EP3908589A1 - Metallorganische verbindungen - Google Patents

Metallorganische verbindungen

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Publication number
EP3908589A1
EP3908589A1 EP20700193.4A EP20700193A EP3908589A1 EP 3908589 A1 EP3908589 A1 EP 3908589A1 EP 20700193 A EP20700193 A EP 20700193A EP 3908589 A1 EP3908589 A1 EP 3908589A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
ruthenium complex
ruthenium
arene
compound
complex according
Prior art date
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Withdrawn
Application number
EP20700193.4A
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Joerg Sundermeyer
Henrik Schumann
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Umicore AG and Co KG
Original Assignee
Umicore AG and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Umicore AG and Co KG filed Critical Umicore AG and Co KG
Publication of EP3908589A1 publication Critical patent/EP3908589A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
    • C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table compounds of the platinum group
    • C07F15/0046—Ruthenium compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F17/00—Metallocenes
    • C07F17/02—Metallocenes of metals of Groups 8, 9 or 10 of the Periodic Table
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/06—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
    • C23C16/18—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material from metallo-organic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
    • C23C16/45553—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the use of precursors specially adapted for ALD

Definitions

  • the invention relates to ruthenium complexes which are described by a formula (I).
  • the invention also relates to processes for the preparation of such ruthenium complexes and their use for the deposition of ruthenium in CVD processes and ALD processes.
  • the invention also relates to processes in which such ruthenium complexes are used as precursors for producing a ruthenium layer.
  • the invention also relates to ruthenized surfaces which can be obtained by depositing ruthenium on a surface from a gas phase, the gas phase comprising such a ruthenium complex.
  • a desired material is deposited from the gas phase on a surface of a substrate.
  • the desired material is typically in the form of a precursor substance, which is also referred to as a precursor.
  • precursors are used.
  • metal complexes are generally used as precursors for metals.
  • EP 3 026 055 A1 describes N-amino-guanidinate complexes of various metals, which are used, inter alia, in the production of thin layers, for example by CVD.
  • DE 10 2011 012 515 A1 describes metal complexes with N-amino-amidinate ligands, which are also used in gas phase thin-film processes such as CVD.
  • EP 1 884 517 A1 relates to organometallic compounds which are said to be suitable as precursors for CVD and ALD processes.
  • EP 1 884 517 A1 a Preparation of (1-dimethylamino) allyl (r
  • a theoretical representation of [(p-cymene) RuCI (N, N'-bis-iso-propylaminoacetamidinate)] is described.
  • ruthenium complexes as precursors for ruthenium in gas-phase thin-film processes are [(methylcyclopendadienyl ⁇ Ru], [(dimethylpentadienyl ⁇ Ru] and [(arene) Ru (1, 4-diaza-1, 3-butadiene)].
  • Some of the precursors for ruthenium used in the prior art are still in need of improvement. Some of the precursors have disadvantages such as low synthetic accessibility, decomposition temperatures that are too high and the rate of incorporation of carbon and other impurities in the production of thin layers. Some of the precursors for ruthenium used in the prior art are also unsuitable for ALD processes since there is preferential cleavage of only one weakly bound ligand of these precursors. Other disadvantages of some precursors are that they are too little volatile and / or are not liquid at room temperature.
  • precursors for ruthenium In an industrial application, it is also of great interest that as few steps as possible lead to the desired product in the synthesis of precursors for ruthenium. Harsh reaction conditions should also be avoided.
  • the precursors should also be obtained in the highest possible, optimized yields. It is particularly advantageous if the precursors have a long shelf life at room temperature.
  • the precursors themselves should easily withstand heating of a storage vessel for CVD or ALD processes, such as a so-called bubbler, to temperatures of up to 100 ° C. in order to increase the vapor pressure. At further elevated temperatures, however, the precursors should then disintegrate exothermically under typical conditions of CVD or ALD processes, in particular under elevated temperatures.
  • the ruthenium complexes should have a high volatility, be as liquid as possible at room temperature and still be stable at higher temperatures, but should not have decomposition temperatures which are too high.
  • the object of the invention is also to ensure good synthetic accessibility of the ruthenium complexes, in particular via syntheses with a few steps.
  • the task is also that the synthesis of the ruthenium complexes does not require harsh reaction conditions and delivers the highest possible yields.
  • the invention relates to a ruthenium complex of the formula (I):
  • R 1 is selected from H, C Cs hydrocarbon radical, which may be optionally substituted, and -NR 4 R 5 , where R 4 and R 5 are independently selected from H and C Cs hydrocarbon radicals, which may optionally be substituted,
  • R 2 and R 3 are independently selected from C Cs hydrocarbon radicals that are optionally substituted may be, wherein R 2 and R 3 are the same or different from each other, and
  • R 1 can be linked directly to R 2 , R 1 to R 3 and / or R 2 to R 3 .
  • Ruthenium complexes of the formula (I) can be volatile and liquid at room temperature. Ruthenium complexes of the formula (I) can still be stable at higher temperatures and have no decomposition temperatures which are too high. Ruthenium complexes of the formula (I) can be prepared in high yields over a few steps under mild conditions.
  • a ruthenium complex of formula (I) is neutral, which is reflected in the absence of a charge on the square bracket.
  • the ruthenium (Ru) forms the central atom in the complex having the formula (I), (arenes), X and L form the ligands of the complex.
  • Aren is an aromatic hydrocarbon.
  • Arenes include both monocyclic and polycyclic aromatic hydrocarbons. These aromatic hydrocarbons can be optionally substituted.
  • optional substituents on the ligand (arene) are denoted by (R 6 ) n .
  • the index n can preferably be 0, 1, 2, 3, 4, 5 or 6, more preferably 0 or 2, particularly preferably 2.
  • R 6 is preferably selected from hydrocarbon radicals, hydroxyl groups, alkoxy groups, amino groups and halogens, more preferably from Hydrocarbon residues.
  • Ligand X is either a hydrido ligand (H) or a C Cs hydrocarbon radical, preferably H or a C 1 -C 6 hydrocarbon radical, more preferably H or a C 1 -C 4 hydrocarbon radical.
  • hydrocarbon residue refers to a residue which is composed exclusively of carbon and hydrogen.
  • a C Cs hydrocarbon radical refers to a hydrocarbon radical which has 1 to 8 carbon atoms, that is to say 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 or 8 carbon atoms.
  • a Ci-Ce hydrocarbon radical refers to a hydrocarbon radical which has 1 to 6 carbon atoms, that is to say 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms.
  • a C1-C4 hydrocarbon radical refers to a hydrocarbon radical which has 1 to 4 carbon atoms, that is to say has 1, 2, 3 or 4 carbon atoms.
  • a hydrocarbon residue generally refers to a hydrocarbon residue which can be saturated or unsaturated. Saturated hydrocarbon radicals are preferred.
  • a hydrocarbon radical generally refers to a hydrocarbon radical which can be linear, branched or cyclic. Linear and branched hydrocarbon radicals are preferred.
  • R 1 can also be a radical, - NR 4 R 5 ' , ie an amino group.
  • R 4 and R 5 of the amino group are independently either H or a C Cs hydrocarbon radical.
  • the amino group , - NR 4 R 5 ' can be a primary amino group when both R 4 and R 5 are H.
  • the amino group can be a secondary amino group if only one of R 4 and R 5 is H.
  • the amino group can be a tertiary amino group if none of R 4 and R 5 is H.
  • R 4 and R 5 are both a CrCs hydrocarbon radical, more preferably both are a C1 -C6 hydrocarbon radical, even more preferably both are a C1 -C4 Hydrocarbon residue. According to the invention, it is particularly preferred that R 4 and R 5 are both methyl or both are ethyl, and more preferred that both are methyl.
  • CR 1 and R 2 N may together be part of a cyclic group if R 1 is directly linked to R 2 .
  • CR 1 and NR 3 can together be part of a cyclic group if R 1 is directly linked to R 3 .
  • R 2 N and NR 3 can together be part of a cyclic group if R 2 is directly linked to R 3 .
  • Directly linked means that no other atoms or groups are involved in the respective link other than R 1 , R 2 and R 3 .
  • R 1 is selected from H, C Cs hydrocarbon and -NR 4 R 5 , wherein R 4 and R 5 are independently selected from H and C Cs hydrocarbon, and
  • R 2 and R 3 are independently selected from C Cs hydrocarbon radicals.
  • the substituents C Cs are hydrocarbon residues, more preferably C1-C6 hydrocarbon residues, even more preferably C1 -C4 hydrocarbon residues.
  • the arene preferably has 1 to 6 substituents, that is to say 1, 2, 3, 4, 5 or 6 substituents, more preferably 2 substituents.
  • the ligand has a benzoid structure.
  • a benzoid structure is generally called a cyclic chemical structure, in which three double bonds formally still exist within a single six-membered structure Carbon rings are present.
  • benzene and a benzene substituted with 1 to 6 C Cs hydrocarbon radicals, preferably with 1 to 6 C1-C6 hydrocarbon radicals, more preferably with 1 to 6 C1-C4 hydrocarbon radicals have a benzoid structure.
  • the ligand (arene) is coordinated to the ruthenium via such a benzoid structure, specifically via the delocalized p-electron system of the benzoid structure.
  • h 6 coordination In the / 7apfo nomenclature common to complex compounds, such coordination is referred to as h 6 coordination.
  • (arene) comprises a benzoid structure coordinated to Ru n 6 .
  • This coordination can contribute to an improved stability of the complex.
  • L is coordinated via the nitrogen from R 2 N and via the nitrogen from NR 3 to Ru. This coordination can contribute to an improved stability of the complex.
  • (arene) simultaneously comprises a benzoid structure coordinated to Ru n 6 and L is coordinated to Ru via the nitrogen of R 2 N and via the nitrogen from NR 3 .
  • Such simultaneous coordination is shown in the general reaction scheme below. This simultaneous coordination can contribute to an improved stability of the complex.
  • X is H or a C1 -C4 hydrocarbon radical
  • R 1 is H, methyl, ethyl, -N (methyl) 2 or -N (ethyl) 2, and
  • R 2 , R 3 is in each case a C1 -C4 hydrocarbon radical.
  • Such a ruthenium complex can be prepared in a few steps under mild conditions.
  • the ligand (arene) in the ruthenium complex of the general formula (I) is an arene substituted with hydrocarbon radicals, in particular an arene substituted with different hydrocarbon radicals.
  • (arene) is substituted with two different hydrocarbon radicals.
  • a different or unsymmetrical substitution of the arene with different hydrocarbon radicals in particular with two different hydrocarbon radicals, such as in 4-isopropyltoluene, complicates crystallization of the ruthenium complex.
  • the asymmetrical substitution of arene can thus contribute to a liquid of the ruthenium complex according to the invention at room temperature.
  • (arene) is selected from benzene and benzene substituted with 1 to 6 C Cs hydrocarbon radicals. According to the invention, it is more preferred that (arene) is selected from benzene and benzene substituted with 1 to 6 C1-C6 hydrocarbon radicals. According to the invention, it is even more preferred that (arene) is selected from benzene and benzene substituted with 1 to 6 C1-C4 hydrocarbon radicals. According to the invention, it is further preferred that (arene) is selected from benzene and 4-isopropyltoluene.
  • 4-isopropyltoluene is also referred to as p-cymene or para-cymene.
  • Benzene and substituted benzene, especially 4-isopropyltoluene, as (arene) can provide stable ruthenium complexes according to the invention.
  • the ligand X is selected from H and a C1-C6 hydrocarbon radical, more preferably from H and a C1-C4 hydrocarbon radical. According to the invention, it is particularly preferred that the ligand X is selected from hydrido ligand (H), methyl (Me), ethyl (Et), propyl (Pr), isopropyl (iPr) and tert-butyl (tBu). X is more preferably selected from H, methyl and ethyl. In a preferred embodiment, X is H. In a further preferred embodiment, X is methyl. In yet another preferred embodiment, X is ethyl. The smaller and lighter the ligand X, the more volatile and more fluid at room temperature the corresponding ruthenium complexes can be.
  • R 1 of the ligand L is selected from methyl and -N (methyl) 2.
  • the dimethylamino group -N (methyl) 2 is used in the context of present invention partially referred to as NMe 2 .
  • Methyl and -N (methyl) 2 as R 1 can help to introduce the ligand L synthetically more easily into ruthenium complex intermediates.
  • R 2 and R 3 are selected independently of one another from C Cs hydrocarbon radicals, preferably C 1 -C 6 hydrocarbon radicals, more preferably C 1 -C 4 hydrocarbon radicals.
  • the hydrocarbon radicals can be optionally substituted, for example with amino groups.
  • R 2 and R 3 are selected independently of one another from methyl, ethyl, propyl, isopropyl and tert-butyl.
