EP2050120A2 - Ecr-plasmaquelle - Google Patents

Ecr-plasmaquelle

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Publication number
EP2050120A2
EP2050120A2 EP07817428A EP07817428A EP2050120A2 EP 2050120 A2 EP2050120 A2 EP 2050120A2 EP 07817428 A EP07817428 A EP 07817428A EP 07817428 A EP07817428 A EP 07817428A EP 2050120 A2 EP2050120 A2 EP 2050120A2
Authority
EP
European Patent Office
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plasma
antenna
vacuum flange
annular gap
ecr plasma
Prior art date
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Granted
Application number
EP07817428A
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English (en)
French (fr)
Other versions
EP2050120B1 (de
Inventor
Joachim Mai
Valeri Fell
Bernd Rau
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Microsystems GmbH
Original Assignee
Roth and Rau AG
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Filing date
Publication date
Application filed by Roth and Rau AG filed Critical Roth and Rau AG
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Application granted granted Critical
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    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/3266—Magnetic control means
    • H01J37/32678—Electron cyclotron resonance
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    • H01J37/32192—Microwave generated discharge
    • H01J37/32211—Means for coupling power to the plasma
    • H01J37/3222—Antennas

Definitions

  • the invention relates to an ECR plasma source according to the preamble of claim 1 f, in particular for the treatment of surfaces in the low pressure range, for example for surface activation, cleaning, removal or coating of substrates.
  • the ECR plasma source consists of a coaxial microwave feeder with an inner and outer conductor which, in isolation, penetrates a vacuum flange which terminates an opening in the wall to the plasma chamber.
  • the ECR plasma source comprises an antenna which penetrates the vacuum flange as one end of the inner conductor in isolation, and a multipole magnet arrangement arranged coaxially with the microwell feed whose magnetic fields penetrate the vacuum flange and form a ring magnetic field in the plasma space around the antenna.
  • EP 0 448 077 B1 discloses a microwave plasmatron for generating a microwave discharge supported by a magnetic field, comprising a discharge space, a coupling arrangement for the microwaves in the discharge space, and magnets.
  • a microwave plasmatron for generating a microwave discharge supported by a magnetic field, comprising a discharge space, a coupling arrangement for the microwaves in the discharge space, and magnets.
  • On a surface waveguide is one or more hollow cylindrical magnets are arranged, which are enclosed by a U-shaped shell of ferromagnetic material in the manner that the open side rests on the surface waveguide, and centrally to the hollow cylindrical magnet, the coupling arrangement for the microwaves is mounted.
  • the vacuum separation of the discharge space from the coupling point of the microwaves is ensured by a quartz glass cup, which is permeable to the microwaves.
  • the hollow cylindrical magnets may be coils or permanent magnets.
  • the druck- can range at very low pressures, up to about 10 "5 mbar, particularly extended.
  • the microwave plasmatron is operated in a pressure range of 10 -2 Pa with a microwave power of 400 W and a plasma is safely ignited. Irrespective of the type of gas, ion densities of between 3 and 10 ⁇ 10 10 cm -3 are achieved, and ion currents with homogenous current density distributions up to 3 mA / cm 2 over 6 inches in diameter are extracted from the plasma.
  • a prior art ECR plasma source comprising a coaxial microwave feed an inner conductor and an outer conductor, wherein the inner conductor with one end penetrated as an antenna penetrates a vacuum flange, which closes an opening in the wall to the plasma chamber, and a coaxial with the microwave feeder arranged multipole magnet arrangement whose
  • Magnetic fields penetrate the vacuum flange and form an annular gap magnetic field around the antenna in the plasma space is further developed in an advantageous manner.
  • the antenna projects directly into the plasma chamber.
  • Quartz glass cup or ceramic cup that wraps the antenna is not present afterwards.
  • the plasma space in the sense of the invention is delimited coaxially to the antenna and to the annular gap magnetic field by a shield, which is held on the vacuum flange.
  • the end face of the shield, which faces away from the vacuum flange, forms the plasma exit opening to the vacuum chamber or plasma treatment chamber.
  • the antenna has a radially larger antenna head to the inner conductor with a bottom parallel to the vacuum flange, so that between the vacuum flange and the bottom of an annular gap is formed.
  • the height and the radial length of the annular gap and the geometric arrangement of the shield are set so that the radially inner surface of the
  • Ring gap is opposite the vacuum chamber or plasma treatment chamber in the optical shadow area.
  • the radial length of the annular gap is greater than lambda / 4 of the excitation frequency.
  • the height of the annular gap is adjusted according to the known rules for dimensioning a dark space shield such that a plasma shadow area is formed in the annular gap and a plasma ignition is excluded with certainty.
  • the coupling surface of the antenna opposite the underside of the antenna head is advantageously designed at least partially as a cone, truncated cone or spherical segment.
