EP3201469A1 - Systeme de pompage pour generer un vide et procede de pompage au moyen de ce systeme de pompage - Google Patents

Systeme de pompage pour generer un vide et procede de pompage au moyen de ce systeme de pompage

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EP3201469A1
EP3201469A1 EP14781160.8A EP14781160A EP3201469A1 EP 3201469 A1 EP3201469 A1 EP 3201469A1 EP 14781160 A EP14781160 A EP 14781160A EP 3201469 A1 EP3201469 A1 EP 3201469A1
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vacuum pump
pumping system
main
pumping
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Jean-Eric Larcher
Théodore ILTCHEV
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Definitions

  • the present invention relates to the field of vacuum techniques. More specifically, it relates to a pumping system comprising at least one pin pump, and a pumping method by means of this pumping system.
  • the rotational speed of the pump plays a very important role, defining the operation of the pump during the different phases succeeding during the emptying of the vacuum chamber.
  • the electrical power required in the first pumping phases when the suction pressure is between the atmospheric pressure and about 100 mbar, that is to say during operation at high mass flow rate, would be very high if the speed of rotation of the pump could not be reduced.
  • the trivial solution is to use a speed variator which allows the reduction or the increase of the speed and consequently of the power according to the different criteria of the pressure type, maximum current, limit torque, temperature, etc. But during the periods of operation in reduced speed of rotation there are drops of flow at high pressure, the flow rate being proportional to the speed of rotation. Also, the variation of speed by frequency converter imposes an additional cost and a congestion.
  • Roots booster pumps arranged upstream of the main dry pumps.
  • This type of system is cumbersome, works either with by-pass valves having reliability problems, or by employing means of measurement, control, adjustment or control.
  • these means of control, adjustment or control must be actively controlled, which necessarily results in an increase in the number of components of the system, its complexity and cost.
  • the object of the present invention is to enable a better vacuum to be obtained than that (of the order of 0.01 mbar) that a single pin pump is capable of generating in a vacuum chamber.
  • Another object of the present invention is to obtain a discharge rate that is greater than low pressure than that which can be obtained by means of a single pin pump when pumping to make a vacuum. in a vacuum chamber.
  • the present invention also aims to allow a reduction of the electrical energy required for the emptying of a vacuum chamber and the maintenance of the vacuum, as well as a decrease in the temperature of the outlet gas.
  • a pumping system for generating a vacuum comprising a main vacuum pump which is a pin pump having a gas inlet suction connected to a vacuum vessel and a gas outlet discharge in a gas discharge conduit to an exhaust outlet of the gases out of the pumping system.
  • the pumping system further comprises
  • a non-return valve positioned between the gas outlet discharge and the exhaust gas outlet
  • the auxiliary vacuum pump can be of various types, including another spool pump, a screw-type dry pump, a multi-stage Roots pump, a diaphragm pump, a dry vane pump, a vane pump lubricated or also a gas ejector.
  • the invention also relates to a method of pumping by means of a pumping system as defined above. This process comprises steps in which:
  • the main vacuum pump is started in order to pump the gases contained in the vacuum chamber and to discharge these gases by its gas outlet discharge;
  • the auxiliary vacuum pump continues to pump all the time that the main vacuum pump pumps the gases contained in the vacuum chamber and / or all the time that the main vacuum pump maintains a defined pressure in the vacuum chamber.
  • the auxiliary pump is operated continuously all the time that the main vacuum pump with pins empty the vacuum chamber, but also all the time that the main vacuum pump with pins maintains a pressure defined (eg the final vacuum) in the enclosure by evacuating gases by its discharge.
  • the coupling of the main vacuum pump with pins and the auxiliary pump can be carried out without requiring measurements or specific devices (eg pressure, temperature, current sensors). , etc.), servos, data management and calculation. Therefore, the pumping system adapted for the implementation of the pumping method according to the present invention may comprise only a minimal number of components, be very simple and cost considerably less than existing systems.
  • the main vacuum pump pins can operate at a single constant speed, that of the electrical network, or rotate at variable speeds according to its own mode of operation. Therefore, the complexity and cost of the pumping system adapted for carrying out the pumping method according to the present invention can be further reduced.
  • the auxiliary pump integrated in the pumping system can still operate according to the pumping method according to the invention without suffering mechanical damage. Its dimensioning is conditioned by a minimum energy consumption for the operation of the device. Its nominal flow rate is chosen according to the volume of the exhaust duct between the main vacuum pump with pins and the non-return valve. This flow rate may advantageously be 1/500 to 1/20 of the nominal flow rate of the main vacuum pump with pins, but may also be less than or greater than these values, in particular from 1/500 to 1/10 or from 1 / 500 to 1 / 5u nominal flow rate of the main vacuum pump.
