemittel wie Propylenglykol - diacetat, Diethylenglykoldimethylether, Dipropylenglykoldimethylether, Diethylenglykolethyl- und -butyletheracetat, N-Methylpyrrolidon und N-Methylcaprolactam, oder beliebige Gemische solcher Lösemittel.
Die Umsetzung der Ausgangskomponenten Al und A2 kann mit oder ohne den Einsatz von Katalysatoren durchgeführt werden. Insbesondere bei Einsatz von Mercaptosilanen (Formel II) jedoch kann es von Vorteil sein, zur Beschleunigung der SH-NCO -Reaktion, welche zur Ausbildung von Thiourethan- und/oder Thioallophanatstrukturen führt, geeignete Katalysatoren mitzuverwenden. Geeignete Katalysatoren sind insbesondere die üblichen aus der Polyurethanchemie bekannten Urethanisierungs- und Allophanatisierungskatalysatoren.
Beispielhaft genannt seien hier tert. Amine, wie z. B. Triethylamin, Tributylamin, Dimethylbenzylamin, Diethylbenzylamin, Pyridin, Methylpyridin, Dicyclohexylmethylamin, Dimethylcyclohexylamin, N,N,N',N'-Tetramethyldiaminodiethylether, Bis-(dimethylaminopropyl)- hamstoff, N-Methyl- bzw. N-Ethylmorpholin, N-Cocomorpholin, N-Cyclohexylmorpholin, N,N,N',N'-Tetramethylethylendiamin, N,N,N',N'-Tetramethy-l,3-butandiamin, N, N,N',N' -Tetra methyl- 1,6-hexandiamin, Pentamethyldiethylentriamin, N-Methylpiperidin, N-Dimethylamino- ethylpiperidin, N,N'-Dimethylpiperazin, N-Methyl-N’-dimethylaminopiperazin, 1,2-Dimethylimid- azol, 2-Methylimidazol, N,N-Dimethylimidazol-ß-phenylethylamin, l,4-Diazabicyclo-(2,2,2)-octan (DABCO) und Bis-(N,N-dimethylaminoethyl)adipat, Amidine, wie z. B. 1,5-Diazabi- cyclo[4.3.0]nonen (DBN), l,8-Diazabicyclo(5.4.0)undecen-7 (DBU) und 2,3-Dimethyl-3,4,5,6- tetrahydropyrimidin, Alkanolaminverbindungen, wie z. B. Triethanolamin, Triisopropanolamin, N- Methyl-diethanolamin, N-Ethyl-diethanolamin, Dimethylaminoethanol und 2-(N,N-Dimethyl-
aminoethoxy)ethanol, N,N',N"-Tris-(dialkylaminoalkyl)hexahydrotriazine, wie z. B. N,N',N"-Tris- (dimethylaminopropyl)-s-hexahydrotriazin, Bis(dimethylaminoethyl)ether sowie Metallsalze, wie z. B. anorganische und/oder organische Verbindungen des Eisens, Bleis, Wismuths, Zinks, und/oder Zinns in üblichen Oxidationsstufen des Metalls, beispielsweise Eisen(II)-chlorid, Eisen(III)-chlorid, Wismut(III)- Wismut(III)-2-ethylhexanoat, Wis-mut(III)-octoat, Wismut(III)-neodecanoat, Zinkchlorid, Zink-2-ethylcaproat, Zink-(II)-stearat, Zink-(II)-n-octanoat, Zink-(II)-2-ethyl-l- hexanoat, Zink-(II)-naphthenat oder Zink-(II)-acetylacetonat, Zinn(II)-octoat, Zinn(II)-ethylcaproat, Zinn(II)-palmitat, Zinn-(II)-laurat, Dibutylzinn(IV)-dilaurat (DBTL), Dibutylzinn(IV)-dichlorid, Zinn-(II)-2-ethyl-l-hexanoat, Dibutylzinnoxid, Dibutylzinndiacetat, Dibutylzinndimaleat oder Di- octylzinndiacetat, Bleioctoat, Zirconium Verbindungen, wie z. B. Zirconium-(IV)-2-ethyl-l- hexanoat, Zirconium-(IV)-neodecanoat, Zirconium-(rV)-naphthenat oder Zirconium-(IV)-acetyl- acetonat, Aluminium-tri(ethylacetoacetat), Kaliumoctoat, Mangan- Cobalt- oder Nickelverbin dungen sowie starke Säuren, wie z. B. Trifluoressigsäure, Schwefelsäure, Chlorwasserstoff, Bromwasserstoff, Phosphorsäure oder Perchlorsäure, oder beliebige Gemische dieser Katalysatoren.
Zur Beschleunigung der Thiourethanisierungsreaktion bevorzugt einzusetzende Katalysatoren sind tertiäre Amine, Amidine und Zinnverbindungen der genannten Art. Besonders bevorzugt sind 1,4- Diazabicyclo-(2,2,2)-octan (DABCO), 1,5-Diazabicyclo[4.3.0]nonen (DBN), 1,8-Diaza- bicyclo(5.4.0)undecen-7 (DBU), sowie Dibutylzinn(IV)-dilaurat (DBTL), oder beliebige Gemische dieser Katalysatoren.
Falls Katalysatoren zur Beschleunigung der Thiourethanisierungsreaktion eingesetzt werden, so kommen diese in Mengen von 0,001 bis 1,0 Gew.-%, bevorzugt 0,01 bis 0,5 Gew.-%, berechnet als Gesamtmenge an eingesetzten Katalysatoren bezogen auf die Gesamtmenge der verwendeten Polyisocyanate Al und Mercaptosilane A2 zum Einsatz.
Zur Beschleunigung der Thioallophanatisierungsreaktion bevorzugt einzusetzende Katalysatoren sind Zink- und Zirconiumverbindungen der obengenannten Art. Ganz besonders bevorzugt ist Zink- (Il)-n-octanoat, Zink-(II)-2-ethyl-l-hexanoat und/oder Zink-(II)-stearat, Zirconium-(IV)-n-octanoat, Zirconium-(IV)-2-ethyl-l-hexanoat und Zirconium-(IV)-neodecanoat, oder beliebige Gemische dieser Katalysatoren.
Falls Katalysatoren zur Beschleunigung der Thioallophanatisierungsreaktion eingesetzt werden, so kommen diese in Mengen von 0,001 bis 5 Gew.-%, vorzugsweise 0,005 bis 1 Gew.-%, berechnet als Gesamtmenge an eingesetzten Katalysatoren bezogen auf die Gesamtmenge der verwendeten Polyisocyanate Al und Mercaptosilane A2 zum Einsatz.
Detaillierte Syntheserouten zur Synthese von Polyisocyanatkomponenten gemäß A auf Basis der Umsetzung von Mercaptosilanen gemäß Formel II (A2) mit Polyisocyanten gemäß Komponente
Al unter Bildung von Thiourethanstrukturen, bzw. Thioallophanatstrukturen sind in der EP-B 2892905 bzw. der W015/189164 beschreiben, auf die an dieser Stelle verwiesen wird.
In einer bevorzugten Ausführungsform weist die mindestens eine Polyisocyanatkomponente A Thioallophanatstrukturen auf.
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform weist die mindestens eine Polyisocyanatkomponente A Thioallophanatstrukturen auf, die auf der Umsetzung von monomerem aliphatischem Diisocyanat mit einem Mercaptosilan der Formel II basieren.
In einer ganz besonders bevorzugten Ausführungsform ist das monomere aliphatische Diisocyanat PDI und/oder HDI. In einer alternativen ganz besonders bevorzugten Ausführungsform ist das Mercaptosilan Mercaptopropyltrimethoxysilan. Am meisten bevorzugt werden als monomeres Diisocyanat HDI und als Mercaptosilan Mercaptopropyltrimethoxysilan eingesetzt.
Die Polyisocyanatkomponenten A weisen bevorzugt einen NCO-Gehalt von 1,3 bis 24,9 Gew.-%, besonders bevorzugt von 4,0 bis 23,5 Gew.-%, ganz besonders bevorzugt von 5,0 bis 21,0 Gew.-%, und eine mittlere NCO-Funktionalität bevorzugt von 1,0 bis 4,9, besonders bevorzugt von 1,8 bis 4,8, ganz besonders bevorzugt von 2,0 bis 4,0 auf.
Katalysatoren zur Vernetzung von Silangruppen B und B‘
Die erfindungsgemäßen Beschichtungsmittel enthalten bevorzugt mindestens einen Katalysator zur Vernetzung von Silangruppen. Dieser kann in der ersten oder der zweiten Beschichtungsmittelkomponente oder in beiden Beschichtungsmittelkomponenten enthalten sein. Im letztgenannten Fall können in beiden Komponenten der gleiche bzw. gleiche oder unterschiedliche Katalysatoren enthalten sein.
Bei diesen Katalysatoren handelt es sich um beliebige Verbindungen, die in der Lage sind, die Hydrolyse und Kondensation von Alkoxysilangruppen oder bevorzugt die thermisch induzierte Silankondensation zu beschleunigen.
Geeignete Katalysatoren B, bzw. B‘ sind beispielsweise Säuren, wie z. B. organische Carbonsäuren, Schwefelsäure, p-Toluolsulfonsäure, Trifluormethansulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, Essigsäure, Trifluoressigsäure, Phosphorsäuremonoester und Phosphorsäurediester, wie z. B. Dibutylphosphat, Phosphorsäure-2-ethylhexylester, Phosphorsäurephenylester und Phosphorsäure- bis(2-ethylhexyl)ester, sowie Phosphonsäurediester und Diphosphonsäurediester, wie sie z. B. in der WO 2007/033786 beschrieben sind.