  • This surface design causes an advantageous radiation of the microwave power in the direction of the ring magnetic field of the multipole magnet arrangement, whereby a secure ignition and maintenance of an ECR plasma in the region of the ring magnetic field is ensured.
  • the arrangement of the shield coaxial with the annular gap magnetic field for delimiting the plasma chamber acts in an advantageous manner.
  • the carrier gas and reactive gases can be supplied in a known manner in the vacuum chamber.
  • a feeder e.g. for the carrier gas, also be provided via a bore axially in the inner conductor.
  • the outlet opening of the gas supply can lie directly in the region of the radiation of the microwave power from the antenna.
  • the ECR plasma sources according to the invention can also be arranged in parallel in the form of rows and columns in an array of individual ECR plasma sources for the plasma treatment of larger areas.
  • FIG. 1 shows a section through an ECR plasma source according to the invention.
  • FIG. 2 shows an overall perspective view of the ECR plasma source according to FIG. 1.
  • FIG. 3 shows, in addition to exemplary embodiment II, an ECR plasma source modified in comparison to FIG. 1 in a plasma coating device.
  • FIG. 1 shows the basic structure of an ECR plasma source according to the invention.
  • the ECR plasma source consists of a coaxial microwave feed 1 with an inner conductor 2 and an outer conductor 3 coaxial with the inner conductor 2.
  • the inner conductor 2 is insulated from the outer conductor 3 by a dielectric body 4.
  • the dielectric body 4 ensures that the inner conductor 2 penetrates a vacuum flange 5 in isolation, so that the corresponding end of the inner conductor 2 protrudes freely into the plasma chamber.
  • the vacuum flange 5 is designed as a mounting flange, which closes off an opening in the wall to the plasma chamber 6 in a vacuum-tight manner.
  • a multi-membered permanent magnet is located.
  • polmagnetan extract 8 arranged with an iron shell 9.
  • an annular gap magnetic field 12 is coaxially generated around the antenna 7, which penetrates the vacuum flange 5 and extends into the plasma chamber 6.
  • a shield 13 is arranged, whose face remote from the vacuum flange forms the plasma outlet opening 25.
  • the shield 13 delimits the plasma chamber 6 and advantageously influences the formation of an ECR plasma in the plasma chamber 6.
  • the antenna 7 is formed as a relative to the inner conductor 2 radially enlarged antenna head 14 which has parallel to the vacuum flange 5 a bottom side 15, such that formed between the vacuum flange 5 and the bottom 15 of the antenna head 14, an annular gap 16 becomes.
  • the antenna head 14 is formed in the shape of a truncated cone. This results in an advantageous radiation of the microwave power in the direction of the annular gap magnetic field 12th
  • FIG. 2 is still a perspective view of the ECR plasma source.
  • a microwave applicator 18 can be seen, which serves as a shaft transformer between a rectangular waveguide and the microwave feed 1 and for coarse microwave adjustment to a microwave generator, not shown here, is used.
  • FIG. 3 shows a similar embodiment of the ECR plasma gullies as in FIG. 1, but in a schematic combination with a coating device, essentially consisting of a vacuum chamber 20 with a pumping neck 21 and a substrate carrier 22, on which to be treated Substrates 23 can be positioned.
  • a coating device essentially consisting of a vacuum chamber 20 with a pumping neck 21 and a substrate carrier 22, on which to be treated Substrates 23 can be positioned.
  • the ECR plasma source according to the invention is arranged parallel to the substrate carrier 22 with the plasma outlet opening 25, which corresponds to the end face of the shielding 13 remote from the vacuum flange 5.
  • a bore 24 is present centrally in the inner conductor 2.
  • Carrier gas and reactive gases can optionally be fed into the vacuum chamber 20 via the two bores 17 and 24.
  • the inner conductor 2 and the antenna 7 are arranged insulated in the outer conductor 3 of the microwave feed 1.
  • an additional power supply 26 can be connected to the inner conductor 2 with the antenna 7.
  • the shield 13 is further provided on the inside with an insulating lining 27. This allows the ECR plasma to via ground potential, be set to different high potentials.
  • both direct voltage and alternating voltage sources can be used for the power supply.
  • a potential more positive than ground potential is set, extraction of ions in the direction of e.g. at ground potential substrates 23 a.
  • an AC voltage When an AC voltage is connected, it coalesces with the ECR plasma, forming an alternating R, s potential.
  • ions or electrons of different densities are extracted.
  • the ECR plasma source then becomes the plasma jet source.
  • the specific ECR plasma source according to the invention may, for example, have the following construction dimensions.
  • the dimensions of the vacuum flange 5 correspond to the ISO standard 3669 for DN 160 CF.
  • the plasma chamber 6 is surrounded by the cup-shaped shield 13 with a height of
  • the inner, insulating lining 27 has corresponding dimensions.
  • the liner may also be replaceable and made of other materials, e.g. Aluminum foil, consist.