  • the non-return valve, placed in the duct downstream of the main vacuum pump pin can for example be a standard element commercially available but it is also conceivable to design an element dedicated to the specific application. It is dimensioned according to the nominal flow rate of the main vacuum pump with pins. In particular, it is expected that the check valve will close when the suction pressure of the main vacuum pump with pins is between 500 mbar absolute and the final vacuum (eg 100 mbar).
  • the auxiliary pump may be made of materials and / or coatings with high chemical resistance to substances and gases commonly used in the semiconductor industry.
  • the auxiliary pump is preferably small.
  • the auxiliary vacuum pump always pumps in the volume between the gas outlet discharge of the main vacuum pump with pins and the non-return valve.
  • the startup of the auxiliary vacuum pump is controlled "all or nothing".
  • the piloting therefore consists in measuring one or more parameters and according to certain rules, start the auxiliary vacuum pump or stop it.
  • the parameters provided by suitable sensors, are p. ex. the motor current of the main vacuum pump with pins, the temperature or the pressure of the gases at its discharge, that is to say in the volume upstream of the non-return valve in the discharge pipe, or a combination of these parameters.
  • the dimensioning of the auxiliary vacuum pump aims at a minimum energy consumption of its engine. Its nominal flow rate is chosen as a function of the flow rate of the main vacuum pump with pins, but also taking into account the volume that the gas evacuation duct delimits between the main vacuum pump and the non-return valve. This flow rate can be from 1/500 to 1/20 of the nominal flow rate of the main vacuum pump with pins, but may also be lower or higher than these values.
  • the pressure is high, for example equal to the atmospheric pressure. Due to compression in the main vacuum pump with pins, the pressure of the gases discharged at its outlet is higher than the atmospheric pressure (if the gases at the outlet of the main pump are discharged directly to the atmosphere) or higher than the pressure at the input of another device connected downstream. This causes the non-return valve to open.
  • the pressure at the outlet of the main vacuum pump with pins becomes that at the inlet of the auxiliary vacuum pump, that of its outlet always being the pressure in the duct after the non-return valve.
  • the more the pump with auxiliary vacuum pump the more the pressure at the outlet of the main vacuum pump with pins, in the volume limited by the non-return valve closed, is reduced and consequently the pressure difference between the enclosure and the output of the main vacuum pump with drop pins. This small difference reduces internal leakage in the main vacuum pump with pins and lowers the pressure in the enclosure, which improves the final vacuum.
  • main lug vacuum pump consumes less and less energy for compression and produces less and less compression heat.
  • FIG. 1 schematically shows a pumping system adapted for carrying out a pumping method according to a first embodiment of the present invention
  • FIG. 2 schematically shows a pumping system adapted for carrying out a pumping method according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 represents a pump system SP for generating a vacuum, which is adapted for implementing a pumping method according to a first embodiment of the present invention.
  • This pumping system SP comprises an enclosure 1, which is connected to the suction 2 of a main vacuum pump constituted by a pin pump 3.
  • the outlet gas outlet of the main vacuum pump pins 3 is connected 5.
  • a discharge non-return valve 6 is placed in the discharge pipe 5, which after this non-return valve continues in the gas outlet pipe 8.
  • the non-return valve 6, when it is closed, allows the formation of a volume 4, between the gas outlet discharge of the main vacuum pump with pins 3 and himself.
  • the pumping system SP also comprises the auxiliary vacuum pump 7, connected in parallel with the non-return valve 6.
  • the suction of the auxiliary vacuum pump is connected to the volume 4 of the exhaust pipe 5 and its delivery is connected to the leads 8.
  • the auxiliary vacuum pump 7 is started up as well.
  • the main vacuum pump with pins 3 draws the gases into the chamber 1 through the duct 2 connected to its inlet and compresses them to discharge them thereafter as it leaves the evacuation duct 5 via the non-return valve 6
  • the closing pressure of the non-return valve 6 is reached, it closes.
  • the pumping of the auxiliary vacuum pump 7 gradually lowers the pressure in the volume 4 to the value of its limit pressure.
  • the power consumed by the main vacuum pump pins 3 gradually decreases. This occurs in a short period of time, for example for a certain cycle in 5 to 10 seconds depending on the ratio between the volume 4 and the nominal flow rate of the auxiliary vacuum pump 7, but can also last longer.
  • the auxiliary vacuum pump 7 can be another pin pump, a screw-type dry pump, a multi-stage Roots pump, a diaphragm pump, a dry vane pump, a vacuum pump. lubricated pallets or even an ejector.
  • the ejector may be either a "simple" ejector in the sense that the flow of its propellant comes from a distribution network on the industrial site or is equipped with a compressor that provides the ejector the flow of propellant gas at the pressure necessary for its operation. More specifically, this compressor can be driven by the main pump or, alternatively or addition, independently, independent of the main pump. This compressor can draw atmospheric air or gases into the gas outlet duct after the non-return valve. The presence of such a compressor makes the pump system independent of a source of compressed gas, which can meet certain industrial environments.
