JPS6011417B2 - ホロ−カソ−ド放電装置 - Google Patents
ホロ−カソ−ド放電装置Info
- Publication number
- JPS6011417B2 JPS6011417B2 JP54136626A JP13662679A JPS6011417B2 JP S6011417 B2 JPS6011417 B2 JP S6011417B2 JP 54136626 A JP54136626 A JP 54136626A JP 13662679 A JP13662679 A JP 13662679A JP S6011417 B2 JPS6011417 B2 JP S6011417B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hollow cathode
- discharge
- anode
- gas
- starting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/025—Hollow cathodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/08—Ion sources; Ion guns using arc discharge
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Solid Thermionic Cathode (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、放電起動の容易化を図れるようにしたホロ
ーカソード放電装置に関する。
ーカソード放電装置に関する。
ホローカソード放電装置は、１０‐２〜１０‐４０ｒｒ
の低圧ガス雰囲気に保たれた真空容器内に同軸的に対向
配置されたホローカソード（陰極）と陽極との間にホロ
ーカソードアーク放電を生じさせてプラズマを生成する
もので、イオン源やレーザ放電装置等に利用されている
。
の低圧ガス雰囲気に保たれた真空容器内に同軸的に対向
配置されたホローカソード（陰極）と陽極との間にホロ
ーカソードアーク放電を生じさせてプラズマを生成する
もので、イオン源やレーザ放電装置等に利用されている
。
第１図はホローカソ−ド放電装置の概略を示す断面模式
図である。真空容器１内に、一端閉口部を真空容器１の
外部へ導出した円筒状のホローカソード２と、このホロ
ーカソード２の他端閉口面に同軸的に対向配置された陽
極３とが設けられている。そして、これらのホローカソ
ード２および陽極３間には、アーク放電用電極４の出力
端が接続されている。
図である。真空容器１内に、一端閉口部を真空容器１の
外部へ導出した円筒状のホローカソード２と、このホロ
ーカソード２の他端閉口面に同軸的に対向配置された陽
極３とが設けられている。そして、これらのホローカソ
ード２および陽極３間には、アーク放電用電極４の出力
端が接続されている。
また、上記ホローカソード２および陽極３間に放電を譲
超させるガスは、前記真空容器１の外部からホローカソ
ード２の中空部を介して真空容器１内に導入され、真空
ポンプ（図示せず）等により真空容器１に設けられたガ
ス流出口ｌａから外部に導出されている。しかして、前
記ホローカソード２の池端部内面と陽極３との間に放電
プラズマ５を生起させるようにしている。ところで、こ
の種の装置にあっては、前記ホロ‐力ソ−ド２の内径を
凪、定常運転時における放電空間のガス密度をりｏＨ、
ガスの電子による電離断面積を。とすると一般に。
超させるガスは、前記真空容器１の外部からホローカソ
ード２の中空部を介して真空容器１内に導入され、真空
ポンプ（図示せず）等により真空容器１に設けられたガ
ス流出口ｌａから外部に導出されている。しかして、前
記ホローカソード２の池端部内面と陽極３との間に放電
プラズマ５を生起させるようにしている。ところで、こ
の種の装置にあっては、前記ホロ‐力ソ−ド２の内径を
凪、定常運転時における放電空間のガス密度をりｏＨ、
ガスの電子による電離断面積を。とすると一般に。
１．り。
日．ｄＨ＝山日／入ｉ〉・……………【１１なる条件下
で容易に放電起動を行い得る。つまりガス圧に比例する
ガス密度りｏＨが高い程放電起動が容易となる。なお、
第｛１ー式において入ｉ（入ｉ＝１／（〇ｉ・りｏＨ）
）は電子の平均自由行程である。しかしながら、ガス密
度りｏＨを高くすると前記真空ポンプに大容量のものを
必要として高価格となり、またイオンビームによる影響
で真空容器１に著しい熱負荷が加わり真空容器１に損傷
が生じる等の問題がある。したがって、ガス密度刀ｏＨ
はあまり高くすることができず、一般に細／＾ｉ＝０．
４〜０．５塁度の条件に設定するようにしている。一方
、前記ホローカソード２と陽極３との間の距離ｄは比較
的長く、またホローカソード２の電子放出面が中空円筒
の内部であるため、この電子放出面に外部電界が浸透し
‘こくい。このため、前記ガス密度りｏＨが低いと放電
起動が非常に困難なものとなる。そこで近年、第２図に
示すようにホローカソード２の他端閉口部近傍に起動電
極６を設置し、電極６とホローカソード２との間に高圧
パルス電圧を印加することにより放電起動を容易化させ
ようとする装置が考えられている。
で容易に放電起動を行い得る。つまりガス圧に比例する
ガス密度りｏＨが高い程放電起動が容易となる。なお、
第｛１ー式において入ｉ（入ｉ＝１／（〇ｉ・りｏＨ）
）は電子の平均自由行程である。しかしながら、ガス密
度りｏＨを高くすると前記真空ポンプに大容量のものを
必要として高価格となり、またイオンビームによる影響
