EP0149662A1 - Verfahren zur metallisierung eines festen körpers. - Google Patents
Verfahren zur metallisierung eines festen körpers.Info
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- 238000001465 metallisation Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract 17
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract 5
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 229910000846 In alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 claims description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 4
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 abstract description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 abstract description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 abstract 2
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 230000035784 germination Effects 0.000 abstract 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract 1
- 210000004127 vitreous body Anatomy 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 17
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 3
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/1851—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1646—Characteristics of the product obtained
- C23C18/165—Multilayered product
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/1851—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material
- C23C18/1872—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material by chemical pretreatment
- C23C18/1875—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material by chemical pretreatment only one step pretreatment
- C23C18/1879—Use of metal, e.g. activation, sensitisation with noble metals
Definitions
- the invention relates to a method for metallizing a solid body according to the preamble of patent claim 1.
- Solid bodies are metallized in order to change, improve and / or expand their functional properties, for example the electrical conductivity, the corrosion resistance, the wear resistance and / or also decorative properties. With such metallizations, their adhesive strength is generally of great importance. Layer adhesion can be caused, for example, by a relatively weak interaction between layer and substrate material (so-called Van der Waals forces), by chemical bonds or by mechanical anchoring and / or by a combination of these contributions.
- the layer adhesion can be improved.
- adhesion-promoting intermediate layers in the form of adhesives or vapor deposition and / or sputter layers are deposited.
- Better layer adhesion is achieved by roughening the substrate, e.g. by a grinding process and / or by swelling and roughening of the surface by chemical etching and / or by embedding foreign substances which can be removed in the adhesion promoter.
- Adhesion promoters consist of a material that differs from the substrate and the desired coating, so that unsuitable properties occur or the desired layer properties are restricted.
- Adhesion promoter made of adhesive layers the thermal resilience of the coated body.
- Uneconomical coating processes are required for inorganic adhesion promoters. Roughening of the substrate surfaces is a problem wherever very fine metallization structures are required or where special optical properties (reflection, gloss) are required.
- the object of the invention is to provide a generic method which, in particular, is a cost-effective method enables very fine structurable and adhesive metallization on glassy and / or glass-like bodies and in which a reaming of the surface of the body and the deposition of a special adhesion promoter is avoided.
- a disk-shaped body made of soda-lime glass is steamed with a first layer of an indium-tin alloy layer with a thickness of 120 nm in a cathode sputtering system after the currently used cleaning and degreasing methods.
- Example 2 Treatment in a palladium chloride solution and subsequent thorough rinsing in demineralized water produces a catalytic seed layer on which a very uniform copper layer can be deposited in a currently commercially available chemical copper bath. After annealing, it is galvanically reinforced with copper. With the help of a currently customary photoresist and etching process, 1mm wide strips are prepared, which require a tensile force of 0.2 N for vertical peeling.
- Example 2 Example 2:
- a borosilicate glass pane is pretreated as in Example 1 and vapor-deposited with an indium-tin alloy layer. By a per process in air, the layer is converted into a translucent layer by oxidation. After gas phase pickling and subsequent hydrolysis, a catalytic seed layer is formed with palladium chloride solution. After deposition of a 0.3 ⁇ m thick copper layer from a currently commercially available chemical copper bath, tempering is carried out in the absence of oxygen. After galvanic reinforcement of the layer and a peeling strip preparation according to Example 1, a peel strength of 0.45 N / mm is measured.
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemically Coating (AREA)
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
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Description
Beschreibung
"Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers"
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Feste Körper werden metallisiert, um deren funktionelle Eigenschaften, z.B. die elektrische Leitfähigkeit, die Korrosionsbeständigkeit, die Verschleißfestigkeit und/oder auch dekorative Eigenschaften zu verändern, zu verbessern und/oder zu erweitern. Bei derartigen Metallisierungen ist im allgemeinen deren Haftfestigkeit von großer Bedeutung. Die Schichthaftung kann z.B. durch relativ schwache Wechselwirkung zwischen Schicht- und Substratmaterial (sogenannten Van der Waals-Kräfte ) , durch chemische Bin-
dungen oder durch mechanische Verankerungen und/oder durch eine Kombination dieser Beiträge bewirkt werden.
