EP2143306A1 - Elektrode für plasmaerzeuger - Google Patents

Elektrode für plasmaerzeuger

Info

Publication number
EP2143306A1
EP2143306A1 EP08718192A EP08718192A EP2143306A1 EP 2143306 A1 EP2143306 A1 EP 2143306A1 EP 08718192 A EP08718192 A EP 08718192A EP 08718192 A EP08718192 A EP 08718192A EP 2143306 A1 EP2143306 A1 EP 2143306A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
electrode
slot
electrode according
plasma
closed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
EP08718192A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP2143306B1 (de
Inventor
Roland Gesche
Andreea Cristina Andrei
Stephan Buchholz
Silvio Kuehn
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Forschungsverbund Berlin FVB eV
Original Assignee
Forschungsverbund Berlin FVB eV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Forschungsverbund Berlin FVB eV filed Critical Forschungsverbund Berlin FVB eV
Publication of EP2143306A1 publication Critical patent/EP2143306A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP2143306B1 publication Critical patent/EP2143306B1/de
Not-in-force legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • H05H1/461—Microwave discharges
    • H05H1/463—Microwave discharges using antennas or applicators
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2240/00—Testing
    • H05H2240/10—Testing at atmospheric pressure
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2245/00—Applications of plasma devices
    • H05H2245/30—Medical applications
    • H05H2245/34—Skin treatments, e.g. disinfection or wound treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2277/00—Applications of particle accelerators
    • H05H2277/10—Medical devices
    • H05H2277/11—Radiotherapy

Definitions

  • the invention relates to an electrode for a plasma generator for generating plasmas at atmospheric pressure or atmospheric pressures by excitation with microwaves.
  • Plasmas are used in many sedimentation, etching and layering processes.
  • vacuum-operated plasma reactors Apart from the costs associated with vacuum-operated plasma reactors, the use of vacuum is often prohibitive in this area, so the use of plasma at atmospheric pressure is a prerequisite. Treatment of vacuum-sensitive materials such as certain polymers or delicate foods is also possible with low temperature plasmas at atmospheric or near-atmospheric pressure. For the plasma generator power supplies must be kept at high power, the high power is only needed for ignition.
  • the invention has for its object to provide an electrode for a plasma generator, which ignites safely especially in the near-atmospheric pressure range at low power and is able to generate a plasma with sufficiently high density, so that a penetrating gas flow is activated with high efficiency.
  • the electrode consists of a metal strip, in the longitudinal direction of at least one slot is introduced with a length which is one or more times a quarter of the wavelength of the open circuit voltage of the microwave, so that form at least two partial electrodes, the voltage supply to the sub-electrodes in the region of or closed slot ends takes place.
  • the electrode according to the invention taking into account the excitation frequency during idling, there is a geometrical point of high field strength at which the plasma ignites.
  • the field distribution in the electrode structure changes as a result of the plasma impedance, and the plasma migrates to another location or widens within the electrode slot and spreads out in a larger volume.
  • the structure of the electrode exploits frequency-dependent, resonant properties of the structure and generates at a defined location a high electric field strength, at which the ignition of the plasma is made possible.