  • the ⁇ nntennenkopf 14 in the form of a truncated cone has a height of 25 mm and a diameter at the bottom 15 of 80 mm and is made of stainless steel.
  • the annular gap 16 between the vacuum flange 5 and the bottom 15 has a height of 4 mm and a radial length of 30 mm.
  • the radially inner surface of the annular gap 16 thus advantageously lies opposite the vacuum chamber or plasma treatment chamber in the optical shadow region.
  • the radially inner surface of the annular gap 16 is located in the
  • the microwave power 1 is supplied via the microwave applicator 18 of the microwave power and radiated from the antenna head 14 of the antenna 7 in the plasma chamber 6. Due to the special form of the antenna head 14 in relation to the shield
  • the annular gap magnetic field 14 is superimposed with the microwave power and in the plasma chamber 6
  • the 14 of the antenna 7 allows in a surprising way the radiation of the microwave power, without that already takes place at the antenna 7, an unwanted plasma ignition, which could lead to limitation of the radiator properties of the antenna. This is mainly due to the particular shape of the antenna head 14 and the geometric arrangement of the shield 13 for limiting the plasma chamber 6 with respect to the location of the annular gap magnetic field 12, where the ECR plasma 19 is formed.
  • annular gap 16 between the underside 15 of the antenna head 14 and the vacuum flange 5.
  • annular gap 16 is formed in a simple manner by the design of the antenna head 14 as a truncated cone.
  • the particular shape of the antenna head 14 also meets all the requirements for an advantageous microwave radiator.
  • the radiator properties of the antenna 7 and the radial length of the annular gap 16 can be varied in a simple manner. If the gap length is set at least lambda / 4 (wavelength / 4) of the exciter frequency, this has an advantageous effect on the radiator properties of the antenna 7. An unwanted plasma ignition directly at the antenna with the consequence of a short circuit of the discharge is prevented.
  • the ECR plasma source was used to deposit hard amorphous carbon films.
  • an atmosphere with acetylene was used as the reactive gas and carbon carrier in the coating chamber.
  • the process pressure was mbar approximately 5x10 "4.
  • an average deposition rate of approximately 20 nm / min to about 40 nm / min can be achieved.

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine ECR-Plasmaquelle bestehend aus einer koaxialen Mikrowellenzuführung (1) mit einem Innenleiter ( 2 ) und einem Außenleiter ( 3 ), wobei der Innenleiter (2) mit einem Ende als Antenne (7) isoliert einen Vakuumflansch (5) durchdringt, der eine Öffnung in der Wand zum Plasmaraum (6) abschließt. Koaxial zur Mikrowellenzuführung (1) ist eine Multipolmagnetanordnung (8) vorgesehen, deren Magnetfelder den Vakuumflansch (5) durchdringen und im Plasmaraum ( 6 ) koaxial zur Antenne ( 7 ) ein Ringspalt-Magnetfeld (12) ausbilden. Die Antenne (7) ragt direkt in den Plasmaraum (6) und gegenüber dem Innenleiter (2) weist sie einen radial größeren Antennenkopf (14) auf, an dem parallel zum Vakuumflansch (5) eine Unterseite (15) vorgesehen ist, derart dass zwischen dem Vakuumflansch (5) und der Unterseite (15) ein Ringspalt (16) ausgebildet wird, und dass der Plasmaraum (6) koaxial zur Antenne (7) und radial außerhalb des Ringspalt-Magnetf eldes ( 12 ) durch eine Abschirmung (13) begrenzt wird, deren dem Vakuumflansch abgewandte Stirnseite die Plasmaaustrittsöffnung (25) definiert.

Description

Beschreibung
ECR-Plasmaquelle
Technisches Gebiet
[1] Die Erfindung betrifft einen ECR-Plasmaquelle nach dem Oberbegriff des Anspruchs lf insbesondere für die Behandlung von Oberflächen im Niederdruckbereich, z.B. zur Oberflächenaktivierung, der Reinigung, dem Abtrag oder der Beschichtung von Substraten. Die ECR-Plasmaquelle besteht aus einer koaxialen Mikrowellenzuführung mit einem Innen- und Außenleiter, die isoliert einen Vakuumflansch durchdringt, welcher eine Öffnung in der Wand zum Plasmaraum abschließt. Weiterhin umfasst die ECR-Plasmaquelle eine Antenne, die als ein Ende des Innenleiters den Vakuumflansch isoliert durchdringt, und eine koaxial zur Mikro- wellenzuführung angeordneten Multipolmagnetanordnung, deren Magnetfelder den Vakuumflansch durchdringen und im Plasmaraum um die Antenne ein Ringmagnetfeld ausbilden.