  • FIG. 2 represents an SPP pumping system adapted for the implementation of a pumping method according to a second embodiment of the present invention.
  • the system represented in FIG. 2 represents the controlled pumping system SPP, furthermore comprising suitable sensors 1 1, 12, 13 which control either the motor current (sensor 1 1) of the main vacuum pump with pins 3, ie the pressure (sensor 13) of the gases in the volume of the outlet duct of the main vacuum pump with pins, limited by the non-return valve 6, or the temperature (sensor 12) gases in the volume of the outlet duct of the main vacuum pump pins, limited by the non-return valve 6, a combination of these parameters.
  • suitable sensors 1 1, 12, 13 which control either the motor current (sensor 1 1) of the main vacuum pump with pins 3, ie the pressure (sensor 13) of the gases in the volume of the outlet duct of the main vacuum pump with pins, limited by the non-return valve 6, or the temperature (sensor 12) gases in the volume of the outlet duct of the main vacuum pump pins, limited by the non-return valve 6, a combination of these parameters.
  • the main vacuum pump with pins 3 begins to pump the gases from the vacuum chamber 1, the parameters such as the current of its engine, the temperature and the pressure of the gases in the volume of the outlet duct 4 start to change and reach threshold values detected by the sensors. After a delay this causes the auxiliary vacuum pump 7 to start. When these parameters return to initial ranges (out of set points) with a delay, the auxiliary vacuum pump is stopped.
  • the auxiliary vacuum pump can also be of pin type, screw type, multi-stage Roots, diaphragm type, vane type, vane type or an ejector (without or with compressor supplying its propellant), as in the first embodiment of the invention of FIG.

Abstract

Système de pompage pour générer un vide (SP), comprenant une pompe à vide principale qui est une pompe à ergots (3) ayant une aspiration d'entrée des gaz (2) reliée à une enceinte à vide (1) et un refoulement de sortie des gaz (4) donnant dans un conduit (5) d'évacuation des gaz vers une sortie d'échappement des gaz (8) hors du système de pompage. Le système de pompage comprend un clapet anti-retour (6) positionné entre le refoulement de sortie des gaz (4) et la sortie d'échappement des gaz (8), et une pompe à vide auxiliaire (7) raccordée en parallèle du clapet anti-retour. La pompe à vide principale (3) est mise en marche afin de pomper les gaz contenus dans l'enceinte à vide (1) et de refouler ces gaz par son refoulement de sortie des gaz (4), simultanément la pompe à vide auxiliaire (7) est mise en marche et continue de pomper tout le temps que la pompe à vide principale (3) pompe les gaz contenus dans l'enceinte à vide (1) et/ou tout le temps que la pompe à vide principale (3) maintient une pression définie dans l'enceinte à vide (1).

Description

Système de pompage pour générer un vide et procédé de pompage au moyen de ce système de pompage
Domaine technique de l'invention
La présente invention se rapporte au domaine des techniques du vide. Plus précisément, elle concerne à un système de pompage comprenant au moins une pompe à ergots, ainsi qu'un procédé de pompage au moyen de ce système de pompage.
Art antérieur
Les objectifs généraux d'augmentation des performances des pompes à vide, de réduction des coûts des installations et de la consommation d'énergie dans les industries comme l'industrie chimique, l'industrie pharmaceutique, l'industrie du dépôt sous vide, l'industrie des semi-conducteurs, etc. ont conduit à des évolutions significatives en termes de performances, d'économie d'énergie, d'encombrement, dans les entraînements, etc.
L'état de la technique montre que pour améliorer le vide final, il faut par exemple ajouter des étages supplémentaires dans les pompes à vide de type Roots multi-étagées ou Claws (à ergots) multi-étagées. Pour les pompes à vide sèches de type à vis, il faut mettre des tours supplémentaires aux vis, et/ou augmenter le taux de compression interne.
La vitesse de rotation de la pompe joue un rôle très important, en définissant le fonctionnement de la pompe lors des différentes phases se succédant au cours du vidage de l'enceinte à vide. Avec les taux de compression interne des pompes disponibles sur le marché (dont l'ordre de grandeur se situe par exemple entre 2 et 20), la puissance électrique requise dans les premières phases de pompage, lorsque la pression à l'aspiration se trouve entre la pression atmosphérique et 100 mbar environ, c'est-à-dire lors de fonctionnement à débit massique fort, serait très élevée si la vitesse de rotation de la pompe ne pouvait être réduite. La solution triviale est d'utiliser un variateur de vitesse qui permet la réduction ou l'augmentation de la vitesse et par conséquent de la puissance en fonction des différents critères de type pression, courant maximal, couple limite, température, etc. Mais durant les périodes de fonctionnement en vitesse de rotation réduite il y a des baisses de débit à haute pression, le débit étant proportionnel à la vitesse de rotation. Aussi, la variation de vitesse par variateur de fréquence impose un coût et un encombrement supplémentaires.