で真空容器１に著しい熱負荷が加わり真空容器１に損傷
が生じる等の問題がある。したがって、ガス密度刀ｏＨ
はあまり高くすることができず、一般に細／＾ｉ＝０．
４〜０．５塁度の条件に設定するようにしている。一方
、前記ホローカソード２と陽極３との間の距離ｄは比較
的長く、またホローカソード２の電子放出面が中空円筒
の内部であるため、この電子放出面に外部電界が浸透し
‘こくい。このため、前記ガス密度りｏＨが低いと放電
起動が非常に困難なものとなる。そこで近年、第２図に
示すようにホローカソード２の他端閉口部近傍に起動電
極６を設置し、電極６とホローカソード２との間に高圧
パルス電圧を印加することにより放電起動を容易化させ
ようとする装置が考えられている。
この装置は、第３図に示すように放電空間のガス密度り
ｏＨが安定した時点で起動用電源７にて起動電極６とホ
ローカソード２との間に高圧パルス電圧Ｖｋを印加し、
両者間に放電を生じさせる。そして「 この放電により
ホローカソード２と前記陽極３との間のホローカソード
アーク放電を起動させるものである。しかしながら、こ
の種の装置にあっても放電空間のガス圧、つまりガス密
度りｏＨをできるだけ低くして、例えばｄＨ／入ｉ＝０
．４陸度で使用すると前記放電起動を安定に行い得ない
と云う欠点があった。本発明はこのような事情を考慮し
てなされたもので、その目的とするところは、真空ポン
プの大容量化やイオンビームによる悪影響を招くことな
〈、放電起動を安定かつ確実に行い得るホローカソード
放電装置を提供することにある。
ｏＨが安定した時点で起動用電源７にて起動電極６とホ
ローカソード２との間に高圧パルス電圧Ｖｋを印加し、
両者間に放電を生じさせる。そして「 この放電により
ホローカソード２と前記陽極３との間のホローカソード
アーク放電を起動させるものである。しかしながら、こ
の種の装置にあっても放電空間のガス圧、つまりガス密
度りｏＨをできるだけ低くして、例えばｄＨ／入ｉ＝０
．４陸度で使用すると前記放電起動を安定に行い得ない
と云う欠点があった。本発明はこのような事情を考慮し
てなされたもので、その目的とするところは、真空ポン
プの大容量化やイオンビームによる悪影響を招くことな
〈、放電起動を安定かつ確実に行い得るホローカソード
放電装置を提供することにある。
まず、この発明の概要を説明する。
この発明は、ホローカソード内部のガス圧を真空容器内
のガス圧に較べて高くするとともにホローカソード内に
起動電極を配置し、起動時に上記起動電極とホローカソ
ードとの間で放電を起こさせ、この放電によって生成さ
れたプラズマを使ってホローカソードと陽極との間にア
ーク放電を起こさせるようにしている。以下、この発明
の一実施例を図面を参照して説明する。
のガス圧に較べて高くするとともにホローカソード内に
起動電極を配置し、起動時に上記起動電極とホローカソ
ードとの間で放電を起こさせ、この放電によって生成さ
れたプラズマを使ってホローカソードと陽極との間にア
ーク放電を起こさせるようにしている。以下、この発明
の一実施例を図面を参照して説明する。
第４図において、１１‘ま真空容器であり、この真空容
器１１１こは図示しない排気ポンプに通じる排気口１２
が形成されている。しかして真空容器１１内には、ホロ
ーカソード１３とりング状に形成された陽極１４とが、
上記陽極１４を排気口１２側に位置させて同軸的に対向
配置されている。
器１１１こは図示しない排気ポンプに通じる排気口１２
が形成されている。しかして真空容器１１内には、ホロ
ーカソード１３とりング状に形成された陽極１４とが、
上記陽極１４を排気口１２側に位置させて同軸的に対向
配置されている。
そして、ホローカソード１３の陽極１４側とは反対側に
位置する端部は、真空容器１１の壁を気密に貫通して外
部に通じている。また、ホローカソード１３の前記陽極
１４側に位置する端部には中央部にオリフィスＰを有し
た耐熱性のオリフィスプレート１５によって閉塞されて
いる。しかして、ホローカソード１３内には、このホロ
ーカソード１３に対して絶縁され、かつホローカソード
１３の内面に対向する関係に起動電極１６が配置されて
いる。
位置する端部は、真空容器１１の壁を気密に貫通して外
部に通じている。また、ホローカソード１３の前記陽極
１４側に位置する端部には中央部にオリフィスＰを有し
た耐熱性のオリフィスプレート１５によって閉塞されて
いる。しかして、ホローカソード１３内には、このホロ
ーカソード１３に対して絶縁され、かつホローカソード
１３の内面に対向する関係に起動電極１６が配置されて
いる。
起動電極１６は、電気ヒータ線で形成されている。この
ヒータ線の両端は、ホローカソード１３の壁を電気絶縁
状態に貫通して設けられたりード線１７ａ，１７ｂの一
端側にそれぞれ接続されている。そして、リード線１７
ａ，１７ｂの他端側は、真空容器１１の壁を気密に貫通
してヒータ電源１８の出力端に鞍続されている。また、
リード線１７ｂはスイッチ１９、直流出力を送出する起
動電源２０を介してリード線２１の一端側に接続されて
おり、さらに上記りード線２１の池端側は真空容器１１
の壁を気密に貫通してホローカソード１３に接続されて
いる。また、リード線２１の真空容器１１外に位置する
端部は、アーク放電維持用の直流電源２２、電流制限抵
抗２３およびスイッチ２４を介してリード線２５の一端
側に接続されている。そして、リード線２５の池端側は
、真空容器１ １の壁を気密に貴通して陽極１４に接続
されている。一方、ホローカソード１３の真空容器１１
外に位置する関口は、可変コンダクタンス弁２６、開閉
弁２７を介して所定圧力の水素ガスを貯溜したガス溜２
８に接続されている。