Als Katalysatoren B, bzw. B‘ ebenfalls geeignet sind auch Basen, wie z. B. die N-substituierten Amidine l,5-Diazabicyclo[4.3.0]non-5-en (DBN) und l,5-Diazabicyclo[5.4.0]undec-7-en (DBU), oder auch Metallsalze und Metallchelate, wie z. B. Tetraisopropyltitanat, Tetrabutyltitanat,
Titan(IV)acetylacetonat, Aluminium-tri-sec-butylat, Aluminiumacetylacetonat, Aluminiumtriflat, Zinntriflat oder Zirkonethylacetoacetat, wie sie z. B. in WO 2006/042658 beschrieben sind.
Geeignete Katalysatoren B, bzw. B‘ sind auch Phosphorsäure- und Phosphonsäureester der oben genannten Art, die in mit Aminen, vorzugsweise mit tertiären Aminen blockierter Form vorliegen. Besonders bevorzugte Katalysatoren dieses Typs sind solche, die im Temperaturbereich der Aushärtung von Automobildeck- und -klarlacken, beispielsweise im Bereich von 100 bis 150°C unter Abspaltung des Blockierungsamins die sauren Phosphorsäure- und Phosphonsäureester wieder freisetzen, die die eigentlich wirksame Katalysatoren darstellen. Geeignete aminblockierte Phosphorsäurekatalysatoren B, bzw. B‘ sind beispielsweise in WO 2008/074489 und WO 2009/077180 beschrieben.
Ebenfalls geeignete Katalysatoren B, bzw. B‘ sind organische Sulfonsäuren der oben genannten Art, die in blockierter Form, beispielsweise in amin-neutralisierter Form oder als Addukt an Epoxiden, wie in der DE 2 356 768 Bl beschrieben, eingesetzt werden und oberhalb von 100°C die katalytisch aktiven Sulfonsäuren wieder freisetzen.
Weitere zur Vernetzung von Silangruppen geeignete Katalysatoren B, bzw. B‘ sind auch Tetra- alkylammoniumcarboxylate, wie z. B. Tetramethylammoniumformiat, Tetramethylammonium acetat, Tetramethylammoniumpropionat, Tetramethylammoniumbutyrat,
Tetramethylammoniumbenzoat, Tetraethylammoniumformiat, Tetraethylammoniumacetat, Tetraethylammoniumpropionat, Tetraethylammoniumbutyrat, Tetraethylammoniumbenzoat, Tetrapropylammoniumformiat, Tetrapropylammoniumacetat, Tetrapropylammonium-propionat, Tetrapropylammoniumbutyrat, Tetrapropylammonium-benzoat, Tetrabutylammoniumformiat, Tetrabutylammoniumacetat, Tetrabutylammoniumpropionat, Tetrabutylammoniumbutyrat und/oder Tetrabutylammoniumbenzoat.
Zur Vernetzung von Silangruppen geeignete Katalysatoren B, bzw. B‘ sind auch quaternäre Ammo nium- und Phosphoniumpolyfluoride, wie sie z. B. aus der ER-A0 798 299, ER-A0 896 009 und EP- A0 962 455 als Trimerisierungskatalysatoren für Isocyanatgruppen bekannt sind.
Geeignete Katalysatoren B, bzw. B‘ sind schließlich auch Zink-Amidin-Komplexe, die nach dem Verfahren der WO 2014/016019 durch Umsetzung eines oder mehrerer Zink(lI)biscarboxylate mit Amidinen hergestellt werden können.
Bevorzugte Katalysatoren B, bzw. B‘ zur Vernetzung von Silangruppen sind saure Phosphorsäure ester, Phosphonsäureester und Sulfonsäuren der genannten Art, die gegebenenfalls in mit Aminen blockierter Form vorliegen können, sowie Tetraalkylammoniumcarboxylate der genannten Art. Besonders bevorzugte Katalysatoren B, bzw. B‘ sind mit Aminen blockierte Phosphorsäureester und Sulfonsäuren sowie die genannten Tetraalkylammoniumcarboxylate. Ganz besonders bevorzugte Katalysatoren B, bzw. B‘ sind mit Aminen blockierte Phosphorsäurephenylester und Phosphorsäure- bis(2-ethylhexyl)ester, Tetraethylammoniumbenzoat und Tetrabutylammoniumbenzoat.
Die Katalysatoren B, bzw. B‘ kommen in den erfindungsgemäßen Beschichtungsmitteln in Mengen von 0,005 Gew.-% bis zu 5 Gew.-%, vorzugsweise von 0,005 Gew.-% bis zu 2 Gew.-%, besonders bevorzugt von 0,005 Gew.-% bis zu 1 Gew.-%, berechnet als Summe aller eingesetzten Katalysatoren B, bzw. B‘ und bezogen auf die Gesamtmenge aus Polyisocyanatkomponente A, Hydroxylgruppen-haltiger Komponente C und Siloxankomponente D zum Einsatz.
Hydroxylgruppen-haltige Verbindungen C
Als Hydroxylgruppen-haltige Verbindungen C werden beliebige Polyole, die mindestens zwei Hydroxylgruppen tragen, eingesetzt. Geeignete Hydroxylgruppen-haltige Verbindungen C sind beispielsweise die üblichen aus der Polyurethanchemie bekannten Polyhydroxylverbindungen, wie z. B. Polyesterpolyole, Polyetherpolyole, Polycarbonatpolyole und/oder Polyacrylatpolyole, oder beliebige Abmischungen solcher Polyole.
Geeignete Polyesterpolyole C sind beispielsweise solche eines mittleren, aus Funktionalität und Hydroxylzahl berechenbaren Molekulargewichtes von 200 bis 3000, vorzugsweise von 250 bis 2500, mit einem Hydroxylgruppen-Gehalt von 1 bis 21 Gew.-%, vorzugsweise 2 bis 18 Gew.-%, wie sie sich in an sich bekannter Art und Weise durch Umsetzung von mehrwertigen Alkoholen mit unterschüssigen Mengen an mehrwertigen Carbonsäuren, entsprechenden Carbonsäureanhydriden, entsprechenden Polycarbonsäureestem von niederen Alkoholen oder Lactonen hersteilen lassen.
Zur Herstellung dieser Polyesterpolyole geeignete mehrwertige Alkohole sind insbesondere solche des Molekulargewichtsbereichs 62 bis 400 wie z. B. 1,2-Ethandiol, 1,2- und 1,3-Propandiol, die isomeren Butandiole, Pentandiole, Hexandiole, Heptandiole und Octandiole, 1,2- und 1,4- Cyclohexandiol, 1,4-Cyclohexandimethanol, 4,4'-(l-Methylethyliden)-biscyclohexanol, 1,2,3- Propantriol, 1,1,1-Trimethylolethan, 1,2,6-Hexantriol, 1,1,1-Trimethylolpropan, 2,2- Bis(hydroxymethyl)- 1 ,3 -propandiol oder 1 ,3 ,5 -Tris(2-hydroxyethyl)-isocyanurat.
Die zur Herstellung der Polyesterpolyole C verwendeten Säuren oder Säurederivate können aliphatischer, cycloaliphatischer und/oder heteroaromatischer Natur sein und gegebenenfalls, z. B. durch Halogenatome, substituiert und/oder ungesättigt sein. Beispiele geeigneter Säuren sind beispielsweise mehrwertige Carbonsäuren des Molekulargewichtsbereichs 118 bis 300 oder deren Derivate wie beispielsweise Bemsteinsäure, Adipinsäure, Sebacinsäure, Phthalsäure, Isophthalsäure, Trimellitsäure, Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäure, Maleinsäure, Maleinsäureanhydrid, dimere und trimere Fettsäuren, Terephthalsäuredimethylester und Terephthalsäure-bis-glykolester.
Zur Herstellung der Polyesterpolyole C können auch beliebige Gemische dieser beispielhaft genannten Ausgangsverbindungen eingesetzt werden.
Geeignete Polyesterpolyole C sind auch solche, wie sie sich in an sich bekannterWeise aus Lactonen und einfachen mehrwertigen Alkoholen, wie z. B. den oben beispielhaft genannten, als
Startermolekülen unter Ringöffnung hersteilen lassen. Geeignete Lactone zur Herstellung dieser Polyesterpolyole sind beispielsweise ß-Propiolacton, □ -Butyrolacton, □- und D-Valerolacton, □- Caprolacton, 3,5,5- und 3,3,5-Trimethylcaprolacton oder beliebige Gemische solcher Lactone.
Die Herstellung dieser Lactonpolyester erfolgt im Allgemeinen in Gegenwart von Katalysatoren wie beispielsweise Lewis- oder Brönstedt-Säuren, organischen Zinn- oder Titanverbindungen bei Temperaturen von 20 bis 200°C, vorzugsweise 50 bis 160°C.