Es sind Verfahren bekannt, mit deren Hilfe sich die Schichthaftung verbessern läßt. So können z.B. haftvermittelnde Zwischenschichten in Form von Klebern oder Aufdampf- und/oder Sputter-Schichten abgeschieden werden. Eine bessere Schichthaftung wird erreicht durch eine Substrataufrauhung, z.B. durch einen Schleifprozeß, und/-oder durch Anquellen sowie Aufrauhen der Oberfläche durch chemisches Ätzen und/oder durch eine Einbettung herauslösbarer Fremdstoffe in den Haftvermittler.
Diese bekannten Verfahren sind auf bestimmte Anwendungsfälle und spezielle Materialkombinationen beschränkt.
Haftvermittler bestehen aus einem Material, das vom Substrat und der gewünschten Beschichtung verschieden ist, so daß unpassende Eigenschaften auftreten oder eine Einschränkung der gewünschten Schichteigenschaften erfolgt. So verringern z.B. Haftvermittler aus Klebeschichten die thermische Belastbarkeit des beschichteten Körpers. Für anorganische Haftvermittler werden unwirtschaftliche Beschichtungsverfahren benötigt. Eine Aufrauhung der Substratoberflächen stört überall dort, wo sehr feine Metallisierungsstrukturen benötigt werden oder wo spezielle optische Eigenschaften (Reflexion, Glanz) verlangt werden.
Aufgabe der Erfindung ist es ein gattungsgemäßes Verfahren anzugeben, das in kostengünstiger Weise insbesondere eine
sehr fein strukturierbare und haftfeste Metallisierung auf glasigen und/oder glasartigen Körpern ermöglicht und bei dem eine Aufrahung der Oberfläche des Körpers sowie die Abscheidung eines speziellen Haftvermittlers vermieden wird.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch die im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 angegebenen Merkmale. Zweckmäßige Ausgestaltungen und Weiterbildungen sind den Unteransprüchen entnehmbar.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert.
Beispiel 1 :
Ein scheibenförmiger Körper aus Natronkalkglas wird nach der Anwendung derzeit geläufiger Reinigungs- und Ent- fettungsmethoden in einer Kathodenzerstäubungsanlage mit einer ersten Schicht aus einer Indium-Zinn-Legierungs- schicht mit einer Dicke von 120nm bedampft. Durch eine
Behandlung in einer Palladiumchloridlösung und anschliessendem gründlichem Spülen in demineralisiertem Wasser wird eine katalytische Keimschicht erzeugt, auf der sih in einem derzeit handelsüblichen chemischen Kupferbad eine sehr gleichmäßige Kupferschicht abscheiden läßt. Nach einer Temperung wird diese galvanisch mit Kupfer verstärkt. Mit Hilfe eines derzeit üblichen Fotolack- und Ätzverfahrens werden 1mm breite Streifen präpariert, die zum senkrechten Abschälen eine Zugkraft von 0,2 N erfordern.
Beispiel 2:
Eine Borsilikatglasscheibe wird wie in Beispiel 1 vorbehandelt und mit einer Indium-Zinn-Legierungsschicht bedampft. Durch einen Tem perprozeß in Luft wird die Schicht durch Oxidation in eine lichtdurchlässige Schicht umgewandelt. Nach einer Gasphasenbeizung sowie nach einer anschließenden Hydrolyse wird mit Palladiumchloridlösung eine katalytische Keimschicht gebildet. Nach Abscheidung einer 0 , 3μm dicken Kupferschicht aus einem derzeit handelsüblichen chemischen Kupferbad wird eine Temperung unter Ausschluß von Sauerstoff durchgeführt. Nach einer galvanischen Verstärkung der Schicht und einer Schälstreifenpräperation gemäß Beispiel 1, wird eine Schälfestigkeit von 0,45 N/mm gemessen.
