EP1149700A2 - Dosiersystem für eine Beschichtungseinheit in einer Druckmaschine - Google Patents

Dosiersystem für eine Beschichtungseinheit in einer Druckmaschine Download PDF

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EP1149700A2
EP1149700A2 EP01109264A EP01109264A EP1149700A2 EP 1149700 A2 EP1149700 A2 EP 1149700A2 EP 01109264 A EP01109264 A EP 01109264A EP 01109264 A EP01109264 A EP 01109264A EP 1149700 A2 EP1149700 A2 EP 1149700A2
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
roller
dosing system
plating device
coating fluid
plating
Prior art date
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Granted
Application number
EP01109264A
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English (en)
French (fr)
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EP1149700A3 (de
EP1149700B1 (de
Inventor
Peter Dipl.-Ing Hummel
Robert Dipl.-Ing. Ortner
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Manroland AG
Original Assignee
MAN Roland Druckmaschinen AG
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Filing date
Publication date
Application filed by MAN Roland Druckmaschinen AG filed Critical MAN Roland Druckmaschinen AG
Publication of EP1149700A2 publication Critical patent/EP1149700A2/de
Publication of EP1149700A3 publication Critical patent/EP1149700A3/de
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Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F23/00—Devices for treating the surfaces of sheets, webs, or other articles in connection with printing
    • B41F23/08—Print finishing devices, e.g. for glossing prints

Definitions

  • the invention relates to a metering system for a coating unit, especially for a coating unit, in a printing press according to the preamble of the main claim.
  • a metering system of this type is known from DE 34 27 898 C1 and can be used in particular in a coating unit.
  • the dosing system has a forme cylinder with an application roller is in functional connection.
  • the applicator roller is a metering roller assigned and in the formed by both rollers
  • the nip becomes the coating fluid from above via a feed pipe fed. About turbulence, air pockets or to avoid inconsistent order quantities is in the filled nip a separating element with communication openings used.
  • a scoop roller immersed in a paint reservoir is functionally connected to a metering roller.
  • the metering roller feeds the varnish to a rubber-coated applicator roller, which acts as a forme cylinder.
  • a metering system is known in which the scoop roller immersed in the reservoir can be driven in reverse operation, a doctor blade being employed as an additional metering point for the scoop roller.
  • a dosing system is known from DE 43 11 834 A1, through a forme cylinder, a screened application roller and one with this applicator roller in functional connection standing doctor blade system is formed.
  • the invention is based on the object of a metering system of the type mentioned at the beginning to create that with little Effort a uniform, stable guidance of a coating fluid, for example paint, on at least one roller surface achieved and the print quality noticeably improved.
  • a coating fluid for example paint
  • the coating fluid has been split (separation of the coating fluid layer) in a contact zone with a forme cylinder by tearing off the coating fluid, for example lacquer, especially when thread-like tearing off, there is no uniform distribution of the coating fluid over the roller width, but an uneven surface topography the remaining coating fluid, for example the residual lacquer, on the outer surface of the application roller.
  • a first advantage of the invention is based on the fact that, in the case of an uneven surface topography (peaks, peaks and valleys) of coating fluid, for example lacquer, which results from a previous tearing off of the coating fluid, at least one plating device is circumferentially assigned to at least one roller carrying the coating fluid.
  • the plating device causes a change in shape (plastic shaping) of the peaks or valleys and the valleys within the present surface structure of the coating fluid.
  • the change in shape represents a micro-reshaping of the surface structure of the coating fluid.
  • the tips or crests slide into the valleys, ie, sliding processes take place within the layer of the coating fluid structure, which bring about the plastic shaping, so that an almost flat surface topography can be achieved in a defined layer thickness.
  • plastic shaping by means of a plating device, it is advantageous that the coating fluid is not subject to a shearing action (shearing or splitting action), since a shearing action in turn leads to an unwanted tearing off of the coating fluid and thus to an uneven surface topography.
  • the relatively flat achieved by means of the plating device Surface topography of coating fluid works that Density fluctuations on the substrate can be significantly reduced are so that the print / gloss or sealing quality is noticeably improved.
  • the result is a flat surface topography of the coating fluid on the outer surface the respective roller over the roller width before the roller with a subsequent contact zone (e.g. another Gap) comes into contact.
  • the invention Plating device not on a roller of the dosing system is limited. Rather, the arrangement of plating devices also with other, the coating fluid color-carrying Rolling of a dosing system possible.
  • the coating fluid color-carrying Rolling of a dosing system possible.
  • a roller creates a homogeneous layer of coating fluid created that is easier to dose.
  • the plating device is used to create a relatively flat surface topography on the outer surface of an associated roller that carries the coating fluid. In the area of the plating device, the coating fluid should not be torn off on the outer surface of the corresponding roller, since otherwise uneven surface topographies would occur.
  • the design of the plating device is not limited to one or more mechanical plating device (s) with one or more plating element (s).
  • compressed air or blown air can be used on the lateral surface of the air knife that introduces the roller carrying the coating fluid, or an ultrasonic vibration system directed at the coating fluid in order to achieve a plastic shape.
  • a coating unit of a sheet-fed rotary printing press consists of Essentially from a sheet guiding cylinder 1 (impression cylinder), which transports the sheet material in the conveying direction 6, one with the sheet guide cylinder 1 in contact bringable forme cylinder 2 which a printing form, e.g. a Flexographic printing plate or a rubber blanket, carries, and a metering system 5.