Geeignete Polyetherpolyole C sind beispielsweise solche eines mittleren, aus Funktionalität und Hydroxylzahl berechenbaren Molekulargewichtes von 200 bis 6000, vorzugsweise 250 bis 4000, mit einem Hydroxylgruppen-Gehalt von 0,6 bis 34 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 27 Gew.-%, wie sie in an sich bekannter Weise durch Alkoxylierung geeigneter Startermoleküle zugänglich sind. Zur Herstellung dieser Polyetherpolyole können beliebige mehrwertige Alkohole, beispielsweise solche des Molekulargewichtsbereichs 62 bis 400, wie sie oben bei der Herstellung von Polyesterpolyolen beschrieben werden, als Startermoleküle eingesetzt werden.
Für die Alkoxylierungsreaktion geeignete Alkylenoxide sind insbesondere Ethylenoxid und Propylenoxid, die in beliebiger Reihenfolge oder auch im Gemisch bei der Alkoxylierungsreaktion eingesetzt werden können.
Geeignete Polyacrylatpoylole C sind beispielsweise solche eines mittleren aus Funktionalität und Hydroxylzahl berechenbaren oder durch Gelpermeationschromatografie (GPC) bestimmbaren Molekulargewichtes von 800 bis 50.000, vorzugsweise von 1000 bis 20.000, mit einem Hydroxylgruppengehalt von 0,1 bis 12 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 10, wie sie sich in an sich bekannter Weise durch Copolymerisation Hydroxylgruppen aufweisender olefinisch ungesättigter Monomerer mit hydroxylgruppenfreien olefinischen Monomeren hersteilen lassen.
Beispiele für geeignete Monomere zur Herstellung der Polyacrylatpolyole C sind Vinyl- bzw. Vinylidenmonomere wie z.B. Styrol, □ -Methylstyrol, o- bzw. p-Chlorstyrol, o-, m- oder p- Methylstyrol, p-tert.-Butylstyrol, Acrylsäure, Acrylnitril, Methacrylnitril, Acryl- und Methacryl- säureester von Alkoholen mit bis zu 18 Kohlenstoffatomen, wie z. B. Methylacrylat, Ethylacrylat, n- Propylacrylat, Isopropylacrylat, n-Butylacrylat, Isobutylacrylat, tert-Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, Isooctylacrylat, 3,3,5-Trimethylhexylacrylat, Stearylacrylat, Laurylacrylat, Cyclopentylacrylat, Cyclohexylacrylat, 4-tert.-Butycyclohexylacrylat, Isobomylacrylat, Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, n-Propylmethacrylat, Isopropylmethacrylat, Butylmethacrylat, Isobutylmethacrylat, tert-Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat, Isooctylmethacrylat, 3 ,3 ,5 -Trimethylhexylmethacrylat,
Stearylmethacrylat, Laurylmethacrylat, Cyclopentylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, 4-tert.- Butycyclohexylmethacrylat, Norbomylmethacrylat oder Isobomylmethacrylat, Diester der Fumarsäure, Itaconsäure oder Maleinsäure mit 4 bis 8 Kohlenstoffatome aufweisenden Alkoholen, Acrylsäureamid, Methacryl säureamid, Vinylester von Alkanmonocarbonsäuren mit 2 bis 5 Kohlenstoffatomen, wie z. B. Vinylacetat oder Vinylpropionat, Hydroxyalkylester der Acrylsäure
oder Methacrylsäure mit 2 bis 5 Kohlenstoffatomen im Hydroxyalkylrest, wie z. B. 2-Hydroxyethyl- , 2-Hydroxypropyl-, 3-Hydroxypropyl-, 3-Hydroxybutyl-, 4-Hydroxybutyl-, Trimethylolpropanmono- oder Pentaerythritmonoacrylat oder -methacrylat, sowie beliebige Gemische solcher beispielhaft genannter Monomere.
Bevorzugte Hydroxylgruppen-haltige Verbindungen C sind Polyesterpolyole, Polycarbonatpolyole und/oder Polyacrylatpolyole der genannten Art. Besonders bevorzugte Hydroxylgruppen-haltige Verbindungen C sind Polyacrylatpolyole der genannten Art, die gegebenenfalls im Gemisch mit Polyesterpolyolen und/oder Polycarbonatpolyolen der genannten Art eingesetzt werden können. Ganz besonders bevorzugt enthält die Komponenten C ausschließlich Polyacrylatpolyole der genannten Art.
Alkoxysilyl-fünktionelle Siloxane D
Die erfindungsgemäßen Beschichtungsmittel enthalten mindestens ein alkoxysilyl-funktionelles Siloxan D.
Siloxane sind dem Fachmann bekannt. Es handelt sich um von reinen Silanen (das heißt binären aus Si und H bestehenden Verbindungen) abgeleitete Komponenten der allgemeinen Formel IGSi-fO- SiR2]n-0-SiR3, wobei R Wasserstoffatome oder Alkylgruppen sein können. In Siloxanen sind die Siliziumatome also über genau ein Sauerstoffatom mit ihrem benachbarten Siliziumatom verknüpft, sie enthalten zumindest eine Si-O-Si Bindung. Ist mindestens eines der Wasserstoffatome durch einen organischen Rest wie beispielsweise eine Alkylgruppe ersetzt, werden diese auch als Organosiloxane bezeichnet. Oligomere oder polymere Organosiloxane (Siloxane mit R ^H) besitzen lange Si-O- Hauptketten und werden wiederum als Silicone bezeichnet.
Enthält der zuvor beschriebene organische Rest des Organosiloxans zudem mindestens eine Alkoxysilylgruppe, ist in dem organischen Rest also mindestens ein Wasserstoffrest durch eine Alkoxysilylgruppe substituiert, wodurch also zumindest anteilig ein Wasserstoff des vom reinen Siloxan abgeleiteten Derivats durch einen organischen Rest substituiert ist, der selber wiederum eine alkoxysilylfunktionelle Gruppe enthält, wird dies im Rahmen der vorliegenden Erfindung als alkoxysilylfunktionelles Siloxan (Komponente D) bezeichnet.
Bei einem alkoxysilylfunktionellen Rest handelt es sich um eine funktionelle Gruppe, die sich von einem Alkoxysilan ableitet, eine von einem reinen Silan abgeleitete Komponente enthaltend eine Gruppe Si-OR. Es ist also mindestens ein Wasserstoffatom eines reinen Silans durch eine Alkoxygruppe -OR, also eine über Sauerstoff mit dem Silizium verbundene Alkylgruppe, substituiert. Beispielsweise seien Mono-, Di-, oder Tri-methoxy- oder -ethoxy-silan genannt. Demzufolge handelt es sich bei den erfindungsgemäß einzusetzenden alkoxysilylfunktionellen Siloxanen D um Derivate des Siloxans, in denen mindestens ein Wasserstoffatom durch einen organischen Rest substituiert wurde, in dem wiederum mindestens ein Wasserstoffrest durch eine Alkoxysilylgruppe ersetzt wurde. Die Alkoxysilylgruppe ist demzufolge immer als funktionelle
Gruppe einer Alkylgruppe zu verstehen, die selber an dem Siloxangerüst angebunden ist. Die Alkoxysilylgruppe ist also immer über einen zweibindigen organischen Rest R, beispielsweise ein Alkylen, mit dem Si-O-Si Gerüst verbunden und bindet niemals direkt an das Siloxan Grundgerüst aus Si-O-Si Einheiten an.
Die erfmdungsgemäß zu verwendenden alkoxysilylfunktionelle Siloxane D entsprechen der allgemeinen Formel (III):
R^-SiR^-Ax-ByO-SiR^-R13 (III), worin A eine Gruppe -[0-SiR14 2]- und B eine Gruppe -[0-SiR15R16]- ist,
R11, R12, R14 und R15 unabhängig voneinander lineare oder verzweigte Alkylgruppen mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen sind,
R10, R13 und R16 unabhängig voneinander eine Gruppe -L-R17 sind, worin
L = eine lineare oder verzweigte 2-bindige Alkylgruppe und
R17 = H oder -Si(R18)z(OR19)3-zmit R18, R19 = eine lineare oder verzweigte Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen und z = 0, 1, oder 2, bevorzugt z = 0, ist, mit der Vorgabe, das mindestens einer der Reste R10 oder R13 und/oder mindestens eine Gruppe B eine Gruppe R17 = -Si(R18)z(OR19)3-z beinhaltet, x unabhängig für eine ganze Zahl von 1 -20 steht, und y unabhängig für eine ganze Zahl von 0-10 steht, wobei bevorzugt x+y < 20 ist.
Das Siloxan D enthält also jedenfalls mindestens eine Gruppe -Si(R18)z(OR19)3-z.
Ist y > 0, sind neben Bausteinen A auch Bausteine B in der Polysiloxankette enthalten. Ist dagegen y = 0, sind lediglich Bausteine A vorhanden. Bevorzugt sind lediglich Bausteine A vorhanden (y = 0). Nochmals bevorzugt ist y = 0 und x eine Zahl von 6 bis 14.
Die alkoxysilylfunktionellen Siloxane D können eine lineare oder verzweigte Form haben, je nachdem, welche Reste R10, R13 und/oder R16 eine Alkoxysilylgruppe enthalten. Sind Alkoxysilylgruppen in der Form des Rests R17 = -Si(R18)z(OR19)3-z mit R18, R19 = eine lineare oder verzweigte Alkylgruppe mit 1 - 4 Kohlenstoffatomen und z = 0, 1, oder 2, bevorzugt z = 0, nur terminal in den Resten R10 und R13 angeordnet, ist das alkoxysilylfunktionelle Siloxan linear. Sind hingegen auch Alkoxysilylgruppen in den Rest R16 enthalten, ist das Siloxan verzweigt. Bevorzugt ist das Siloxan linear.
