EP1854121B1 - Procede et appareil de maniement de matiere cible pour source de lumiere uv extreme - Google Patents

Procede et appareil de maniement de matiere cible pour source de lumiere uv extreme Download PDF

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Claims (25)

  1. Système de manipulation de matière source de plasma pour source de lumière UV extrême comprenant :
    - un générateur de gouttelettes (92) comportant un réservoir de matière source de plasma de générateur de gouttelettes (114) en communication de fluide avec un capillaire de formation de gouttelettes (164) et maintenu dans une plage sélectionnée de températures suffisantes pour garder la matière source de plasma sous une forme liquide ;
    - un système d'alimentation en matière source de plasma comportant un réservoir d'alimentation (112), ledit réservoir d'alimentation comprenant au moins un mécanisme chauffant (150), étant agencé en communication de fluide avec le réservoir de matière source de plasma de générateur de gouttelettes (114) et contenant au moins une quantité de recharge de matière source de plasma sous forme liquide pour un transfert au réservoir de matière source de plasma de générateur de gouttelettes (114), tandis que le générateur de gouttelettes est à température ;
    - un mécanisme de transfert transférant de la matière source de plasma liquide du réservoir d'alimentation (112) au réservoir de matière source de plasma de générateur de gouttelettes (114), tandis que le générateur de gouttelettes est à température.
  2. Système selon la revendication 1, comprenant en outre :
    - le mécanisme de transfert comprenant un conduit (122) interconnectant le réservoir d'alimentation (112) et le réservoir de matière source de plasma de générateur de gouttelettes (114).
  3. Système selon la revendication 2, comprenant en outre :
    - le mécanisme de transfert comprenant une valve (120) isolant le réservoir d'alimentation (112) du réservoir de matière source de plasma de générateur de gouttelettes (114).
  4. Système selon la revendication 3, comprenant en outre :
    - le réservoir d'alimentation (112) comprenant une forme solide de la matière source de plasma utilisée pour former périodiquement à partir d'une partie de la matière sous forme solide la matière sous forme liquide.
  5. Système selon la revendication 4, comprenant en outre :
    - le mécanisme de transfert comprenant un mécanisme chauffant (124) utilisé pour appliquer de la chaleur principalement à une surface de la forme solide de la matière source de plasma.
  6. Système selon la revendication 5, comprenant en outre :
    - le mécanisme de transfert comprenant une valve commandée par la chaleur (120) entre le réservoir d'alimentation (112) et le réservoir de matière source de plasma de générateur de gouttelettes (114).
  7. Système selon la revendication 6, comprenant en outre :
    - un mécanisme chauffant déplacé (180) disposé au-dessus d'une région de regroupement de matière fondue du réservoir d'alimentation (112) utilisé pour appliquer de la chaleur à une forme solide de la matière source de plasma au voisinage du mécanisme chauffant déplacé.
  8. Système selon l'une des revendications précédentes, comprenant en outre :
    - une extrémité de décharge du mécanisme de transfert positionnée au-dessous de la surface supérieure de la matière source de plasma de générateur de gouttelettes dans le réservoir de matière source de plasma de générateur de gouttelettes (114) durant le transfert de matière source de plasma liquide du réservoir d'alimentation (112) au réservoir de matière source de plasma de générateur de gouttelettes (114).
  9. Système selon l'une des revendications précédentes, comprenant en outre :
    - le réservoir d'alimentation (112) déplacé au-dessus du réservoir de matière source de plasma de générateur de gouttelettes (114).
  10. Système selon la revendication 9, comprenant en outre :
    - un dispositif de commande de manipulation de matière source de plasma liquide (90) maintenant un niveau de matière source de plasma de générateur de gouttelettes dans le réservoir de matière source de plasma de générateur de gouttelettes fondé sur la détection du niveau (130) de matière source de plasma de générateur de gouttelettes dans le réservoir de matière source de plasma de générateur de gouttelettes (114) et la détection d'un niveau (132) de matière source de plasma liquide dans le réservoir d'alimentation (112).
  11. Système selon la revendication 10, comprenant en outre :
    - le dispositif de commande commandant un mécanisme chauffant qui chauffe au moins une surface d'une forme solide de la matière source de plasma dans le réservoir d'alimentation avant le transfert en réponse à une détection du niveau (132) de matière source de plasma liquide dans le réservoir d'alimentation (112).
  12. Procédé d'approvisionnement de matière source de plasma pour source de lumière UV extrême du système de manipulation de matière source de plasma selon l'une des revendications 1 à 11, comprenant les étapes consistant à :