  • the metering system 5 preferably has at least one Circulation system for the circulation of coating fluid.
  • the metering system 5 is through a screened applicator roller 3 and one with this applicator roller 3 chambered doctor blade system 4 formed, the application roller 3 with the forme cylinder 2 in a contact zone 13 is in functional connection.
  • the metering system 5 is the metering system 5 as a two-roll mill with one with the forme cylinder 2 in the contact zone 13 coupled application roller 3 and one Metering roller 7 formed.
  • the rollers 3.7 form a common one Roll nip 12 with a reservoir 8 one from above fed coating fluids.
  • the metering system is shown in FIG. 3 5 as a scoop roller mill with a forme cylinder 2 in the contact zone 13 coupled applicator roller 3 and one in a reservoir 10 for immersing the coating fluid Scoop roller 9.
  • the scoop roller 9 is with the applicator roller 3 in contact in a nip 12.
  • At least the applicator roller 3 of the metering system 5 is in Direction of rotation on the lateral surface of at least one plating device 11 after the contact zone 13 and / or a nip 12, in which or a tear or a split of coating fluid has occurred on the lateral surface of the Applicator roller 3 adjustable and preferably adjacent adjacent assigned.
  • the plating device 11 extends essentially parallel over a full roll width of Applicator roller 3.
  • the application roller is in the direction of rotation 3 in front of a contact zone 13 or a nip 12 in the / in which tearing or splitting of coating fluid there is at least one plating device 11 the lateral surface of the applicator roller 3 can be turned on and off in parallel is arranged.
  • the plating device 11 is assigned to the application roller 3, which is preferably connected to a chambered doctor blade system 4 is.
  • the application roller 3 preferably has one Screening and the doctor blade system 4 has inside the chamber on another plating device 11, which on the application roller 3 is on and off.
  • the plating device 11 is preferably by means of a Force F on the outer surface of the application roller 3, alternatively also a metering or scoop roller 7.9, on or off.
  • a uniform one is preferred Surface pressure across the roller width of the applicator roller 3 or the metering or scoop roller 7.9, on the after Contact zone 13 remaining (remaining) coating fluid applicable.
  • the Applicator roller 3 alternatively the metering or scoop roller 7.9, the plating device 11 in its direction tangent or can be turned on or off in secant shape on the lateral surface.
  • Such a plating device 11 is preferably by a extending across the roll width, in the direction of rotation of the Applicator roller 3, preferably tangential (alternatively secant) positively employed plating element 14, which is detachably received in a holder 15 and in Axis direction across the entire roll width, at least parallel to the outer surface of the applicator roller 3, extends.
  • the Bracket 15 of the plating element 14 is preferably in one swivel joint 16 arranged in the frame and supported on both sides, preferably pivotable about the axis of the hinge 16 stored.
  • the plating element is 14 or the plating device 11 by means of at least one frame-side supported, preferably adjustable compression spring in functional connection.
  • the plating element 14 is preferably loaded by a force F.
  • Alternatives are instead of a compression spring, for example pneumatically workable cylinder or other force F generating agents can be used.
  • the plating device 11 by using the dead weight with the assigned Roller 3, 7, 9, at least with the application roller 3, in functional connection, without a shearing effect on the lateral surface or to generate the remaining coating fluid.
  • the plating device 11 (alternative the plating element 14) also with a minimal distance to the lateral surface of the roller 3, 7, 9, at least to the applicator roller 3, arranged to achieve a flat surface topography.
  • the free end of the plating element 14 preferably ends on a surface normal (tangent point or secant point) the assigned roller 3,7,9, at least the applicator roller 3.
  • the plating element 14 slightly tangential in the direction of rotation of the application roller 3 beyond their outer surface, tearing off Avoid coating fluid.
  • the plating device 11 levels the uneven surface topography of the on the outer surface of the applicator roller 3 after the Contact zone 13 (of applicator roller 3 and forme cylinder 2) remaining remaining coating fluid before the remaining Coating fluid with the in the doctor blade system 4 or Roll nip 12 newly applied coating fluid in contact comes.
  • plating device 11 is not limited to an application roller 3 with or without screening. Rather, the arrangement of plating devices 11 can also be implemented on further parts of the metering system 5. The arrangement of further plating devices 11 (in addition to at least one plating device 11 on the application roller 3) can preferably be implemented in the metering roller 7 or the scoop roller 9. The arrangement and design of the respective plating device 11 is analogous to the plating device 11 assigned to the applicator roller 3.
  • an arrangement of at least one plating device 11 that can be turned on or off on the metering roller 7 or the scoop roller 9 in its direction of rotation can also be realized.
  • At least one plating device 11 is assigned to the applicator roller 3 and the applicator roller 3 is functionally connected to a metering roller 7 and the two rollers 3, 7 form a nip 12 for receiving a reservoir 8 of coating fluid.
  • a further plating device is arranged in parallel on the lateral surface of the metering roller 7.
  • At least one plating device 11 is assigned to the applicator roller 3 and the applicator roller 3 is functionally connected to a scoop roller 9 immersed in a reservoir 10 and the two rollers 3,9 form a nip 12.
  • the scoop roller 9 is in the direction of rotation a plating device 11 is arranged in parallel to the roll nip 12 on the lateral surface of the scoop roll 9 and can be removed.
  • the respective plating device 11 is arranged in the direction of rotation of the metering roller 7 or the scoop roller 9 in its direction tangent-shaped or secant-shaped on the lateral surface of the respective roller 7,9 on and off.