ヒータ線の両端は、ホローカソード１３の壁を電気絶縁
状態に貫通して設けられたりード線１７ａ，１７ｂの一
端側にそれぞれ接続されている。そして、リード線１７
ａ，１７ｂの他端側は、真空容器１１の壁を気密に貫通
してヒータ電源１８の出力端に鞍続されている。また、
リード線１７ｂはスイッチ１９、直流出力を送出する起
動電源２０を介してリード線２１の一端側に接続されて
おり、さらに上記りード線２１の池端側は真空容器１１
の壁を気密に貫通してホローカソード１３に接続されて
いる。また、リード線２１の真空容器１１外に位置する
端部は、アーク放電維持用の直流電源２２、電流制限抵
抗２３およびスイッチ２４を介してリード線２５の一端
側に接続されている。そして、リード線２５の池端側は
、真空容器１ １の壁を気密に貴通して陽極１４に接続
されている。一方、ホローカソード１３の真空容器１１
外に位置する関口は、可変コンダクタンス弁２６、開閉
弁２７を介して所定圧力の水素ガスを貯溜したガス溜２
８に接続されている。
なお、可変コンダクタンス弁２６は、排気ポンプの能力
、オリフィス蓬等との関連において、真空容器１ １内
に前記条件、たとえば山Ｈ／＾ｉ：０．４の条件を形成
させるガス流量が得られるように予め設定されている。
また前記スイッチ１９および２４は図示しない制御装置
によって後述する関係に制御される。次に上記のように
構成されたホローカソード放電装置の動作を説明する。
まず、ヒータ電源１８を投入するとともに排気ポンプを
動作させる。
、オリフィス蓬等との関連において、真空容器１ １内
に前記条件、たとえば山Ｈ／＾ｉ：０．４の条件を形成
させるガス流量が得られるように予め設定されている。
また前記スイッチ１９および２４は図示しない制御装置
によって後述する関係に制御される。次に上記のように
構成されたホローカソード放電装置の動作を説明する。
まず、ヒータ電源１８を投入するとともに排気ポンプを
動作させる。
真空容器１１内が予め定められた圧力まで低下した時点
で開閉弁２７を“開”に制御する。開閉弁２７が“開”
になると、ガス溜２８から水素ガスが、開閉弁２７、可
変コンダクタンス弁２６を通ってホローカソード１３内
に流入し、続いてオリフィスＰを通って真空容器１１内
に流れ込む。そして、排気ポンプへと流れる。この場合
、可変コンダクタンス弁２６が前述した関係に設定され
ているので、真空容器１１内は、細／＾ｉ：０．４の条
件で安定する。また、このとき、ホローカソード１３内
から真空容器１１内に流れ込むガス流量がオリフィスＰ
によって制限されているので、ホローカソード１３内の
圧力は真空容器１１内の圧力に較べてはるかに高いたと
えば１〜１０‐ｌｔｏｒｒの圧力に保持される。このよ
うな状態で制御装置を動作開始させると、この装置はス
イッチ１９および２４を“閉”状態に制御する。スイッ
チ１９が“閉”状態になると、ホローカソード１３と起
動電極１６との間に起動電圧が加わることになる。この
場合、ホローカソード１３内は圧力が高いので上記のよ
うに起動電圧が加わると起動電極１６とホローカソ−ド
１３の内面との間にグロー放電が生起され、ホローカソ
ード１３内にプラズマが形成される。その結果、ホロー
カソード１３の内面およびオリフイスプレート１５の内
面が主としてイオン衝突によって加熱され、これらの内
面から十分に電子が放出され、より高密度のプラズマが
形成される。ホローカソード１３内で生じたプラズマは
、オリフイスＰを通して陽極１４側に拡散する。この結
果、オリフィスプレート１５と陽極１４との間のガス圧
で決まるブレークダウン電圧より低い電圧でホローカソ
ード１３と陽極１４との間で放電が起こる。一旦、放電
が起こると、スイッチ２４が投入されている限り、アー
ク放電が維持される。そして、制御装置は、アーク放電
が開始された後、スイッチ１９を“開”に制御し、ここ
にホロ−カソード放電装置の起動が実現される。このよ
うに、ホローカソード１３のガス出口にオリフイスプレ
ート１５を設け、このプレート１５の存在によってホロ
ーカソード１３内に放電の起こり易い圧力場を作り、さ
らにホローカソード１３内に起動電極１６を設け、起動
時に上記起動電極１６とホローカソード１３との間で放
電させてプラズマを生成させ、このプラズマを使ってホ
ローカソード１３と陽極１４との間の放電を起こさせる
ようにしている。
で開閉弁２７を“開”に制御する。開閉弁２７が“開”
になると、ガス溜２８から水素ガスが、開閉弁２７、可
変コンダクタンス弁２６を通ってホローカソード１３内
に流入し、続いてオリフィスＰを通って真空容器１１内
に流れ込む。そして、排気ポンプへと流れる。この場合
、可変コンダクタンス弁２６が前述した関係に設定され
ているので、真空容器１１内は、細／＾ｉ：０．４の条
件で安定する。また、このとき、ホローカソード１３内
から真空容器１１内に流れ込むガス流量がオリフィスＰ
によって制限されているので、ホローカソード１３内の
圧力は真空容器１１内の圧力に較べてはるかに高いたと
えば１〜１０‐ｌｔｏｒｒの圧力に保持される。このよ
うな状態で制御装置を動作開始させると、この装置はス
イッチ１９および２４を“閉”状態に制御する。スイッ
チ１９が“閉”状態になると、ホローカソード１３と起
動電極１６との間に起動電圧が加わることになる。この
場合、ホローカソード１３内は圧力が高いので上記のよ
うに起動電圧が加わると起動電極１６とホローカソ−ド
１３の内面との間にグロー放電が生起され、ホローカソ
ード１３内にプラズマが形成される。その結果、ホロー
カソード１３の内面およびオリフイスプレート１５の内
面が主としてイオン衝突によって加熱され、これらの内