Une autre solution triviale est l'utilisation des clapets de type by-pass à certains étages, dans les pompes à vide multi-étagées de type Roots ou à ergots (Claws), ou à certaines positions bien définies le long des vis, dans les pompes à vide sèches de type à vis. Cette solution nécessite de nombreuses pièces et présente des problèmes de fiabilité.
L'état de la technique concernant les systèmes de pompes à vide qui visent l'amélioration du vide final et l'augmentation du débit comprend typiquement des pompes booster de type Roots agencées en amont des pompes principales sèches. Ce type de systèmes est encombrant, fonctionne soit avec des clapets by-pass présentant des problèmes de fiabilité, soit en employant des moyens de mesure, contrôle, réglage ou asservissement. Cependant, ces moyens de contrôle, réglage ou asservissement doivent être pilotés d'une manière active, ce qui résulte forcément en une augmentation du nombre de composants du système, de sa complexité et de son coût.
Résumé de l'invention
La présente invention a pour but de permettre l'obtention d'un vide meilleur que celui (de l'ordre de 0.01 mbar) qu'une seule pompe à ergots est capable de générer dans une enceinte à vide.
La présente invention a aussi pour but de permettre l'obtention d'un débit de vidage qui soit supérieur à basse pression à celui qui peut être obtenu à l'aide d'une seule pompe à ergots lors d'un pompage pour réaliser un vide dans une enceinte à vide. La présente invention a également pour but de permettre une réduction de l'énergie électrique nécessaire pour le vidage d'une enceinte à vide et le maintien du vide, ainsi qu'une baisse de la température des gaz de sortie.
Ces buts de la présente invention sont atteints à l'aide d'un système de pompage pour générer un vide, comprenant une pompe à vide principale qui est une pompe à ergots ayant une aspiration d'entrée des gaz reliée à une enceinte à vide et un refoulement de sortie des gaz donnant dans un conduit d'évacuation des gaz vers une sortie d'échappement des gaz hors du système de pompage. Le système de pompage comprend en outre
- un clapet anti-retour positionné entre le refoulement de sortie des gaz et la sortie d'échappement des gaz, et
- une pompe à vide auxiliaire raccordée en parallèle du clapet antiretour.
La pompe à vide auxiliaire peut être de différents types, notamment une autre pompe à ergots, une pompe sèche de type à vis, une pompe de type Roots multi-étagé, une pompe à membrane, une pompe sèche à palettes, une pompe à palettes lubrifiées ou également un éjecteur à gaz.
L'invention a également pour objet un procédé de pompage au moyen d'un système de pompage tel que défini précédemment. Ce procédé comporte des étapes dans lesquelles :
- la pompe à vide principale est mise en marche afin de pomper les gaz contenus dans l'enceinte à vide et de refouler ces gaz par son refoulement de sortie des gaz ;
- de manière simultanée, la pompe à vide auxiliaire est mise en marche ; et
- la pompe à vide auxiliaire continue de pomper tout le temps que la pompe à vide principale pompe les gaz contenus dans l'enceinte à vide et/ou tout le temps que la pompe à vide principale maintient une pression définie dans l'enceinte à vide.
Dans le procédé selon l'invention, on fait fonctionner la pompe auxiliaire en continu tout le temps que la pompe à vide principale à ergots vide l'enceinte à vide, mais aussi tout le temps que la pompe à vide principale à ergots maintient une pression définie (p. ex. le vide final) dans l'enceinte en évacuant les gaz par son refoulement.
Grâce au procédé selon l'invention, le couplage de la pompe à vide principale à ergots et de la pompe auxiliaire peut se faire sans nécessiter de mesures ni d'appareils spécifiques (p. ex. de capteurs de pression, de température, de courant, etc.), ni d'asservissements, ni de gestion de données et sans calcul. Par conséquent, le système de pompage adapté pour la mise en œuvre de du procédé de pompage selon la présente invention peut ne comprendre qu'un nombre minimal de composants, présenter une grande simplicité et coûter nettement moins cher, par rapport aux systèmes existants.
Grâce au procédé selon l'invention, la pompe à vide principale à ergots peut fonctionner à une seule vitesse constante, celle du réseau électrique, ou bien tourner à des vitesses variables suivant son propre mode de fonctionnement. Par conséquent, la complexité et le coût du système de pompage adapté pour la mise en œuvre du procédé de pompage selon la présente invention peuvent être réduits davantage.