  • a plating device 11 In training with chambered doctor blade system 4 is in addition to Plating device 11 on the application roller 3 a plating device 11 also within the chamber of the doctor blade system 4 arranged.
  • the plating device preferably supports 11 in this training the filling of the wells screened applicator roller 3 and prevents the penetration of Air bubbles in the wells.
  • a further plating device 11 of the application roller 3 assigned and in the direction of rotation of this application roller 3 after the contact zone 13 with the forme cylinder 2 and in front of the nip 12 arranged.
  • the plating device 11 can also be immersed in the reservoir 8. So that is additionally a calming of the flow in the reservoir 8 or Roll gap 12 achievable.
  • the mode of operation is as follows: depending on the metering system 5 used, the coating fluid supplied, for example a lacquer, is located in the doctor blade system 4 or in the nip 12. In the direction of rotation of the application roller 3, the coating fluid is metered onto the outer surface and fed to the contact zone 13. In this contact zone 13, coating fluid is torn off according to the principle of ink splitting (lacquer splitting), so that a layer of a defined thickness of the coating fluid remains as the remaining coating fluid on the application roller 3 and a film of coating fluid in a defined layer thickness is transferred to the forme cylinder 2.
  • ink splitting lacquer splitting
  • the rest lies in the direction of rotation after the contact zone 13 Coating fluid in the form of an uneven surface topography of peaks, peaks and valleys on the lateral surface of the Application roller 3 before.
  • the applicator roller now passes in the direction of rotation 3 which are preferably tangent-shaped or secant-shaped adjustable plating device 11, which change the shape (plastic shape) of the tips, tips and the Valleys.
  • the plating device 11 lies through that Dead weight or with a defined force "floating" on the outer surface (with coating fluid) or in a slight distance to the outer surface to achieve arranged on a flat surface topography.
  • the subject of the invention assumes that in Direction of rotation of a roller carrying a coating fluid 3,7,9 before and / or after a contact zone 13 or one Roll nip 12 in which a tear or splitting takes place the coating fluid on the outer surface of these rollers 3,7,9 leveled by means of at least one plating device 11 becomes.
  • a leveling in front of the contact zone 13 or the nip 12 of the coating fluid preferably paint, can be carried out.

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Dosiersystem für eine Beschichtungseinheit in einer Druckmaschine. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Dosiersystem zu schaffen, welches mit geringem Aufwand eine gleichmäßige, stabile Führung eines Beschichtungsfluides auf zumindest einer Walzenoberfläche erreicht und die Druckqualität spürbar verbessert. Gelöst wird das dadurch, indem in Drehrichtung zumindest einer Auftragwalze 3 bevorzugt nach einer Kontaktzone 13 in der ein Abreißen oder eine Spaltung von Beschichtungsfluid erfolgt wenigstens eine Plattiereinrichtung 11 an die Mantelfläche der Auftragwalze 3 anstellbar angeordnet ist. <IMAGE>

Description

Die Erfindung betrifft ein Dosiersystem für eine Beschichtungseinheit, insbesondere für ein Lackwerk, in einer Druckmaschine nach dem Oberbegriff des Hauptanspruches.
[Stand der Technik]
Ein Dosiersystem dieser Art ist aus DE 34 27 898 C1 bekannt und insbesondere in einem Lackwerk einsetzbar. Das Dosiersystem weist einen Formzylinder auf, der mit einer Auftragwalze in Funktionsverbindung ist. Der Auftragwalze ist eine Dosierwalze zugeordnet und in den von beiden Walzen gebildeten Walzenspalt wird von oben über ein Zuführrohr das Beschichtungsfluid eingespeist. Um Verwirbelungen, Lufteinschlüsse bzw. uneinheitliche Auftragsmengen zu vermeiden, ist in den gefüllten Walzenspalt ein Trennelement mit Kommunikationsöffnungen einsetzbar.
Aus DE 33 24 096 A1 ist ein weiteres Dosiersystem bekannt. Eine in einen Lackvorratsbehälter eintauchende Schöpfwalze ist mit einer Dosierwalze in Funktionsverbindung. Die Dosierwalze führt den Lack einer gummibeschichteten Auftragwalze zu, welche als Formzylinder fungiert.
Gemäß DE 39 41 571 A1 ist ein Dosiersystem bekannt, bei dem die in den Vorratsbehälter eintauchende Schöpfwalze im Reversebetrieb antreibbar ist, wobei zur Schöpfwalze ein Rakel als zusätzliche Dosierstelle angestellt ist.
Weiterhin ist aus DE 43 11 834 A1 ein Dosiersystem bekannt, das durch einen Formzylinder, eine gerasterte Auftragwalze und einem mit dieser Auftragwalze in Funktionsverbindung stehendem Kammerrakelsystem gebildet ist.
Bei diesen Dosiersystemen ist es nachteilig, dass in Kontaktzonen in denen eine Spaltung des Beschichtungsfluides, beispielsweise eine Lackspaltung, erfolgt nach dieser Spaltung eine unebene Oberflächentopographie auf der entsprechenden Walze vorliegt.
[Aufgabe der Erfindung]
Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, ein Dosiersystem der eingangs genannten Art zu schaffen, dass mit geringem Aufwand eine gleichmäßige, stabile Führung eines Beschichtungsfluides, beispielsweise Lack, auf zumindest einer Walzenoberfläche erreicht und die Druckqualität spürbar verbessert.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Ausbildungsmerkmale des unabhängigen Anspruches gelöst. Weiterbildungen ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.