Die Reste R10, R13 und R16 sind gleiche oder verschiedene Reste, wobei immer mindestens einer der Reste eine Gruppe -F-R17 darstellt, in der R17 eine Alkoxysilylgruppe entspricht. Ganz besonders bevorzugt weist mindestens eine dieser Reste R10, R13 und R16 eine Gruppe -F-R17 auf, in der F eine
Ethylengruppe und R17 eine Trialkoxysilangruppe ist. Ganz besonders bevorzugt ist L eine Ethylengruppe und R17 eine Trimethoxy- oder Triethoxysilangruppe. Nochmals ganz besonders bevorzugt ist y = 0 und es stellen beide terminalen Gruppen R10 und R13 eine Gruppe -L-R17 dar, in der L eine Ethylengruppe und R17 eine Trimethoxy- oder Triethoxysilangruppe ist. In einer weiteren ganz besonders bevorzugten Ausführungsform ist y > 0, entspricht R16 einer Gruppe -L-R17, in der L eine Ethylengruppe und R17 eine Trialkoxysilangruppe ist und R10 und R13 eine Gruppe -L-R17 sind, in der R17 einem Wasserstoffatom entspricht.
Besonders bevorzugt sind die Reste R11, R12, R14, R15, R18 und R19 gleiche oder verschiedene Alkylreste, ganz besonders bevorzugt sind diese Reste R11, R12, R14, R15, R18 und R19 lineare Alkylgruppen mit ein bis vier Kohlenstoffatomen, und nochmals ganz besonders bevorzugt sind die Reste R11, R12, R14, R15, R18 und R19 Methyl- und/oder Ethylreste, insbesondere Methylreste.
Komponente D enthält mindestens ein alkoxysilylfünktionelles Siloxan. Demnach können alkoxysilylfünktionelle Siloxane mit der Alkoxysilylfünktion in der Seitenkette neben solchen vorliegen, in der die Alkoxysilylfünktion(en) terminal an der Siloxankette vorliegen.
Besonders bevorzugte alkoxysilylfünktionellen Siloxane D sind im Handel über die Firma Shin Etsu erhältlich.
Bevorzugt enthalten die erfindungsgemäßen Beschichtungsmittel von 0,001 bis 5 Gew.-%, bevorzugt von 0,005 bis 3 Gew.-% und besonders bevorzugt von 0,01 bis 2 Gew.-%, an Komponente E, wobei die Gew.-%-Angaben jeweils bezogen sind auf die Gesamtmenge aus Polyisocyanatkomponente A, isocyanatreaktiver Komponente C und Siloxankomponente D.
Weitere Komponenten Hilfs- und Zusatzstoffe
Die erfindungsgemäßen Beschichtungsmittel können gegebenenfalls weitere Hilfs- und Zusatzstoffe enthalten. Diese können in der ersten oder der zweiten Beschichtungsmittelkomponente oder in beiden Beschichtungsmittelkomponenten enthalten sein. Im letztgenannten Fall können in beiden Komponenten gleiche oder unterschiedliche Hilfs- und Zusatzstoffe enthalten sein.
Sofern Hilfs- und Zusatzstoffe in der zweiten Beschichtungsmittelkomponente vorhanden sind, so können diese in der Mischung aus C und D zu Beginn von deren Lagerung bereits enthalten sein, oder der Mischung aus C und D während deren Lagerung beigemischt werden. Auch ist es möglich, dass ein Teil der Hilfs- und Zusatzstoffe in der Mischung aus C und D zu Beginn von deren Lagerung bereits enthalten ist und ein weiterer Teil während der Lagerung der Mischung beigemischt wird.
Bei den Hilfs- und Zusatzstoffen handelt es sich insbesondere um die dem Fachmann aus der Lacktechnologie bekannten Hilfs- und Zusatzstoffe, wie z. B. Lösungsmittel, UV-Stabilisatoren, Antioxidantien, Wasserfänger, Verlaufsmittel, Rheologieadditive, Slipadditive, Entschäumer, Füllstoffe und/oder Pigmente sowie anorganische Nanopartikel, insbesondere die Oxide des
Siliciums, Aluminiums, Cers und/oder Titans, die ggf. auch in Form entsprechender Sole wie vorteilhaft Organosole des Siliciumdioxids eingesetzt werden können.
Zur Verringerung der Verarbeitungsviskosität können die erfmdungsgemäßen Beschichtungsmittel beispielsweise mit üblichen organischen Lösungsmitteln verdünnt werden. Hierfür geeignete Lösungsmittel sind beispielsweise die bereits vorstehend bei der Herstellung der Silangruppen ent haltenden Polyisocyanate A als gegebenenfalls mitzuverwendende Lösungsmittel beschriebenen Lacklösungsmittel, die sich gegenüber den reaktiven Gruppen der Beschichtungsmittelbestandteile chemisch inert verhalten und einen Wassergehalt von höchstens 1,0 Gew.-%, besonders bevorzugt höchstens 0,5 Gew.-% bezogen auf eingesetztes Lösungsmittel aufweisen.
Geeignete UV- Stabilisatoren können vorzugsweise ausgewählt werden aus der Gruppe, bestehend aus Piperidinderivaten, wie z.B. 4-Benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin, 4-Benzoyloxy- 1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin, Bis-(2,2,6,6-tetra-methyl-4-piperidyl)-sebacat, Bis(l,2,2,6,6- pentamethyl-l-4-piperidinyl)-sebacat, Bis-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-suberat, Bis-(2, 2,6,6- tetramethyl-4-piperidyl)-dodecandioat; Benzophenonderivaten, wie z.B. 2,4-Dihydroxy-, 2- Hydroxy-4-methoxy-, 2-Hydroxy-4-octoxy-, 2-Hydroxy-4-dodecyloxy- oder 2,2'-Dihydroxy-4- dodecyloxy-benzophenon; Benztriazolderivaten, wie z.B. 2-(2H-Benzotriazol-2-yl)-4,6-di-tert- pentylphenol, 2-(2H-Benzotriazol-2-yl)-6-dodecyl-4-methylphenol, 2-(2H-Benzotriazol-2-yl)-4,6- bis( 1 -methyl- 1 -phenylethyl)phenol, 2-(5 -Chlor-2H-benzotriazol-2-yl)-6-( 1 , 1 -dimethylethyl)-4- methylphenol, 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-(l,l,3,3-tetramethylbutyl)phenol, 2-(2H-Benzotriazol-2- yl)-6-( 1 -methyl- 1 -phenylethyl)-4-( 1 , 1 ,3 ,3 -tetramethylbutyl)phenol, Isooctyl-3 -(3-(2H-benzotriazol- 2-yl)-5 -( 1 , 1 -dimethylethyl)-4-hydroxyphenylpropionat), 2-(2H-Benzotriazol-2-yl)-4,6-bis( 1,1- dimethylethyl)phenol, 2-(2H-Benzotriazol-2-yl)-4,6-bis( 1 -methyl- 1 -phenylethyl)phenol, 2-(5 - Chlor-2H-benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(l,l-dimethylethyl)phenol; Oxalanibden, wie z.B. 2-Ethyl-2'- ethoxy- oder 4-Methyl-4'-methoxyoxalanilid; Salicylsäureestem, wie z.B. Salicylsäurephenylester, Salicylsäure-4-tert-butylphenylester, Salicylsäure-4-tert-octylphenylester; Zimtsäureesterderivaten, wie z.B. a-Cyano-ß-methyl-4-methoxyzimtsäuremethylester, a-Cyano-ß-methyl-4- methoxyzimtsäurebutyl-ester, a-Cyano-ß-phenylzimtsäureethylester, a-Cyano-ß- phenylzimtsäureisooctylester; und Malonesterderivaten, wie z.B. 4-Methoxy- benzylidenmalonsäuredimethylester, 4-Methoxybenzybdenmalonsäurediethylester, 4-Butoxy- benzylidenmalonsäuredimethylester. Diese bevorzugten UV-Stabilisatoren können sowohl einzeln als auch in beliebigen Kombinationen untereinander zum Einsatz kommen.
Gegebenenfalls werden ein oder mehrere der beispielhaft genannten UV-Stabilisatoren dem erfmdungsgemäßen Beschichtungsmittel vorzugsweise in Mengen von 0,001 bis 3,0 Gew.-%, besonders bevorzugt 0,01 bis 2 Gew.-%, berechnet als Gesamtmenge an eingesetzten UV- Stabilisatoren bezogen auf die Gesamtmenge aus Polyisocyanatkomponente A, isocyanatreaktiver Komponente C, Komponente B undB‘ und Siloxankomponente D zugesetzt.
Geeignete Antioxidantien sind vorzugsweise sterisch gehinderten Phenole, welche vorzugsweise ausgewählt werden können aus der Gruppe, bestehend aus 2,6-Di-tert-butyl-4-methylphenol (Ionol), Pentaerythrit-tetrakis(3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-phenyl)-propionat), Octadecyl-3-(3,5-di-tert- butyl-4-hydroxyphenyl)-propionat, Triethylen-glykol-bis(3-tert-butyl-4-hydroxy-5- methylphenyl)propionat, 2,2'-Thio-bis(4-methyl-6-tert-butylphenol) und 2,2'-Thiodiethyl-bis[3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionat]. Diese können bei Bedarf sowohl einzeln als auch in beliebigen Kombinationen untereinander eingesetzt werden.