Par sa nature, la pompe auxiliaire intégrée dans le système de pompage peut toujours fonctionner suivant le procédé de pompage selon l'invention sans subir des dommages mécaniques. Son dimensionnement est conditionné par une consommation énergétique minimale pour le fonctionnement du dispositif. Son débit nominal est choisi en fonction du volume du conduit d'évacuation entre la pompe à vide principale à ergots et le clapet anti-retour. Ce débit peut être avantageusement de 1/500 à 1 /20 du débit nominal de la pompe à vide principale à ergots, mais peut aussi être inférieur ou supérieur à ces valeurs, notamment de 1 /500 à 1 /10 ou bien de 1 /500 à 1 /5u débit nominal de la pompe à vide principale. Le clapet anti-retour, placé dans le conduit en aval de la pompe à vide principale à ergots peut par exemple être un élément standard disponible dans le commerce mais il est également imaginable de concevoir un élément dédié à l'application spécifique. Il est dimensionné suivant le débit nominal de la pompe à vide principale à ergots. En particulier, il est prévu que le clapet antiretour se ferme quand la pression à l'aspiration de la pompe à vide principale à ergots se situe entre 500 mbar absolu et le vide final (p. ex. 100 mbar).
Selon encore une autre variante, la pompe auxiliaire peut être réalisée en matières et/ou avec des revêtements à résistance chimique élevée aux substances et gaz communément utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs.
La pompe auxiliaire est de préférence de petite taille.
De préférence, suivant le procédé de pompage employant le système de pompage selon l'invention, la pompe à vide auxiliaire pompe toujours dans le volume entre le refoulement de sortie des gaz de la pompe à vide principale à ergots et le clapet anti-retour.
Selon encore une autre variante du procédé de la présente invention, pour répondre à des exigences spécifiques, la mise en route de la pompe à vide auxiliaire est pilotée de manière « tout ou rien ». Le pilotage consiste donc à mesurer un ou plusieurs paramètres et suivant certaines règles mettre en route la pompe à vide auxiliaire ou l'arrêter. Les paramètres, fournis par des capteurs adéquats, sont p. ex. le courant du moteur de la pompe à vide principale à ergots, la température ou la pression des gaz à son refoulement, c'est-à- dire dans le volume en amont du clapet anti-retour dans le conduit d'évacuation, ou une combinaison de ces paramètres.
Le dimensionnement de la pompe à vide auxiliaire vise une consommation d'énergie minimale de son moteur. Son débit nominal est choisi en fonction du débit de la pompe à vide principale à ergots, mais aussi en prenant en compte le volume que le conduit d'évacuation des gaz délimite entre la pompe à vide principale et le clapet anti-retour. Ce débit peut être de 1 /500 à 1 /20 du débit nominal de la pompe à vide principale à ergots, mais peut aussi être inférieur ou supérieur à ces valeurs.
Au départ d'un cycle de vidage de l'enceinte, la pression y est élevée, par exemple égale à la pression atmosphérique. Vu la compression dans la pompe à vide principale à ergots, la pression des gaz refoulés à sa sortie est plus haute que la pression atmosphérique (si les gaz à la sortie de la pompe principale sont refoulés directement à l'atmosphère) ou plus haute que la pression à l'entrée d'un autre appareil connecté en aval. Cela provoque l'ouverture du clapet anti-retour.
Quand ce clapet anti-retour est ouvert, l'action de la pompe à vide auxiliaire est très faiblement ressentie, puisque la pression à son aspiration est presque égale à celle à son refoulement. En revanche, quand le clapet anti-retour se ferme à une certaine pression (parce que la pression dans l'enceinte a baissé entretemps), l'action de la pompe à vide auxiliaire provoque une réduction progressive de la différence de pression entre l'enceinte à vide et le conduit d'évacuation en amont du clapet.
La pression à la sortie de la pompe à vide principale à ergots devient celle à l'entrée de la pompe à vide auxiliaire, celle de sa sortie étant toujours la pression dans le conduit après le clapet anti-retour. Plus la pompe à vide auxiliaire pompe, plus la pression à la sortie de la pompe à vide principale à ergots, dans le volume limité par le clapet anti-retour fermé, se réduit et par conséquent la différence de pression entre l'enceinte et la sortie de la pompe à vide principale à ergots baisse. Cette faible différence réduit les fuites internes dans la pompe à vide principale à ergots et engendre une baisse de la pression dans l'enceinte, ce qui améliore le vide final.
De plus, la pompe à vide principale à ergots consomme de moins en moins d'énergie pour la compression et produit de moins en moins de chaleur de compression.
D'un autre côté, il est aussi évident que l'étude du concept mécanique cherche à réduire le volume entre le refoulement de sortie des gaz de la pompe à vide principale à ergots et le clapet anti-retour dans le but de pouvoir y faire baisser la pression plus vite.
Brève description des dessins
Les particularités et les avantages de la présente invention apparaîtront avec plus de détails dans le cadre de la description qui suit avec des exemples de réalisation donnés à titre illustratif et non limitatif en référence aux dessins ci-annexés qui représentent :
- la figure 1 représente de manière schématique un système de pompage adapté pour la réalisation d'un procédé de pompage selon un premier mode de réalisation de la présente invention ; et
- la figure 2 représente de manière schématique un système de pompage adapté pour la réalisation d'un procédé de pompage selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention.