Es wurde gefunden, dass auf der Mantelfläche einer ein Beschichtungsfluid, beispielsweise Lack, führenden Walze nach dem Abreißen (Abscheren) des Beschichtungsfluides in einer Kontaktzone, z.B. einem Walzenspalt, keine gleichmäßige Verteilung des Beschichtungsfluides - über die Walzenbreite betrachtet - vorliegt. Auf der entsprechenden Walze liegt eine unebene Oberflächentopographie des Beschichtungsfluides, z.B. Lack, vor, welche durch Spitzen bzw. Kuppen und Täler des Beschichtungsfluides (z.B. Lackspitzen, Lackkuppen, Lacktäler) auf der Mantelfläche einer das Beschichtungsfluid führenden Walze charakterisiert ist.
Beispielsweise liegt bei einer Auftragwalze, nach der Spaltung des Beschichtungsfluides (Auftrennen der Beschichtungsfluidschicht) in einer Kontaktzone mit einem Formzylinder durch Abreißen des Beschichtungsfluides, z.B. Lack, insbesondere beim fadenförmigen Abreißen, keine gleichmäßige Verteilung des Beschichtungsfluides über die Walzenbreite betrachtet vor, sondern eine unebene Oberflächentopographie des restlichen Beschichtungsfluides, z.B. des Restlackes, auf der Mantelfläche der Auftragwalze.
Ein erster Vorteil der Erfindung ist darin begründet, dass bei einer unebenen Oberflächentopographie (Spitzen, Kuppen und Täler) von Beschichtungsfluid, z.B. Lack, welche aus einem vorhergegangenen Abreißen des Beschichtungsfluides resultiert, wenigstens einer das Beschichtungsfluid führenden Walze zumindest eine Plattiereinrichtung umfangsseitig zugeordnet ist. Die Plattiereinrichtung bewirkt eine Formänderung (plastische Formgebung) der Spitzen bzw. Kuppen und der Täler innerhalb der vorliegenden Oberflächenstruktur des Beschichtungsfluides. Die Formänderung stellt eine Mikroumformung der Oberflächenstruktur des Beschichtungsfluides dar. Bei einer derartigen Formänderung der Oberflächenstruktur des Beschichtungsfluides gleiten die Spitzen bzw. Kuppen in die Täler, d.h. innerhalb der Schicht des Beschichtungsfluidgefüges erfolgen Abgleitvorgänge, die die plastische Formgebung bewirken, so dass eine annähernd ebene Oberflächentopographie in einer definierten Schichtdicke erzielbar ist.
Vorteilhaft bei der plastischen Formgebung durch eine Plattiereinrichtung ist es, dass das Beschichtungsfluid keiner Abscherwirkung (Scher- bzw. Zerteilwirkung) unterliegt, da eine Abscherwirkung wiederum zu einem ungewollten Abreißen von Beschichtungsfluid und damit zu einer unebenen Oberflächentopographie führt.
Die mittels der Plattiereinrichtung erzielte relativ ebene Oberflächentopographie von Beschichtungsfluid wirkt, dass Dichteschwankungen auf dem Bedruckstoff deutlich reduzierbar sind, so dass die Druck-/ Glanz- bzw. Versiegelungsqualität spürbar verbessert ist. Im Ergebnis liegt eine ebene Oberflächentopographie des Beschichtungsfluides auf der Mantelfläche der jeweiligen Walze über die Walzenbreite vor, ehe die Walze mit einer nachfolgenden Kontaktzone (z.B. einer weiteren Spaltstelle) in Kontakt kommt.
Mit einer derartigen Plattiereinrichtung, die bevorzugt in Drehrichtung einer Walze an- und abstellbar angeordnet ist, ist diese unebene Oberflächentopographie des Beschichtungsfluides in vorteilhafter Weise deutlich auf der zugeordneten Walze eingeebnet, so dass eine gleichmäßige Oberflächentopographie für eine gleichmäßige, stabile Beschichtungsfluidführung im Dosiersystem erzielbar ist.
Von Vorteil ist ebenso, dass insbesondere die sich während des Druckvorganges ändernden Parameter, wie beispielsweise Druckgeschwindigkeit, Temperatur, Beschichtungsfluidmenge, hydrodynamischer Druck im Dosiersystem sowie die Viskosität des Beschichtungsfluides, erfindungsgemäß durch den Einsatz wenigstens einer Plattiereinrichtung als mögliche Störgrößen spürbar reduziert sind.
Ein weiterer Vorteil besteht darin, dass die erfindungsgemäße Plattiereinrichtung nicht auf eine Walze des Dosiersystemes beschränkt ist. Vielmehr ist die Anordnung von Plattiereinrichtungen auch bei weiteren, das Beschichtungsfluid farbführenden Walzen eines Dosiersystems realisierbar. Hierbei ist bevorzugt jeweils zumindest eine Plattiereinrichtung einer Walze zugeordnet. Alternativ sind auch mehrere Plattiereinrichtungen zu einer Walze anordbar.
Mit der Einebnung von Farbe bzw. Lack auf der Mantelfläche einer Walze wird eine homogene Schicht von Beschichtungsfluid geschaffen, die besser dosierbar ist.