Stand der Technik
[2] Nach dem Stand der Technik sind vielfältige ECR-Plas- maquellen sowie Plasma- und lonenstrahlverfahren bekannt. Z.B. gibt die EP 0 448 077 ßi ein Mikrowellen-Plasmatron zur Erzeugung einer durch ein Magnetfeld gestützten Mikrowellen-Entladung, bestehend aus einem Entladungsraum, einer Einkoppelanordnung für die Mikrowellen in den Entla- dungsraum und Magnete an. Auf einem Oberflächenwellenleiter ist ein oder sind mehrere hohlzylinderförmige Magnete angeordnet, die von einem U-förmig ausgebildeten Mantel aus ferromagnetischem Material in der Art umschlossen sind, dass die offene Seite am Oberflächenwellenleiter anliegt, und zentrisch zum hohlzylinderförmigen Magneten die Einkoppelanordnung für die Mikrowellen angebracht ist. Die Vakuumabtrennung des Entladungsraumes von der Einkoppelstelle der Mikrowellen wird von einem Quarzglasbecher gewährleistet, der für die Mikrowellen durchlässig ist. Die hohlzylinderförmigen Magnete können Spulen oder Permanentmagnete sein.
[3] Durch die Kombination der Entladung mit Magnetfeldern wird der Elektron-Zyklotron-Effekt, kurz ECR-Effekt genannt, genutzt. Damit kann insbesondere der Einsatzdruck- bereich zu sehr niedrigeren Drucken, bis ca. 10"5mbar, erweitert werden.
[4] Beispielhaft wird das Mikrowellen-Plasmatron in einem Druckbereich von 10~2 Pa bei einer Mikrowellenleistung von 400 W betrieben und ein Plasma sicher gezündet. Unabhängig von der Gasart werden Ionendichten zwischen 3 bis 10 x 1010 cm"3 erreicht. Aus dem Plasma werden ionenströme mit homogenen Stromdichteverteilungen bis 3 mA/cm2 über 6 Zoll Durchmesser extrahiert.
[5] In der praktischen Anwendung derartiger Plasmaquellen ist insbesondere nachteilig, dass erhebliche Wartungsmaßnahmen des Entladungsraumes erforderlich sind. So wird eine häufige Reinigung des BeschichtungsSystems notwendig, wodurch die Kosten des Beschichtungsverfahren erheblich steigen. [6] Je nach den eingesetzten Schichtmaterialien ergeben sich insbesondere bei Plasma-Beschichtungsverfahren elektrisch wenig leitfähige bis hoch leitfähige Schichten. Die aufwachsenden Schichten belegen dabei nicht nur die verwen- deten Probenkörper, sondern mehr oder weniger auch alle in unmittelbarer Umgebung befindlichen Oberflächen von Bauteilen des gesamten BeschichtungsSystems. Das kann zur zeitabhängigen Beeinflussung des Beschichtungsergebnisses führen bzw. schränkt die möglichen Beschichtungszeiten ein.
[7] Häufige Ursache für die Einschränkung der Beschich- tungsdauer sind leitfähige Schichten, die auf Spannungsoder Stromdurchführungen Kurzschlüsse erzeugen bzw. auf den KoppeIfenstern von elektrodenlosen Plasmaquellen die weitere Einkopplung von elektrischer Leistung verhindern.
Darstellung der Erfindung
[8] Der Erfindung liegt damit als Aufgabe zugrunde, eine ECR-Plasmaquelie anzugeben, die in einfacher Weise die Nachteile des Standes der Technik behebt und lange störungsfreie Betriebszeiten der ECR-Plasmaquelle ermöglicht.
[9] Die Erfindung löst die Aufgabe durch die im Anspruch 1 angegebenen Merkmale. Vorteilhafte Weiterbildungen der
I i
Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet und werden nachstehend zusammen mit der Beschreibung der bevorzugten Ausführung der Erfindung, einschließlich der Zeich- nung, näher dargestellt.
[10] Eine ECR-Plasmaquelle nach dem Stand der Technik, bestehend aus einer koaxialen Mikrowellenzuführung mit einem Innenleiter und einem Außenleiter, wobei der Innenleiter mit einem Ende als Antenne isoliert einen Vakuumflansch durchdringt, der eine Öffnung in der Wand zum Plasmaraum abschließt, und einer koaxial zur Mikrowellen- Zuführung angeordneten Multipolmagnetanordnung, deren
Magnetfelder den Vakuumflansch durchdringen und im Plasmaraum um die Antenne ein Ringspalt-Magnetfeld ausbilden, wird in vorteilhafter Weise weiter entwickelt.
[11] Erfindungsgemäß ragt die Antenne direkt in den Plasmaraum. Ein nach dem Stand der Technik vorgesehener
Quarzglasbecher oder Keramikbecher, der die Antenne umhüllt ist danach nicht vorhanden.