Diese Antioxidantien werden vorzugsweise in Mengen von 0,01 bis 3,0 Gew.-%, besonders bevorzugt 0,02 bis 2,0 Gew.-%, berechnet als Gesamtmenge an eingesetzten Antioxidantien bezogen auf die Gesamtmenge aus Polyisocyanatkomponente A, isocyanatreaktiver Komponente C und Siloxankomponente D eingesetzt.
Um eine vorzeitige Vernetzung der Silangruppen in den erfindungsgemäßen Beschichtungsmitteln zu unterbinden, kann der Zusatz von Wasserfängem, beispielsweise Orthoameisenestem, wie z. B. Triethylorthoformiat, oder Vinylsilanen, wie z. B. Vinyltrimethoxysilan, vorteilhaft sein. Diese Was serfänger kommen, falls überhaupt, in Mengen von 0,01 Gew.-% bis zu 5 Gew.-%, vorzugsweise von 0,01 Gew.-% bis zu 2 Gew.-%, bezogen auf die auf die Gesamtmenge aus Polyisocyanatkomponente A, isocyanatreaktiver Komponente C und Siloxankomponente D zum Einsatz.
Zur Verbesserung der Substratbenetzung können die erfindungsgemäßen Beschichtungsmittel gegebenenfalls geeignete Verlaufsmittel, beispielsweise organisch modifizierte Siloxane, wie z. B. Polyethermodifizierte Siloxane, Polyacrylate und/oder Fluortenside, enthalten. Diese Verlaufsmittel kommen, falls überhaupt, in Mengen von 0,01 Gew.-% bis zu 3 Gew.-%, vorzugsweise von 0,01 Gew.-% bis zu 2 Gew.-%, besonders bevorzugt von 0,05 bis 1,5 Gew.-%, bezogen auf die auf die Gesamtmenge aus Polyisocyanatkomponente A, isocyanatreaktiver Komponente C und Siloxankomponente D zum Einsatz.
Die in den erfindungsgemäßen Beschichtungsmitteln ebenfalls als weitere Hilfs- und Zusatzstoffe gegebenenfalls enthaltenen Rheologieadditive, Slipadditive, Entschäumer, Füllstoffe, Mattierungsmittel und/oder Pigmente sind dem Fachmann bekannt und kommen falls überhaupt in der Lacktechnologie üblichen Mengen zum Einsatz. Eine ausführliche Übersicht über derartige geeignete Hilfs- und Zusatzstoffe findet sich beispielsweise in Bodo Müller, „Additive kompakt“, Vincentz Network GmbH & Co KG (2009).
Als weitere Hilfs- und Zusatzstoffe können den erfindungsgemäßen Beschichtungsmitteln zur Steuerung der Aushärtegeschwindigkeit geeignete Katalysatoren zugegeben werden, beispielsweise die in der Isocyanatchemie üblichen Urethanisierungs- und Allophanatisierungskatalysatoren, wie beispielsweise tert. Amine, wie z. B. Triethylamin, Tributylamin, Dimethylbenzylamin, Diethylbenzylamin, Pyridin, Methylpyridin, Dicyclohexylmethylamin, Dimethylcyclohexylamin, N,N,N',N'-Tetramethyldiaminodiethylether, Bis-(dimethylaminopropyl)-hamstoff, N-Methyl- bzw.
N-Ethylmorpholin, N-Cocomorpholin, N-Cyclohexylmorpholin, N,N,N',N'-
Tetramethylethylendiamin, N,N,N',N'-Tetramethy-l,3-butandiamin, N,N,N',N'-Tetramethyl-1,6- hexandiamin, Pentamethyldiethylentriamin, N-Methylpiperidin, N-Dimethylaminoethylpiperidin, N,N'-Dimethylpiperazin, N-Methyl-N’-dimethylaminopiperazin, 1,2-Dimethylimidazol, 2- Methylimidazol, N,N-Dimethylimidazol-ß-phenylethylamin, 1 ,4-Diazabicyclo-(2,2,2)-octan (DABCO) und Bis-(N,N-dimethylaminoethyl)adipat, Amidine, wie z. B. 1,5-Diazabi- cyclo[4.3.0]nonen (DBN), l,8-Diazabicyclo(5.4.0)undecen-7 (DBU) und 2,3-Dimethyl-3,4,5,6- tetrahydropyrimidin, Alkanolaminverbindungen, wie z. B. Triethanolamin, Triisopropanolamin, N- Methyl-diethanolamin, N-Ethyl-diethanolamin, Dimethylaminoethanol und 2-(N,N-Dimethyl- aminoethoxy)ethanol, N,N',N"-Tris-(dialkylaminoalkyl)hexahydrotriazine, wie z. B. N,N',N"-Tris- (dimethylaminopropyl)-s-hexahydrotriazin, Bis(dimethylaminoethyl)ether sowie Metallsalze, wie z. B. anorganische und/oder organische Verbindungen des Eisens, Bleis, Wismuths, Zinks, und/oder Zinns in üblichen Oxidationsstufen des Metalls, beispielsweise Eisen(II)-chlorid, Eisen(III)-chlorid, Wismut(III)- Wismut(III)-2-ethylhexanoat, Wis-mut(III)-octoat, Wismut(III)-neodecanoat, Zinkchlorid, Zink-2-ethylcaproat, Zink-(II)-stearat, Zink-(II)-n-octanoat, Zink-(II)-2-ethyl-l- hexanoat, Zink-(II)-naphthenat oder Zink-(II)-acetylacetonat, Zinn(II)-octoat, Zinn(II)-ethylcaproat, Zinn(II)-palmitat, Zinn-(II)-laurat, Dibutylzinn(IV)-dilaurat (DBTL), Dibutylzinn(IV)-dichlorid, Zinn-(II)-2-ethyl-l-hexanoat, Dibutylzinnoxid, Dibutylzinndiacetat, Dibutylzinndimaleat oder Di- octylzinndiacetat, Bleioctoat, Zirconium Verbindungen, wie z. B. Zirconium-(IV)-2-ethyl-l- hexanoat, Zirconium-(IV)-neodecanoat, Zirconium-(rV)-naphthenat oder Zirconium-(IV)-acetyl- acetonat, Aluminium-tri(ethylacetoacetat), Kaliumoctoat, Mangan- Cobalt- oder Nickelverbin dungen sowie starke Säuren, wie z. B. Trifluoressigsäure, Schwefelsäure, Chlorwasserstoff, Bromwasserstoff, Phosphorsäure oder Perchlorsäure, oder beliebige Gemische dieser Katalysatoren.
Weitere hvdrolvsierbare Silanverbindungen
Als weitere Komponenten können den erfindungsgemäßen Beschichtungsmitteln auch beliebige weitere hydrolysierbare Silanverbindungen, wie z. B. Tetramethoxysilan, Tetraethoxysilan, Methyl- trimethoxysilan, Methyltriethoxysilan, Ethyltriethoxysilan, Isobutyltrimethoxysilan, Isobutyltriethoxysilan, Octyltriethoxysilan, Octyltrimethoxysilan,
(3 -Glycidyloxypropyl)methyldiethoxysilan, (3 -Glycidyloxypropyl)trimethoxy-silan, Phenyltri- methoxysilan oder Phenyltriethoxysilan, oder Gemische solcher Silanverbindungen als Re aktionspartner zugesetzt werden.
Diese Verbindungen werden bevorzugt der Komponenten (I) zugegeben. Werden sie der Komponente (II) zugegeben, ist durch einfache Vorversuche an der konkreten Zusammenstellung sicherzustellen, dass die Stabilität der Komponente (II) über die gewünschte Lagerzeit erhalten bleibt. Trübungen oder Anstieg von Viskosität sind beispielsweise Zeichen für mangelnde Stabilität.
Werden diese hydrolysierbaren Silanverbindungen der Beschichtungsmittelkomponente II zugemischt, können sie in der Mischung aus C und D zu Beginn von deren Lagerung bereits enthalten sein, oder der Mischung aus C und D während deren Lagerung beigemischt werden. Auch ist es möglich, dass ein Teil dieser hydrolysierbaren Silanverbindungen in der Mischung aus C und D zu Beginn von deren Lagerung bereits enthalten ist und ein weiterer Teil während der Lagerung der
Mischung beigemischt wird.
Weitere Polvisocvanate
Neben den Polyisocyanaten A können die Beschichtungsmittelkomponente I auch weitere Poyisocyanate enthalten. Dies können beispielsweise monomere oder modifizierte Polyisocyanate sein, wie sie oben unter Komponente Al beschrieben wurden.