  • the strong field typically results from at least two electrodes that are physically close to each other. If electric power in the form of microwaves is introduced into the structure at a suitable point, a high alternating potential difference arises at the end of the slot. Due to the short distance between the opposing electrodes, the resulting field strength is very high. At the point of the highest electric field, the ignition of a plasma at atmospheric pressure or at atmospheric pressure is possible with sufficiently high feed power. After ignition, only a fraction of the required ignition power is required to operate.
  • the frequency of the feed-in power depends on the physical dimensions of the electrode. In particular, the length of the slot has a significant influence on the frequency and is approximately the multiple of the quarter wavelength.
  • the feed takes place in the case of a unilaterally open slot, for example by a coaxial line, wherein the Inner conductor is guided on one side of the slot to the point in which there is approximately in idle adjustment.
  • the electrode is in this case U-shaped or bent circular.
  • the feed takes place in the latter case, for example, by a coaxial line, wherein the inner conductor branches T-shaped and is guided on both sides in the region of the two slot ends to the electrode.
  • the electrode is expediently surrounded by a shielding housing in which there is an opening for feeding and a further opening for removing the process gases activated by the plasma.
  • the openings should be of such size that the radiation of microwave energy remains within the permissible range.
  • the electrode is preferably powered by a free-running oscillator circuit, the electrode itself being the frequency-determining element.
  • the oscillator circuit can be constructed integrated with the electrode.
  • the electrode may be preferred for medical treatment purposes, but especially for the treatment of human skin be used for modifying the surface energy of workpieces or for plasma-chemical deposition of layers.
  • Fig. 2 shows an example of a closed design of an electrode of a resonator
  • Fig. 3 embedded the resonator of FIG. 2 in a housing.
  • Fig. 1 shows an example of a resonator of a plasma generator.
  • a slot 2 is introduced in a metal strip 1, which serves as an electrode.
  • the slot 2 separates the sheet metal strip 1 into two sub-electrodes 3, which generate a high electric field strength during operation with a high-frequency voltage which is conducted via the inner conductor 4 of a coaxial line 5 to the sheet metal strip 1.
  • the slot 2 is typically ⁇ / 4 long. In a real running design for a supply voltage with a frequency of 2 GHz, this resulted in a slot 2 of 37.5 mm. Its width was 0.1 mm.
  • the inner conductor 4 of the coaxial line 5 is guided in the region of the slot end to the outside edge of the metal strip 1, to a point at the resonance is generated with an oscillator.
  • the outer conductor 6 of the coaxial line 5 is guided on the opposite side of the metal strip 1 at its outer edge.
  • Fig. 2 shows an electrode of a U-shaped bent sheet metal strip 1 with a slot 2.
  • the slot 2 is in this case ⁇ / 2 long.
  • the inner conductor 4 of the coaxial line 5 is branched in a T-shape and guided on the two opposite sides of the sheet metal strip 1 in the region of the slot end.
  • the outer conductor 6 is connected to the opposite sides of the sheet metal strip 1.
  • the highest field strength arises in the middle of the slot 2, that is to say at the front edge of the metal strip 1. After ignition of the plasma at this point, the plasma expands at least over the entire area of the front edge of the sheet metal strip 1.
  • Fig. 3 shows schematically the structure of a completed by a housing 7 resonator.
  • the housing 7 (shown here in the quasi-open state) has a reflective effect and thus prevents electromagnetic radiation to the outside.
  • a gas feed line 8 is provided in the rear housing wall and a slot-shaped gas outlet 9 is provided in the front wall.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Description