Die Plattiereinrichtung dient der Schaffung einer relativ ebenen Oberflächentopographie auf der Mantelfläche einer zugeordneten, das Beschichtungsfluid führenden Walze. In dem Bereich der Plattiereinrichtung ist ein Abreißen von Beschichtungsfluid auf der Mantelfläche der entsprechenden Walze zu vermeiden, da sonst wiederum unebene Oberflächentopographien entstehen. Die Ausbildung der Plattiereinrichtung ist nicht auf eine oder mehrere mechanische Plattiereinrichtung(en) mit einem oder mehreren Plattierelement(en) beschränkt.
Beispielsweise ist zur Erzielung einer ebenen Oberflächentopographie ein Druckluft bzw. Blasluft auf die Mantelfläche der das Beschichtungsfluid führenden Walze einbringendes Luftrakel oder ein auf das Beschichtungsfluid gerichtetes Ultraschallschwingsystem einsetzbar, um eine plastische Formgebung zu erzielen.
[Beispiele]
Die Erfindung soll an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden. Dabei zeigen schematisch:
Fig. 1
die Anordnung eines Dosiersystems mit Kammerrakelsystem,
Fig. 2
die Anordnung eines Dosiersystems als Zweiwalzenwerk,
Fig. 3
die Anordnung eines Dosiersystems als Schöpfwalzenwerk.
Ein Lackwerk einer Bogenrotationsdruckmaschine besteht im Wesentlichen aus einem Bogenführungszylinder 1 (Druckzylinder), der das Bogenmaterial in Förderrichtung 6 transportiert, einem mit dem Bogenführungszylinder 1 in Kontakt bringbaren Formzylinder 2, der eine Druckform, z.B. eine Flexodruckform oder ein Gummituch, trägt, und einem Dosiersystem 5. Das Dosiersystem 5 weist bevorzugt wenigstens ein Kreislaufsystem für den Umlauf von Beschichtungsfluid auf.
In einer Ausbildung gemäß Fig. 1 ist das Dosiersystem 5 durch eine gerasterte Auftragwalze 3 und ein mit dieser Auftragwalze 3 in Funktionsverbindung stehendes Kammerrakelsystem 4 gebildet, wobei die Auftragwalze 3 mit dem Formzylinder 2 in einer Kontaktzone 13 in Funktionsverbindung ist.
In einer weiteren Ausbildung gemäß Fig. 2 ist das Dosiersystem 5 als Zweiwalzenwerk mit einer mit dem Formzylinder 2 in der Kontaktzone 13 gekoppelten Auftragwalze 3 und einer Dosierwalze 7 gebildet. Die Walzen 3,7 bilden einen gemeinsamen Walzenspalt 12 mit einem Reservoir 8 eines von oben eingespeisten Beschichtungsfluids.
In einer weiteren Ausbildung ist gemäß Fig. 3 das Dosiersystem 5 als Schöpfwalzenwerk mit einer mit dem Formzylinder 2 in der Kontaktzone 13 gekoppelten Auftragwalze 3 und einer in einen Vorratsbehälter 10 für das Beschichtungsfluid eintauchenden Schöpfwalze 9. Die Schöpfwalze 9 ist mit der Auftragwalze 3 in einem Walzenspalt 12 in Kontakt.
Zumindest der Auftragwalze 3 des Dosiersystems 5 ist in Drehrichtung an deren Mantelfläche wenigstens eine Plattiereinrichtung 11 nach der Kontaktzone 13 und/oder einem Walzenspalt 12 , in der bzw. in dem ein Abriss bzw. eine Spaltung von Beschichtungsfluid erfolgt ist, an die Mantelfläche der Auftragwalze 3 anstellbar und bevorzugt abstellbar benachbart zugeordnet. Die Plattiereinrichtung 11 erstreckt sich dabei im wesentlichen parallel über eine volle Walzenbreite der Auftragwalze 3.
In einer weiteren Ausbildung ist in Drehrichtung der Auftragwalze 3 vor einer Kontaktzone 13 oder einem Walzenspalt 12 in der / in dem ein Abreißen oder eine Spaltung von Beschichtungsfluid erfolgt wenigstens eine Plattiereinrichtung 11 an die Mantelfläche der Auftragwalze 3 parallel an- und abstellbar angeordnet ist.
Die Plattiereinrichtung 11 ist der Auftragwalze 3 zugeordnet, welche bevorzugt mit einem Kammerrakelsystem 4 in Funktionsverbindung ist. Bevorzugt weist die Auftragwalze 3 eine Rasterung auf und das Kammerrakelsystem 4 weist im Inneren der Kammer eine weitere Plattiereinrichtung 11 auf, welche an die Auftragwalze 3 an- und abstellbar ist.
Bevorzugt ist die Plattiereinrichtung 11 dabei mittels einer Kraft F an die Mantelfläche der Auftragwalze 3, alternativ auch einer Dosier- oder Schöpfwalze 7,9, an- bzw. abstellbar. Mittels der Plattiereinrichtung 11 ist bevorzugt eine gleichmäßige Flächenpressung über die Walzenbreite der Auftragwalze 3 bzw. der Dosier- oder Schöpfwalze 7,9, auf das nach der Kontaktzone 13 verbliebene (restliche) Beschichtungsfluid aufbringbar.
In einer bevorzugten Ausbildung ist in Drehrichtung der Auftragwalze 3, alternativ der Dosier- oder Schöpfwalze 7,9, die Plattiereinrichtung 11 in ihrer Richtung tangenten- oder sekantenförmig an deren Mantelfläche an- bzw. abstellbar.