[12] Der Plasmaraum im Sinne der Erfindung wird koaxial zur Antenne und zum Ringspalt-Magnetfeld durch eine Ab- schirmung begrenzt, die am Vakuumflansch gehaltert ist. Die Stirnseite der Abschirmung, die dem Vakuumflansch abgewandt ist, bildet die Plasmaaustrittsöffnung zur Vakuumkammer bzw. Plasma-Behandlungskammer.
[13] Weiterhin weist die Antenne einen zum Innenleiter radial größeren Antennenkopf mit einer Unterseite parallel zum Vakuumflansch auf, derart dass zwischen dem Vakuumflansch und der Unterseite ein Ringspalt ausgebildet wird.
[14] Die Höhe und die radiale Länge des Ringspaltes sowie die geometrische Anordnung der Abschirmung sind derart eingestellt, dass die radial innere Fläche des
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Ringspaltes gegenüber der Vakuumkammer bzw. Plasma-Behandlungskammer im optischen Schattenbereich liegt. [15] In vorteilhafter Weise ist die radiale Länge des Ringspaltes größer Lambda/4 der Erregerfrequenz. Die Höhe des Ringspaltes wird nach den bekannten Regeln zur Dimensionierung einer Dunkelraumabschirmung derart eingestellt, dass im Ringspalt ein Plasma-Schattenbereich ausgebildet wird und eine Plasmazündung mit Sicherheit ausgeschlossen ist.
[16] Die der Unterseite des Antennenkopfes gegenüber liegende Koppelfläche der Antenne ist in vorteilhafter Weise mindestens teilweise als Kegel, Kegelstumpf oder Kugelsegment ausgebildet. Diese Oberflächengestaltung bewirkt eine vorteilhafte Abstrahlung der Mikrowellenleistung in Richtung des Ring-Magnetfeldes der Multipolmagnet- anordnung, wodurch ein sicheres Zünden und Aufrechterhalten eines ECR-Plasmas im Bereich des Ring-Magnetfeldes gewährleistet ist. Dabei wirkt auch die Anordnung der Abschirmung koaxial zum Ringspalt-Magnetfeld zur Abgrenzung des Plasmaraumes in vorteilhafter Weise.
[17] Das Trägergas und Reaktivgase können in bekannter Weise in die Vakuumkammer zugeführt werden. Dabei kann eine Zuführung, z.B. für das Trägergas, auch über eine Bohrung axial im Innenleiter vorgesehen werden. Die Austrittsöffnung der Gaszuführung kann dabei direkt im Bereich der Abstrahlung der Mikrowellenleistung von der Antenne liegen.
[18] Die erfindungsgemäßen ECR-Plasmaquellen können zur Plasmabehandlung größerer Flächen auch in einer Vielzahl einzelner ECR-Plasmaquellen parallel in Form von Zeilen und Spalten als Array angeordnet sein. Ausführungsbeispiele
[19] Die Erfindung wird nachstehend an zwei Ausführungs- beispielen näher erläutert. Zugehörig zum Ausführungsbeispiel I zeigt Figur 1 einen Schnitt durch eine erfindungs- gemäße ECR-Plasmaquelle. Figur 2 zeigt eine perspektivische Gesamtdarstellung der ECR-Plasmaquelle nach Figur 1. Figur 3 zeigt zugehörig zum Ausführungsbeispiel II eine gegenüber Figur 1 abgewandelte ECR-Plasmaquelle in einer Plasma- Beschichtungseinrichtung.
Ausführungsbeispiel I
[20] Figur 1 zeigt den prinzipiellen Aufbau einer erfindungsgemäßen ECR-Plasmaquelle. Die ECR-Plasmaquelle besteht aus einer koaxialen Mikrowellenzuführung 1 mit einem Innenleiter 2 und einem zum innenleiter 2 koaxialen Außenleiter 3. Der Innenleiter 2 ist gegenüber dem Außenleiter 3 durch einen dielektrischen Körper 4 isoliert. Dabei gewährleistet der dielektrischen Körper 4 gleichzeitig, dass der Innenleiter 2 einen Vakuumflansch 5 isoliert durchdringt, so dass das entsprechende Ende des Innenleiters 2 frei in den Plasmaraum ragt.
[21] Der Vakuumflansch 5 ist als Montageflansch ausge- bildet, der eine Öffnung in der Wand zum Plasmaraum 6 vakuumdicht abschließt.
[22] Das Ende des Innenleiters 2, welches den Vaku- umflansch 5 durchdringt und in den Plasmaraum 6 hinein ragt, bildet die Antenne 7 der Mikrowellenzuführung 1. Koaxial zur Mikrowellenzuführung 1 ist außerhalb des Plasmaraumes 6 eine mit Permanentmagneten bestückte Multi- polmagnetanordnung 8 mit einem Eisenmantel 9 angeordnet. Im Bereich von Polschuhen 10 und 11 des Eisenmantels 9 wird koaxial um die Antenne 7 ein Ringspalt-Magnetfeld 12 erzeugt, welches den Vakuumflansch 5 durchdringt und in den Plasmaraum 6 hineinreicht.