Elektrode für Plasmaerzeuger
Die Erfindung betrifft eine Elektrode für einen Plasmaerzeu- ger zur Erzeugung von Plasmen bei Atmosphärendruck oder atmosphärennahen Drücken durch Anregung mit Mikrowellen.
Plasmen werden bei vielen Sedimentations-, Ätz- und Schichtbildungsprozessen eingesetzt.
Jüngste Bestrebungen gehen dahin, geeignete Niedertemperaturplasmen auch unter Nichtvakuum-Bedingungen zu erzeugen. Derartige Reaktoren arbeiten mit Corona-Entladungen oder Glimmentladungen. Eine Übersicht über solche Plasmaerzeuger findet sich in Laroussi, Nonthermal Decontamination of Biological Media by Atmospheric-Pressure Plasmas: Review, Analysis, and Prospects, IEEE Transactions on Plasma Science, Vol. 30, No. 4, August 2002, S. 1409-1415 oder auch in Schütze et al . , The Atmospheric-Pressure Plasma Jet: A Review and Comparison to Other Plasma Sources, a.a.O., Vol. 26, No. 6, December 1998. Die hier beschriebenen Plasmareaktoren sollen u. a. für biologische und medizinische Zwecke eingesetzt werden. Abgesehen von den Kosten, die bei Plasmareaktoren entstehen, die unter Vakuum arbeiten, verbietet sich in diesem Bereich oftmals die Anwendung von Unterdruck, so dass hier die Anwendung von Plasma bei Atmosphärendruck eine Voraussetzung ist. Auch eine Behandlung von vakuumempfindlichen Materialien wie bestimmte Polymere oder von empfindlichen Lebensmitteln wird mit Nieder- temperaturplasmen bei atmosphärischem oder atmosphärennahem Druck möglich. Für die Plasmaerzeuger müssen Stromversorgungen mit hoher Leistung bereitgehalten werden, wobei die hohe Leistung nur zur Zündung benötigt wird.
Für den Elektrodenabstand muss immer ein Kompromiss zwischen dem Zündverhalten und dem stabilen Plasmabetrieb geschlossen werden. Für die Zündung optimale kleine Elektrodenabstände führen zu sehr kleinen Plasmavolumina und hoher Punktbelastung der Elektroden. Größere Elektrodenabstände führen zu ex- trem hohen Zündspannungen und instabilem Plasmaverhalten.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Elektrode für einen Plasmaerzeuger anzugeben, die insbesondere im atmosphärennahen Druckbereich bei kleinen Leistungen sicher zündet und ein Plasma mit genügend hoher Dichte zu generieren vermag, sodass ein durchdringender Gasstrom mit hoher Effizienz aktiviert wird.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe gelöst durch eine Elektrode mit den Merkmalen des Anspruchs 1. Zweckmäßige Ausgestaltungen sind Gegenstand der Unteransprüche.
Danach besteht die Elektrode aus einem Blechstreifen, in dessen Längsrichtung mindestens ein Schlitz mit einer Länge ein- gebracht ist, die das Ein- oder Mehrfache eines Viertels der Wellenlänge der LeerlaufSpannung der Mikrowelle beträgt, so dass sich mindestens zwei Teilelektroden bilden, wobei die Spannungszuleitung an die Teilelektroden im Bereich des oder der geschlossenen Schlitzenden erfolgt. Bei der erfindungsgemäßen Elektrode gibt es unter Berücksichtigung der Anregungsfrequenz im Leerlauf einen geometrischen Punkt hoher Feldstärke, an dem das Plasma zündet. Bei gezündetem Plasma verändert sich durch die Plasmaimpedanz die Feldverteilung in der Elektrodenstruktur und das Plasma wandert an einen anderen Ort bzw. verbreitert sich innerhalb des Elektrodenschlitzes und breitet sich in einem größeren Volumen aus .
Die Struktur der Elektrode nutzt frequenzabhängige, resonante Eigenschaften des Aufbaues aus und generiert an definierter Stelle eine hohe elektrische Feldstärke, an der die Zündung des Plasmas ermöglicht wird. Das starke Feld entsteht typischerweise an mindestens zwei Elektroden die sich physika- lisch nah gegenüber stehen. Wird nun elektrische Leistung in Form von Mikrowellen an geeigneter Stelle in die Struktur eingebracht, entsteht am Ende des Schlitzes eine hohe alternierende Potentialdifferenz. Durch den geringen Abstand der sich gegenüberstehenden Elektroden ist die resultierende Feldstärke sehr hoch. An der Stelle des höchsten elektrischen Feldes ist, bei genügend hoher Speiseleistung, die Zündung eines Plasmas bei Atmosphärendruck bzw. bei atmosphärennahem Druck möglich. Nach erfolgter Zündung ist zum Betrieb nur ein Bruchteil der erforderlichen Zündleistung nötig. Die Frequenz der Einspeiseleistung ist abhängig von den physikalischen Dimensionen der Elektrode. Besonders die Länge des Schlitzes hat maßgeblichen Einfluss auf die Frequenz und beträgt in etwa das Vielfache der Viertelwellenlänge.
