JP2010500470A - Ecrプラズマ源 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明によるECRプラズマ源の基本構成を図示している。このECRプラズマ源は、内部導体2及び内部導体2と同軸の外部導体3を備えた同軸型マイクロ波供給部1から構成されている。内部導体2は、誘電体4によって、外部導体3に対して絶縁されている。この場合、誘電体4は、内部導体2が真空フランジ5を絶縁された形で貫通することを同時に保証しており、そのため内部導体2の対応する端部がプラズマ室内に開放された形で突き出ている。
<実施例II>
実施例IIに関する図3は、図1と同様のECRプラズマ源の実施形態を図示しているが、基本的に、ポンプ支柱21を備えた真空室20と、処理すべき基板23を上に設置することができる基板支持体22とから構成されるコーティング装置との模式的な概観により図示している。
2 内部導体
3 外部導体
4 誘電体
5 真空フランジ
6 プラズマ室
7 アンテナ
8 多極磁石機器
9 鉄製外被
10 磁極片
11 磁極片
12 リングギャップ状磁場
13 シールド
14 アンテナヘッド
15 下側
16 リング状の隙間
17 穿孔
18 マイクロ波アプリケータ
19 ECRプラズマ
20 真空室
21 ポンプ支柱
22 基板支持体
23 基板
24 穿孔
25 プラズマ放射開口部
26 電源
27 絶縁性ライニング
Claims (7)
- 内部導体(2)と外部導体(3)を備えた同軸型マイクロ波供給部(1)と、そのマイクロ波供給部(1)と同軸に配置された多極磁石機器(8)とから構成され、アンテナ(7)としての一端を備えた内部導体(2)が、プラズマ室(6)に対する壁面内の開口部を閉鎖する真空フランジ(5)を絶縁された形で貫通し、多極磁石機器の磁場が、真空フランジ(5)を貫通して、プラズマ室(6)内にアンテナ(7)と同軸にリングギャップ状磁場(12)を形成するECRプラズマ源において、
アンテナ(7)が、プラズマ室(6)内に直に突き出るとともに、内部導体(2)に向かって半径方向に拡大して行くアンテナヘッド(14)を有し、そのアンテナヘッドには、真空フランジ(5)に対して平行な下側(15)が配設されており、真空フランジ(5)とその下側(15)の間にリング状の隙間(16)が形成されていることと、
プラズマ室(6)が、アンテナ(7)と同軸に、かつ半径方向に対してリングギャップ状磁場(12)の外側において、シールド(13)によって境界を画定されており、そのシールドの真空フランジと反対の正面側が、プラズマ放射開口部(25)を規定していることと、
を特徴とするECRプラズマ源。 - リング状の隙間(16)の半径方向に対して内側の面が、プラズマ放射開口部(25)とアンテナヘッド(14)の下側(15)の外縁間の光学的な影の中に有ることを特徴とする請求項1に記載のECRプラズマ源。
- リング状の隙間(16)の半径方向の長さは、励起周波数の波長λの1/4よりも大きく、かつリング状の隙間(16)の高さは、リング状の隙間内において、プラズマの影領域を形成して、プラズマの生成を確実に排除する高さに設定されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のECRプラズマ源。
- アンテナヘッド(14)が、その下側(15)を底辺とする、少なくとも部分的に円錐、円錐台又は円錐部分の形状に形成された入力結合面を有することを特徴とする請求項1から3までのいずれか一つに記載のECRプラズマ源。
- 内部導体(2)内の軸方向に、プロセスガスを供給するための穿孔が有ることを特徴とする請求項1から4までのいずれか一つに記載のECRプラズマ源。
- 内部導体(2)が、更に、電源(26)と接続されるとともに、シールド(13)が、絶縁性のライニング(27)を有することを特徴とする請求項1から5までのいずれか一つに記載のECRプラズマ源。
- より大きな面をプラズマ処理するために、多くの個別のECRプラズマ源が、行と列の形の配列として平行に配置されていることを特徴とする請求項1から6までのいずれか一つに記載のECRプラズマ源。
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