Eine derartige Plattiereinrichtung 11 ist bevorzugt durch ein sich über die Walzenbreite erstreckendes, in Drehrichtung der Auftragwalze 3, bevorzugt tangential (alternativ sekantenförmig) positiv angestelltes Plattierelement 14 gebildet, welches in einer Halterung 15 lösbar aufgenommen ist und sich in Achsrichtung über die gesamte Walzenbreite, wenigstens parallel zur Mantelfläche der Auftragwalze 3, erstreckt. Die Halterung 15 des Plattierelementes 14 ist bevorzugt in einem im Gestell angeordneten Drehgelenk 16 beidseitig gelagert, vorzugsweise um die Achse des Drehgelenkes 16 schwenkbar gelagert.
In einer bevorzugten Ausbildung ist das Plattierelement 14 bzw. die Plattiereinrichtung 11 mittels wenigstens einer gestellseitig abgestützten, bevorzugt einstellbaren Druckfeder in Funktionsverbindung. Insbesondere das Plattierelement 14 ist bevorzugt durch eine Kraft F belastet. Alternativ sind statt der Druckfeder ein beispielsweise pneumatisch beaufschlagbarer Arbeitszylinder oder sonstige die Kraft F erzeugende Mittel einsetzbar. Ebenso ist je nach Anordnung das Plattierelement 14, alternativ die Plattiereinrichtung 11, durch Ausnutzung des Eigengewichtes mit der zugeordneten Walze 3,7,9, zumindest mit der Auftragwalze 3, in Funktionsverbindung, ohne eine Abscherwirkung auf der Mantelfläche bzw. dem restlichen Beschichtungsfluid zu erzeugen. In einer weiteren Ausbildung ist die Plattiereinrichtung 11 (alternativ das Plattierelement 14) auch mit einem minimalen Abstand zur Mantelfläche der Walze 3,7,9, zumindest zur Auftragwalze 3, angeordnet, um eine ebene Oberflächentopographie zu erzielen.
Das Plattierelement 14 endet mit seinem freien Ende bevorzugt auf einer Oberflächennormalen (Tangentenpunkt bzw. Sekantenpunkt) der zugeordneten Walze 3,7,9, zumindest der Auftragwalze 3. In einer weiteren Ausbildung führt das Plattierelement 14 tangential in Drehrichtung der Auftragwalze 3 geringfügig über deren Mantelfläche hinaus, wobei ein Abreißen von Beschichtungsfluid zu vermeiden ist. Alternativ endet ein freies Ende des Plattierelementes 14 in einem geringfügigen Abstand zur Mantelfläche der Walze 3,7,9, zumindest der Auftragwalze 3.
Die Plattiereinrichtung 11 ebnet die unebene Oberflächentopograhie des auf der Mantelfläche der Auftragwalze 3 nach der Kontaktzone 13 (von Auftragwalze 3 und Formzylinder 2) verbliebenen restlichen Beschichtungsfluid ein, bevor das restliche Beschichtungsfluid mit dem im Kammerrakelsystem 4 oder Walzenspalt 12 neu zugeführten Beschichtungsfluid in Kontakt kommt.
Der Einsatz einer Plattiereinrichtung 11 ist nicht auf eine Auftragwalze 3 mit oder ohne Rasterung beschränkt. Vielmehr ist die Anordnung von Plattiereinrichtungen 11 auch an weiteren Teilen des Dosiersystems 5 realisierbar. Bevorzugt ist die Anordnung von weiteren Plattiereinrichtungen 11 (zusätzlich zu wenigstens einer Plattierungseinrichtung 11 an der Auftragwalze 3) bei der Dosierwalze 7 bzw. der Schöpfwalze 9 realisierbar.
Die Anordnung und Ausbildung der jeweiligen Plattiereinrichtung 11 ist analog zu der der Auftragwalze 3 zugeordneten Plattiereinrichtung 11.
Unter diesem Aspekt ist - je nach Ausbildung des Dosiersystems 5 - neben der Anordnung der Plattiereinrichtung 11 an der Auftragwalze 3 zusätzlich eine Anordnung wenigstens einer an- bzw. abstellbaren Plattiereinrichtung 11 an der Dosierwalze 7 bzw. der Schöpfwalze 9 in deren Drehrichtung realisierbar.
Dabei ist wenigstens eine Plattiereinrichtung 11 der Auftragwalze 3 zugeordnet und die Auftragwalze 3 ist mit einer Dosierwalze 7 in Funktionsverbindung und die beiden Walzen 3,7 bilden einen Walzenspalt 12 zur Aufnahme eines Reservoirs 8 von Beschichtungsfluid. In Weiterbildung ist nach dem Walzenspalt 12 in Drehrichtung der Dosierwalze 7 eine weitere Plattiereinrichtung an die Mantelfläche der Dosierwalze 7 parallel an- und abstellbar angeordnet.
In einer Ausbildung ist zumindest eine Plattiereinrichtung 11 der Auftragwalze 3 zugeordnet und die Auftragwalze 3 ist mit einer in einen Vorratsbehälter 10 eintauchenden Schöpfwalze 9 in Funktionsverbindung und die beiden Walzen 3,9 bilden einen Walzenspalt 12. In einer Weiterbildung ist in Drehrichtung der Schöpfwalze 9 vor dem Walzenspalt 12 eine Plattiereinrichtung 11 an die Mantelfläche der Schöpfwalze 9 parallel an- und abstellbar angeordnet.