Claims
1. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers, der insbesondere eine Silikatwerkstoff enthaltende glasige und/oder glasartige Oberfläche besitzt, gekennzeichnet durch folgende Merkmale: a) auf die gereinigte Oberfläche wird zunächst eine erste Schicht aufgebracht, die mindestens eine Metall und/oder dessen Oxid enthält derart, daß eine nachfolgend aufgebrachte Katalysatormetallverbindung zum Katalysatormetall reduziert wird durch das in der ersten Schicht enthaltene Metall und/oder durch dessen Metallsalzschicht und/oder durch die hydrolisierte Metallsalzschicht und/oder durch dessen Oxid
b) auf der durch das Katalysatormetall gebildeten katalytischen Keimschicht wird eine stromlos-chemische und/oder galvanische Metallabscheidung durchgeführt.
2. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers, nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in der ersten Schicht mindestens ein Metall aus den Gruppen Ilb bis Vb des Periodensystems der Elemente verwendet wird.
3. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht durch eine chemische Reaktion in eine lichtdurchlässige Schicht umgewandelt wird.
4. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Silikatwerkstoff als Natronkalkglas und/oder Borsilikatglas ausgebildet wird.
5. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß für die erste Schicht als Metall und/oder dessen Oxid eine Legierung aus Indium-Zinn und/oder dessen Oxid gewählt wird.
6. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers nach Anspruch 5 , dadurch gekennzeichnet, daß in der Legierung aus Indium-Zinn ein Indium-Zinn-Verhältnis gewählt wird, das im Bereich von 100 bis 0,01 liegt.
7- Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht in einer Dicke aufgebracht wird, die im Bereich von 10 nm bis 1000 nm liegt.
8. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers, nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Katalysatormetall eine stromlos-chemische Metallabscheidung in Gang setzt.
9. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers, nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die dünne Metallbeschichtung die Katalysatormetallverbindung in einer chemischen Reaktion zum Katalysatormetall reduziert.
10. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers, nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die dünne Metallbeschichtung durch chemische Reaktion mit einer Säure wenigstens teilweise in eine Metallsalzschicht umgewandelt wird.
11. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers, nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallsalz-haltige Schicht durch chemische Reaktion mit Wasser in eine Hydroxid-haltige Schicht umgewandelt wird.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT84902802T ATE40904T1 (de) | 1983-07-21 | 1984-07-18 | Verfahren zur metallisierung eines festen koerpers. |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19833326253 DE3326253A1 (de) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | Verfahren zur metallisierung eines festen koerpers |
| DE3326253 | 1983-07-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| EP0149662A1 true EP0149662A1 (de) | 1985-07-31 |
| EP0149662B1 EP0149662B1 (de) | 1989-02-22 |
Family
ID=6204509
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| EP84108494A Pending EP0132784A3 (de) | 1983-07-21 | 1984-07-18 | Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers |
| EP84902802A Expired EP0149662B1 (de) | 1983-07-21 | 1984-07-18 | Verfahren zur metallisierung eines festen körpers |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| EP84108494A Pending EP0132784A3 (de) | 1983-07-21 | 1984-07-18 | Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4692356A (de) |
| EP (2) | EP0132784A3 (de) |
| JP (1) | JPS60501858A (de) |
| DE (2) | DE3326253A1 (de) |
| DK (1) | DK42585A (de) |
| WO (1) | WO1985000623A1 (de) |
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| US20050242656A1 (en) * | 2004-04-30 | 2005-11-03 | Hogan Scott A | Plated covers for vehicle wheel assemblies |
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- 1984-07-18 WO PCT/EP1984/000223 patent/WO1985000623A1/de active IP Right Grant
- 1984-07-18 US US06/703,679 patent/US4692356A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-07-18 EP EP84108494A patent/EP0132784A3/de active Pending
- 1984-07-18 JP JP59502863A patent/JPS60501858A/ja active Pending
- 1984-07-18 EP EP84902802A patent/EP0149662B1/de not_active Expired
-
1985
- 1985-01-31 DK DK42585A patent/DK42585A/da not_active Application Discontinuation