    - utiliser un procédé de nettoyage et de conditionnement initial pour obtenir des performances stables à long terme, à cause d'une contamination initiale due à une interaction chimique du métal liquide et des composants du système de manipulation de matière source de plasma en effectuant une vidange initiale du système.
  13. Procédé selon la revendication 12, comprenant en outre :
    - la vidange est entreprise à une température sélectionnée et introduite en quantité suffisante pour éviter un engorgement.
  14. Procédé selon la revendication 13, comprenant en outre :
    - soumettre les surfaces des composants du système de manipulation de matière source de plasma au contact de la matière source de plasma à un processus de passivation.
  15. Procédé selon la revendication 14, comprenant en outre :
    - la matière de passivation comprend un bain d'acide pour lessiver les matières par la réactivité des surfaces des composants avec la matière source de plasma fondue.
  16. Procédé selon la revendication 15, comprenant en outre :
    - choisir des matières pour les surfaces mouillées par la matière source de plasma liquide afin de limiter sensiblement la formation de composés intermétalliques par la matière de surface mouillée et la matière source de plasma liquide.
  17. Procédé d'approvisionnement de matière source de plasma pour source de lumière UV extrême dans un système de manipulation de matière source de plasma selon l'une des revendications 1 à 11, comprenant les étapes consistant à :
    - utiliser un filtre en ligne entre le système d'alimentation en matière source de plasma et le réservoir de matière source de plasma de générateur de gouttelettes afin d'empêcher que des contaminants dans le réservoir de matière source de plasma n'atteignent le réservoir de matière source de plasma de générateur de gouttelettes.
  18. Procédé d'approvisionnement de matière source de plasma pour source de lumière UV extrême dans un système de manipulation de matière source de plasma selon l'une des revendications 1 à 11, comprenant les étapes consistant à :
    - maintenir les températures dans au moins une partie sélectionnée du système de manipulation de matière, de façon à éviter des gradients thermiques dans l'au moins une partie sélectionnée suffisants pour provoquer des différences de solubilité suffisantes pour précipiter des composants insolubles en particules.
  19. Procédé selon la revendication 18, comprenant en outre :
    - maintenir au moins une partie sélectionnée du système de manipulation de matière en aval d'une valve du mécanisme de transfert à une température élevée suffisante pour éviter un blocage d'au moins une partie d'un passage rétréci de l'au moins une partie sélectionnée.
  20. Procédé selon la revendication 19, comprenant en outre :
    - l'au moins une partie sélectionnée est sélectionnée parmi le capillaire, une buse à l'extrémité de décharge du capillaire et un orifice de sortie de la buse.
  21. Système selon les revendications 1 à 11, comprenant en outre :
    - un mécanisme de stockage stockant de la matière source de plasma sous une forme solide dans le système d'alimentation en matière source de plasma de générateur de gouttelettes pour recharger la matière source de plasma dans la partie fondue du réservoir du système d'alimentation.
  22. Système selon la revendication 21, comprenant en outre :
    - un séparateur poreux séparant une partie de stockage sous forme solide du réservoir du système d'alimentation en matière source de plasma du réservoir du système d'alimentation en matière source de plasma fondue ;
    - un mécanisme chauffant qui chauffe le séparateur poreux pour injecter de la matière source de plasma liquide dans la partie fondue du réservoir du système d'alimentation en matière source de plasma en faisant fondre au moins une partie de la forme solide de la matière source de plasma.
  23. Système selon la revendication 22, comprenant en outre :
    - une trémie (242) dans le réservoir du système d'alimentation en matière source de plasma contenant de la matière source de plasma sous une forme solide distribuable comprenant un mécanisme de distribution commandé à distance délivrant une quantité sélectionnée de la matière source de plasma distribuable solide à la partie de matière source de plasma fondue du réservoir du système d'alimentation en matière source de plasma.
  24. Système selon la revendication 23, comprenant en outre :
    - la forme distribuable est une forme de boulette ou une forme de poudre.
  25. Système selon la revendication 24, comprenant en outre :
    - un mécanisme de maintien maintenant la matière source de plasma sous forme solide séparée de la partie fondue du réservoir du système d'alimentation en matière source de plasma ;
    - un mécanisme chauffant segmenté chauffant sélectivement un segment sélectionné de la matière source de plasma sous forme solide dans le réservoir du système d'alimentation en matière source de plasma pour recharger la matière source de plasma sous forme liquide dans la partie fondue du réservoir du système d'alimentation en matière source de plasma.
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