Description détaillée des modes de réalisation de l'invention
La figure 1 représente un système de pompage SP pour générer un vide, qui est adapté pour la mise en œuvre d'un procédé de pompage selon un premier mode de réalisation de la présente invention.
Ce système de pompage SP comporte une enceinte 1 , laquelle est reliée à l'aspiration 2 d'une pompe à vide principale constituée par une pompe à ergots 3. Le refoulement de sortie des gaz de la pompe à vide principale à ergots 3 est relié à un conduit d'évacuation 5. Un clapet anti-retour de refoulement 6 est placé dans le conduit d'évacuation 5, qui après ce clapet anti-retour continue en conduit de sortie des gaz 8. Le clapet anti-retour 6, lorsqu'il est fermé, permet la formation d'un volume 4, compris entre le refoulement de sortie des gaz de la pompe à vide principale à ergots 3 et lui-même. Le système de pompage SP comporte aussi la pompe à vide auxiliaire 7, branchée en parallèle au clapet anti-retour 6. L'aspiration de la pompe à vide auxiliaire est reliée au volume 4 du conduit d'évacuation 5 et son refoulement est relié au conduit 8.
Dès la mise en route de la pompe à vide principale à ergots 3, la pompe à vide auxiliaire 7 est mise en route elle-aussi. La pompe à vide principale à ergots 3 aspire les gaz dans l'enceinte 1 par le conduit 2 branché à son entrée et les comprime pour les refouler par la suite à sa sortie dans le conduit d'évacuation 5 par le clapet anti-retour 6. Lorsque la pression de fermeture du clapet anti-retour 6 est atteinte, il se ferme. A partir de ce moment le pompage de la pompe à vide auxiliaire 7 fait baisser progressivement la pression dans le volume 4 jusqu'à la valeur de sa pression limite. En parallèle, la puissance consommée par la pompe à vide principale à ergots 3 baisse progressivement. Cela se produit en un court laps de temps, par exemple pour un certain cycle en 5 à 10 secondes en fonction du rapport entre le volume 4 et le débit nominal de la pompe à vide auxiliaire 7, mais peut durer aussi plus longtemps.
Avec un ajustement judicieux du débit de la pompe à vide auxiliaire 7 et de la pression de fermeture du clapet anti-retour 6 en fonction du débit de la pompe à vide principale à ergots 3 et du volume de l'enceinte 1 , il est en outre possible de réduire le temps avant la fermeture du clapet anti-retour 6 par rapport à la durée du cycle de vidage et donc réduire la quantité d'énérgie consommée pendant ce temps de fonctionnement de pompe auxiliaire 7, avec l'avantage de la simplicité et de la fiabilité du système.
Selon les différentes possibilités de combinaison, la pompe à vide auxiliaire 7 peut être une autre pompe à ergots, une pompe sèche de type à vis, une pompe Roots multi-étagée, une pompe à membrane, une pompe sèche à palettes, une pompe à palettes lubrifiée ou même un éjecteur. Dans ce dernier cas, l'éjecteur peut être soit un éjecteur « simple » dans le sens que le débit de son gaz propulseur vient d'un réseau de distribution sur le site industriel, soit muni d'un compresseur qui fournit à l'éjecteur le débit de gaz propulseur à la pression nécessaire pour son fonctionnement. Plus spécifiquement, ce compresseur peut être entraîné par la pompe principale ou, alternativement ou en addition, de manière autonome, indépendante de la pompe principale. Ce compresseur peut aspirer l'air atmosphérique ou des gaz dans le conduit de sortie de gaz après le clapet anti-retour. La présence d'un tel compresseur rend le système de pompes indépendant d'une source de gaz comprimé, ce qui peut répondre à certains environnements industriels.
La figure 2 représente un système de pompage SPP adapté pour la mise en œuvre d'un procédé de pompage selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention.
Par rapport au système montré à la figure 1 , le système représenté à la figure 2 représente le système de pompage piloté SPP, comprenant en outre des capteurs adéquats 1 1 , 12, 13 qui contrôlent soit le courant du moteur (capteur 1 1 ) de la pompe à vide principale à ergots 3, soit la pression (capteur 13) des gaz dans le volume du conduit de sortie de la pompe à vide principale à ergots, limité par le clapet anti-retour 6, soit la température (capteur 12) des gaz dans le volume du conduit à sortie de la pompe à vide principale à ergots, limité par le clapet anti-retour 6, soit une combinaison de ces paramètres. En effet, quand la pompe à vide principale à ergots 3 commence à pomper les gaz de l'enceinte à vide 1 les paramètres tels le courant de son moteur, la température et la pression des gaz dans le volume du conduit de sortie 4 commencent à se modifier et atteignent des valeurs de seuil détectées par les capteurs. Après une temporisation cela provoque la mise en marche de la pompe à vide auxiliaire 7. Quand ces paramètres repassent dans des plages initiales (hors consignes) avec une temporisation la pompe à vide auxiliaire est arrêtée.