  • R 2 and R 3 are the same. According to the invention, it can be particularly preferred that R 2 and R 3 are both isopropyl. If R 2 and R 3 are the same and in particular both are isopropyl, the ligand L can be introduced better than metal organyl in ruthenium complex intermediates.
  • R 2 and R 3 are different from one another, for example R 2 is ethyl and R 3 is tert-butyl.
  • R 2 is ethyl and R 3 is tert-butyl.
  • An unsymmetrical structure of L can help to prevent the ruthenium complex from solidifying at room temperature.
  • R 1 is not linked to R 2 , R 1 is not linked to R 3 and R 2 is not linked directly to R 3 , ie that the ligand L has no corresponding cyclic groups. This can reduce the number of steps required for the synthesis of the ruthenium complexes according to the invention.
  • R 1 and R 2 are linked directly to one another.
  • R 1 and R 3 are linked directly to one another.
  • R 2 and R 3 are direct are linked together.
  • both R 1 and R 2 and R 1 and R 3 are linked directly to one another, that both R 1 and R 2 and R 2 and R 3 are linked directly to one another, that both R 1 and R 3 and R 2 and R 3 are directly linked to one another, and that R 1 and R 2 , R 1 and R 3 and R 2 and R 3 are linked directly to one another.
  • This can increase the variability of the synthesis of the ruthenium complexes according to the invention.
  • the ruthenium complex is liquid under standard conditions.
  • Standard conditions are a temperature of 25 ° C and an absolute pressure of 1 ⁇ 10 5 Pa.
  • the "liquid" state of matter includes an oily consistency of the ruthenium complex. Liquid of the ruthenium complex under standard conditions can improve the suitability of the ruthenium complex for CVD and ALD processes.
  • the ruthenium complex is not present as a solid. According to the invention, it is particularly preferred that the ruthenium complex has a melting point of ⁇ 25 ° C, more preferably ⁇ 10 ° C, more preferably ⁇ 0 ° C, at an absolute pressure of 1,013 ⁇ 10 5 Pa. Such a ruthenium complex may be more suitable for CVD and ALD processes.
  • a ruthenium complex according to the invention can preferably not be isolated by filtration and / or sublimation after synthesis in a solvent. According to the invention, it is preferred that a ruthenium complex according to the invention can be isolated by condensation. According to the invention, it is particularly preferred that the ruthenium complex can be isolated in a fine vacuum (FV) by condensation. In the context of the present invention, a fine vacuum comprises a pressure range from 10 2 to 10 4 Pa (0.001 to 0.1 bar). Ruthenium complexes that can be isolated by condensation may be more suitable for use in CVD and ALD processes.
  • the ruthenium complex decomposes at temperatures in the range from 100 to 200 ° C., more preferably in the range from 100 to 150 ° C. or in the range from 150 to 200 ° C. Decomposition of the ruthenium complex at these temperatures can improve the suitability of the ruthenium complex for CVD and ALD processes.
  • the onset of decay of a ruthenium complex according to the invention is determined by thermal analysis.
  • the thermal analysis is preferably a thermogravimetric analysis (TGA).
  • Thermogravimetric analysis is an analytical method in which changes in mass of a sample are measured as a function of temperature and time. In thermogravimetric analysis, the sample is heated in a crucible. A crucible holder is coupled to a scale, which registers changes in mass during the heating process. If there is a mass reduction during the heating process, this can indicate the decay of the sample.
  • the temperature of the onset of mass degradation by decomposition-free evaporation is at least 10 to 30 ° C. below the decomposition point.
  • the TGA typically takes place in a temperature range from 25 ° C to 600 ° C or 25 ° C to 700 ° C.
  • the heating rate for the TGA is typically 10 ° C / min.
  • the mass reduction due to evaporation and / or decomposition is preferably monitored via TGA and a simultaneous differential thermal analysis (SDTA). The SDTA determines the heat flow based on endothermic peaks (e.g.
  • exothermic peaks e.g. exothermic decomposition reaction
  • An endothermic peak without loss of mass regularly corresponds to a melting point.
  • An endothermic peak with loss of mass corresponds to evaporation.
  • An exothermic peak with loss of mass corresponds to decomposition.
  • the temperature of this first mass degradation of 3% by weight of the ruthenium complex at 1 ⁇ 10 5 Pa is in the range from 80 to 200 ° C., more preferably in the range from 80 to 150 ° C.
  • MX n is selected from UAIH 4 , MeLi or EtMgBr.
  • the invention also relates to the use of a ruthenium complex according to the invention for the deposition of ruthenium in a CVD process or an ALD process.
  • the invention also relates to a method in which a ruthenium complex according to the invention is used as a precursor for producing a ruthenium layer.
  • the invention also relates to a ruthenized surface which can be obtained by depositing ruthenium on a surface from a gas phase.
  • the gas phase comprises a ruthenium complex according to the invention.
  • a ruthenium complex according to the invention can be synthesized via the respective ruthenium chlorido compound [(arene) RuCIL] followed by substitution of CI by an alkyl group such as Me, Et or a hydrido ligand H.
  • the subsequent substitution of CI is achieved with little synthetic effort by implementation with, for example, LiAIFU, MeLi or EtMgBr.
  • a one-pot synthesis based on [RuCl2 (arene)] 2 without the need to isolate the chloride intermediate is possible when using solutions of the reactants with precisely known contents.
  • R 1 , R 2 , R 3 and R 6 are as described herein.
  • the reaction steps in the scheme can be carried out in ethers, preferably diethyl ether (Et 2 0) or tetrahydrofuran (THF), optionally also in a mixture with hydrocarbons (KW) such as hexane or toluene, at 0 ° C.
  • Et 2 0 diethyl ether
  • THF tetrahydrofuran
  • KW hydrocarbons
  • the chlorido complexes can be extracted in vacuo with nHexan and obtained in the purest form by sublimation.
  • the isolation of the intermediate product is not absolutely necessary, since a solvent change is also not absolutely necessary for the last step.
  • the exemplary substitution of the chlorido ligand on the ruthenium proceeds with a Grignard reagent for the introduction of the ethyl group, with MeLi for the introduction of the methyl group and with UAIH4 for the introduction of the hydride. It is also conceivable, the use of Red-Al ® (Na [H2AI (OCH 2 CH 2 OMe) 2]), LiBH 4 and Li [HBEt 3] showing the hydride target compounds.
  • substitutions of chlorido advantageously be carried out at 0 ° C, and provide after work-up (such as extraction with n-hexane, filtration through CELITE ®), evaporation of the solvent, and if necessary, purification by condensation, typically yellowish volatile oils.
  • the ruthenium complexes according to the invention are used as precursors for ruthenium or ruthenium layers. In particular, they can be used to produce thin films from ruthenium using gas phase thin film processes such as CVD and ALD.
  • Chemical vapor deposition is a gas phase reaction that typically occurs on or near a surface of a substrate.
  • the reactants or precursors involved in the reaction are fed in the form of gases to the substrate to be coated.
  • the substrate is arranged in a reaction chamber and is heated.
  • the mostly preheated gases are thermally activated by the heated substrate and react with each other or the substrate.
  • Precursors contained in the gases are thermally decomposed by the heated substrate. This separates and chemically binds the desired material. Chemisorption of the desired material occurs, in the present invention the ruthenium.
  • the ALD process also known as atomic layer deposition, is a modified CVD process. In the ALD process, the reaction or sorption on the surface ends automatically after the surface has been completely covered. This self-limiting reaction is carried out in several cycles, which are limited by intermediate rinsing steps. In this way, very exact layer thicknesses are achieved.
  • the ruthenium complexes according to the invention can be prepared by an inexpensive technical synthesis.
  • the simple technical synthesis is an important advantage in an industrial application of the ruthenium complexes according to the invention in processes of gas phase deposition.
  • Another important reason for the particular suitability of the ruthenium complexes according to the invention for CVD and / or ALD processes is that the ruthenium complexes according to the invention are volatile compounds, some of which are liquid at room temperature. They can also be successfully decomposed into elemental ruthenium. They represent an advantageous alternative to known ruthenium precursors for the separation of elemental ruthenium.
  • thermogravimetric and powder diffractometric studies carried out in this connection.
  • the investigations using TGA / SDTA initially show that some of the compounds are liquid at 25 ° C and have no melting point above 25 ° C.
  • X-ray powder diffraction (RPD) enables the residue in the crucible to be examined for decomposition in the thermogravimetric analysis for microcrystalline phases in the powder.
  • An observed result according to the invention is the detection of the formation of a known phase of elemental ruthenium.
  • the phase is verified by comparing the experimentally found pattern of reflex angles with the data for ruthenium from a reflex angle database.
  • the formation of a known phase of elemental ruthenium can indicate a particular suitability for CVD and / or ALD processes.
  • the invention can therefore also be used by methods for the deposition of ruthenium with the steps
  • Bidmg N, N'-bis (isopropylamino) -N ”-dimethylguanidinate
  • a /, A / -Di- / so-propylcarbodiimide (4.20 g, 33.3 mmol, 1.0 eq) was placed in Et 2 ⁇ D (50.0 ml_) and added dropwise at 0 ° C with MeLi (in Et 2 ⁇ D, 1.60 mL , 33.3 mmol, 1.0 eq).
  • the reaction mixture was stirred for 16 hours, allowing it to reach room temperature. After removal of all volatile constituents in a fine vacuum, the residue was washed with nHexan (2 20 mL) and dried in a fine vacuum. Li (bima) was obtained as a colorless solid (3.62 g, 24.3 mmol, 73%).
  • IR (substance) f / crrr 1 2958 (m), 2926 (m), 2861 (m), 1484 (vs), 1416 (s), 1373 (m), 1356 (m), 1332 (s), 1311 (s), 1170 (m), 1123 (m), 1047 (w), 1013 (m), 975 (w), 940 (w), 822 (w), 790 (w), 611 (w), 501 (m), 443 (f).
  • LiNMe 2 (83.1 mg, 1.63 mmol, 2.00 eq) was placed in THF (80 ml_) and / V, / V-diisopropylcarbodiimide (206 mg, 1.63 mmol, 2.00 eq) was added at 0 ° C. The mixture was stirred for 16 hours, allowing it to warm to room temperature. To the clear, colorless solution was added [Ru (p-cymol) CI 2 ] 2 (500 mg, 0.82 mmol, 1.00 eq) and stirred again for 16 hours. After removal of all volatile constituents in vacuo, the residue was taken up in nHexan (50 mL) and filtered through CELITE ® .
  • the filter cake was extracted with further amounts of nHexan (30 mL) and the filtrate was freed from the solvent in vacuo.
  • the yellow-orange, crystalline product (6.25 g, 14.2 mmol, 91%) could also be further purified by sublimation (FV / 70 ° C), whereby the target compound ultimately as a yellow-orange solid (1.92 g, 4.36 mmol, 28% ) could be isolated.
  • T M (Onset) 77.0 ° C
  • T M (max) 81.0 ° C (endothermic)
  • To (Onset) 174.4 ° C
  • T D (max.) 182.9 ° C (exothermic).
  • IR (substance) f / crrr 1 2955 (s), 2922 (m), 2861 (m), 2593 (w), 1507 (s), 1468 (m), 1447 (m), 1422 (m), 1373 (m), 1358 (m), 1331 (vs), 1310 (m), 1275 (m), 1213 (s), 1169 (m), 1143 (m), 1 119 (m), 1089 (m), 1054 (m), 1012 (m), 928 (w), 885 (w), 847 (m), 803 (m), 732 (w), 703 (w), 662 (w), 630 (w), 577 (w), 548 (w), 521 (w), 483 (w), 445 (w).
  • T 179.3 ° C (3% degradation)
  • T MA 205.8 ° C (1st process)
  • T MA 292.5 ° C (2nd process)
  • Example 6 Representation and characterization of rRuMe (p-cymol) (bima) 1
  • IR i / crrr 1 3052 (w), 2958 (vs), 2924 (s), 2865 (s), 2791 (w), 2594 (w),
  • IR il / cnr 1 3052 (f), 3052 (vs), 2960 (m), 2922 (m), 2866 (m), 1878
  • T 152.2 ° C (3% degradation)
  • T MA 166.7 ° C (1st process)
  • T MA 243.3 ° C (2nd process)
  • T M (onset) 143.9 ° C
  • T M (max) 150.0 ° C (endothermic)
  • the target compound was condensed out of the residue (FV / 45 ° C.), using [RuMe (benzene) (bidmg)] as a brown oil (92.9 mg, 0.25 mmol, 49%), which solidified after a few hours , was isolated.