面から十分に電子が放出され、より高密度のプラズマが
形成される。ホローカソード１３内で生じたプラズマは
、オリフイスＰを通して陽極１４側に拡散する。この結
果、オリフィスプレート１５と陽極１４との間のガス圧
で決まるブレークダウン電圧より低い電圧でホローカソ
ード１３と陽極１４との間で放電が起こる。一旦、放電
が起こると、スイッチ２４が投入されている限り、アー
ク放電が維持される。そして、制御装置は、アーク放電
が開始された後、スイッチ１９を“開”に制御し、ここ
にホロ−カソード放電装置の起動が実現される。このよ
うに、ホローカソード１３のガス出口にオリフイスプレ
ート１５を設け、このプレート１５の存在によってホロ
ーカソード１３内に放電の起こり易い圧力場を作り、さ
らにホローカソード１３内に起動電極１６を設け、起動
時に上記起動電極１６とホローカソード１３との間で放
電させてプラズマを生成させ、このプラズマを使ってホ
ローカソード１３と陽極１４との間の放電を起こさせる
ようにしている。
したがって、起動を容易にするために、真空容器１１内
の圧力まで高める必要は全くない。
の圧力まで高める必要は全くない。
このため、真空容器１１に過大な熱負荷が加わるような
こともないし、また排気ポンプの大型化を招くようなこ
ともないし、さらにはガス圧を細かく制御する必要もな
い状態で迅速かつ確実に起動させることができる。なお
、実施例では、起動電極１６をヒータ線で構成し、この
ヒータ線をジュール熱で加熱するようにしている。
こともないし、また排気ポンプの大型化を招くようなこ
ともないし、さらにはガス圧を細かく制御する必要もな
い状態で迅速かつ確実に起動させることができる。なお
、実施例では、起動電極１６をヒータ線で構成し、この
ヒータ線をジュール熱で加熱するようにしている。
このような構成であると、ヒータ線から放出される熱電
子で起動電極１６とホローカソード１３との間の放電開
始を一層容易化できるが、必ずしもヒータ線で構成しな
くてもよい。
子で起動電極１６とホローカソード１３との間の放電開
始を一層容易化できるが、必ずしもヒータ線で構成しな
くてもよい。
第１図はホローカソード放電装置の概略を示す断面漠式
図、第２図は従来装置の概略を示す断面模式図、第３図
は従来装置の作用を示すグラフ、第４図はこの発明の一
実施例の概略構成を示す模式図である。 １１・・・・・・真空容器、１３・・・・・・ホローカ
ソード、１４・・・・・・陽極、１５・・・・・・オリ
フィスプレート、１６・・・・・・起動電極、２０・・
・・・・起動電源、２２・・・・・・放電総持用の電源
、２８・・・・・・ガス溜。 第１図第２図 第３図 第４図
図、第２図は従来装置の概略を示す断面模式図、第３図
は従来装置の作用を示すグラフ、第４図はこの発明の一
実施例の概略構成を示す模式図である。 １１・・・・・・真空容器、１３・・・・・・ホローカ
ソード、１４・・・・・・陽極、１５・・・・・・オリ
フィスプレート、１６・・・・・・起動電極、２０・・
・・・・起動電源、２２・・・・・・放電総持用の電源
、２８・・・・・・ガス溜。 第１図第２図 第３図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 真空容器と、この真空容器内を排気する手段と、前
記真空容器内に同軸的に対向配置されたホローカソード
および陽極と、この陽極と前記ホローカソードとの間に
電圧を印加して上記陽極と上記ホローカソードとの間に
アーク放電を持続させる第１の電源装置と、前記ホロー
カソード内をガス通路とし、上記ホローカソードの前記
陽極側に位置する開口から前記真空容器内に低圧のガス
を供給する手段と、前記ホローカソードに設けられ上記
ホローカソード内を通して前記真空容器内に流入する前
記ガスの流量を制限するオリフイスプレートと、前記ホ
ローカソード内で前記オリフイスプレートより上流位置
に上記ホローカソードに対して絶縁して設けられた起動
電極と、前記ホローカソードと前記陽極との間でアーク
放電を開始させるに先立って前記起動電極と上記ホロー
カソードとの間に電圧を印加して上記起動電極と上記ホ
ローカソードとの間に放電を起こさせる第２の電源装置
とを具備してなることを特徴とするホローカソード放電
装置。 ２ 前記起動電極は、電気ヒータであることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載のホローカソード放電装置
。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54136626A JPS6011417B2 (ja) | 1979-10-23 | 1979-10-23 | ホロ−カソ−ド放電装置 |
| US06/199,057 US4339691A (en) | 1979-10-23 | 1980-10-20 | Discharge apparatus having hollow cathode |
| DE19803039850 DE3039850A1 (de) | 1979-10-23 | 1980-10-22 | Entladungsvorrichtung mit hohlkathode |
| GB8034057A GB2064856B (en) | 1979-10-23 | 1980-10-22 | Discharge apparatus having hollow cathode |