Dans le deuxième mode de réalisation de l'invention de la figure 2, la pompe à vide auxiliaire peut aussi être de type à ergots, de type sèche à vis, Roots multi-étagé, à membrane, sèche à palettes, à palettes lubrifiées ou un éjecteur (sans ou avec compresseur fournissant son gaz propulseur), comme dans le premier mode de réalisation de l'invention de la figure 1 .
Bien que divers modes de réalisation aient été décrits, on comprend bien qu'il n'est pas concevable d'exposer de manière exhaustive tous les modes de réalisation possibles. Il est bien sûr envisageable de remplacer un moyen décrit par un moyen équivalent sans sortir du cadre de la présente invention. Toutes ces modifications font partie des connaissances communes d'un homme du métier dans le domaine de la technologie du vide.

Claims

Revendications
1 . Système de pompage pour générer un vide (SP), comprenant une pompe à vide principale qui est une pompe à ergots (3) ayant une aspiration d'entrée des gaz (2) reliée à une enceinte à vide (1 ) et un refoulement de sortie des gaz (4) donnant dans un conduit (5) d'évacuation des gaz vers une sortie d'échappement des gaz (8) hors du système de pompage, le système de pompage étant caractérisé en ce qu'il comprend
- un clapet anti-retour (6) positionné entre le refoulement de sortie des gaz (4) et la sortie d'échappement des gaz (8), et
- une pompe à vide auxiliaire (7) raccordée en parallèle du clapet anti-retour.
2. Système de pompage selon la revendication 1 , caractérisé en ce que la pompe à vide auxiliaire (7) est choisie parmi une pompe sèche à vis, une pompe à ergots, une pompe Roots multi-étagée, une pompe à membrane, une pompe sèche à palettes, une pompe à palettes lubrifiée et un éjecteur à gaz.
3. Système de pompage selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que la pompe à vide auxiliaire (7) est une pompe sèche à vis.
4. Système de pompage selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que la pompe à vide auxiliaire (7) est une pompe à ergots.
5. Système de pompage selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que la pompe à vide auxiliaire (7) est une pompe Roots multi-étagée.
6. Système de pompage selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que la pompe à vide auxiliaire (7) est une pompe à membrane.
7. Système de pompage selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que la pompe à vide auxiliaire (7) est une pompe sèche à palettes.
8. Système de pompage selon l'une quelconque des revendications
1 et 2, caractérisé en ce que la pompe à vide auxiliaire (7) est une pompe à palettes lubrifiée.
9. Système de pompage selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que la pompe à vide auxiliaire (7) est un éjecteur.
10. Système de pompage selon la revendication 9, caractérisée en ce que le fluide moteur de l'éjecteur (7) est de l'air comprimé et/ou de l'azote.
1 1 . Système de pompage selon la revendication 9 ou 10, caractérisée en ce que le débit de gaz à la pression nécessaire pour le fonctionnement de l'éjecteur (7) est fourni par un compresseur.
12. Système de pompage selon la revendication 1 1 , caractérisée en ce que le compresseur est entraîné par la pompe principale (3).
13. Système de pompage selon la revendication 1 1 , caractérisée en ce que le compresseur est entraîné de manière autonome, indépendante de la pompe principale.
14. Système de pompage selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la pompe à vide auxiliaire (7) est agencée pour pouvoir pomper tout le temps que la pompe à vide principale (3) pompe les gaz contenus dans l'enceinte à vide (1 ) et/ou tout le temps que la pompe à vide principale (3) maintient une pression définie dans l'enceinte à vide (1 ).
15. Système de pompage selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la pompe à vide auxiliaire (7) comporte un refoulement qui est raccordé en aval du clapet anti-retour (6), au conduit d'évacuation des gaz (5).
1 6. Système de pompage selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le débit nominal de la pompe à vide auxiliaire (7) est choisi en fonction du volume que le conduit d'évacuation des gaz (5) délimite entre la pompe à vide principale (3) et le clapet anti-retour (6).
17. Système de pompage selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le débit nominal de la pompe à vide auxiliaire (7) est de 1 /500 à 1 /5 du débit nominal de la pompe à vide principale (3).
18. Système de pompage selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que pompe à vide auxiliaire (7) est mono-étagée ou multi-étagée.
19. Système de pompage selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le clapet anti-retour (6) est configuré pour se fermer quand la pression à l'aspiration de la pompe à vide principale (3) est inférieure à 500 mbar absolu.
20. Système de pompage selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que pompe à vide auxiliaire (7) est fabriquée en matières à résistance chimique élevée aux substances et gaz communément utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs.