  • IR g / crrr 1 3065 (w), 2957 (m), 2921 (m), 2865 (m), 2785 (m), 1623
  • T M (Onset) 85.1 ° C
  • T M (max) 89.6 ° C (endothermic)
  • To (Onset) 180.7 ° C
  • To (max) 193.7 ° C (exothermic).
  • the complex [RuCI (p-cymol) (dmfa)] can serve as an intermediate for complexes according to the invention with low molecular weight.
  • the examined crystals show a correct elemental analysis for C, H, N and CI.

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Abstract

Es werden Rutheniumkomplexe der Formel (I) beschrieben: [(aren)RuXL] Formel (I) wobei der Rutheniumkomplex folgende Liganden aufweist: (aren) Aren, das optional substituiert sein kann, X H oder C1-C8 Kohlenwasserstoffrest, und L R2N-CR1=NR3, wobei R1 ausgewählt ist aus H, C1-C8 Kohlenwasserstoffrest, der optional substituiert sein kann, und -NR4R5, wobei R4 und R5 unabhängig voneinander ausgewählt sind aus H und C1-C8 Kohlenwasserstoffresten, die optional substituiert sein können, R2 und R3 unabhängig voneinander ausgewählt sind aus C1-C8 Kohlenwasserstoffresten, die optional substituiert sein können, wobei R2 und R3 gleich oder verschieden voneinander sind, und R1 mit R2, R1 mit R3 und/oder R2 mit R3 direkt verknüpft sein kann.

Description

Metallorganische Verbindungen
Die Erfindung betrifft Rutheniumkomplexe, die mit einer Formel (I) beschrieben werden. Außerdem betrifft die Erfindung Verfahren zur Herstellung solcher Rutheniumkomplexe und deren Verwendung zur Abscheidung von Ruthenium in CVD-Verfahren und ALD- Verfahren. Zudem betrifft die Erfindung Verfahren, in denen solche Rutheniumkomplexe als Präkursor zur Herstellung einer Rutheniumschicht eingesetzt werden. Außerdem betrifft die Erfindung ruthenierte Oberflächen, welche durch Abscheiden von Ruthenium auf einer Oberfläche aus einer Gasphase erhältlich sind, wobei die Gasphase einen solchen Rutheniumkomplex umfasst.
Stand der Technik
CVD-Verfahren (CVD = Chemical vapor deposition) und ALD-Verfahren (ALD = atomic layer deposition) werden eingesetzt, um Substrate zu beschichten. Dabei wird ein erwünschtes Material aus der Gasphase auf einer Oberfläche eines Substrats abgeschieden. In der Gasphase liegt das erwünschte Material typischerweise in Form einer Vorläufersubstanz vor, die auch als Präkursor bezeichnet wird. In Abhängigkeit von dem abzuscheidenden Material kommen unterschiedliche Präkursoren zum Einsatz.
Als Präkursoren für Metalle allgemein werden im Stand der Technik zum Beispiel Metallkomplexe eingesetzt. In EP 3 026 055 A1 werden zum Beispiel N-Amino- Guanidinat-Komplexe verschiedener Metalle beschrieben, die unter anderem bei der Herstellung dünner Schichten etwa durch CVD Verwendung finden. Die DE 10 2011 012 515 A1 beschreibt Metallkomplexe mit N-Amino-Amidinat-Liganden, welche ebenfalls in Gasphasen-Dünnschichtverfahren wie CVD verwendet werden.
Als Präkursoren für Ruthenium werden im Stand der Technik unter anderem Rutheniumkomplexe eingesetzt. Aus US 7,737,290 B2 ist im Zusammenhang mit der Bildung von Metallfilmen unter Verwendung von Metallamidinaten eine Synthese von Tris(N,N'-diisopropylacetamidinato)ruthenium bekannt. EP 1 884 517 A1 betrifft metallorganische Verbindungen, die als Präkursoren für CVD- und ALD-Verfahren geeignet sein sollen. In einem theoretischen Beispiel von EP 1 884 517 A1 wird eine Darstellung von (1-Dimethylamino)allyl(r|6-p-cymol)rutheniumdiisopropylacetamidinat beschrieben. Als Vorstufe wird dabei eine theoretische Darstellung von [(p- Cymol)RuCI(N,N'-bis-iso-propylaminoacetamidinat)] beschrieben.
Weitere Beispiele für Rutheniumkomplexe als Präkursoren für Ruthenium in Gasphasen- Dünnschichtverfahren sind [(Methylcyclopendadienyl^Ru], [(Dimethylpentadienyl^Ru] und [(Aren)Ru(1 ,4-Diaza-1 ,3-butadien)].
Einige der im Stand der Technik eingesetzten Präkursoren für Ruthenium sind noch verbesserungsbedürftig. Zum Teil weisen die Präkursoren Nachteile wie eine geringe synthetische Zugänglichkeit, zu hohe Zersetzungstemperaturen und zu hohe Einbauraten von Kohlenstoff und anderer Verunreinigungen bei der Herstellung dünner Schichten auf. Einige der im Stand der Technik eingesetzten Präkursoren für Ruthenium sind zudem für ALD-Verfahren ungeeignet, da es zu einer bevorzugten Abspaltung nur eines schwach gebundenen Liganden dieser Präkursoren kommt. Weitere Nachteile einiger Präkursoren bestehen darin, dass sie zu wenig flüchtig sind und/oder bei Raumtemperatur nicht flüssig sind.
Bei einer industriellen Anwendung ist es daneben von großem Interesse, dass bei der Synthese von Präkursoren für Ruthenium möglichst wenige Stufen zum gewünschten Produkt führen. Außerdem sollten harsche Reaktionsbedingungen vermieden werden. Die Präkursoren sollten zudem in möglichst hohen, optimierten Ausbeuten erhalten werden. Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Präkursoren bei Raumtemperatur lange haltbar sind. Zudem sollten die Präkursoren selbst ein Erwärmen eines Vorratsgefäßes für CVD- oder ALD-Verfahren wie etwa eines sogenannten Bubbiers auf Temperaturen bis 100°C zwecks Erhöhung des Dampfdruckes problemlos überstehen. Bei weiter erhöhten Temperaturen sollten die Präkursoren dann aber unter typischen Bedingungen von CVD- oder ALD-Verfahren wie insbesondere unter erhöhten Temperaturen exotherm zerfallen.
Aufgabe der Erfindung
Der Erfindung liegt als eine Aufgabe zugrunde, Rutheniumkomplexe bereitzustellen, welche die oben beschriebenen Nachteile zumindest teilweise und möglichst ganz überwinden. Der Erfindung liegt als eine weitere Aufgabe zugrunde, Rutheniumkomplexe bereitzustellen, welche die oben beschriebenen wünschenswerten Eigenschaften aufweisen. Die Rutheniumkomplexe sollen eine hohe Flüchtigkeit aufweisen, bei Raumtemperatur möglichst flüssig und bei höheren Temperaturen noch stabil sein, aber keine zu hohen Zersetzungstemperaturen haben.
Aufgabe der Erfindung ist auch, eine gute synthetische Zugänglichkeit der Rutheniumkomplexe zu gewährleisten, insbesondere über Synthesen mit wenigen Stufen. Aufgabe ist es dabei auch, dass die Synthese der Rutheniumkomplexe keine harschen Reaktionsbedingungen erfordert und möglichst hohe Ausbeuten liefert.
Offenbarung der Erfindung
Überraschenderweise werden die der Erfindung zugrunde liegenden Aufgaben gelöst durch Rutheniumkomplexe gemäß den Patentansprüchen.
Gegenstand der Erfindung ist ein Rutheniumkomplex der Formel (I):
[(aren)RuXL] Formel (I) wobei der Rutheniumkomplex folgende Liganden aufweist:
(aren) Aren, das optional substituiert sein kann,
X H oder C Cs Kohlenwasserstoffrest, und
L R2N-CR1=NR3,
wobei
R1 ausgewählt ist aus H, C Cs Kohlenwasserstoffrest, der optional substituiert sein kann, und -NR4R5, wobei R4 und R5 unabhängig voneinander ausgewählt sind aus H und C Cs Kohlenwasserstoffresten, die optional substituiert sein können,
R2 und R3 unabhängig voneinander ausgewählt sind aus C Cs Kohlenwasserstoffresten, die optional substituiert sein können, wobei R2 und R3 gleich oder verschieden voneinander sind, und
R1 mit R2, R1 mit R3 und/oder R2 mit R3 direkt verknüpft sein kann.
Rutheniumkomplexe der Formel (I) können flüchtig und bei Raumtemperatur flüssig sein. Rutheniumkomplexe der Formel (I) können bei höheren Temperaturen noch stabil sein und keine zu hohen Zersetzungstemperaturen aufweisen. Rutheniumkomplexe der Formel (I) können über wenige Stufen unter milden Bedingungen in hohen Ausbeuten dargestellt werden.
Ein Rutheniumkomplex der Formel (I) ist neutral, was sich im Fehlen einer Ladungsangabe an der eckigen Klammer widerspiegelt.
Das Ruthenium (Ru) bildet in dem Komplex mit der Formel (I) das Zentralatom, (aren), X und L bilden die Liganden des Komplexes.
Mit „Aren“ wird nach der International Union of Pure and Applied Chemistry ein aromatischer Kohlenwasserstoff bezeichnet. Arene umfassen dabei sowohl monocyclische als auch polycyclische aromatische Kohlenwasserstoffe. Diese aromatischen Kohlenwasserstoffe können optional substituiert sein. Im nachfolgend angegebenen allgemeinen Reaktionsschema werden optionale Substituenten am Liganden (aren) mit (R6)n bezeichnet. Der Index n kann bevorzugt 0, 1 , 2, 3, 4, 5 oder 6 sein, mehr bevorzugt 0 oder 2, insbesondere bevorzugt 2. Erfindungsgemäß ist R6 bevorzugt aus Kohlenwasserstoffresten, Hydroxygruppen, Alkoxygruppen, Aminogruppen und Halogenen ausgewählt, mehr bevorzugt aus Kohlenwasserstoffresten.
Der Ligand X ist entweder ein Hydridoligand (H), oder ein C Cs Kohlenwasserstoffrest, bevorzugt H oder ein C1-C6 Kohlenwasserstoffrest, noch mehr bevorzugt H oder ein C1-C4 Kohlenwasserstoffrest.
Im Rahmen der vorliegenden Erfindung bezieht sich ein Kohlenwasserstoffrest wie üblich auf einen Rest, der ausschließlich aus Kohlenstoff und Wasserstoff aufgebaut ist. Ein Kohlenwasserstoffrest, der optional substituiert sein kann, bezieht sich im Rahmen der vorliegenden Erfindung auf einen Rest, der von Kohlenstoff und Wasserstoff verschiedene Atome (Heteroatome) als Substituenten aufweisen kann.
Im Rahmen der vorliegenden Erfindung bezieht sich ein C Cs Kohlenwasserstoffrest auf einen Kohlenwasserstoffrest, der 1 bis 8 Kohlenstoffatome aufweist, also 1 , 2, 3, 4, 5, 6, 7 oder 8 Kohlenstoffatome aufweist. Im Rahmen der vorliegenden Erfindung bezieht sich ein Ci-Ce Kohlenwasserstoffrest auf einen Kohlenwasserstoffrest, der 1 bis 6 Kohlenstoffatome aufweist, also 1 , 2, 3, 4, 5, oder 6 Kohlenstoffatome aufweist. Im Rahmen der vorliegenden Erfindung bezieht sich ein C1 -C4 Kohlenwasserstoffrest auf einen Kohlenwasserstoffrest, der 1 bis 4 Kohlenstoffatome aufweist, also 1 , 2, 3 oder 4 Kohlenstoffatome aufweist.
Im Rahmen der vorliegenden Erfindung bezieht sich ein Kohlenwasserstoffrest allgemein auf einen Kohlenwasserstoffrest, der gesättigt oder ungesättigt sein kann. Bevorzugt sind gesättigte Kohlenwasserstoffreste.
Im Rahmen der vorliegenden Erfindung bezieht sich ein Kohlenwasserstoffrest allgemein auf einen Kohlenwasserstoffrest, der linear, verzweigt oder cyclisch sein kann. Bevorzugt sind lineare und verzweigte Kohlenwasserstoffreste.
Der mit L bezeichnete Ligand wird durch eine Struktur R2N-CR1=NR3 gebildet. Formal betrachtet ist diese Struktur einfach negativ geladen. Die negative Ladung ist über die zwei Stickstoffatome mit den Resten R2 und R3 und das mittlere Kohlenstoffatom mit dem Rest R1 delokalisiert. Im Komplex der Formel (I) bildet L bevorzugt einen Elektronendonor.