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| See references of WO8500623A1 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0132784A2 (de) | 1985-02-13 |
| US4692356A (en) | 1987-09-08 |
| JPS60501858A (ja) | 1985-10-31 |
| DE3476820D1 (en) | 1989-03-30 |
| EP0149662B1 (de) | 1989-02-22 |
| WO1985000623A1 (en) | 1985-02-14 |
| DK42585A (da) | 1985-03-22 |
| DE3326253A1 (de) | 1985-01-31 |
| DK42585D0 (da) | 1985-01-31 |
| EP0132784A3 (de) | 1985-03-20 |
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| CH678680B5 (de) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PUAI | Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012 |
|
| 17P | Request for examination filed |
Effective date: 19841221 |
|
| AK | Designated contracting states |
Designated state(s): AT BE CH DE FR GB LI LU NL SE |
|
| RBV | Designated contracting states (corrected) |
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| XX | Miscellaneous (additional remarks) |
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| 17Q | First examination report despatched |
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|
| GRAA | (expected) grant |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210 |
|
| AK | Designated contracting states |
Kind code of ref document: B1 Designated state(s): AT BE CH DE FR GB IT LI LU NL SE |
|
| ITF | It: translation for a ep patent filed | ||
| REF | Corresponds to: |
Ref document number: 40904 Country of ref document: AT Date of ref document: 19890315 Kind code of ref document: T |
|
| XX | Miscellaneous (additional remarks) |
Free format text: VERBUNDEN MIT 84108494.0/0132784 (EUROPAEISCHE ANMELDENUMMER/VEROEFFENTLICHUNGSNUMMER) DURCH ENTSCHEIDUNG VOM 07.10.85. |
|
| REF | Corresponds to: |
Ref document number: 3476820 Country of ref document: DE Date of ref document: 19890330 |
|
| ET | Fr: translation filed | ||
| GBT | Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977) | ||
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: SE Payment date: 19890621 Year of fee payment: 6 |
|
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: GB Payment date: 19890630 Year of fee payment: 6 |
|
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: FR Payment date: 19890717 Year of fee payment: 6 |
|
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: LU Payment date: 19890725 Year of fee payment: 6 Ref country code: AT Payment date: 19890725 Year of fee payment: 6 |
|
| ITTA | It: last paid annual fee | ||
| PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: LU Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 19890731 |
|
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: NL Payment date: 19890731 Year of fee payment: 6 |
|
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: BE Payment date: 19890908 Year of fee payment: 6 |
|
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: CH Payment date: 19891018 Year of fee payment: 6 |
|
| PLBE | No opposition filed within time limit |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261 |
|
| STAA | Information on the status of an ep patent application or granted ep patent |
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|
| 26N | No opposition filed | ||
| PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: GB Effective date: 19900718 Ref country code: AT Effective date: 19900718 |
|
| PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: SE Effective date: 19900719 |
|
| PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: LI Effective date: 19900731 Ref country code: CH Effective date: 19900731 Ref country code: BE Effective date: 19900731 |
|
| BERE | Be: lapsed |
Owner name: LICENTIA PATENT-VERWALTUNGS-G.M.B.H. Effective date: 19900731 |
|
| PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: NL Effective date: 19910201 |
|
| NLV4 | Nl: lapsed or anulled due to non-payment of the annual fee | ||
| GBPC | Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee | ||
| REG | Reference to a national code |
Ref country code: CH Ref legal event code: PL |
|
| PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: FR Effective date: 19910329 |
|
| REG | Reference to a national code |
Ref country code: FR Ref legal event code: ST |
|
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: DE Payment date: 19910813 Year of fee payment: 8 |
|
| PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: DE Effective date: 19930401 |
|
| EUG | Se: european patent has lapsed |
Ref document number: 84902802.2 Effective date: 19910402 |