21 . Procédé de pompage au moyen d'un système de pompage (SP) selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que
- la pompe à vide principale (3) est mise en marche afin de pomper les gaz contenus dans l'enceinte à vide (1 ) et de refouler ces gaz par son refoulement de sortie des gaz (4) ; - de manière simultanée, la pompe à vide auxiliaire (7) est marche ; et
- la pompe à vide auxiliaire (7) continue de pomper tout le temps que la pompe à vide principale (3) pompe les gaz contenus dans l'enceinte à vide (1 ) et/ou tout le temps que la pompe à vide principale (3) maintient une pression définie dans l'enceinte à vide (1 ).
22. Procédé de pompage selon la revendication 16, caractérisée en ce que la pompe à vide auxiliaire (7) pompe un débit de l'ordre de 1/500 à 1 /20 du débit nominal de la pompe à vide principale (3).
23. Procédé de pompage selon l'une quelconque des revendications 16 et 17, caractérisée en ce que le clapet anti-retour (6) se ferme quand la pression à l'aspiration de la pompe à vide principale (3) est inférieure à 500 mbar absolu.
24. Procédé de pompage selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que la pompe à vide auxiliaire (7) est un éjecteur.
25. Procédé de pompage selon la revendication 24 caractérisée en ce que le débit de gaz à la pression nécessaire pour le fonctionnement de l'éjecteur (7) est fourni par un compresseur.
26. Procédé de pompage selon la revendication 25, caractérisée en ce que le compresseur est entraîné par la pompe principale (3).
27. Procédé de pompage selon la revendication 25, caractérisée en ce que le compresseur est entraîné de manière autonome, indépendante de la pompe principale.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2943315C (fr) * 2014-03-24 2021-09-21 Ateliers Busch Sa Methode de pompage dans un systeme de pompes a vide et systeme de pompes a vide
US10041495B2 (en) * 2015-12-04 2018-08-07 Clay Valley Holdings Inc. High volume vacuum pump for continuous operation
CN108533494B (zh) * 2018-06-19 2024-02-20 浙江维朋制冷设备有限公司 一种真空泵
FR3097599B1 (fr) * 2019-06-18 2021-06-25 Pfeiffer Vacuum Pompe à vide primaire de type sèche et procédé de contrôle de l’injection d’un gaz de purge
JP2023511645A (ja) * 2019-12-04 2023-03-22 アテリエ ビスク ソシエテ アノニム 冗長ポンプシステム及びこのポンプシステムによる圧送方法
JP2021110315A (ja) * 2020-01-15 2021-08-02 株式会社アルバック 補助ポンプ制御装置、および、真空ポンプシステム

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE8816875U1 (fr) * 1987-12-21 1991-04-11 Werner Rietschle Maschinen- Und Apparatebau Gmbh, 7860 Schopfheim, De
DE3842886A1 (de) * 1987-12-21 1989-07-06 Rietschle Masch App Vakuumpumpstand
FR2647853A1 (fr) * 1989-06-05 1990-12-07 Cit Alcatel Pompe primaire seche a deux etages
SU1756637A1 (ru) * 1990-12-14 1992-08-23 Сморгонский завод оптического станкостроения Вакуумна откачна система
FR2822200B1 (fr) * 2001-03-19 2003-09-26 Cit Alcatel Systeme de pompage pour gaz a faible conductivite thermique
KR100876318B1 (ko) * 2001-09-06 2008-12-31 가부시키가이샤 아루박 진공배기장치 및 진공배기장치의 운전방법
US6589023B2 (en) * 2001-10-09 2003-07-08 Applied Materials, Inc. Device and method for reducing vacuum pump energy consumption
JP4365059B2 (ja) * 2001-10-31 2009-11-18 株式会社アルバック 真空排気装置の運転方法
SE519647C2 (sv) * 2002-05-03 2003-03-25 Piab Ab Vakuumpump och sätt att tillhandahålla undertryck
JP2004263635A (ja) * 2003-03-03 2004-09-24 Tadahiro Omi 真空装置および真空ポンプ
WO2007010851A1 (fr) * 2005-07-21 2007-01-25 Nabtesco Corporation Système à vide et procédé d'exploitation correspondant
JP4745779B2 (ja) * 2005-10-03 2011-08-10 神港精機株式会社 真空装置
TWI467092B (zh) * 2008-09-10 2015-01-01 Ulvac Inc 真空排氣裝置
FR2952683B1 (fr) * 2009-11-18 2011-11-04 Alcatel Lucent Procede et dispositif de pompage a consommation d'energie reduite
FR2993614B1 (fr) * 2012-07-19 2018-06-15 Pfeiffer Vacuum Procede et dispositif de pompage d'une chambre de procedes
DE102012220442A1 (de) * 2012-11-09 2014-05-15 Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh Vakuumpumpensystem zur Evakuierung einer Kammer sowie Verfahren zur Steuerung eines Vakuumpumpensystems

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