Neben H und Ci bis Cs Kohlenwasserstoffrest kann R1 auch ein Rest ,,-NR4R5‘ sein, d.h. eine Aminogruppe. R4 und R5 der Aminogruppe sind unabhängig voneinander entweder H oder ein C Cs Kohlenwasserstoffrest. Die Aminogruppe ,,-NR4R5‘ kann eine primäre Aminogruppe sein, wenn beide R4 und R5 H sind. Die Aminogruppe kann eine sekundäre Aminogruppe sein, wenn nur eines von R4 und R5 H ist. Die Aminogruppe kann eine tertiäre Aminogruppe sein, wenn keines von R4 und R5 H ist. Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass R4 und R5 beide ein CrCs Kohlenwasserstoffrest sind, mehr bevorzugt sind beide ein C1 -C6 Kohlenwasserstoffrest, noch mehr bevorzugt sind beide ein C1 -C4 Kohlenwasserstoffrest. Erfindungsgemäß ist es insbesondere bevorzugt, dass R4 und R5 beide Methyl sind oder beide Ethyl sind, und mehr bevorzugt, dass beide Methyl sind.
Die Struktur R2N-CR1=NR3 kann cyclische Gruppen aufweisen. Zum Beispiel können CR1 und R2N zusammen Teil einer cyclischen Gruppe sein, wenn R1 mit R2 direkt verknüpft ist. Entsprechend können CR1 und NR3 zusammen Teil einer cyclischen Gruppe sein, wenn R1 mit R3 direkt verknüpft ist. Schließlich können R2N und NR3 zusammen Teil einer cyclischen Gruppe sein, wenn R2 mit R3 direkt verknüpft ist. Direkt verknüpft meint dabei, dass an der jeweiligen Verknüpfung außer R1 , R2 und R3 keine weiteren Atome oder Gruppen beteiligt sind.
Es ist erfindungsgemäß bevorzugt, dass in dem Rutheniumkomplex
(aren) ein mit 1 bis 6 gleichen oder verschiedenen C Cs
Kohlenwasserstoffresten substituiertes Aren oder ein Aren ist,
R1 aus H, C Cs Kohlenwasserstoffrest und -NR4R5 ausgewählt ist, wobei R4 und R5 unabhängig voneinander aus H und C Cs Kohlenwasserstoffresten ausgewählt sind, und
R2 und R3 unabhängig voneinander aus C Cs Kohlenwasserstoffresten ausgewählt sind.
In dem bevorzugten Rutheniumkomplex ist keiner der C Cs Kohlenwasserstoffreste substituiert. Dies kann zu einer Verbesserung der Flüchtigkeit und der Flüssigkeit bei Raumtemperatur führen.
In Fällen, in denen (aren) in dem bevorzugten Rutheniumkomplex ein substituiertes Aren ist, sind die Substituenten C Cs Kohlenwasserstoffreste, mehr bevorzugt C1-C6 Kohlenwasserstoffreste, noch mehr bevorzugt C1 -C4 Kohlenwasserstoffreste. Das Aren weist in diesen Fällen bevorzugt 1 bis 6 Substituenten auf, also 1 , 2, 3, 4, 5 oder 6 Substituenten, mehr bevorzugt 2 Substituenten.
Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass der Ligand (aren) eine benzoide Struktur aufweist. Eine benzoide Struktur nennt man allgemein eine cyclische chemische Struktur, bei der formal noch drei Doppelbindungen innerhalb eines einzelnen sechsgliedrigen Kohlenstoff-Rings vorhanden sind. Im Rahmen der vorliegenden Erfindung weisen Benzol und ein mit 1 bis 6 C Cs Kohlenwasserstoffresten, bevorzugt mit 1 bis 6 C1-C6 Kohlenwasserstoffresten, mehr bevorzugt mit 1 bis 6 C1 -C4 Kohlenwasserstoffresten substituiertes Benzol eine benzoide Struktur auf. Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass der Ligand (aren) über eine solche benzoide Struktur an das Ruthenium koordiniert ist, und zwar über das delokalisierte p-Elektronensystem der benzoiden Struktur. In der für Komplexverbindungen üblichen /7apfo-Nomenklatur wird eine solche Koordination als h6- Koordination bezeichnet.
Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass (aren) eine an Ru n6-koordinierte benzoide Struktur umfasst. Diese Koordination kann zu einer verbesserten Stabilität des Komplexes beitragen.
Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass L über den Stickstoff von R2N und über den Stickstoff von NR3 an Ru koordiniert ist. Diese Koordination kann zu einer verbesserten Stabilität des Komplexes beitragen.
Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass gleichzeitig (aren) eine an Ru n6-koordinierte benzoide Struktur umfasst und L über den Stickstoff von R2N und über den Stickstoff von NR3 an Ru koordiniert ist. Eine solche gleichzeitige Koordination ist in dem nachfolgenden allgemeinen Reaktionsschema gezeigt. Diese gleichzeitige Koordination kann zu einer verbesserten Stabilität des Komplexes beitragen.
Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass in dem Rutheniumkomplex
(aren) Benzol oder mit 1 bis 6 C1 -C4 gleichen oder verschiedenen
Kohlenwasserstoffresten substituiertes Benzol ist,
X H oder ein C1 -C4 Kohlenwasserstoffrest ist,
R1 H, Methyl, Ethyl, -N(Methyl)2 oder -N(Ethyl)2 ist, und
R2, R3 jeweils ein C1 -C4 Kohlenwasserstoffrest ist.
Ein solcher Rutheniumkomplex kann in wenigen Schritten unter milden Bedingungen darstellbar sein. Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass der Ligand (aren) im Rutheniumkomplex der allgemeinen Formel (I) ein mit Kohlenwasserstoffresten substituiertes Aren ist, insbesondere ein mit unterschiedlichen Kohlenwasserstoffresten substituiertes Aren. Erfindungsgemäß ist es dabei bevorzugt, dass (aren) mit zwei unterschiedlichen Kohlenwasserstoffresten substituiert ist. Ohne an diese Theorie gebunden zu sein wird davon ausgegangen, dass eine unterschiedliche bzw. unsymmetrische Substitution des Arens mit unterschiedlichen Kohlenwasserstoffresten, insbesondere mit zwei unterschiedlichen Kohlenwasserstoffresten wie beispielsweise in 4-lsopropyltoluol, eine Kristallisation des Rutheniumkomplexes erschwert. Die unsymmetrische Substitution des Arens kann somit zu einer Flüssigkeit des erfindungsgemäßen Rutheniumkomplexes bei Raumtemperatur beitragen.
Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass (aren) aus Benzol und mit 1 bis 6 C Cs Kohlenwasserstoffresten substituiertem Benzol ausgewählt ist. Erfindungsgemäß ist es mehr bevorzugt, dass (aren) aus Benzol und mit 1 bis 6 C1-C6 Kohlenwasserstoffresten substituiertem Benzol ausgewählt ist. Erfindungsgemäß ist es noch mehr bevorzugt, dass (aren) aus Benzol und mit 1 bis 6 C1 -C4 Kohlenwasserstoffresten substituiertem Benzol ausgewählt ist. Erfindungsgemäß ist es weiter bevorzugt, dass (aren) aus Benzol und 4- Isopropyltoluol ausgewählt ist. 4-lsopropyltoluol wird auch als p-Cymol oder para-Cymol bezeichnet. Benzol und substituiertes Benzol, insbesondere 4-lsopropyltoluol, als (aren) können stabile erfindungsgemäße Rutheniumkomplexe liefern.
Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass der Ligand X aus H und einem C1-C6 Kohlenwasserstoffrest ausgewählt ist, mehr bevorzugt aus H und einem C1 -C4 Kohlenwasserstoffrest. Erfindungsgemäß ist es insbesondere bevorzugt, dass der Ligand X aus Hydridoligand (H), Methyl (Me), Ethyl (Et), Propyl (Pr), Isopropyl (iPr) und tert-Butyl (tBu) ausgewählt ist. Mehr bevorzugt ist X aus H, Methyl und Ethyl ausgewählt. In einer bevorzugten Ausführungsform ist X H. In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist X Methyl. In noch einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist X Ethyl. Je kleiner und leichter der Ligand X ist, umso flüchtiger und bei Raumtemperatur leichter flüssig können die entsprechenden Rutheniumkomplexe sein.
Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass R1 des Liganden L aus Methyl und -N(Methyl)2 ausgewählt ist. Auf die Dimethylaminogruppe -N(Methyl)2 wird im Rahmen der vorliegenden Erfindung teilweise auch als NMe2 Bezug genommen. Methyl und -N(Methyl)2 als R1 können dazu beitragen, den Liganden L synthetisch leichter in Rutheniumkomplex-Zwischenstufen einzuführen.
Erfindungsgemäß sind R2 und R3 unabhängig voneinander ausgewählt aus C Cs Kohlenwasserstoffresten, bevorzugt C1-C6 Kohlenwasserstoffresten, mehr bevorzugt C1-C4 Kohlenwasserstoffresten. Die Kohlenwasserstoffreste können optional substituiert sein, z.B. mit Aminogruppen. Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass weder R2 noch R3 Aminogruppen umfasst. Dies kann zu einer besseren Flüchtigkeit und Flüssigkeit bei Raumtemperatur führen.
Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass R2 und R3 unabhängig voneinander aus Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl und tert-Butyl ausgewählt sind. Je kleiner und leichter die Reste R2 und R3 sind, umso flüchtiger und bei Raumtemperatur leichter flüssig können die entsprechenden Rutheniumkomplexe sein.
Erfindungsgemäß kann es bevorzugt sein, dass R2 und R3 gleich sind. Erfindungsgemäß kann es insbesondere bevorzugt sein, dass R2 und R3 beide Isopropyl sind. Wenn R2 und R3 gleich und insbesondere beide Isopropyl sind, kann der Ligand L besser als Metallorganyl in Rutheniumkomplex-Zwischenstufen eingeführt werden.
Erfindungsgemäß kann es bevorzugt sein, dass R2 und R3 voneinander verschieden sind, z.B. ist R2 Ethyl und ist R3 tert-Butyl. Daraus folgt eine unsymmetrische Struktur von L. Eine unsymmetrische Struktur von L kann dazu beitragen, eine Verfestigung des Rutheniumkomplexes bei Raumtemperatur zu verhindern.
Erfindungsgemäß kann es bevorzugt sein, dass R1 nicht mit R2, R1 nicht mit R3 und R2 nicht mit R3 direkt verknüpft ist, d.h. dass der Ligand L keine entsprechenden cyclischen Gruppen aufweist. Dies kann die Zahl der zur Synthese der erfindungsgemäßen Rutheniumkomplexe erforderlichen Schritte verkleinern.
Erfindungsgemäß kann es bevorzugt sein, dass R1 und R2 direkt miteinander verknüpft sind. Erfindungsgemäß kann es bevorzugt sein, dass R1 und R3 direkt miteinander verknüpft sind. Erfindungsgemäß kann es bevorzugt sein, dass R2 und R3 direkt miteinander verknüpft sind. Erfindungsgemäß kann es bevorzugt sein, dass sowohl R1 und R2 als auch R1 und R3 direkt miteinander verknüpft sind, dass sowohl R1 und R2 als auch R2 und R3 direkt miteinander verknüpft sind, dass sowohl R1 und R3 als auch R2 und R3 direkt miteinander verknüpft sind, und dass R1 und R2, R1 und R3 sowie R2 und R3 direkt miteinander verknüpft sind. Dies kann die Variabilität der Synthese der erfindungsgemäßen Rutheniumkomplexe vergrößern.
Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass der Rutheniumkomplex unter Standardbedingungen flüssig ist. Standardbedingungen sind eine Temperatur von 25°C und ein absoluter Druck von 1 ·105 Pa. Der Aggregatzustand„flüssig“ schließt eine ölige Konsistenz des Rutheniumkomplexes ein. Flüssigkeit des Rutheniumkomplexes unter Standardbedingungen kann die Eignung des Rutheniumkomplexes für CVD- und ALD- Verfahren verbessern.
Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass der Rutheniumkomplex nicht als Feststoff vorliegt. Erfindungsgemäß ist es insbesondere bevorzugt, dass der Rutheniumkomplex bei einem absoluten Druck von 1 ,013·105 Pa einen Schmelzpunkt von < 25°C aufweist, mehr bevorzugt < 10°C, weiter bevorzugt < 0°C. Ein solcher Rutheniumkomplex kann für CVD- und ALD-Verfahren besser geeignet sein.
Ein erfindungsgemäßer Rutheniumkomplex kann nach Synthese in einem Lösungsmittel bevorzugt nicht durch Filtration und/oder Sublimation isoliert werden. Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass ein erfindungsgemäßer Rutheniumkomplex durch Kondensation isolierbar ist. Erfindungsgemäß ist es insbesondere bevorzugt, dass der Rutheniumkomplex im Feinvakuum (FV) durch Kondensation isolierbar ist. Im Rahmen der vorliegenden Erfindung umfasst ein Feinvakuum einen Druckbereich von 102 bis 104 Pa (0,001 bis 0, 1 bar). Durch Kondensation isolierbare Rutheniumkomplexe können für eine Anwendung in CVD- und ALD-Verfahren besser geeignet sein.
Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass der Rutheniumkomplex bei Temperaturen im Bereich von 100 bis 200°C, mehr bevorzugt im Bereich von 100 bis 150 °C oder im Bereich von 150 bis 200°C, zerfällt. Ein Zerfallen des Rutheniumkomplexes bei diesen Temperaturen kann die Eignung des Rutheniumkomplexes für CVD- und ALD-Verfahren verbessern. Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass ein Einsetzen eines Zerfalls eines erfindungsgemäßen Rutheniumkomplexes durch thermische Analyse bestimmt wird. Die thermische Analyse ist bevorzugt eine thermogravimetrische Analyse (TGA). Die thermogravimetrische Analyse ist eine analytische Methode, bei der Masseänderungen einer Probe in Abhängigkeit von Temperatur und Zeit gemessen werden. Bei der thermogravimetrischen Analyse wird die Probe in einem Tiegel erhitzt. Eine Halterung des Tiegels ist an eine Waage gekoppelt, welche Masseänderungen während des Aufheizvorgangs registriert. Kommt es beim Aufheizvorgang zu einem Masseabbau, kann dies den Zerfall der Probe anzeigen.
Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass die Temperatur eines einsetzenden Masseabbaus durch zersetzungsfreie Verdampfung, gemessen in einer thermogravimetrischen Analyse (TGA) bei 1·105 Pa (1 bar), mindestens 10 bis 30°C unterhalb des Zersetzungspunktes liegt. Die TGA erfolgt typischerweise in einem Temperaturbereich von 25°C bis 600°C oder 25°C bis 700°C. Die Aufheizgeschwindigkeit bei der TGA beträgt typischerweise 10°C/min. Der Masseabbau, bedingt durch Verdampfung und/oder Zersetzung, wird bevorzugt über TGA und über eine simultane Differenz-Thermoanalyse (SDTA) verfolgt. Die SDTA bestimmt den Wärmefluss anhand von endothermen Peaks (z.B. Schmelzpunkt, Verdampfung aus der flüssigen Phase, Sublimation unterhalb des Schmelzpunktes) bzw. von exothermen Peaks (z.B. exotherme Zersetzungsreaktion). Ein endothermer Peak ohne Masseverlust entspricht regelmäßig einem Schmelzpunkt. Ein endothermer Peak mit Masseverlust entspricht einer Verdampfung. Ein exothermer Peak mit Masseverlust entspricht einer Zersetzung. Über Onset-Werte lassen sich diese Kenngrößen experimentell bestimmen. Angegeben wird die Temperatur einer TGA/SDTA, bei der die Masse der untersuchten Probe des Rutheniumkomplexes um 3 Gew.-% abgebaut ist (3% Abbau). Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, dass in einer thermogravimetrischen Analyse die Temperatur dieses ersten Masseabbaus von 3 Gew.-% des Rutheniumkomplexes bei 1·105 Pa im Bereich von 80 bis 200°C liegt, mehr bevorzugt im Bereich von 80 bis 150°C.
Gegenstand der Erfindung ist auch ein Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemäßen Rutheniumkomplexes, wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfasst: (i) Umsetzen einer Verbindung mit der Formel R2N=C=NR3 mit einer
Verbindung mit der Formel Li-R1 zur Herstellung einer Verbindung mit der Formel Li(R2N-CR1=NR3),
(ii) Umsetzen der Verbindung Li(R2N-CR1=NR3) mit einer Verbindung mit der Formel [RuCl2(aren)]2 zur Herstellung einer Verbindung mit der Formel
[(aren)RuCI(R2N-CR1=NR3)], und
(iii) Umsetzen der Verbindung [(aren)RuCI(R2N-CR1=NR3)] mit einer Verbindung MXn, wobei M = Metall und n = 1 , 2, 3 oder 4 ist.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren erfolgen die Schritte (i), (ii) und (iii) in der angegebenen Reihenfolge. Dabei ist es insbesondere bevorzugt, dass die Verbindung Li(R2N-CR1=NR3) in situ gebildet und direkt mit einer Verbindung mit der Formel [RuCl2(aren)]2 umgesetzt wird. Anders ausgedrückt wird die Verbindung Li(R2N-CR1=NR3) vor dem Umsetzen mit der Verbindung [RuCl2(aren)]2 nicht isoliert.
Es ist erfindungsgemäß bevorzugt, dass MXn aus UAIH4, MeLi oder EtMgBr ausgewählt ist.
Gegenstand der Erfindung ist auch eine Verwendung eines erfindungsgemäßen Rutheniumkomplexes zur Abscheidung von Ruthenium in einem CVD-Verfahren oder einem ALD-Verfahren.
Gegenstand der Erfindung ist auch ein Verfahren, in dem ein erfindungsgemäßer Rutheniumkomplex als Präkursor zur Herstellung einer Rutheniumschicht verwendet wird.
Gegenstand der Erfindung ist auch eine ruthenierte Oberfläche, die durch Abscheiden von Ruthenium auf einer Oberfläche aus einer Gasphase erhältlich ist. Die Gasphase umfasst dabei einen erfindungsgemäßen Rutheniumkomplex.
Allgemeines Svntheseschema
Die Synthese eines erfindungsgemäßen Rutheniumkomplexes kann über die jeweilige Ruthenium-Chlorido-Verbindung [(Aren)RuCIL] gefolgt durch Substitution von CI durch eine Alkylgruppe wie z.B. Me, Et oder einen Hydridoliganden H erfolgen. Die Darstellung der Chlorido-Zwischenstufen gelingt z.B. in einer Eintopfsynthese aus dem Lithiumsalz eines Guanidinats, vorzugsweise in situ gebildet über Addition eines sekundären Lithiumamids wie LiNMe2 an ein Carbodiimid R2N=C=NR3 (R2, R3 = iPr oder andere, auch unterschiedliche Alkylgruppe) und Umsetzung der Reaktionslösung mit Verbindungen des Typs [RuCl2(aren)]2. Für Amidinate gelingt die Eintopfsynthese aus dem Lithiumsalz des Amidinats, ggf. in situ gebildet über Addition eines Lithiumorganyls LiR1 (bevorzugt R1 = Me), an ein Carbodiimid R2N=C=NR3 (R2, R3 = iPr oder andere Alkylgruppe) und Umsetzung dieser Reaktionslösung mit Verbindungen des Typs [RuCl2(aren)]2. Die nachfolgende Substitution von CI wird ohne großen synthetischen Aufwand durch Umsetzung mit z.B. LiAIFU, MeLi oder EtMgBr erzielt. Eine Eintopfsynthese ausgehend von [RuCl2(aren)]2 ohne notwendige Isolierung des Chlorido- Zwischenproduktes ist bei Verwendung von Lösungen der Reaktanden exakt bekannten Gehaltes möglich.
Mögliche Synthesewege für erfindungsgemäße Rutheniumkomplexe sind in dem nachfolgenden allgemeinen Reaktionsschema zusammengefasst:
In dem Reaktionsschema sind die Reste R1, R2, R3 und R6 wie hierin beschrieben. Die Reaktionsschritte in dem Schema können in Ethern, vorzugsweise Diethylether (Et20) oder Tetrahydrofuran (THF), ggf. auch im Gemisch mit Kohlenwasserstoffen (KW) wie Hexan oder Toluol, jeweils bei 0°C durchgeführt werden. Die Chlorido-Komplexe können nach Entfernen des Lösungsmittels im Vakuum mit nHexan extrahiert und durch Sublimation in Reinstform erhalten werden. Die Isolierung des Zwischenproduktes ist aber nicht zwingend notwendig, da auch ein Lösungsmittelwechsel für den letzten Schritt nicht zwingend notwendig ist.
Die beispielhafte Substitution des Chlorido-Liganden am Ruthenium verläuft mit einem Grignard-Reagenz für die Einführung der Ethyl-Gruppe, mit MeLi für die Einführung der Methyl-Gruppe und mit UAIH4 für die Einführung des Hydrids. Denkbar ist auch der Einsatz von Red-Al® (Na[H2AI(OCH2CH2OMe)2]), LiBH4 und Li[HBEt3] zur Darstellung der Hydrid-Zielverbindungen. Die Substitutionen des Chloridoliganden werden vorteilhaft bei 0°C durchgeführt und liefern nach Aufarbeitung (z.B. Extraktion mit nHexan, Filtration über CELITE®), Abdampfen des Lösungsmittels, und ggf. Reinigung durch Kondensation, typischerweise gelbliche flüchtige Öle.
Anwendungen für die erfindungsgemäßen Komplexe
Die erfindungsgemäßen Rutheniumkomplexe finden Verwendung als Präkursoren für Ruthenium bzw. Rutheniumschichten. Insbesondere können sie zur Herstellung von Dünnschichten aus Ruthenium mittels Gasphasen-Dünnschichtverfahren wie CVD und ALD dienen.
Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist eine Gasphasenreaktion, die in der Regel an oder in der Nähe einer Oberfläche eines Substrats abläuft. Dabei werden an der Reaktion beteiligte Reaktanten bzw. Präkursoren in Form von Gasen dem zu beschichtenden Substrat zugeleitet. Das Substrat ist dabei in einer Reaktionskammer angeordnet und wird beheizt. Die meist vorgeheizten Gase werden durch das beheizte Substrat thermisch aktiviert und reagieren miteinander bzw. dem Substrat. In den Gasen enthaltene Präkursoren werden durch das beheizte Substrate thermisch zersetzt. Dadurch wird das erwünschte Material abgeschieden und chemisch gebunden. Es kommt zu einer Chemisorption des erwünschten Materials, in der vorliegenden Erfindung des Rutheniums. Das ALD-Verfahren, auch als Atomlagenabscheidung bezeichnet, ist ein verändertes CVD-Verfahren. Beim ALD-Verfahren endet die Reaktion bzw. Sorption an der Oberfläche nach der vollständigen Belegung der Oberfläche von sich aus. Diese selbstbegrenzende Reaktion wird in mehreren Zyklen durchlaufen, die von dazwischenliegenden Spülschritten begrenzt werden. Auf diese Weise werden sehr exakte Schichtdicken erreicht.
Wie oben beschrieben sind die erfindungsgemäßen Rutheniumkomplexe durch eine wenig aufwändige technische Synthese darstellbar. Die einfache technische Synthese ist ein wichtiger Vorteil bei einer industriellen Anwendung der erfindungsgemäßen Rutheniumkomplexe in Prozessen der Gasphasenabscheidung. Ein weiterer wichtiger Grund für die besondere Eignung der erfindungsgemäßen Rutheniumkomplexe für CVD- und/oder ALD-Verfahren liegt darin, dass die erfindungsgemäßen Rutheniumkomplexe flüchtige, teils bei Raumtemperatur flüssige Verbindungen sind. Zudem lassen sie sich erfolgreich zu elementarem Ruthenium zersetzen. Sie stellen damit für die Abscheidung von elementarem Ruthenium eine vorteilhafte Alternative zu bekannten Ruthenium- Präkursoren dar.
Dies wird auch durch die nachfolgenden Beispiele belegt, insbesondere durch die Ergebnisse der in diesem Zusammenhang durchgeführten thermogravimetrischen und pulverdiffraktometrischen Untersuchungen. Die Untersuchungen mittels TGA/SDTA zeigen zunächst für einige der Verbindungen, dass diese bei 25°C flüssig sind und keinen Schmelzpunkt oberhalb von 25°C aufweisen. Darüber hinaus wird deutlich, dass Verbindungen mit X = Me und H bei Drücken von 1·105 Pa oder niedriger unzersetzt verdampfbar sein können. Ferner ist eine Zersetzung solcher Verbindungen bei unter 200 °C möglich. Röntgenpulverdiffrakometrie (RPD) ermöglicht, den Rückstand im Tiegel nach der Zersetzung bei der thermogravimetrischen Analyse auf mikrokristalline Phasen im Pulver zu untersuchen. Ein beobachtetes, erfindungsgemäßes Ergebnis ist der Nachweis der Bildung einer bekannten Phase von elementarem Ruthenium. Die Phase wird durch einen Vergleich des experimentell gefundenen Musters an Reflexwinkeln mit den Daten für Ruthenium aus einer Reflexwinkel-Datenbank nachgewiesen. Die Bildung einer bekannten Phase von elementarem Ruthenium kann auf eine besondere Eignung für CVD- und/oder ALD-Verfahren hinweisen. Die Erfindung kann daher auch genutzt werden durch Verfahren zur Abscheidung von Ruthenium mit den Schritten
- Bereitstellen mindestens einer Verbindung gemäß der Erfindung;
- Unterwerfen besagter Verbindung einem CVD-Verfahren oder einem ALD-Verfahren. Ausführungsbeispiele
In den nachfolgenden Beispielen bedeutet:
• bima: N,N‘-Bis(isopropylamino)acetamidinat
· bidmg: N,N‘-Bis(isopropylamino)-N”-dimethylguanidinat
• dmfa: N,N‘-Dimethylformamidinat
Beispiel 1 (Referenz) - Darstellung und Charakterisierung von Li(bima)[11
0 °C RT, 16 h :Q
Li
A/,A/-Di-/so-propylcarbodiimid (4.20 g, 33.3 mmol, 1.0 eq) wurde in Et2<D (50.0 ml_) vorgelegt und bei 0 °C tropfenweise mit MeLi (in Et2<D, 1.60 mL, 33.3 mmol, 1.0 eq) versetzt. Das Reaktionsgemisch wurde für 16 Stunden gerührt, wobei es Raumtemperatur erreichen konnte. Nach Entfernen aller flüchtigen Bestandteile im Feinvakuum wurde der Rückstand mit nHexan (2 20 mL) gewaschen und im Feinvakuum getrocknet. Li(bima) wurde als farbloser Feststoff (3.62 g, 24.3 mmol, 73%) erhalten.