In den erfmdungsgemäßen Beschichtungsmitteln hegen die Reaktionspartner üblicherweise in solchen Mengen vor, dass auf jede Isocyanatgruppe 0,5 bis 3, vorzugsweise 0,6 bis 2,0, besonders bevorzugt 0,8 bis 1,6 gegenüber Isocyanaten reaktive Gruppen entfallen. Ganz besonders bevorzugt wird ein Verhältnis von NCO-Gruppen zu Isocyanat-reaktiven Gruppen von mindestens 1,0 eingestellt. In einer am meisten bevorzugten Variante wird mit einem Überschuss von NCO-Gruppen gearbeitet entsprechend einem Verhältnis von NCO-Gruppen zu Isocyanat-reaktiven Gruppen von 1,05 bis 1,50.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung eines Beschichtungsmittels aus einer ersten Komponente (I), enthaltend oder bestehend aus
(A) mindestens eine/r Polyisocyanatkomponente gemäß vorstehender Beschreibung
(B) gegebenenfalls einen/einem oder mehrere/n Katalysatoren für die Vernetzung von Silangruppen, und einer zweiten Komponente (II), enthaltend oder bestehend aus
(C) mindestens eine/r Hydroxylgruppen-haltige/n Verbindung,
(D) mindestens ein/em Alkoxysilyl-funktionelles/en Siloxan (III) gemäß vorstehender Beschreibung und
(B‘) gegebenenfalls einen/einem oder mehrere/n Katalysatoren für die Vernetzung von Silangruppen, wobei in wenigstens einer der beiden Komponenten I und II mindestens ein Katalysator für die Vernetzung von Silangruppen (B bzw. B‘) enthalten ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Komponenten C und D vollständig gemischt werden und die Mischung nach einer Dauer von mindestens (>) 5 Stunden, als Lagerung bezeichnet, mit Komponente A, gegebenenfalls in Abmischung mit Komponente B, gemischt wird, wobei B‘, sofern in Komponente II vorhanden, in der Mischung aus C und D zu Beginn der Lagerung bereits enthalten ist, oder der Mischung aus C und D während deren Lagerung beigemischt wird, oder ein Teil von B‘ in der Mischung aus C und D zu Beginn von deren Lagerung bereits enthalten ist und ein weiterer Teil während der Lagerung der Mischung beigemischt wird.
Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Beschichtungsmittel, erhältlich nach dem zuvor beschriebenen Verfahren.
Lagerung
Wie zuvor beschrieben wird Komponente II durch eine wenigstens ( >) 5-stündigen Lagerung, bevorzugt wenigstens 24-stündigen, besonders bevorzugt einer wenigstens 48-stündigen Lagerung einer Mischung aus den Komponenten C und D erhalten.
Zur Erzeugung der Mischung werden die Komponenten C und D einander zugegeben. Der Beginn der Lagerung wird als der Zeitpunkt definiert, an dem die beiden Komponenten vollständig einander zugegeben sind. Während die beiden Stoffe einander zugegeben werden und noch eine Zeit lang nach der vollständigen Zugabe wird das Gemisch für gewöhnlich gerührt, um eine optimale Vermengung der Stoffe zu erreichen.
Die Lagerung endet zu dem Zeitpunkt, an dem eine erste Menge einer der beiden Beschichtungsmittelkomponenten I oder II mit der jeweils anderen Komponente in Kontakt gebracht wird.
Wie zuvor beschrieben können in Komponente II weitere Komponenten enthalten sein, wie z.B. der Katalysator für die Vernetzung von Silangruppen (B‘), Hilfs- und Zusatzstoffe, u.s.w.
Wie ebenfalls zuvor beschreiben, können diese Verbindungen bereits zu Beginn der Lagerung in der Mischung aus C und D enthalten sein, oder der Mischung aus C und D während deren Lagerung beigemischt werden. Ebenso ist es möglich, dass ein Teil dieser Verbindungen bereits zu Beginn der Lagerung in der Mischung aus C und D enthalten ist und ein weiterer Teil während der Lagerung der Mischung beigemischt wird.
In den Bällen, in denen diese Verbindungen, vollständig oder teilweise, während der Lagerung zugegeben werden, kann nochmal gerührt werden, um eine optimale Vermengung aller Komponenten zu erreichen. Der Zeitpunkt zu dem die Lagerung beginnt, verschiebt sich durch die Zugabe dieser Verbindungen nicht.
Die Lagerung erfolgt bevorzugt bei üblichen Lagerbedingungen für Lacke von 5 bis 40 °C. Besonders bevorzugt ist die Lagerung bei 15 bis 25 °C, insbesondere bei Raumtemperatur (23°C).
Die Lagerung beträgt mindestens ( >) 5 Stunden, bevorzugt mindestens 24 Stunden, besonders bevorzugt mindestens ( >) 48 Stunden, ganz besonders bevorzugt mindestens 72 Stunden.
Bevorzugt beträgt die Lagerung bei 23 °C mindestens ( >) 5 Stunden, bevorzugt mindestens 24 Stunden, besonders bevorzugt mindestens ( >) 48 Stunden ganz besonders bevorzugt mindestens 72 Stunden.
Verwendung der erfindungsgemäßen Beschichtungsmitel
Als Untergründe für die mit den erfindungsgemäßen Beschichtungsmitteln zu beschichtenden Substrate eignen sich beliebige Substrate, wie z.B. Metall, Holz, Glas, Stein, keramische Materialien, Beton, harte und flexible Kunststoffe, Textilien, Leder und Papier, sowie Verbundmaterialien, die vor der Beschichtung auch bevorzugt mit einer oder mehreren Schichten wie üblichen Grundierungen und/oder Basislackschichten versehen werden. In einer bevorzugten Ausführungsform werden die erfindungsgemäßen Beschichtungsmittel zur Beschichtung von harten und flexiblen Kunststoffen verwendet, im Besonderen für Kunststoffe im Bereich der
Automobilindustrie. Die erfindungsgemäßen Beschichtungsmittel werden bevorzugt als Klarlack oder Decklack eingesetzt. Besonders bevorzugt sind solche Substrate, für die Anforderungen wie geringes Anschmutzverhalten und/oder einfache Reinigung im Falle von Anschmutzung bestehen.
Geeignete Methoden zum Aufbringen der erfindungsgemäßen Beschichtungsmittel auf das Substrat sind beispielsweise Drucken, Streichen, Rollen, Gießen, Tauchen, Fluten und/oder bevorzugt Spritzen wie beispielsweise Druckluftspritzen, Airless-Spritzen, Hochrotation, elektrostatischer Sprühauftrag (ESTA), gegebenenfalls verbunden mit Heißspritzapplikation wie zum Beispiel Hot- Air-Heißspritzen.
Geeignete Schichtdicken richten sich nach dem Applikationsverfahren und betragen als Trockenschichtdicke betrachtet üblicherweise zwischen 5 und 60 pm, bevorzugt zwischen 10 und 40 pm, insbesondere zwischen 12 und 30 pm.
Im Anschluss an das Aufbringen der erfindungsgemäßen Beschichtungsmittel werden zunächst flüchtige Substanzen wie organische Fösemittel mit in der Fackiertechnik üblichen Methoden entfernt. Bevorzugt erfolgt das Entfernen durch Trocknen bei erhöhten Temperaturen, z.B. in einem Bereich von 40 bis 250 °C, bevorzugt von 40 bis 100 °C in Öfen und mit bewegter Fuft (Konvektionsöfen, Düsentrockner) sowie Wärmestrahlung (IR, NIR). Weiterhin können Mikrowellen zum Einsatz kommen. Es ist möglich, mehrere dieser Trocknungsverfahren zu kombinieren.
Vorteilhafterweise werden die Bedingungen für die Trocknung so gewählt, dass die maximal erreichte Temperatur unter der Grenze bleibt, bei der sich das Substrat verformt oder sonstige Schäden erleidet.
Gegenstand der Erfindung sind daher auch die Verwendung der erfindungsgemäßen Beschichtungsmittel zur Beschichtung von Substraten, sowie die beschichteten Substrate selbst.
Beispiele
Alle Prozentangaben beziehen sich, soweit nichts Anderslautendes vermerkt, auf das Gewicht.
Zur Herstellung der lösemittelhaltigen Klarlacke wurden die Polyole Desmophen 670 BA (Covestro Deutschland AG, Leverkusen, DE) und Setalux D A 365 BA/X (Allnex Germany GmbH, Bitterfeld- Wolfen, DE) mit einem handelsüblichen Verlaufsadditiv (Baysilone Lackadditive OL 17, OMG AG + Co. KG, Langenfeld, DE) sowie dem handelsüblichen Katalysator Nacure 4000 (King Industries, Norwalk, US, als Katalysator C) sowie zur Einstellung der Viskosität die Lösungsmittel Methoxypropylacetat, Solvent Naphta 100 und Diacetonalkohol durch intensives Rühren bei Raumtemperatur homogen vermischt.
Im Falle des erfmdungsgemäßen Beispiels 1 wurde das Additiv KR-410 (lineares alkoxysilylfunktionelles Polysiloxan, Shin-Etsu, Japan) der Stammlackmischung zugegeben, es wurde homogen vermischt und die Mischung wurde für 72 Stunden bei Raumtemperatur gelagert. Nach 72 Stunden wurde für die Vernetzung das Polyisocyanat zu dieser Mischung hinzugegeben.
Im Falle des erfmdungsgemäßen Beispiels 2 wurde das Additiv KR-410 (lineares alkoxysilylfunktionelles Polysiloxan, Shin-Etsu, Japan) der Stammlackmischung zugegeben, es wurde homogen vermischt und die Mischung wurde für 5 Stunden bei Raumtemperatur gelagert. Nach 5 Stunden wurde für die Vernetzung das Polyisocyanat zu dieser Mischung hinzugegeben.
Im Falle des Vergleichsbeispiels 3 wurde das Additiv KR- 410 (Shin-Etsu, Japan) erst kurz vor der Vernetzung in die Stammlackkomponente eingerührt, welche dementsprechend ohne Additiv für 72 Stunden bei Raumtemperatur gelagert wurde. Nachdem eine homogene Mischung entstanden war wurde direkt das Polyisocyanat hinzugegeben.