| FR8022695A FR2468203A1 (fr) | 1979-10-23 | 1980-10-23 | Appareil a decharge electrique a cathode creuse |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54136626A JPS6011417B2 (ja) | 1979-10-23 | 1979-10-23 | ホロ−カソ−ド放電装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP876781A Division JPS56156648A (en) | 1981-01-23 | 1981-01-23 | Follow cathode discharger |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5661744A JPS5661744A (en) | 1981-05-27 |
| JPS6011417B2 true JPS6011417B2 (ja) | 1985-03-26 |
Family
ID=15179694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54136626A Expired JPS6011417B2 (ja) | 1979-10-23 | 1979-10-23 | ホロ−カソ−ド放電装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4339691A (ja) |
| JP (1) | JPS6011417B2 (ja) |
Families Citing this family (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4475063A (en) * | 1981-06-22 | 1984-10-02 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Hollow cathode apparatus |
| US4396867A (en) * | 1981-07-21 | 1983-08-02 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Inductive intense beam source |
| DE3134337A1 (de) * | 1981-08-31 | 1983-03-24 | Technics GmbH Europa, 8011 Kirchheim | Ionenstrahlkanone |
| US4728862A (en) * | 1982-06-08 | 1988-03-01 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | A method for achieving ignition of a low voltage gas discharge device |
| US4549065A (en) * | 1983-01-21 | 1985-10-22 | Technology Application Services Corporation | Plasma generator and method |
| US4507588A (en) * | 1983-02-28 | 1985-03-26 | Board Of Trustees Operating Michigan State University | Ion generating apparatus and method for the use thereof |
| US4550275A (en) * | 1983-10-07 | 1985-10-29 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | High efficiency pulse ultraviolet light source |
| JPS60157199A (ja) * | 1984-01-26 | 1985-08-17 | 株式会社東芝 | 中性粒子入射装置 |
| US4647818A (en) * | 1984-04-16 | 1987-03-03 | Sfe Technologies | Nonthermionic hollow anode gas discharge electron beam source |
| CA1252581A (en) * | 1985-05-28 | 1989-04-11 | Yoshinobu Aoyagi | Electron beam-excited ion beam source |
| WO1987003422A1 (en) * | 1985-11-28 | 1987-06-04 | Photron Pty. Ltd. | Hollow cathode assembly and lamp |
| US4737688A (en) * | 1986-07-22 | 1988-04-12 | Applied Electron Corporation | Wide area source of multiply ionized atomic or molecular species |
| US4739214A (en) * | 1986-11-13 | 1988-04-19 | Anatech Ltd. | Dynamic electron emitter |
| US4994706A (en) * | 1987-02-02 | 1991-02-19 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Field free, directly heated lanthanum boride cathode |