[23] Koaxial zur Antenne 7 und radial außerhalb des Ringspalt-Magnetfeldes 12 ist eine Abschirmung 13 angeordnet, deren dem Vakuumflansch abgewandte Stirnfläche die Plasmaaustrittsöffnung 25 bildet. Die Abschirmung 13 be- grenzt den Plasmaraum 6 und beeinflusst vorteilhaft die Ausbildung eines ECR-Plasmas im Plasmaraum 6.
[24] Erfindungsgemäß ist die Antenne 7 als ein gegenüber dem Innenleiter 2 radial vergrößerter Antennenkopf 14 ausgebildet, der parallel zum Vakuumflansch 5 eine Unter- seite 15 aufweist, derart, dass zwischen dem Vakuumflansch 5 und der Unterseite 15 des Antennenkopfes 14 ein Ringspalt 16 ausgebildet wird. Gegenüber seiner Unterseite 15 ist der Antennenkopf 14 in der Form eines Kegelstumpfes ausgebildet. Dadurch erfolgt eine vorteilhafte Abstrahlung der Mikrowellenleistung in Richtung des Ringspalt-Magnetfeldes 12.
[25] Im Ausführungsbeispiel I erfolgt die Zuführung eines Trägergase oder Reaktivgases über eine Bohrung 17 im Vakuumflansch 5.
[26] Zum besseren Verständnis ist die ECR-Plasmaquelle nach Ausführungsbeispiel I zeigt Figur 2 noch eine perspektivische Darstellung der ECR-Plasmaquelle. Ergänzend zu Figur 1 ist ein Mikrowellen-Applikator 18 erkennbar, der als Wellentransformator zwischen einem Rechteck-Hohlleiter und der Mikrowellenzuführung 1 sowie zur groben Mikrowellen-Anpassung an einen hier nicht dargestellten Mikrowellen-Generator dient.
Ausführungsbeispiel Il
[27] Figur 3 zum Ausführungsbeispiel II zeigt eine ähnliche Ausführung der ECR-Plasmaguelle wie in Figur 1, jedoch in einer schematischen Zusammenschau mit einer Beschichtungseinrichtung, im Wesentlichen bestehend aus einer Vakuumkammer 20 mit einem Pumpstutzen 21 und einem Substratträger 22, auf dem zu behandelnde Substrate 23 positioniert werden können.
[28] Die erfindungsgemäße ECR-Plasmaquelle ist mit der Plasmaaustrittsöffnung 25, diese entspricht der dem Vakuumflansch 5 abgewandten Stirnseite der Abschirmung 13, parallel gegenüber dem Substratträger 22 angeordnet.
[29] Zusätzlich zur Bohrung 17 entsprechend Ausführungsbeispiel I ist zentrisch im Innenleiter 2 eine Bohrung 24 vorhanden. Über die beiden Bohrungen 17 und 24 können wahlweise Trägergas und Reaktivgase in die Vakuumkammer 20 zugeführt werden.
[30] Wie im Ausführungsbeispiel I ist der Innenleiter 2 und die Antenne 7 im Außenleiter 3 der Mikrowellenzuführung 1 isoliert angeordnet. Damit kann eine zusätzliche Spannungsversorgung 26 an den Innenleiter 2 mit der Antenne 7 angeschlossen werden. Im Ausführungsbeispiel II ist weiterhin die Abschirmung 13 innen mit einer isolierenden Auskleidung 27 versehen. Dadurch kann das ECR-Plasma, gegen- über Masse-Potential, auf verschieden hohe Potenziale eingestellt werden.
[31] Zur Spannungsversorgung können wahlweise sowohl Gleichspannungs- als auch Wechselspannungsquellen einge- setzt werden. Wird z.B. an der Mikrowellenzuführung 1 ein gegenüber Masse-Potenzial positiveres Potential eingestellt, so setzt eine Extraktion von Ionen in Richtung der z.B. auf Masse-Potenzial liegenden Substrate 23 ein. Wird eine WechselSpannung angeschlossen, so koinmt es zu einer Überlagerung mit dem ECR-Plasma, wodurch ein alternierendes Randsσhichtpotenzial gebildet wird. Je nach der momentanen Polarität und Größe des Randschichtpotenziales des ECR- Plasmas, im Bezug zum Substratpotenzial, werden Ionen bzw. Elektronen unterschiedlicher Dichte extrahiert. Die ECR- Plasmaquelle wird dann zur Plasmastrahlquelle.
[32] Die konkrete erfindungsgemäße ECR-Plasmaquelle kann beispielsweise folgende Konstruktionsmaße aufweisen. Die Abmessungen des Vakuumflansches 5 entsprechen dabei dem ISO-Standard 3669 für DN 160 CF. Der Plasmaraum 6 wird durch die topfförmige Abschirmung 13 mit einer Höhe von
45 mm und einem Durchmesser von 145 mm bestimmt. Die innere, isolierende Auskleidung 27 hat entsprechende Maße. Wahlweise kann die Auskleidung auch auswechselbar sein und aus anderen Materialien, z.B. Aluminiumfolie, bestehen.