Tabelle 1 zeigt die Zusammensetzungen der einzelnen Formulierungen.
Zur Herstellung eines Klarlacks wurden die oben beschriebenen Mischungen jeweils mit einer Spritzpistole (Düse: SATA / 1,2 mm) auf eine mit Isopropylalkohol gereinigte Glasplatte aufgetragen. Nach Filmaufzug wurde für 10 Minuten bei Raumtemperatur, anschließend für 30 Minuten bei 80°C und für 16 Stunden bei 60°C getrocknet.
Die Bestimmung der Pendeldämpfung nach König erfolgte nach DIN EN ISO 1522:2007.
Zur Bestimmung der Easy-to-Clean Eigenschaften mittels sogenanntem Markertest wurde mit einem handelsüblichen grünen Edding 3000 permanent Marker (Firma Edding, Ahrensburg, Deutschland) ein breiter Strich auf die Beschichtung aufgetragen, welcher nach 10 s mit einem staubfreien Tuch soweit wie möglich abgewischt wurde. Die Intensität des Rückstands wurde visuell beurteilt (++ = kein erkennbarer Rückstand, + = leichter Rückstand, - = kompletter Strich noch vorhanden). Außerdem wurde das Auftragsverhalten bewertet (O = gut auftragbar, O/Z = Markierung zieht sich leicht zusammen, Z = Markierung zieht deutlich sich zusammen).
Die Messungen der Kontaktwinkel mit Wasser wurden an einem Gerät OCA20 der Firma Data Physics durchgeführt. Dazu wurden 10 Tropfen mit je ca 2 pL destilliertem Wasser auf die Beschichtungsoberfläche aufgesetzt und der entstanden Kontaktwinkel nach ca 3 s erfasst. Aus den 10 Messwerten wurde der Mittelwert berechnet. Zur Tropfenanalyse und Auswertung wurde die SCA-Software der Firma Data Physics verwendet.
Tabelle 2 zeigt die Ergebnisse der anwendungstechnischen Prüfungen im Vergleich.
Verwendete Ausgangsverbindungen
Desmophen 670 BA
Schwach verzweigter, hydroxlgruppenhaltiger Polyester, ca. 80% in Butylacetat, ca. 3,5% Hydroxylgehalt, Viskosität bei 23°C ca 3000 mPas.
Desmodur 2873
Silan-funktionelles aliphatisches Polyisocyanat auf Basis von HDI (Covestro Deutschland AG, Leverkusen, 100% Lieferform, NCO-Gehalt: 12,3%, Viskosität bei 23°C: ca450 mPas.
Setalux D A 365 BA/X
Polyacrylatpolyol (Allnex Germany GmbH, Bitterfeld-Wolfen, DE), 65 %ige Lösung in Butylacetat / Xylol (75 : 25), ca 2,7 % Hydroxylgehalt (bezogen auf Lieferform), Viskosität bei 23°C: ca. 3000 mPas.
Nacure 4000
Alkylsäurephosphatkatalysator (King Industries, Norwalk, US), Säurezahl ca 650 mg KOH/g, Verwendung als 10%ige Lösung der Lieferform in MPA.
KR-410 lineares alkoxysilylfunktionelles Siloxan (Shin-Etsu, Japan), Lieferform.
Tabelle 1: Klarlackformulierungen. Alle Angaben in g wenn nicht anders angegeben.
Tabelle 2: Übersicht über die Prüfergebnisse.
Wie Tabelle 2 zu entnehmen ist, bringt die Lagerung des Additivs KR-410 in der OH-funktionalen Komponente II deutliche Vorteile in den Reinigungseigenschaften. Bereits bei einer Lagerung von 5 Stunden (Beispiel 2) zieht sich die Markierung deutlicher zusammen als im Vergleichsbeispiel 3. Bei einer Lagerung von 72 Stunden (Beispiel 1) ist nach dem Markertest kein Rückstand zu sehen.
Claims
1. Zwei-komponentige Beschichtungsmittel aus einer ersten Komponente (I), enthaltend oder bestehend aus
(A) mindestens eine/r Polyisocyanatkomponente, erhältlich durch Umsetzung (Al) mindestens eines Polyisocyanats mit
(A2) mindestens einer gegenüber Isocyanatgruppen reaktiven Verbindung der allgemeinen Formel (I)
(I), in welcher
R1, R2 und R3 für gleiche oder verschiedene Reste stehen und jeweils einen gesät tigten oder ungesättigten, linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloaliphatischen oder einen gegebenenfalls substituierten aromatischen oder araliphatischen Rest mit bis zu 18 Kohlenstoffato men bedeuten, der gegebenenfalls bis zu 3 Heteroatome aus der Reihe Sauerstoff, Schwefel, Stickstoff enthalten kann,
X für einen linearen oder verzweigten organischen Rest mit mindestens
2 Kohlenstoffatomen steht, der gegebenenfalls bis zu 2 Iminogrup- pen (-NH-) enthalten kann,
R4 für Wasserstoff, einen gesättigten oder ungesättigten, linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloaliphatischen oder einen gegebenenfalls substituierten aromatischen oder araliphatischen Rest mit bis zu 18 Kohlenstoffatomen steht oder für i) einen Rest der Formel
steht, in welchem R1, R2, R3 und X die vorstehend angegebene Bedeutung haben, oder ii) einen Rest der Formel
steht, in welchem R5 und R6 unabhängig voneinander gesättigte oder ungesättigte, lineare oder verzweigte, aliphatische oder cycloaliphatische oder aromatische organische Reste mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen sind, die substituiert oder unsubstituiert sind und/oder Heteroatome in der Kette aufweisen können, iii) einen Rest der Formel
steht, in welcher R9 für Wasserstoff oder einen gesättigten linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloaliphatischen organischen Rest mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen steht, oder der allgemeinen Formel (II)
in welcher R1, R2und R3 die für Formel (I) genannte Bedeutung haben und
Y für einen linearen oder verzweigten organischen Rest mit mindestens 2 Kohlen stoffatomen steht,
(B) gegebenenfalls einen/einem oder mehrere/n Katalysatoren für die Vernetzung von Silangruppen, und einer zweiten Komponente (II), enthaltend oder bestehend aus
(C) mindestens eine/r Hydroxylgruppen-haltige/n Verbindung,
(D) mindestens ein/em Alkoxysilyl-funktionelles/en Siloxan der Formel (III)
R10-SiRn 2-Ax-By-O-SiR12 2-R13 (III),
worin A eine Gruppe -[0-SiR14 2]- und B eine Gruppe -[0-SiR15R16]- ist,
R11, R12, R14 und R15 unabhängig voneinander lineare oder verzweigte Alkylgruppen mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen sind,
R10, R13 und R16 unabhängig voneinander eine Gruppe -L-R17 sind, worin
L = eine lineare oder verzweigte 2-bindige Alkylgruppe und
R17 = H oder -Si(R18)z(OR19)3-z mit R18, R19 = eine lineare oder verzweigte Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen und z = 0, 1, oder 2, bevorzugt z = 0, ist, mit der Vorgabe, das mindestens einer der Reste R10 oder R13 und/oder mindestens eine Gruppe B eine Gruppe R17 = -Si(R18)z(OR19)3-z beinhaltet, x unabhängig für eine ganze Zahl von 1 -20 steht, und y unabhängig für eine ganze Zahl von 0-10 steht, wobei bevorzugt x+y < 20 ist, und
(B‘) gegebenenfalls einen/einem oder mehrere/n Katalysatoren für die Vernetzung von Silangruppen, wobei Komponente II durch eine wenigstens ( >) 5-stündige Lagerung einer Mischung aus C und D erhalten wird und wobei in wenigstens einer der beiden Komponenten I und II mindestens ein Katalysator für die Vernetzung von Silangruppen (B bzw. B‘) enthalten ist, und B‘, sofern in Komponente II vorhanden, in der Mischung aus C und D zu Beginn von deren Lagerung bereits enthalten ist, oder der Mischung aus C und D während deren Lagerung beigemischt wird, oder ein Teil von B‘ in der Mischung aus C und D zu Beginn von deren Lagerung bereits enthalten ist und ein weiterer Teil während der Lagerung der Mischung beigemischt wird.
2. Zwei-komponentiges Beschichtungsmittel gemäß Anspruch 1, wobei das mindestens eine Polyisocyanat Al ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus monomeren Diisocyanaten mit aliphatisch, cycloaliphatisch, araliphatisch und/oder aromatisch gebundenen Isocyanatgruppen und durch Modifizierung von monomeren aliphatischen, cycloaliphatischen, araliphatischen und/oder aromatischen Diisocyanaten erhältlichen oligomeren Di- oder Polyisocyanaten mit Uretdion-,
Isocyanurat-, Urethan-, Allophanat-, Thiourethan-, Thioallophanat-, Biuret-, Harnstoff-, Iminooxadiazindion- und/oder Oxadiazintrionstruktur.
3. Zwei-komponentiges Beschichtungsmittel gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei das mindestens eine Polyisocyanat A 1 ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend HDI , PDI und oligomeren Di- oder Polyisocyanaten auf HDI- oder PDI-Basis.