1H-NMR (THF-ds, 300.2 MHz): <5 / ppm = 3.42 (sept, 2 H, 'Pr), 1.75 (s, 3 H,
Me), 0.96 (d, 3JHH = 6.2 Hz, 12 H, 'Pr).
13C-NMR (THF-ds, 75.5 MHz): <5 / ppm = 168.6 (Cq), 47.6 ('Pr), 27.3 ('Pr), 10.4
(Me).
Elementaranalyse C8H17N2U (148.18 g/ ol)
berechnet: C: 64.85%, H: 11.56%, N: 18.91% gefunden: C: 63.20%, H: 11.21%, N: 18.46%. IR (Substanz) f/crrr1 = 2958 (m), 2926 (m), 2861 (m), 1484 (vs), 1416 (s), 1373 (m), 1356 (m), 1332 (s), 1311 (s), 1170 (m), 1123 (m), 1047 (w), 1013 (m), 975 (w), 940 (w), 822 (w), 790 (w), 611 (w), 501 (m), 443 (w).
Beispiel 2 (Referenz) - Darstellung und Charakterisierung von rRuCI(p-cymol)(bidmg)1
LiNMe2 (83.1 mg, 1.63 mmol, 2.00 eq) wurde in THF (80 ml_) vorgelegt und bei 0 °C mit /V,/V-Diisopropylcarbodiimid (206 mg, 1.63 mmol, 2.00 eq) versetzt. Das Gemisch wurde für 16 Stunden gerührt, wobei es sich auf Raumtemperatur erwärmen konnte. Zu der klaren, farblosen Lösung wurde [Ru(p-cymol)CI2]2 (500 mg, 0.82 mmol, 1.00 eq) gegeben und erneut für 16 Stunden gerührt. Nach Entfernen aller flüchtigen Bestandteile im Vakuum wurde der Rückstand in nHexan (50 mL) aufgenommen und über CELITE® filtriert. Der Filterkuchen wurde mit weiteren Mengen an nHexan (30 mL) extrahiert und das Filtrat im Vakuum vom Lösungsmittel befreit. Das gelb-orangefarbene, kristalline Produkt (6.25 g, 14.2 mmol, 91 %) konnte ferner durch Sublimation (FV/70 °C) weiter aufgereinigt werden, worüber die Zielverbindung letztlich als gelb-orangefarbener Feststoff (1.92 g, 4.36 mmol, 28%) isoliert werden konnte.
1 H-NMR C6D6, 300.2 MHz: <5 / ppm = 4.99 (d, 3JHH = 5.8 Hz, 2 H, H-5), 4.77
(d, 3JHH = 5.8 Hz, 2 H, H-6), 3.61 (sept, 2 H, H-1), 2.60 (sept, 1 H, H- 9), 2.45 (s, 6 H, NMe2), 2.07 (s, 3 H, H-8), 1.43 (d, 3JHH = 6.6 Hz, 6 H, 'Pr), 1.26 (d, 3JHH = 6.3 Hz, 6 H, 'Pr), 1.06 (d, 3JHH = 7.3 Hz, 6 H, 'Pr).
13C-NMR C6D6, 75.5 MHz: <5 / ppm = 166.8 (C-3), 97.9 (C-4), 97.7 (C-7), 79.1
(C-6), 79.0 (C-5), 47.5 (C-1), 40.6 (NMe2), 32.5 (C-10), 26.7 (C-2), 25.6 (C-2), 22.7 (C-8), 19.4 (C-9).
HR-EI(+)-MS Berechnet für [M+H]+ = 441.1485 m/z, gefunden: 441.1488 m/z. Elementaranalyse C19H34N3CI RU (441.02 g/mol)
berechnet: C: 51.75%, H: 7.77%, N: 9.53%
gefunden: C: 51.93%, H: 7.85%, N: 10.13%.
IR (Substanz) #/crrr1 = 2956 (s), 2919 (m), 2861 (m), 2789 (w). 1610
(w), 1494 (vs), 1448 (s), 1419 (m), 1371 (m), 1357 (m), 1321 (s), 1 199 (s), 1 165 (m), 1 141 (m), 11 15 (w), 1091 (s), 1057 (w), 1004 (w), 973 (m), 933 (m), 849 (w), 802 (w), 753 (w), 706 (w), 667 (w), 544 (w), 446 (w).
TGA (Ts = 25 °C, TE = 700 °C, 10 °C/min, m = 9.40 mg) Stufen: 1 ,
T = 155.1 °C (3% Abbau), T= 183.6 °C, (max. Abbaugeschwindigkeit), Gesamtmasseabbau: 4.83 mg (51.4%).
SDTA (Ts = 25 °C, TE = 700 °C, 10 °C/min, m = 9.40 mg)
TM(Onset) = 77.0 °C, TM(max) = 81.0 °C (endotherm), To(Onset) = 174.4 °C, TD(max.) = 182.9 °C (exotherm).
Beispiel 3 - Darstellung und Charakterisierung von rRuMe(p-cymol)(bidmg)1
[RuCI(p-cymol)(bidmg)] (300 mg, 0.68 mmol, 1.00 eq) wurde bei 0 °C in Et20 (20 ml_) gelöst und mit einer Methyllithium-Lösung (1.725 M in EfcO, 1.17 mL, 0.68 mmol, 1.0 eq) in Et20 (5 mL) hinzugegeben. Das Gemisch wurde für 16 Stunden gerührt, wobei es sich langsam auf Raumtemperatur erwärmen konnte. Die flüchtigen Bestandteile der klaren, hellgelben Lösung wurden daraufhin im Vakuum entfernt, der Rückstand in nHexan (10 mL) aufgenommen und über einen Spritzenfilter filtriert. Das Filtrat wurde im Vakuum vom Lösungsmittel befreit und das gelartige Rohprodukt umkondensiert (FV/45 °C). Die Zielverbindung konnte als gelb-orangefarbene viskose Flüssigkeit (120 mg, 0.29 mmol, 43%) isoliert werden. 1 H-NMR C6D6, 300.2 MHz: <5 / pp = 4.90 (d, 3JHH = 5.5 Hz, 2 H, H-5), 4.26 (d, 3JHH = 5.7 Hz, 2 H, H-6), 3.67 (sept, 2 H, H-1), 2.65 (sept, 2 H, H- 9), 2.50 (s, 6 H, NMe2), 2.02 (s, 3 H, H-8), 1.21 (d, 3JHH = 7.1 HZ,
6 H, 'Pr), 1.16 (d, 3JHH = 6.3 Hz, 6 H, 'Pr), 0.97 (d, 3JHH = 6.5 Hz, 6 H,
'Pr), 0.89 (s, 3 H, RuMe).
13C-NMR C6D6, 75.5 MHz: <5 / ppm = 160.2 (C-3), 106.8 (C-4), 95.8 (C-7), 81.0
(C-6), 73.2 (C-5), 46.8 (C-1), 41.1 (NMe2), 32.9 (C-10), 26.2 (C-2), 25.0 (C-2), 23.7 (C-8), 18.7 (C-9), 6.73 (RuMe).
HR-EI(+)-MS Berechnet für [M+H]+ = 421.2031 m/z, gefunden: 421.2017 m/z.
Elementaranalyse CMH37N3RU (420.61 g/mol)
berechnet: C: 57.1 1 %, H: 8.87%, N: 9.99%
gefunden: C: 57.07%, H: 8.75%, N: 10.79%.
Aufgrund des flüssigen Aggregatzustandes der Verbindung mussten die Proben für die Elementaranalyse in zusätzlichen Übertiegeln eingeschlossen werden, was zum Einschluss von mehr Stickstoff und folglich zur Verfälschung dieses Messwertes führt.
IR (Substanz) ß/crrr1 = 3051 (m), 2959 (m), 2924 (m), 2787 (w), 1504
(vs), 1447 (s), 1417 (m), 1373 (m), 1354 (m), 1328 (s), 1280 (w), 1203 (s), 1 163 (s), 1 145 (s), 1 1 16 (m), 1084 (w), 1055 (s), 1004 (w), 969 (m), 835 (m), 802 (m), 655 (w), 540 (w), 503 (w), 446 (w).
TGA (Ts = 25 °C, TE = 600 °C, 10 °C/min, m = 10.0 mg) Stufen: 1 ,
T = 166.7 °C (3% Abbau), T= 198.9 °C, (max. Abbaugeschwindigkeit), Gesamtmasseabbau: 5.92 mg (59.2%).
SDTA (Ts = 25 °C, TE = 600 °C, 10 °C/min, m = 9.40 mg) TD(Onset) =
160.4 °C, To(max.) = 196.1 °C (exotherm).
Beispiel 4 - Darstellung und Charakterisierung von rRuH(p-cymol)(bidmg)1
[RuCI(p-cymol)(bidmg)] (0.40 g, 0.91 mmol, 1.00 eq) und LiAlhU (10.0 mg, 0.27 mmol, 0.30 eq) wurden zusammen vorgelegt und in THF (20 ml_) bei -78 °C suspendiert. Das Gemisch wurde für 16 Stunden gerührt, wobei es sich langsam auf Raumtemperatur erwärmen konnte. Die flüchtigen Bestandteile wurden im Vakuum entfernt, der Rückstand in nHexan (10 ml_) aufgenommen und über CELITE® filtriert. Das Filtrat wurde im Vakuum vom Lösungsmittel befreit und die Zielverbindung aus dem Rückstand herauskondensiert (FV/45 °C), wobei [RuH(p-cymol)(bidmg)] als intensiv gelbe Flüssigkeit (0.17 g, 0.42 mmol, 46%) isoliert werden konnte.
1 H-NMR C6D6, 300.2 MHz: d / ppm = 4.83 (d, 3JH = 5.0 Hz, 2 H, H-5), 4.73
(d, 3JH = 5.3 Hz, 2 H, H-6), 3.52 (sept, 2 H, H-1), 2.61 (sept, 2 H, H- 9), 2.41 (s, 6 H, NMe2), 2.20 (s, 3 H, H-8), 1.32 (d, 3JHH = 7.1 HZ,
6 H, iPr), 1.16 (d, 3JH = 6.1 Hz, 6 H, 'Pr), 1.01 (d, 3JH = 6.6 Hz, 6 H,
'Pr), -4.66 (s, 1 H, RuH).
13C-NMR C6D6, 75.5 MHz: d / ppm = 160.1 (C-3), 105.7 (C-4), 96.7 (C-7), 77.0
(C-6), 76.2 (C-5), 46.2 (C-1), 40.2 (NMe2), 33.4 (C-10), 26.5 (C-2), 25.6 (C-2), 24.2 (C-8), 21.2 (C-9).
HR-EI(+)-MS Berechnet für [M+H]+ = 407.1875 m/z, gefunden: 407.1888 m/z.
Elementaranalyse C19H35N3RU (406.56 g/mol)
berechnet: C: 56.13%, H: 8.68%, N: 10.34% gefunden: C: 56.36%, H: 8.67%, N: 1 1.23%.
Aufgrund des flüssigen Aggregatzustandes der Verbindung mussten die Proben für die Elementaranalyse in zusätzlichen Übertiegeln eingeschlossen werden, was zum Einschluss von mehr Stickstoff und folglich zur Verfälschung dieses Messwertes führt.