Die Einspeisung erfolgt im Fall eines einseitig offenen Schlitzes zum Beispiel durch eine Koaxialleitung, wobei der Innenleiter an einer Seite des Schlitzes an die Stelle geführt ist, bei der im Leerlauf in etwa Anpassung herrscht.
Auch Aufbauten mit beidseitig geschlossenem Schlitz sind nach diesem Prinzip möglich. Das höchste elektrische Feld und somit auch das Plasma entstehen dann in der Mitte des Schlitzes. Zweckmäßig ist die Elektrode in diesem Fall U-förmig o- der kreisförmig gebogen.
Die Einspeisung erfolgt im letztgenannten Fall zum Beispiel durch eine Koaxialleitung, wobei der Innenleiter sich T- förmig verzweigt und auf beiden Seiten im Bereich der beiden Schlitzenden an die Elektrode geführt ist.
Zum Beispiel für die Behandlung von Prozessgasen ist die Elektrode zweckmäßig von einem Abschirmgehäuse umgeben, in dem sich eine Öffnung zum Zuführen und eine weitere Öffnung zum Herausführen der vom Plasma aktivierten Prozessgase befindet. Die Öffnungen sollten eine solche Größe haben, dass die Abstrahlung von Mikrowellenenergie im zulässigen Bereich bleibt.
Die Elektrode wird in bevorzugter Weise von einer freilaufenden Oszillatorschaltung versorgt, wobei die Elektrode selbst das die Frequenz bestimmende Element darstellt. Die Oszillatorschaltung kann mit der Elektrode integriert aufgebaut werden .
Die Elektrode kann bevorzugt für medizinische Behandlungszwe- cke, insbesondere die Behandlung menschlicher Haut, aber auch zur Modifizierung der Oberflächenenergie von Werkstücken oder zur plasmachemischen Abscheidung von Schichten eingesetzt werden .
Die Erfindung soll nachstehend anhand zweier Ausführungsbeispiele näher erläutert werden. In den zugehörigen Zeichnungen zeigen
Fig. 1 ein Beispiel für eine erfindungsgemäße Elektrode eines Resonators,
Fig. 2 ein Beispiel für eine geschlossene Bauform einer Elektrode eines Resonators und
Fig. 3 den Resonator gemäß Fig. 2 in ein Gehäuse eingebettet.
Fig. 1 zeigt ein Beispiel für einen Resonator eines Plasmaerzeugers. In einen Blechstreifen 1, der als Elektrode dient, ist ein Schlitz 2 eingebracht. Der Schlitz 2 trennt den Blechstreifen 1 in zwei Teilelektroden 3 auf, die beim Betrieb mit einer hochfrequenten Spannung, die über den Innenleiter 4 einer Koaxialleitung 5 an den Blechstreifen 1 geführt wird, eine hohe elektrische Feldstärke erzeugen. Der Schlitz 2 ist typischerweise λ/4 lang. Bei einer real ausgeführten Ausführung für eine Versorgungsspannung mit einer Frequenz von 2 GHz ergab sich damit ein Schlitz 2 von 37,5 mm. Seine Breite betrug 0,1 mm. Der Innenleiter 4 der Koaxialleitung 5 ist im Bereich des Schlitzendes an den Außerrand des Blechstreifens 1 geführt, an einen Punkt, an dem Resonanz mit einem Oszillator erzeugt wird. Der Außenleiter 6 der Koaxialleitung 5 ist an der gegenüberliegenden Seite des Blechstreifens 1 an dessen Außenrand geführt.
Nach Anlegen der Versorgungsspannung entsteht am Schlitzende eine hohe Feldstärke, die zum Zünden eines Plasmas bei Atmosphärendruck reicht. Nach dem Zünden bewegt sich das Plasma in den Schlitz 2 hinein und vergrößert sein Volumen, wobei es ein stabiles Verhalten zeigt.
Fig. 2 zeigt eine Elektrode aus einem U-förmig gebogenen Blechstreifen 1 mit einem Schlitz 2. Der Schlitz 2 ist in diesem Fall λ/2 lang. Der Innenleiter 4 der Koaxialleitung 5 wird T-förmig verzweigt und an die zwei sich gegenüberstehenden Seiten des Blechstreifens 1 im Bereich des Schlitzendes geführt. Der Außenleiter 6 wird mit den gegenüberliegenden Seiten des Blechstreifens 1 verbunden. Die höchste Feldstärke entsteht bei dieser Ausführungsform in der Mitte des Schlit- zes 2, das heißt an der Vorderkante des Blechstreifens 1. Nach dem Zünden des Plasmas an dieser Stelle dehnt sich das Plasma mindestens auf den gesamten Bereich der Vorderkante des Blechstreifens 1 aus.
Fig. 3 zeigt schematisch den Aufbau eines durch ein Gehäuse 7 komplettierten Resonators. Das Gehäuse 7 (hier im quasi geöffneten Zustand dargestellt) wirkt reflektierend und unterbindet so eine elektromagnetische Abstrahlung nach außen. Um mit diesem Plasmaerzeuger ein Prozessgas zu behandeln, ist in der hinteren Gehäusewand eine Gaszuleitung 8 und in der Vorderwand eine schlitzförmige Gasausleitung 9 vorgesehen. Bezugszeichenliste
1 Blechstreifen
2 Schlitz
3 Teilelektrode
4 Innenleiter 5 KoaxialIeitung
6 Außenleiter
7 Gehäuse
8 Gaszuleitung
9 Gasausleitung