Dabei ist in Drehrichtung der Dosierwalze 7 oder der Schöpfwalze 9 die jeweilige Plattiereinrichtung 11 in ihrer Richtung tangentenförmig oder sekantenförmig an die Mantelfläche der jeweiligen Walze 7,9 an- und abstellbar angeordnet.
In der Ausbildung mit Kammerrakelsystem 4 ist zusätzlich zur Plattiereinrichtung 11 an der Auftragwalze 3 eine Plattiereinrichtung 11 auch innerhalb der Kammer des Kammerrakelsystems 4 angeordnet. Bevorzugt unterstützt die Plattiereinrichtung 11 in dieser Ausbildung das Befüllen der Näpfchen der gerasterten Auftragwalze 3 und verhindert das Eindringen von Luftblasen in die Näpfchen.
In einer weiteren Ausbildung ist neben der Anordnung der Plattiereinrichtung 11 zumindest an der Auftragwalze 3 zusätzlich eine weitere Plattiereinrichtung 11 der Auftragwalze 3 zugeordnet und in Drehrichtung dieser Auftragwalze 3 nach der Kontaktzone 13 mit dem Formzylinder 2 und vor dem Walzenspalt 12 angeordnet. Weist das jeweilige Dosiersystem 5 einen Walzenspalt 12 mit angestautem Beschichtungsfluid als Reservoir 8 (Fig. 2) auf, so kann die Plattiereinrichtung 11 auch in das Reservoir 8 eintauchend angeordnet sein. Damit ist zusätzlich eine Beruhigung des Strömung im Reservoir 8 bzw. Walzenspalt 12 erzielbar.
Die Wirkungsweise ist wie folgt: Je nach eingesetztem Dosiersystem 5 befindet sich im Kammerrakelsystem 4 oder im Walzenspalt 12 das zugeführte Beschichtungsfluid, beispielsweise ein Lack.
In Drehrichtung der Auftragwalze 3 wird das Beschichtungsfluid auf die Mantelfläche dosiert aufgetragen und der Kontaktzone 13 zugeführt. In dieser Kontaktzone 13 erfolgt nach dem Prinzip der Farbspaltung (Lackspaltung) ein Abriss von Beschichtungsfluid, so dass eine Schicht definierter Dicke des Beschichtungsfluides als restliches Beschichtungsfluid auf der Auftragwalze 3 verbleibt und ein Film von Beschichtungsfluid in definierter Schichtdicke auf den Formzylinder 2 übertragen wird.
In Drehrichtung nach der Kontaktzone 13 liegt das restliche Beschichtungfluid als unebene Oberflächentopographie in Form von Spitzen, Kuppen sowie Tälern auf der Mantelfläche der Auftragwalze 3 vor. In Drehrichtung passiert nun die Auftragwalze 3 die bevorzugt tangentenförmig bzw. sekantenförmig anund abstellbare Plattiereinrichtung 11, welche die Formänderung (plastische Formgebung) der Spitzen, Kuppen sowie der Täler bewirkt. Die Plattiereinrichtung 11 liegt durch das Eigengewicht oder mit einer definierten Kraft "schwimmend" auf der Mantelfläche (mit Beschichtungsfluid) auf oder ist in einem geringfügigen Abstand zur Mantelfläche zur Erzielung einer ebenen Oberflächentopographie angeordnet.
Der erfindungsgemäße Gegenstand geht davon aus, dass in Drehrichtung einer ein Beschichtungsfluid führenden Walze 3,7,9 vor und/oder nach einer Kontaktzone 13 oder einem Walzenspalt 12 in der ein Abriss bzw. eine Spaltung erfolgt das Beschichtungsfluid auf der Mantelfläche dieser Walzen 3,7,9 mittels wenigstens einer Plattiereinrichtung 11 geebnet wird. Je nach Ausbildung des Dosiersystems 5 ist damit auch vor der Kontaktzone 13 bzw. dem Walzenspalt 12 ein Einebnen des Beschichtungsfluides, vorzugsweise Lack, durchführbar.
[Bezugszeichenliste]
1
Bogenführungszylinder
2
Formzylinder
3
Auftragwalze
4
Kammerrakelsystem
5
Dosiersystem
6
Förderrichtung
7
Dosierwalze
8
Reservoir
9
Schöpfwalze
10
Vorratsbehälter
11
Plattiereinrichtung
12
Walzenspalt
13
Kontaktzone
14
Plattierelement
15
Halterung
16
Drehgelenk
F
Kraft

Claims (17)

  1. Dosiersystem für eine Beschichtungseinheit, insbesondere für ein Lackwerk, in einer Druckmaschine, mit wenigstens einem Formzylinder und einer mit dem Formzylinder in Funktionsverbindung stehenden Auftragwalze als Teil des Dosiersystems und zumindest einer Zuführung für ein Beschichtungsfluid,
    dadurch gekennzeichnet, dass in Drehrichtung zumindest der Auftragwalze (3) nach einer Kontaktzone (13) oder einem Walzenspalt (12) in der / in dem ein Abreißen oder eine Spaltung von Beschichtungsfluid erfolgt ist wenigstens eine Plattiereinrichtung (11) an die Mantelfläche der Auftragwalze (3) parallel an- und abstellbar angeordnet ist.