IR (Substanz) y/crrr1 = 3052 (w), 2959 (vs), 2918 (s), 2864 (s), 2788
(m), 1884 (m), 1638 (w), 1493 (vs), 1445 (s), 1411 (s), 1371 (m), 1352 (m), 1329 (m), 1282 (w), 1 198 (s), 1166 (m), 1 142 (m), 1 117 (m), 1083 (w), 1054 (vs), 1004 (w), 971 (m), 834 (s), 803 (m), 677 (m), 539 (m), 444(w).
TGA (Ts = 25 °C, TE = 600 °C, 10 °C/min, m = 15.1 mg) Stufen: 1 ,
T = 119.5 °C (3% Abbau), T= 167.6 °C, (max. Abbaugeschwindigkeit), Gesamtmasseabbau: 7.55 mg (50.0%). SDTA (Ts = 25 °C, TE = 600 °C, 10 °C/min, = 15.1 g) TD(Onset) = 161.0 °C, To(max.) = 169.7 °C (exotherm).
Beispiel 5 (Referenz) - Darstellung und Charakterisierung von rRuCI(p-cvmol)(bima)1[21
Li(bima) (403 mg, 2.70 mmol, 2.3 eq) wurde in THF (20.0 ml_) vorgelegt und bei -78 °C mit [RuCl2(p-cymol)]2 (735 mg, 1.20 mmol, 1.0 eq) versetzt. Das Gemisch wurde für 16 Stunden gerührt, wobei es Raumtemperatur erreichte und eine Färbung ins Dunkelrote einging. Nach Entfernen aller flüchtigen Bestandteile im Feinvakuum wurde der Rückstand in nHexan (20 ml_) suspendiert und über CELITE® filtriert. Der Filterkuchen wurde dabei mit weiteren Mengen an nHexan (30 ml_) extrahiert und das erhaltene Filtrat anschließend im Feinvakuum eingetrocknet. Mittels Sublimation (FV/ 120 °C) wurde [RuCI(p-cymol)(bima)] als dunkelroter Feststoff (149 mg, 0.45 mmol, 29%) erhalten.
1 H-NMR (C6D6, 300.2 MHz): 4.97 (d, 3JHH = 5.9 Hz, 2 H, H-5), 4.70 (d,
3JHH = 5.9 Hz, 2 H, H-6), 3.32 (sept, 2 H, H-1), 2.64 (sept, 1 H, H-9),
2.06 (s, 3 H, H-8), 1.38 (d, 3JHH = 5.7 Hz, 6 H, 'Pr), 1.38 (s, 3 H, Me), 1.18 (d, 3JHH = 6.7 Hz, 6 H, 'Pr), 1.10 (d, 3JHH = 6.8 Hz, 6 H, 'Pr).
13C-NMR (C6D6, 75.5 MHz): <5 / ppm = 173.5 (C-3), 98.4 (C-4), 97.6 (C-7), 79.2
(C-6), 78.6 (C-5), 48.0 (C-1), 32.4 (Me), 26.2 (C-10), 25.9 (C-2), 22.8 (C-2), 19.3 (C-8), 13.5 (C-9).
HR-EI(+)-MS berechnet für: [M]+ = 412.1220 m/z, gefunden: 441.1219 m/z.
Elementaranalyse CI8H3I N2CIRU (406.56 g/mol)
berechnet: C: 52.48%, H: 7.58%, N: 6.80%
gefunden: C: 52.32%, H: 7.39%, N: 6.50%. IR (Substanz) f/crrr1 = 2955 (s), 2922 (m), 2861 (m), 2593 (w), 1507 (s), 1468 (m), 1447 (m), 1422 (m), 1373 (m), 1358 (m), 1331 (vs), 1310 (m), 1275 (m), 1213 (s), 1169 (m), 1143 (m), 1 119 (m), 1089 (m), 1054 (m), 1012 (m), 928 (w), 885 (w), 847 (m), 803 (m), 732 (w), 703 (w), 662 (w), 630 (w), 577 (w), 548 (w), 521 (w), 483 (w), 445 (w).
TGA (Ts = 25 °C, TE = 700 °C, 10 °C/min, m = 9.75 mg) Stufen: 1 ,
T = 179.3 °C (3% Abbau), TMA = 205.8 °C (1. Prozess), TMA = 292.5 °C (2. Prozess), Gesamtmasseabbau: 7.32 mg (75.0%).
SDTA (Ts = 25 °C, TE = 700 °C, 10 °C/min, m = 9.75 mg)
TM(Onset) = 61.0 °C, TM(max) = 65.0 °C (endotherm), TDI (Onset) = 186.3 °C, TD1(max) = 189.2 °C (endotherm), TD2(Onset) = 202.1 °C, TD2(max) = 210.0 °C (exotherm). Beispiel 6 - Darstellung und Charakterisierung von rRuMe(p-cymol)(bima)1
[RuCI(p-cymol)(bima)] (632 mg, 1.53 mmol, 1.0 eq) wurde in Et20 (20 ml_) vorgelegt und bei 0 °C mit MeLi (1.725 M in Et20, 0.96 ml_, 1.53 mmol, 1.0 eq) versetzt. Das Gemisch wurde für 16 Stunden gerührt, wobei es Raumtemperatur erreichen konnte und anschließend über CELITE® filtriert. Der Filterkuchen wurde mit weiteren Mengen an Et20 (15 ml_) extrahiert und das Filtrat im Feinvakuum von allen flüchtigen Bestandteilen befreit. Mittels Kondensation (FV/1 10 °C) konnte [RuMe(p-cymol)(bima)] aus dem Rückstand als gelbes Öl (216 mg, 0.55 mmol, 36%) isoliert werden.
1 H-NMR (C6D6, 300.2 MHZ): 4.85 (d, 3JHH = 5.7 Hz, 2 H, H-5), 4.21 (d,
3JHH = 5.7 Hz, 2 H, H-6), 3.37 (sept, 2 H, H-1), 2.70 (sept, 1 H, H-9), 2.04 (s, 3 H, Me), 1.42 (s, 3 H, H-8), 1.23 (d, 3JH = 7.2 Hz, 6 H, 'Pr), 1.11 (d, 3JHH = 6.5 Hz, 6 H, 'Pr), 1.05 (s, 3 H, RuMe), 0.91 (d, 3JHH = 6.5 Hz, 6 H, 'Pr).
13C-NMR (C6D6, 75.5 MHZ): d / pp = 164.7 (C-3), 106.8 (C-4), 96.7 (C-7),
80.7 (C-6), 72.9 (C-5), 47.5 (C-1), 32.7 (Me), 26.1 (C-10), 25.2 (C-
2), 23.8 (C-2), 18.7 (C-8), 12.2 (C-9), 5.39 (RuMe).
HR-EI(+)-MS berechnet für: [M]+ = 392.1766 /z, gefunden: 392.1751 m/z.
Elementaranalyse C19H34N2RU (391.57 g/ ol)
berechnet: C: 58.28%, H: 8.75%, N: 7.15%
gefunden: C: 57.59%, H: 8.67%, N: 1 1.30%.
Aufgrund des flüssigen Aggregatzustandes der Verbindung mussten die Proben für die Elementaranalyse in zusätzlichen Übertiegeln eingeschlossen werden, was zum Einschluss von mehr Stickstoff und folglich zur Verfälschung dieses Messwertes führt.
IR i/crrr1 = 3052 (w), 2958 (vs), 2924 (s), 2865 (s), 2791 (w), 2594 (w),
1651 (w), 1521 (vs), 1447 (m), 1373 (m), 1356 (m), 1329 (s), 1274 (w), 1217 (s), 1168 (m), 1145 (m), 11 16 (m), 1083 (w), 1054 (m), 1012 (m), 921 (w), 886 (w), 836 (m), 803 (w), 655 (w), 628 (w), 567 (w), 545 (w), 501 (w), 443 (w), 420 (w).
TGA (Ts = 25 °C, TE = 600 °C, 10 °C/min, m = 8.48 mg) Stufen: 1 ,
T = 147.3 °C (3% Abbau), TMA = 228.4 °C, Gesamtmasseabbau: 6.67 mg (78.6%).
SDTA (Ts = 25 °C, TE = 600 °C, 10 °C/min, m = 8.48 mg) TD(Onset) =
224.4 °C, To(max) = 231.5 °C (exotherm).
Beispiel 7 - Darstellung und Charakterisierung von rRuH(p-cymol)(bima)1
[RuCI(p-cymol)(bima)](440 mg, 1.07 mmol, 1.0 eq) und LiAlhU (20.0 mg, 0.53 mmol, 0.5 eq) wurden in THF (40 ml_) bei -78 °C vorgelegt und über einen Zeitraum von 16 Stunden gerührt, wobei das Gemisch Raumtemperatur erreichen konnte. Anschließend wurde zur Vervollständigung des Umsatzes zusätzlich für 24 Stunden unter Rückflussbedingungen erhitzt. Alle flüchtigen Bestandteile wurden in Feinvakuum entfernt und der Rückstand in nHexan (15 ml_) aufgenommen und über CELITE® filtriert. Der Filterkuchen wurde mit weiteren Mengen an nHexan (10 ml_) extrahiert und das Filtrat anschließend im Feinvakuum vom Lösungsmittel befreit. Die Verbindung [RuH(p- cymol)(bima)] wurde aus dem Rückstand im Feinvakuum bei 100 °C als braunes Öl (1 17 mg, 0.31 mmol, 29%) herauskondensiert.
1 H-NMR (CeDe, 300.2 MHz): 4.78 (d, 3JHH = 5.7 Hz, 2 H, H-6), 4.71 (d,
3JHH = 5.6 Hz, 2 H, H-5), 3.23 (sept, 2 H, H-1), 2.64 (sept, 1 H, H-9), 2.22 (s, 3 H, Me), 1.34 (d, 3JH = 6.9 Hz, 6 H, 'Pr), 1.30 (s, 3 H, H-8), 1.26 (d, 3JHH = 6.4 Hz, 6 H, jPr), 1.13 (d, 3JH = 6.3 Hz, 6 H, jPr), -3.99 (s, 1 H, RuH).
13C-NMR (C6D6, 75.5 M HZ): d / ppm = 165.7 (C-3), 105.4 (C-4), 97.7 (C-7),
77.1 (C-6), 75.4 (C-5), 47.1 (C-1), 33.4 (Me), 26.4 (C-10), 25.5 (C- 2), 24.4 (C-2), 21.3 (C-8), 10.9 (C-9).
Elementaranalyse C18H32N2RU (377.54 g/mol)
berechnet: C: 57.27%, H: 8.54%, N: 7.42%
gefunden: C: 57.45%, H: 8.41 %, N: 10.05%.
Aufgrund des flüssigen Aggregatzustandes der Verbindung mussten die Proben für die Elementaranalyse in zusätzlichen Übertiegeln eingeschlossen werden, was zum Einschluss von mehr Stickstoff und folglich zur Verfälschung dieses Messwertes führt.
IR il/cnr1 = 3052 (w), 3052 (vs), 2960 (m), 2922 (m), 2866 (m), 1878
(m), 1649 (w), 1516 (vs), 1447 (m), 1373 (m), 1355 (m), 1331 (m), 1272 (w), 1217 (m), 1172 (m), 1146 (m), 1 1 18 (m), 1083 (m), 1054 (w), 1016 (m), 835 (m), 812 (m), 678 (w), 624 (w), 594 (w), 544 (m), 478 (w), 448 (w).
TGA (Ts = 25 °C, TE = 700 °C, 10 °C/min, m = 10.1 mg) Stufen: 1 ,
T = 130.6 °C (3% Abbau), TMA = 194.1 °C, Gesamtmasseabbau: 8.39 mg (80.2%).
SDTA (Ts = 25 °C, TE = 700 °C, 10 °C/min, m = 6.50 mg) TD(Onset) =
183.6 °C, To(max) = 192.4 °C (exotherm).
Beispiel 8 (Referenz) - Darstellung und Charakterisierung von rRuCI(benzol)(bidmg)1
LiNMe2 (62.4 mg, 1.20 mmol, 1.0 eq) wurde in THF vorgelegt und bei 0 °C mit N,N-Di-iso- propylcarbodiimid (151 mg, 1.20 mmol, 1.0 eq) versetzt. Das Gemisch wurde für 16 Stunden gerührt, wobei es Raumtemperatur erreichen konnte. Nach erneutem Abkühlen auf 0 °C wurde [RuCI2(benzol)]2 (300 mg, 0.60 mmol, 0.5 eq) zugegeben und das Gemisch für 16 Stunden gerührt, wobei es Raumtemperatur erreichen konnte. Anschließend wurde die Suspension über CELITE® filtriert und das erhaltene Filtrat im Feinvakuum getrocknet. [RuCI(benzol)(bidmg)] wurde aus dem dabei erhaltenen Rückstand mittels Sublimation (FV/120 °C) als dunkelroter Feststoff (222 mg, 0.56 mmol, 46%) erhalten.