Claims

Patentansprüche
1. Elektrode für einen Plasmaerzeuger zur Erzeugung von Plasmen bei Atmosphärendruck oder atmosphärennahen Drücken durch Anregung mit Mikrowellen, dadurch gekennzeichnet, dass sie aus einem Blechstreifen (1) besteht, in dessen Längsrich- tung mindestens ein Schlitz (2) mit einer Länge eingebracht ist, die das Ein- oder Mehrfache eines Viertels der Wellenlänge der LeerlaufSpannung der Mikrowelle beträgt, so dass sich mindestens zwei Teilelektroden (3) bilden, wobei die Spannungszuleitung an die Teilelektroden (3) im Bereich des oder der geschlossenen Schlitzenden erfolgt.
2. Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Schlitz (2) an seinem einen Ende geschlossen, am anderen Ende offen ist.
3. Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Schlitz (2) an beiden Seiten geschlossen ist.
4. Elektrode nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass sie U-förmig gebogen ist.
5. Elektrode nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass sie kreisförmig gebogen ist.
6. Elektrode nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass sie durch eine koaxiale Einspeisung (5) versorgt wird, wobei der Innenleiter (4) an einer Seite des Schlitzes (2) an die Stelle geführt ist, bei der im Leerlauf in etwa Anpassung herrscht .
7. Elektrode nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass sie durch eine koaxiale Einspeisung (5) versorgt wird, wobei der Innenleiter (4) sich T-förmig verzweigt und auf beiden Seiten im Bereich der beiden Schlitzenden an die Elektrode geführt ist.
8. Elektrode nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sie von einem Abschirmgehäuse (7) umgeben ist.
9. Elektrode nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass sich in dem Abschirmgehäuse (7) eine Öffnung zum Zuführen von Prozessgasen und eine weitere Öffnung zum Herausführen der vom Plasma aktivierten Prozessgase befindet.
10. Elektrode nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sie von einer freilaufenden Oszillatorschaltung versorgt ist, wobei die Elektrode selbst das die Frequenz bestimmende Element darstellt.
11. Elektrode nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sie zusammen mit einer Oszillatorschaltung integriert ist.
EP08718192A 2007-04-27 2008-03-25 Elektrode für plasmaerzeuger Not-in-force EP2143306B1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102007020419A DE102007020419A1 (de) 2007-04-27 2007-04-27 Elektrode für Plasmaerzeuger
PCT/EP2008/053507 WO2008131997A1 (de) 2007-04-27 2008-03-25 Elektrode für plasmaerzeuger

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP2143306A1 true EP2143306A1 (de) 2010-01-13
EP2143306B1 EP2143306B1 (de) 2011-08-17

Family

ID=39534997

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP08718192A Not-in-force EP2143306B1 (de) 2007-04-27 2008-03-25 Elektrode für plasmaerzeuger

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8339047B2 (de)
EP (1) EP2143306B1 (de)
JP (1) JP5683262B2 (de)
KR (1) KR101555385B1 (de)
AT (1) ATE521217T1 (de)
DE (1) DE102007020419A1 (de)
WO (1) WO2008131997A1 (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR3042091B1 (fr) * 2015-10-05 2017-10-27 Sairem Soc Pour L'application Ind De La Rech En Electronique Et Micro Ondes Dispositif elementaire d’application d’une energie micro-onde avec applicateur coaxial
KR102190524B1 (ko) * 2020-02-24 2020-12-14 이엠코어텍 주식회사 저전압 플라즈마 이오나이저