[33] Der Äntennenkopf 14 in der die Form eines Kegelstumpfes hat eine Höhe von 25 mm und einen Durchmesser an der Unterseite 15 von 80 mm und ist aus Edelstahl gefertigt. [34] Der Ringspalt 16 zwischen dem Vakuumflansch 5 und der Unterseite 15 weist eine Höhe von 4 mm und eine radiale Länge von 30 mm auf. Damit ist im typischen Einsatzbereich einer ECR-Plasmaquelle bei einem Druck von IxIO"4 bis IxIO"2 mbar im Ringspalt 16 keine Plasmazündung möglich.
[35] Im Zusammenwirken mit der Abschirmung 13 liegt damit die radial innere Fläche des Ringspaltes 16 in vorteilhafter Weise gegenüber der Vakuumkammer bzw. Plasma- Behandlungskammer im optischen Schattenbereich. Zusätzlich liegt die radial innere Fläche des Ringspaltes 16 im
Plasma-Schattenbereich, so dass der Ringspalt 16 auch durch im Plasma bewegte Partikel nicht beschichtet werden kann.
[36] Nachfolgend wird die ECR-Plasmaquelle im Einsatz zur plasmagestützten Schichtabscheidung näher beschrieben.
[37] Nach der Einstellung der erforderlichen Atmosphäre in der Vakuumkammer 20 mit dem Plasmaraum 6 wird über den Mikrowellen-Applikator 18 der Mikrowellenzuführung 1 die Mikrowellenleistung zugeführt und vom Antennenkopf 14 der Antenne 7 in den Plasmaraum 6 abgestrahlt. Durch die be- sondere Form des Antennenkopfes 14 im Bezug zur Abschirmung
13 wird das Ringspalt-Magnetfeld 14 mit der Mikrowellenleistung überlagert und im Plasmaraum 6 kommt es zur Aus-
I I 1 . bildung eines Elektron-Zyklotron-Effektes, d.h. es wird in diesem Bereich !ein ECR-Plasma 19 gezündet und aufrecht erhalten.
[38] Die erfindungsgemäße Ausbildung des Antennenkopfes
14 der Antenne 7 ermöglicht in überraschender Weise die Abstrahlung der Mikrowellenleistung, ohne dass bereits an der Antenne 7 eine unerwünschte Plasmazündung erfolgt, was zur Einschränkung der Strahlereigenschaften der Antenne führen könnte. Das wird im Wesentlichen durch die besondere Form des Antennenkopfes 14 und die geometrische Anordnung der Abschirmung 13 zur Begrenzung des Plasmaraumes 6 in Bezug zum Ort des Ringspalt-Magnetfeldes 12, wo sich das ECR-Plasma 19 ausbildet.
[39] Von besonderem Vorteil ist die einfache Ausbildung des Ringspaltes 16, zwischen der Unterseite 15 des Antennenkopfes 14 und dem Vakuumflansch 5. Im Ausführungsbei- spiel wird der Ringspalt 16 in einfacher Weise durch die Gestaltung des Antennenkopfes 14 als Kegelstumpf ausgebildet. Die besondere Form des Antennenkopfes 14 erfüllt auch alle Voraussetzungen für einen vorteilhaften Mikrowellen-Strahler.
[40] Durch Veränderung der Höhe und des Durchmessers des Kegelstumpfes können die Strahlereigenschaften der Antenne 7 und die radiale Länge des Ringspaltes 16 in einfacher Weise variiert werden. Wird die Spaltlänge mindestens Lambda/4 (Wellenlänge/4) der Erregerfrequenz eingestellt, so wirkt sich das vorteilhaft auf die Strahlereigenschaften der Antenne 7 aus. Eine unerwünschte Plasmazündung direkt an der Antenne mit der Folge eines Kurzschlusses der Entladung wird verhindert.
[41] Von besonderer Bedeutung ist dabei, dass die radial innere Fläche des Ringspaltes 16 bei der Abscheidung leitfähiger wie isolierender Schichten, nicht beschichtet wird, so dass die bei Lösungen nach dem Stand der Technik bereits in kurzen Zeitabständen erforderlichen Wartungsarbeiten entfallen. [42] Die Form des erzeugten ECR-Plasmas 4 kann leicht empirisch mit der Höhe der Abschirmung 13 sowie mit dem Abstand der Abschirmung 13 zur Antenne 7 angepasst bzw. beeinflusst werden.