1 H-NMR (C6D6, 300.2 MHz): 4.96 (d, 6 H, H-6), 3.63 (sept, 2 H, H-1), 2.44 (s,
6 H, NMe2), 1.43 (d, 3JH = 6.4 Hz, 6 H, 'Pr), 1.27 (d, 3JH = 6.3 Hz, 6 H, 'Pr). 13C-NMR (C6D6, 75.5 MHZ): 5 / ppm = 166.8 (C-3), 81.0 (C-4), 47.7 (C-1), 40.5 (NMe2), 26.3 (C-2), 25.5 (C-2).
HR-EI(+)-MS berechnet für: [M]+ = 385.0859 m/z, gefunden: 385.0859 m/z.
Elementaranalyse C15H26N3CIRU (384.91 g/mol)
berechnet: C: 46.81 %, H: 6.67%, N: 10.92% gefunden: C: 47.05%, H: 6.67%, N: 10.85%.
IR (Substanz) f/crrr1 = 3053 (m), 2958 (m), 2915 (m), 2857 (m), 2789
(m), 1481 (vs), 1450 (s), 1416 (m), 1373 (m), 1356 (m), 1323 (m), 1 194 (m), 1167 (m), 1138 (m), 11 18 (m), 1059 (s), 1007 (w), 974 (m), 879 (w), 821 (s), 755 (w), 703 (w), 619 (w), 546 (w), 467 (w), 442 (w).
TGA (Ts = 25 °C, TE = 700 °C, 10 °C/min, m = 6.50 mg) Stufen: 1 ,
T = 152.2 °C (3% Abbau), TMA = 166.7 °C (1. Prozess), TMA = 243.3 °C (2. Prozess), Gesamtmasseabbau: 3.38 mg (52.0%).
SDTA (Ts = 25 °C, TE = 700 °C, 10 °C/min, m = 6.50 mg)
TM(Onset) = 143.9 °C, TM(max) = 150.0 °C (endotherm),
To(Onset) = 162.6 °C, To(max) = 169.9 °C (exotherm).
RPD (Rückstand aus TGA-Analyse) 2 qϋ( [441/° (20Obs /°): 38.39 (38.34),
42.13 (42.15), 43.99 (44.01), 58.33 (58.26), 69.41 (69.34), 78.30 (n.b.), 82.22 (81.73), 84.71 (84.58), 85.96 (n.b.), 92.04 (n.b.), 97.09 (n.b.) -^· Nachweis: elementares Ruthenium.
Beispiel 9 - Darstellung und Charakterisierung von rRuMe(benzol)(bidmg)l
[RuCI(benzol)(bidmg)] (200 mg, 0.52 mmol, 1.0 eq) wurde in THF (10 ml_) vorgelegt und bei 0 °C mit einer MeLi-Lösung (1.725 M in Et20, 0.33 ml_, 0.52 mmol, 1.0 eq) versetzt. Das Gemisch wurde für 16 Stunden gerührt, wobei es Raumtemperatur erreichen konnte. Das Filtrat wurde im Vakuum vom Lösungsmittel befreit und der Rückstand in nHexan (10 ml_) aufgenommen. Die Suspension wurde über CELITE® filtriert und der Filterkuchen dabei mit weiteren Mengen an nHexan (10 ml_) extrahiert. Nach Eintrocknen des Filtrats im Feinvakuum wurde die Zielverbindung aus dem Rückstand herauskondensiert (FV/45 °C), wobei [RuMe(benzol)(bidmg)] als braunes Öl (92.9 mg, 0.25 mmol, 49%), welches nach einigen Stunden erstarrte, isoliert wurde.
1 H-NMR (C6D6, 300.2 MHz): 4.82 (s, 6 H, H-4), 3.69 (sept, 2 H, H-1), 2.48 (s,
6 H, NMe2), 1.17 (d, 3JHH = 6.9 Hz, 6 H, 'Pr), 0.89 (s, 3 H, RuMe), Ϊ1.16 (d, 3 HH = 6.4 Hz, 6 H, 'Pr).
13C-NMR (C6D6, 75.5 MHZ): <5 / ppm = 80.8 (C-4), 46.9 (C-1), 41.0 (NMe2),
25.8 (C-2), 24.9 (C-2), 2.5 (RuMe). Die Resonanz für das quartäre Kohlenstoffatom C-3 wurde im 13C-NMR-Experiment nicht detektiert. HR-EI(+)-MS berechnet für: [M]+ = 365.1405 m/z, gefunden: 365.1416 m/z.
Elementaranalyse Ci6H2gN3Ru (364.50 g/mol)
berechnet: C: 52.72%, H: 8.02%, N: 1 1.53% gefunden: C: 53.05%, H: 7.92%, N: 1 1.46%.
IR g/crrr1 = 3065 (w), 2957 (m), 2921 (m), 2865 (m), 2785 (m), 1623
(w), 1597 (w), 1497 (vs), 1445 (s), 1415 (m), 1369 (m), 1352 (m), 1328 (m), 1277 (m), 1201 (m), 1162 (m), 1 140 (m), 11 17 (m), 1053 (s), 968 (m), 858 (w), 799 (w), 780 (m), 697 (w), 608 (w), 539 (w), 506 (w).
TGA (Ts = 25 °C, TE = 600 °C, 10 °C/min, m = 5.43 mg) Stufen: 1 , T =
152.9 °C (3% Abbau), TMA = 189.6 °C, Gesamtmasseabbau: 3.61 mg (66.3%).
SDTA (Ts = 25 °C, TE = 600 °C, 10 °C/min, m = 5.43 mg)
TM(Onset) = 85.1 °C, TM(max) = 89.6 °C (endotherm), To(Onset) = 180.7 °C, To(max) = 193.7 °C (exotherm).
Beispiel 10 (Referenz) - Strukturelle Charakterisierung von rRuCI(p-cymol)(dmfa)1
Der Komplex [RuCI(p-cymol)(dmfa)] kann als Intermediat für erfindungsgemäße Komplexe mit niedrigem Molekulargewicht dienen. Der Komplex wurde röntgenographisch charakterisiert. Die Position von R1 = H wurde in der Fourier-Analyse gefunden. Kristalldaten aus einer Einkristallröntgenstrukturanalyse:
C13H21 N2CI RU M = 341.84 g/mol monoklin, P2i/c a = 10.2770(6) Ä b = 16.8754(10) Ä c = 16.2504(10) Ä a = 90° ß = 92.336(2)° g = 90°
V = 2815.9(3) Ä3 Z = 8
Dcaic = 1.613 Mg/m3 m = 1.284 mm 1 F(000) = 1392
Habitus: klare gelbe Blöcke 0.246 · 0.099 · 0.061 mm
Die untersuchten Kristalle zeigen eine korrekte Elementaranalyse für C, H, N und CI.
Literatur:
[1] M. P. Coles, D. C. Swenson, R. F. Jordan, V. G. Young, Organometallics 1997, 16, 5183-5194.
[2] R. Garcia-Älvarez, F. J. Suärez, J. Diez, P. Crochet, V. Cadierno, A. Antinolo, R.
Fernändez-Galän, F. Carrillo-Hermosilla, Organometallics 2012, 31, 8301-8311.

Claims

PATENTANSPRÜCHE
1. Rutheniumkomplex der Formel (I):
[(aren)RuXL] Formel (I) wobei der Rutheniumkomplex folgende Liganden aufweist:
(aren) = Aren, das optional substituiert sein kann,
X = H oder C Cs Kohlenwasserstoffrest, und
L = R2N-CR1=NR3,
wobei
R1 ausgewählt ist aus H, C Cs Kohlenwasserstoffrest, der optional substituiert sein kann, und -NR4R5, wobei R4 und R5 unabhängig voneinander ausgewählt sind aus H und C Cs Kohlenwasserstoffresten, die optional substituiert sein können,
R2 und R3 unabhängig voneinander ausgewählt sind aus C Cs Kohlenwasserstoffresten, die optional substituiert sein können, wobei R2 und R3 gleich oder verschieden voneinander sind, und
R1 mit R2, R1 mit R3 und/oder R2 mit R3 direkt verknüpft sein kann.
2. Rutheniumkomplex gemäß Anspruch 1 , wobei
(aren) ein mit 1 bis 6 gleichen oder verschiedenen C Cs
Kohlenwasserstoffresten substituiertes Aren oder ein Aren ist, R1 aus H, C Cs Kohlenwasserstoffrest und -NR4R5 ausgewählt ist, wobei R4 und R5 unabhängig voneinander aus H und C Cs Kohlenwasserstoffresten ausgewählt sind, und
R2 und R3 unabhängig voneinander aus C Cs Kohlenwasserstoffresten ausgewählt sind.
3. Rutheniumkomplex gemäß mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei (aren) eine an Ru n6-koordinierte benzoide Struktur umfasst und/oder wobei L über den Stickstoff von R2N und über den Stickstoff von NR3 an Ru koordiniert ist.
4. Rutheniumkomplex gemäß mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei
(aren) Benzol oder mit 1 bis 6 C1 -C4 gleichen oder verschiedenen
Kohlenwasserstoffresten substituiertes Benzol ist,
X H oder ein C1 -C4 Kohlenwasserstoffrest ist,
R1 H, Methyl, Ethyl, -N(Methyl)2 oder -N(Ethyl)2 ist, und
R2, R3 jeweils ein C1 -C4 Kohlenwasserstoffrest ist.
5. Rutheniumkomplex gemäß mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei (aren) aus Benzol und 4-lsopropyltoluol ausgewählt ist.
6. Rutheniumkomplex gemäß mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei X aus H, Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl und tert-Butyl ausgewählt ist.
7. Rutheniumkomplex gemäß mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei R1 aus Methyl und -N(Methyl)2 ausgewählt ist und/oder wobei R2 und R3 unabhängig voneinander aus Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl und tert-Butyl ausgewählt sind.
8. Rutheniumkomplex gemäß mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei R1 nicht mit R2, R1 nicht mit R3 und R2 nicht mit R3 direkt verknüpft ist.
9. Rutheniumkomplex gemäß mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, der unter Standardbedingungen bei 25°C und 1 ·105 Pa flüssig ist und/oder der bei einem Druck von 1 ,013·105 Pa einen Schmelzpunkt von < 25°C aufweist und/oder der bei Temperaturen im Bereich von 100 bis 200°C zerfällt.
10. Rutheniumkomplex gemäß mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei in einer thermogravimetrischen Analyse die Temperatur eines ersten Masseabbaus von 3 Gew.-% des Rutheniumkomplexes bei 1·105 Pa im Bereich von 80 bis 200°C liegt.
11. Verfahren zur Herstellung eines Rutheniumkomplexes gemäß mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche umfassend die Schritte:
(i) Umsetzen einer Verbindung mit der Formel R2N=C=NR3 mit einer
Verbindung mit der Formel Li-R1 zur Herstellung einer Verbindung mit der Formel Li(R2N-CR1=NR3),
(ii) Umsetzen der Verbindung Li(R2N-CR1=NR3) mit einer Verbindung mit der Formel [RuCl2(aren)]2 zur Herstellung einer Verbindung mit der Formel [(aren)RuCI(R2N-CR1=NR3)], und
(iii) Umsetzen der Verbindung [(aren)RuCI(R2N-CR1=NR3)] mit einer
Verbindung MXn, wobei M = Metall und n = 1 , 2, 3 oder 4 ist.
12. Verfahren gemäß Anspruch 11 , wobei die Verbindung Li(R2N-CR1=NR3) in situ gebildet und direkt mit einer Verbindung mit der Formel [RuCl2(aren)]2 umgesetzt wird.
13. Verwendung eines Rutheniumkomplexes gemäß mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10 zur Abscheidung von Ruthenium in einem CVD-Verfahren oder einem ALD- Verfahren.
14. Verfahren, in dem ein Rutheniumkomplex gemäß mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10 als Präkursor zur Herstellung einer Rutheniumschicht verwendet wird.
15. Ruthenierte Oberfläche, erhältlich durch Abscheiden von Ruthenium auf einer Oberfläche aus einer Gasphase, die einen Rutheniumkomplex gemäß mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10 umfasst.
16. Verfahren zur Abscheidung von Ruthenium mit den Schritten
- Bereitstellen mindestens einer Verbindung nach einem oder mehreren der
Ansprüche 1 bis 10; - Unterwerfen der Verbindung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 10 einem CVD-Verfahren oder einem ALD-Verfahren.
17. Verfahren nach Anspruch 16, wobei eine Verbindung nach Anspruch 4 bereitgestellt und einem CVD- oder ALD-Verfahren unterworfen wird.
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