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3848196A (en) 1973-11-08 1974-11-12 Rca Corp Broadband trapatt diode amplifier
JPS6011417B2 (ja) * 1979-10-23 1985-03-26 株式会社東芝 ホロ−カソ−ド放電装置
JPS6087200U (ja) * 1983-11-15 1985-06-15 新日本無線株式会社 マイクロ波プラズマ発生装置
JPS62115700A (ja) * 1985-11-15 1987-05-27 キヤノン株式会社 気相励起装置
DE3830430A1 (de) * 1987-09-11 1989-03-23 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Verfahren zur herstellung von ueberzuegen
JPH01109699A (ja) * 1987-10-23 1989-04-26 Japan Synthetic Rubber Co Ltd プラズマ処理装置
JPH0719674B2 (ja) * 1992-06-24 1995-03-06 徳芳 佐藤 マイクロ波放電反応装置の電極装置
US5537004A (en) * 1993-03-06 1996-07-16 Tokyo Electron Limited Low frequency electron cyclotron resonance plasma processor
US5838111A (en) * 1996-02-27 1998-11-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Plasma generator with antennas attached to top electrodes
KR20010012617A (ko) * 1998-03-16 2001-02-26 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 무전극 방전에너지 공급장치 및 무전극 방전램프장치
US6350417B1 (en) * 1998-11-05 2002-02-26 Sharper Image Corporation Electrode self-cleaning mechanism for electro-kinetic air transporter-conditioner devices
JP2000299199A (ja) * 1999-04-13 2000-10-24 Plasma System Corp プラズマ発生装置およびプラズマ処理装置
DE19955671B4 (de) * 1999-11-19 2004-07-22 Muegge Electronic Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
US6576202B1 (en) * 2000-04-21 2003-06-10 Kin-Chung Ray Chiu Highly efficient compact capacitance coupled plasma reactor/generator and method
US6759808B2 (en) * 2001-10-26 2004-07-06 Board Of Trustees Of Michigan State University Microwave stripline applicators
WO2004062326A2 (en) 2002-12-30 2004-07-22 Northeastern University Low power plasma generator
DE10335523B4 (de) * 2003-07-31 2009-04-30 Koch, Berthold, Dr.-Ing. Vorrichtung zur Plasmaerregung mit Mikrowellen
JP4631046B2 (ja) * 2004-10-01 2011-02-16 国立大学法人 東京大学 マイクロ波励起プラズマ装置及びシステム
JP4035568B2 (ja) * 2004-11-29 2008-01-23 株式会社エーイーティー 大気圧大面積プラズマ発生装置
EP2007175A4 (de) * 2006-03-07 2014-05-14 Univ Ryukyus Plasmagenerator und verfahren zum erzeugen von plasma damit
JP4967784B2 (ja) * 2007-04-25 2012-07-04 凸版印刷株式会社 マイクロ波プラズマ発生装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See references of WO2008131997A1 *