[43] In einer spezifischen Anwendung wurde die ECR- Plasmaquelle zur Abscheidung von harten amorphen Kohlenstoffschichten eingesetzt. Dabei wurde als Reaktivgas und Kohlenstoffträger in der Beschichtungskammer eine Atmosphäre mit Acetylen eingesetzt. Der Prozessdruck betrug ca. 5x10"4 mbar. Bei einem Abstand der Substraten 23 zur Plasmaaustrittsöffnung 25 an der Abschirmung 13 der ECR- Plasmaquelle von ca. 100 mm konnten je nach eingesetzter Mikrowellen-Leistung eine mittlere Beschichtungsrate von ca. 20 nm/min bis ca. 40 nm/min erreicht werden.
[44] Bei einem Beschichturigstest über 40 h Beschich- tungsdauer, mit den oben genannten Prozessparametern, konnten keine Änderungen in der Mikrowellen-Anpassung, sowie in der Stabilität des ECR-Plasmas beobachtet werden. Die Schichtdicke der abgeschiedenen Kohlenstoffschicht betrug dabei ca. 100 μm. Diese Ergebnisse zeigen eine besondere Tauglichkeit der erfindungsgemäßen ECR-Plasma- quelle bei der Abscheidung von leitfähigen Dünnschichten.
Liste der verwendeten Bezugszeichen
I Mikrowellenzuführung 2 Innenleiter 3 Außenleiter 4 dielektrischer Körper
5 Vakuumflansch 6 Plasmaraum
7 Antenne 8 Multipolmagnetanordnung
9 Eisenmantel 10 Polschuh
II Polschuh 12 Ringspalt-Magnetfeld
13 Abschirmung 14 Antennenkopf
15 Unterseite 16 Ringspalt
17 Bohrung 18 Mikrowellen-Applikator
19 ECR-Plasma 20 Vakuumkammer
21 Pumpstutzen 22 Substratträger
23 Substrat 24 Bohrung
25 Plasmaaustrittsöffnung 26 Spannungsversorgung
27 isolierende Auskleidung

Claims

Ansprüche
1. ECR-Plasmaquelle, bestehend aus einer koaxialen Mikrowellenzuführung (1) mit einem Innenleiter (2) und einem Außenleiter ( 3 ) , wobei der Innenleiter ( 2 ) mit einem Ende als Antenne (7) isoliert einen Vakuumflansch (5) durchdringt, welcher eine Öffnung in der Wand zum Plasmaraum (6) abschließt, und einer koaxial zur Mikrowellenzuführung (1) angeordneten Multipolmagnetanordnung
( 8 ) , deren Magnetfelder den Vakuumflansch ( 5 ) durchdringen und im Plasmaraum (6) koaxial zur Antenne (7) ein Ringspalt-Magnetfeld (12) ausbilden, dadurch gekennzeichnet, dass die Antenne (7) direkt in den Plasmaraum (6) ragt und gegenüber dem Innenleiter (2) einen radial größeren Antennenkopf (14) aufweist, an dem parallel zum Vakuumflansch (5) eine Unterseite (15) vorgesehen ist, derart dass zwischen dem Vakuumflansch (5) und der Unterseite (15) ein Ringspalt (16) ausgebildet wird, und dass der Plasmaraum (6) koaxial zur Antenne (7) und radial außerhalb des Ringspalt-Magnet- feldes (12) durch eine Abschirmung (13) begrenzt wird, deren dem Vakuumflansch abgewandte Stirnseite die Plasmaaustrittsöffnung (25) definiert.
2. ECR-Plasmaquelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die radial innere Fläche des Ringspaltes (16) im optischen Schatten zwischen der Plasmaaustrittsöffnung (25) und der äußeren kante an der Unterseite (15) am Antennenkopf (14) liegt.
3. ECR-Plasmaquelle nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die radiale Länge des Ringspaltes (16) größer Lambda/4 der Erregerfrequenz ist und die Höhe des Ringspaltes (16) derart eingestellt ist, dass im Ringspalt ein Plasma-Schattenbereich ausgebildet wird und eine Plasmazündung mit Sicherheit ausgeschlossen ist.
4. ECR-Plasmaquelle nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Antennenkopf (14) gegenüber seiner Unterseite (15) eine Koppelfläche aufweist, die mindestens teilweise als Kegel, Kegelstumpf oder Kugelsegment ausgebildet ist.
5. ECR-Plasmaquelle nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass axial im Innenleiter (2) eine Bohrung zur Zuführung eines Prozessgases vorhanden ist.
6. ECR-Plasmaquelle nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Innenleiter (2) zusätzlich mit einer Spannungsquelle (26) verbunden ist und die Abschirmung (13) eine isolierende Auskleidung (27) aufweist.
7. ECR-Plasmaquelle nach einem der vorangegangenen Ansprü- che, dadurch gekennzeichnet, dass eine Vielzahl einzelner ECR-Plasmaquellen zur Plasmabehandlung größerer Flächen parallel in Form von Zeilen und Spalten als Array angeordnet sind.
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