| US4795942A (en) * | 1987-04-27 | 1989-01-03 | Westinghouse Electric Corp. | Hollow cathode discharge device with front shield |
| US4912367A (en) * | 1988-04-14 | 1990-03-27 | Hughes Aircraft Company | Plasma-assisted high-power microwave generator |
| DE3832693A1 (de) * | 1988-09-27 | 1990-03-29 | Leybold Ag | Vorrichtung zum aufbringen dielektrischer oder metallischer werkstoffe |
| US5055743A (en) * | 1989-05-02 | 1991-10-08 | Spectra Physics, Inc. | Induction heated cathode |
| US5007373A (en) * | 1989-05-24 | 1991-04-16 | Ionic Atlanta, Inc. | Spiral hollow cathode |
| US5006706A (en) * | 1989-05-31 | 1991-04-09 | Clemson University | Analytical method and apparatus |
| US5003226A (en) * | 1989-11-16 | 1991-03-26 | Avco Research Laboratories | Plasma cathode |
| IT1238337B (it) * | 1990-01-23 | 1993-07-12 | Cons Ric Microelettronica | Dispositivo per la ionizzazione di metalli ad alta temperatura di fusione, utilizzabile su impiantatori ionici del tipo impiegante sorgenti di ioni di tipo freeman o assimilabili |
| US6729174B1 (en) | 1998-09-14 | 2004-05-04 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Process for testing a xenon gas feed system of a hollow cathode assembly |
| US6064156A (en) | 1998-09-14 | 2000-05-16 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of Nasa | Process for ignition of gaseous electrical discharge between electrodes of a hollow cathode assembly |
| US7276847B2 (en) * | 2000-05-17 | 2007-10-02 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Cathode assembly for indirectly heated cathode ion source |
| AU2002231361A1 (en) * | 2000-10-20 | 2002-04-29 | Proteros, Llc | System and method for rapidly controlling the output of an ion source for ion implantation |
| DE102007020419A1 (de) * | 2007-04-27 | 2008-11-06 | Forschungsverbund Berlin E.V. | Elektrode für Plasmaerzeuger |
| DE102008047198B4 (de) | 2008-09-15 | 2012-11-22 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und Vorrichtung zum Betreiben einer Hohlkathoden-Bogenentladung |
| US8872429B2 (en) | 2011-07-28 | 2014-10-28 | Kirk Rosener | Pulsed plasma generator |
| DE102012024340A1 (de) * | 2012-12-13 | 2014-06-18 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Plasmaquelle |
| KR101585889B1 (ko) * | 2014-02-27 | 2016-02-02 | 한국과학기술원 | 고효율 할로우 음극과 이를 적용한 음극 시스템 |
| PL3724497T3 (pl) * | 2017-12-12 | 2022-04-04 | Enpulsion Gmbh | Jonowy silnik rakietowy |