4. Zwei-komponentiges Beschichtungsmittel gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine/r Polyisocyanatkomponente A auf einer mindestens einer gegenüber Isocyanatgruppen reaktiven Verbindung der allgemeinen Formel I (A2) basiert, in welcher i) R1, R2 und R3 jeweils Alkylreste mit bis zu 6 Kohlenstoffatomen und/oder Alkoxyreste, die bis zu 3 Sauerstoffatome enthalten, bedeuten, mit der Maßgabe, dass mindestens einer der Reste R1, R2 und R3 für einen solchen Alkoxyrest steht,
X für einen linearen oder verzweigten organischen Rest mit mindestens 2 Kohlen stoffatomen steht, und
R 4 für einen gesättigten, linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloalipha- tischen Rest mit bis zu 6 Kohlenstoffatomen oder einen Rest der Formel
steht, in welchem R1, R2, R3 und X die vorstehend angegebene Bedeutung haben, oder in welcher ii) R1, R2, R3 und X die unter i) genannte Bedeutung haben und
R4 für einen Rest der Formel
steht, in welcher
R5 und R6 unabhängig voneinander für einen Methyl-, Ethyl-, n-Butyl- oder 2- Ethylhexylrest stehen, oder in welcher iii) R1, R2, R3 und X die unter i) genannte Bedeutung haben und R4 für einen Rest der Formel
steht, in welcher
R9 für Wasserstoff oder einen gesättigten linearen oder verzweigten, aliphatischen oder cycloaliphatischen organischen Rest mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen steht.
5. Zwei-komponentiges Beschichtungsmittel gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine/r Polyisocyanatkomponente A auf einer mindestens einer gegenüber Isocyanatgruppen reaktiven Verbindung der allgemeinen Formel II (A2) basiert, in welcher
R1, R2 und R3 jeweils Alkylreste mit bis zu 6 Kohlenstoffatomen und/oder Alkoxyreste, die bis zu 3 Sauer stoffatomen enthalten, bedeuten, mit der Maßgabe, dass min destens einer der Reste R1, R2 und R3 für einen solchen Alkoxyrest, bevorzugt für einen Methoxy- oder Ethoxyrest steht, und
Y für einen linearen oder verzweigten Alkylenrest mit 2 bis 10 Kohlenstoffatomen steht.
6. Zwei-komponentiges Beschichtungsmittel gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass zur Herstellung der Polyisocyanatkomponente A das mindestens eine Polyisocyanate Al mit der mindestens einen Isocyanat-reaktiven Verbindungen A2 bei
Temperaturen von 20 bis 200 °C, vorzugsweise 30 bis 160 °C umgesetzt unter Einhaltung eines Äquivalentverhältnisses von Isocyanatgruppen zu gegenüber Isocyanaten reaktiven Gruppen von 50 : 1 bis 1,05 : 1, vorzugsweise von 30 : 1 bis 1,25 : 1, besonders bevorzugt 20 : 1 bis 1,5 : 1 umgesetzt wird.
7. Zwei-komponentiges Beschichtungsmittel gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass der mindestens eine Katalysator für die Vernetzung von Silangruppen (B bzw.
B‘) ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus sauren Phosphorsäureestern, Phosphonsäureestem und Sulfonsäuren, die gegebenenfalls in mit Aminen blockierter Form vorhegen können, und Tetraalkylammoniumcarboxylaten.
8. Zwei-komponentiges Beschichtungsmittel gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine/r Hydroxylgruppen-haltige/n Verbindung C ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus Polyesterpolyolen, Polyetherpolyolen, Polycarbonatpolyolen und Polyacrylatpolyolen.
9. Zwei-komponentiges Beschichtungsmittel gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass Komponente II mindestens ein Alkoxysilyl-funktionelles Siloxan D der Formel (III) enthält, wobei
R11, R12 und R14 unabhängig voneinander für Methyl und/oder Ethyl, bevorzugt für Methyl stehen,
R10 und R13 unabhängig voneinander für eine Gruppe -L-R17 stehen, worin
L= eine lineare oder verzweigte 2-bindige Alkylgruppe, bevorzugt Ethylen, und
R17= -Si(R18)z(OR19)3-z, mit R18, R19= eine lineare oder verzweigte Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen und z = 0, 1, oder 2, bevorzugt z= 0, und y= 0.
10. Verfahren zur Herstellung eines Beschichtungsmittels aus einer ersten Komponente (I), enthaltend oder bestehend aus
(A) mindestens eine/r Polyisocyanatkomponente gemäß Beschreibung in Anspruch 1
(B) gegebenenfalls einen/einem oder mehrere/n Katalysatoren für die Vernetzung von Silangruppen, und einer zweiten Komponente (II), enthaltend oder bestehend aus
(C) mindestens eine/r Hydroxylgruppen-haltige/n Verbindung,
(D) mindestens ein/em Alkoxysilyl-funktionelles/en Siloxan (III) gemäß Beschreibung in Anspruch 1 und
(B‘) gegebenenfalls einen/einem oder mehrere/n Katalysatoren für die Vernetzung von Silangruppen,
wobei in wenigstens einer der beiden Komponenten I und II mindestens ein Katalysator für die Vernetzung von Silangruppen (B bzw. B‘) enthalten ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Komponenten C und D vollständig gemischt werden und die Mischung nach einer Dauer von mindestens (>) 5 Stunden, als Lagerung bezeichnet, mit Komponente A, gegebenenfalls in Abmischung mit Komponente B, gemischt wird, wobei B‘, sofern in Komponente II vorhanden, in der Mischung aus C und D zu Beginn der Lagerung bereits enthalten ist, oder der Mischung aus C und D während deren Lagerung beigemischt wird, oder ein Teil von B‘ in der Mischung aus C und D zu Beginn von deren Lagerung bereits enthalten ist und ein weiterer Teil während der Lagerung der Mischung beigemischt wird.
11. Zwei-komponentiges Beschichtungsmittel gemäß Anspruch 1, wobei Komponente II durch eine wenigstens ( >) 24-stündige Lagerung einer Mischung aus C und D erhalten wird, oder Verfahren zur Herstellung eines Beschichtungsmittels gemäß Anspruch 10, wobei die Mischung der Komponenten C und D nach einer Dauer von mindestens (>) 24 Stunden, mit Komponente A, gegebenenfalls in Abmischung mit Komponente B, gemischt wird.
12. Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung auf einem Substrat, umfassend
- das Aufbringen eines nach dem Verfahren gemäß Anspruch 10 oder 11 erhältlichen Beschichtungsmittels auf ein Substrat,
- die thermische Härtung des Beschichtungsmittels.
13. Verfahren gemäß Anspruch 12, wobei es sich bei den Beschichtungen um Klarlacke oder Decklacke handelt.
14. Verfahren gemäß Anspruch 12 oder 13, wobei es sich bei den Substraten um harte oder flexible Kunststoffe handelt, insbesondere um Kunststoffe für die Verwendung im Bereich der Automobilindustrie .
15. Beschichtete Substrate erhältlich nach einem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 12 bis 14.
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DE3700209A1 (de) | 1987-01-07 | 1988-07-21 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von polyisocyanaten mit biuretstruktur |
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US4826915A (en) | 1987-07-13 | 1989-05-02 | General Electric Company | N-silylalkylamides and their use as adhesion promoters in room temperature vulcanizable polydiorganosiloxane compositions |
US4788310A (en) | 1987-07-13 | 1988-11-29 | General Electric Company | N-Silylalkylamides and their use as adhesion promoters in room temperature vulcanizable polydiorganosiloxane compositions |
DE3811350A1 (de) | 1988-04-02 | 1989-10-19 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von isocyanuratpolyisocyanaten, die nach diesem verfahren erhaltenen verbindungen und ihre verwendung |
DE3814167A1 (de) | 1988-04-27 | 1989-11-09 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von isocyanuratgruppen aufweisenden polyisocyanaten und ihre verwendung |
DE3900053A1 (de) | 1989-01-03 | 1990-07-12 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von uretdion- und isocyanuratgruppen aufweisenden polyisocyanaten, die nach diesem verfahren erhaeltlichen polyisocyanate und ihre verwendung in zweikomponenten-polyurethanlacken |
DE3928503A1 (de) | 1989-08-29 | 1991-03-07 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von loesungen von isocyanuratgruppen aufweisenden polyisocyanaten in lackloesungsmitteln und ihre verwendung |
DE4140660A1 (de) | 1991-12-10 | 1993-06-17 | Bayer Ag | Ether- und urethangruppen aufweisende polyisocyanate, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihrer verwendung |
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DE19523657A1 (de) | 1995-06-29 | 1997-01-02 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Lösungen von Isocyanuratgruppen aufweisenden Polyisocyanaten mit verringertem Restmonomergehalt und ihre Verwendung |
DE19611849A1 (de) | 1996-03-26 | 1997-10-02 | Bayer Ag | Neue Isocyanattrimerisate und Isocyanattrimerisatmischungen, deren Herstellung und Verwendung |
DE19734048A1 (de) | 1997-08-06 | 1999-02-11 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Polyisocyanaten, damit hergestellte Polyisocyanate und deren Verwendung |
ES2187097T3 (es) | 1998-06-02 | 2003-05-16 | Bayer Ag | Procedimiento para la preparacion de poliisocianatos que contienen grupos iminooxadiazindiona. |
DE10229781A1 (de) | 2002-07-03 | 2004-01-22 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung monomerenarmer TDI-Trimerisate |
DE10229780A1 (de) | 2002-07-03 | 2004-01-15 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung monomerenarmer TDI-Trimerisate |
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