  2. Dosiersystem nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, dass in Drehrichtung der Auftragwalze (3) vor einer Kontaktzone (13) oder einem Walzenspalt (12) in der / in dem ein Abreißen oder eine Spaltung von Beschichtungsfluid erfolgt wenigstens eine Plattiereinrichtung (11) an die Mantelfläche der Auftragwalze (3) parallel an- und abstellbar angeordnet ist.
  3. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, dass in Drehrichtung der Auftragwalze (3) die Plattiereinrichtung (11) tangentenförmig oder sekantenfömig an die Mantelfläche der Auftragwalze (3) an- und abstellbar angeordnet ist.
  4. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, dass eine Plattiereinrichtung (11) der Auftragwalze (3) zugeordnet ist, welche mit einem Kammerrakelsystem (4) in Funktionsverbindung ist.
  5. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1 und 4,
    dadurch gekennzeichnet, dass die Auftragwalze (3) eine Rasterung aufweist und das Kammerrakelsystem (4) im Inneren der Kammer eine weitere Plattiereinrichtung (11) aufweist, welche an die Auftragwalze (3) an- und abstellbar ist.
  6. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, dass eine Plattiereinrichtung (11) der Auftragwalze (3) zugeordnet ist, dass die Auftragwalze (3) mit einer Dosierwalze (7) in Funktionsverbindung ist und die Walzen (3,7) einen Walzenspalt (12) zur Aufnahme eines Reservoirs (8) von Beschichtungsfluid bilden.
  7. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1 und 6,
    dadurch gekennzeichnet, dass in Drehrichtung der Dosierwalze (7) nach dem Walzenspalt (12) eine Plattiereinrichtung (11) an die Mantelfläche der Dosierwalze (7) parallel an- und abstellbar angeordnet ist.
  8. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, dass eine Plattiereinrichtung (11) der Auftragwalze (3) zugeordnet ist und dass die Auftragwalze (3) mit einer in einen Vorratsbehälter (10) eintauchenden Schöpfwalze (9) in Funktionsverbindung ist und die Walzen (3,9) einen Walzenspalt (12) bilden.
  9. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1 und 8,
    dadurch gekennzeichnet, dass in Drehrichtung der Schöpfwalze (9) vor dem Walzenspalt (12) eine Plattiereinrichtung (11) an die Mantelfläche der Schöpfwalze (9) parallel an- und abstellbar angeordnet ist.
  10. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 6 und 8,
    dadurch gekennzeichnet, dass in Drehrichtung der Dosierwalze (7) oder der Schöpfwalze (9) die jeweilige Plattiereinrichtung (11) in ihrer Richtung tangentenförmig oder sekantenfömig an die Mantelfläche der jeweiligen Walze (7,9) an- und abstellbar angeordnet ist.
  11. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, dass die Plattiereinrichtung (12) mittels einer Kraft (F) an die Mantelfläche der Walze (3,7,9) anstellbar ist.
  12. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, dass mittels der Plattiereinrichtung (12) eine gleichmäßige Flächenpressung über die Breite der Walze (3,7,9) aufbringbar ist.
  13. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, dass die Plattiereinrichtung (12) in Drehrichtung der Walze (3,7,9) ein Plattierelement (14) aufweist, welches sich über die gesamte Walzenbreite erstreckt und in einer Halterung (15) lösbar angeordnet ist.
  14. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1 und 13,
    dadurch gekennzeichnet, dass die Halterung (15) in einem gestellfesten Drehgelenk (16) beidseitig gelagert ist.
  15. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1 und 13,
    dadurch gekennzeichnet, dass das Plattierelement (14) mit einer gestellseitig abgestützen Druckfeder in Funktionsverbindung ist.
  16. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1 und 13,
    dadurch gekennzeichnet, dass ein freies Ende des Plattierelementes (14) tangentenförmig oder sekantenförmig an der Mantelfläche einer Walze (3,7,9,) in einem Tangenten- oder Sekantenpunkt endet.
  17. Dosiersystem nach wenigstens Anspruch 1 und 13,
    dadurch gekennzeichnet, dass ein freies Ende des Plattierelementes (14) in einem geringfügigen Abstand zur Mantelfläche der Walze (3,7,9) endet.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1267947A (en) * 1969-10-30 1972-03-22 Metal Box Co Ltd Improvements in inking apparatus for printing machines
JPS59142148A (ja) * 1983-02-03 1984-08-15 Komori Printing Mach Co Ltd 印刷物ニス塗り装置
JPS62113551A (ja) * 1985-11-13 1987-05-25 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 平版印刷機の湿し装置
DE3643936A1 (de) * 1986-05-05 1987-11-12 Polygraph Leipzig Vorrichtung zum abheben einer changierenden brueckenwalze
DD282663A5 (de) * 1988-03-25 1990-09-19 Polygraph Leipzig Auftragwerk fuer druckmaschinen
DD278551A1 (de) * 1988-12-27 1990-05-09 Polygraph Leipzig Verfahren und einrichtung zum verarbeiten von spezialfarben in bogenoffsetdruckmaschinen
US6435086B1 (en) * 1995-05-04 2002-08-20 Howard W. DeMoore Retractable inking/coating apparatus having ferris movement between printing units
DE19734100C5 (de) * 1997-08-07 2007-08-09 Koenig & Bauer Aktiengesellschaft Druckturm einer Druckmaschine
US6076463A (en) * 1998-03-13 2000-06-20 Heidelberger Druckmaschinen Ag Ink metering device and method of metering ink

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