Also Published As

Publication number Publication date
US8339047B2 (en) 2012-12-25
ATE521217T1 (de) 2011-09-15
US20100171425A1 (en) 2010-07-08
KR20100015978A (ko) 2010-02-12
JP2010525534A (ja) 2010-07-22
JP5683262B2 (ja) 2015-03-11
WO2008131997A1 (de) 2008-11-06
DE102007020419A1 (de) 2008-11-06
EP2143306B1 (de) 2011-08-17
KR101555385B1 (ko) 2015-09-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2952046C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung einer elektrischen Entladung in einem mit Überschallgeschwindigkeit strömenden Gas
DE102006019664B4 (de) Kaltplasma-Handgerät zur Plasma-Behandlung von Oberflächen
DE69514733T2 (de) Koronaquelle zur Erzeugung einer Koronaentladung und Behandlung von fliesfähige Abfallstoffen mit Koronaentladung
EP1053660B1 (de) Vorrichtung zur erzeugung eines freien kalten nicht-thermischen plasmastrahles
DE602004007126T2 (de) Vorrichtung und verfahren zur bildung eines plasmas
EP0261338A2 (de) Induktiv angeregte Ionenquelle
DE102009028190A1 (de) Vorrichtung zur Erzeugung eines nichtthermischen Atmosphärendruck-Plasmas
EP2849204A1 (de) Plasmaerzeugungsvorrichtung
DE102015119656A1 (de) Piezoelektrischer Transformator
WO2006075008A1 (de) Mikroplasmaarray
EP2143306B1 (de) Elektrode für plasmaerzeuger
EP2502469B1 (de) Vorrichtung und verfahren zur erzeugung eines plasmas mittels eines wanderwellenresonators
EP3011807B1 (de) Vorrichtung und verfahren zur behandlung von prozessgasen in einem plasma angeregt durch elektromagnetische wellen hoher frequenz
EP2751826B1 (de) Vorrichtung zur erzeugung von thermodynamisch kaltem mikrowellenplasma
EP1129466A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur erzeugung eines lokalen plasmas durch mikrostrukturelektrodenentladungen mit mikrowellen
DE4337119C2 (de) VHF-Plasmaquelle
EP1819208B1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung angeregter und/oder ionisierter Teilchen in einem Plasma
AT504487B1 (de) Vorrichtung zur erzeugung von plasma oder radikalen mittels mikrowellen
EP1252647B1 (de) Einkoppelanordnung für mikrowellenenergie mit impedanzanpassung
DE19955671B4 (de) Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
DE4242324A1 (de) Verfahren und Einrichtung zur Behandlung der Innenwand eines Hohlkörpers mittels eines Mikrowellenplasmas
DE102012004034A1 (de) HF-Plasma-Zündkopf, -Strahlerkopf und -Strahler insbesondere zum Zünden und Betreiben eines Plasmas im MHz- und GHz-Bereich
DE102010043940B4 (de) Mikrowellen-ICP-Resonator
DE102020100872B4 (de) Resonator und Leistungsoszillator zum Aufbau einer integrierten Plasmaquelle sowie deren Verwendung
DD295061B5 (de) Schaltungsanordnung fuer Plasmareaktoren

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

17P Request for examination filed

Effective date: 20091124

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MT NL NO PL PT RO SE SI SK TR

DAX Request for extension of the european patent (deleted)
GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

RIN1 Information on inventor provided before grant (corrected)

Inventor name: KUEHN, SILVIO

Inventor name: GESCHE, ROLAND

Inventor name: ANDREI, ANDREEA, CRISTINA

Inventor name: BUCHHOLZ, STEPHAN

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MT NL NO PL PT RO SE SI SK TR

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

Free format text: NOT ENGLISH

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: LANGUAGE OF EP DOCUMENT: GERMAN

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R096

Ref document number: 502008004526

Country of ref document: DE

Effective date: 20111117

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: NV

Representative=s name: PATENTANWAELTE SCHAAD, BALASS, MENZL & PARTNER AG

REG Reference to a national code

Ref country code: NL

Ref legal event code: VDEP

Effective date: 20110817

LTIE Lt: invalidation of european patent or patent extension

Effective date: 20110817

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

Ref country code: NO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20111117

Ref country code: PT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20111219

Ref country code: SE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

Ref country code: IS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20111217

Ref country code: FI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

Ref country code: GR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20111118

Ref country code: PL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

Ref country code: CY

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

Ref country code: LV

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FD4D

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

Ref country code: IE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

Ref country code: CZ

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

Ref country code: EE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

Ref country code: RO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

26N No opposition filed

Effective date: 20120521

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: HR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20120328

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R097

Ref document number: 502008004526

Country of ref document: DE

Effective date: 20120521

BERE Be: lapsed

Owner name: FORSCHUNGSVERBUND BERLIN E.V.

Effective date: 20120331

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20120331

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20120325

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20120331

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20120325

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20111128

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BG

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20111117

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: HR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: TR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20110817

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: MM01

Ref document number: 521217

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20130325

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20120325

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: HU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20080325

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20130325

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: PLFP

Year of fee payment: 8

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: PLFP

Year of fee payment: 9

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: PLFP

Year of fee payment: 10

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 20170323

Year of fee payment: 10

Ref country code: CH

Payment date: 20170327

Year of fee payment: 10

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20170328

Year of fee payment: 10

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R119

Ref document number: 502008004526

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20181002

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20180331

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20180331

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20180331