| CN109686631B (zh) * | 2018-11-15 | 2021-01-29 | 温州职业技术学院 | 一种阵列多孔空心阴极放电电子源 |
| CN112682286A (zh) * | 2020-12-11 | 2021-04-20 | 中国电子科技集团公司第十二研究所 | 一种高可靠性电推进用空心阴极结构 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2874296A (en) * | 1946-05-08 | 1959-02-17 | Edward J Lofgren | Calutron ion source |
| US2978580A (en) * | 1958-04-25 | 1961-04-04 | Vakutronik Veb | Process and device for the addition of slow electrons to polyatomic or highmolecular compounds |
| US3004189A (en) * | 1959-10-05 | 1961-10-10 | Plasmadyne Corp | Combination automatic-starting electrical plasma torch and gas shutoff valve |
| AT271654B (de) * | 1967-03-03 | 1969-06-10 | Gerb Boehler & Co Ag | Verfahren zur Erleichterung der Initialzündung eines Hochleistungsplasmaerzeugers |
| US3715625A (en) * | 1971-01-12 | 1973-02-06 | Atomic Energy Commission | Plasma generator |
| US4297615A (en) * | 1979-03-19 | 1981-10-27 | The Regents Of The University Of California | High current density cathode structure |
-
1979
- 1979-10-23 JP JP54136626A patent/JPS6011417B2/ja not_active Expired
-
1980
- 1980-10-20 US US06/199,057 patent/US4339691A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4339691A (en) | 1982-07-13 |
| JPS5661744A (en) | 1981-05-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6011417B2 (ja) | ホロ−カソ−ド放電装置 | |
| US4318028A (en) | Ion generator | |
| JP2539207B2 (ja) | プラズマ電子ガン | |
| US3218431A (en) | Self-focusing electron beam apparatus | |
| US3320475A (en) | Nonthermionic hollow cathode electron beam apparatus | |
| US4301391A (en) | Dual discharge plasma device | |
| US1566279A (en) | Gas-pressure control | |
| US4475063A (en) | Hollow cathode apparatus | |
| US4691109A (en) | Apparatus and method for producing ions | |
| EP0289577A1 (en) | DYNAMIC ELECTRON EMITTER. | |
| US6285025B1 (en) | Source of fast neutral molecules | |
| US3242798A (en) | Plasma light source for spectroscopic analysis | |
| US2873400A (en) | Ion switch | |
| US6869574B2 (en) | Apparatus and method of generating charged particles | |
| US3628181A (en) | Gas discharge lasers | |
| JP7479810B2 (ja) | 液体金属イオン源及び集束イオンビーム装置 | |
| JPS62176038A (ja) | Ｘ線発光装置 | |
| JPH11273894A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPH0762989B2 (ja) | 電子ビ−ム励起イオン源 | |
| US1501071A (en) | Vacuum pump | |
| JP2586836B2 (ja) | イオン源装置 | |
| JP2572787B2 (ja) | Ｘ線発生装置 | |
| US3100272A (en) | Low pressure mercury plasma discharge tube | |
| JP2907345B2 (ja) | プラズマトーチにおける原料ガス励起方法 | |
| JPH0752635B2 (ja) | イオン源装置 |