EA024228B1 - Остекление - Google Patents
Остекление Download PDFInfo
- Publication number
- EA024228B1 EA024228B1 EA201391770A EA201391770A EA024228B1 EA 024228 B1 EA024228 B1 EA 024228B1 EA 201391770 A EA201391770 A EA 201391770A EA 201391770 A EA201391770 A EA 201391770A EA 024228 B1 EA024228 B1 EA 024228B1
- Authority
- EA
- Eurasian Patent Office
- Prior art keywords
- layer
- glazing
- glazing according
- atomic ratio
- silicon oxynitride
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 230000005012 migration Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000013508 migration Methods 0.000 claims abstract description 7
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims abstract description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 40
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 25
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 9
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical group [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 claims description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 abstract description 5
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEUACKUBDLVUAC-UHFFFAOYSA-N [Na].[Ca] Chemical compound [Na].[Ca] VEUACKUBDLVUAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000001004 secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3435—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/213—SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/214—Al2O3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/228—Other specific oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/23—Mixtures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/28—Other inorganic materials
- C03C2217/281—Nitrides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Изобретение относится к остеклению, включающему в себя стеклянную подложку, имеющую по меньшей мере на одной части своей поверхности пакет слоев, один слой которого защищает от миграции ионов, содержащихся в указанной подложке, в частности, типа щелочных металлов Naили K, при этом указанный защитный слой находится в этом пакете между поверхностью указанной подложки и по меньшей мере одним верхним слоем, придающим указанному остеклению функциональность солнцезащитного, низкоэмиссионного, антиотражающего, фотокаталитического, гидрофобного или другого типа, при этом указанный защитный слой состоит главным образом из оксида кремния или оксинитрида кремния, причем указанное остекление отличается тем, что указанный оксид или оксинитрид кремния дополнительно содержит один или несколько элементов, выбранных из группы, состоящей из Al, Ga или B, и тем, что атомное отношение Si/X в указанном защитном слое отчетливо меньше 92/8, при этом X представляет собой сумму атомов указанных элементов Al, Ga или B.
Description
Изобретение относится к остеклению, включающему стеклянную подложку, содержащую, по меньшей мере, на части поверхности пакет слоев, в который входит слой, защищающий от миграции ионов щелочных металлов, содержащихся в указанной подложке, типа натрия Να', калия К' и т.д. Указанный слой является смежным или расположен в непосредственной близости от стеклянной подложки и защищает верхний слой.
Такое остекление содержит, в частности, один или несколько функциональных слоев солнцезащитного, низкоэмиссионного (Е-стекло), антиотражающего, фотокаталитического (самоочищающееся остекление) или гидрофобного типа, т.е. слой или последовательность слоев, которые придают остеклению, о котором идет речь, особое свойство. Таким образом, его применяют в устройствах, используемых для возврата световой солнечной энергии и содержащих, например, слой ТСО (оксидный прозрачный проводящий), в частности, в области элементов с запирающим слоем или солнечных коллекторов.
В области остекления, снабженного слоем или пакетом слоев, обладающих указанными функциями, давно известно, что между поверхностью стеклянной подложки и одним или несколькими функциональными слоями, т.е. теми, которые более конкретно придают целевые свойства остеклению, о котором идет речь, прокладывают по меньшей мере один слой, называемый защитным от щелочных металлов. Этот слой позволяет, как известно, ограничивать диффузию катионов, в частности щелочного типа, изначально присутствующих в стеклянной подложке, которые мигрируют к верхним слоям (и, в частности, к одному или нескольким функциональным слоям) на протяжении или во время фазы нагревания остекления. Миграция таких катионов хорошо известна в качестве основной причины ухудшения и изменения свойств таких функциональных слоев.
Для того чтобы избежать миграции таких ионов, наиболее часто используют слои оксида кремния, нитрида кремния или оксинитрида кремния, поскольку они являются эффективными и недорогими в использовании. Например, можно сослаться на заявку υδ 2009/0084438, в которой описан слой, состоящий из оксида, нитрида или оксинитрида кремния (см., в частности, пункт 0048) с тем, чтобы избежать миграции щелочных металлов со стеклянной подложки к верхним активным слоям типа ТСО или серебра.
Тем не менее, в большинстве случаев защитное действие, являющееся эффективным во времени, в частности, если остекление подвергается длительному нагреванию (закалка, бомбировка и т.д.) или находится во влажной зоне, может достигаться, только если такие материалы с соответствующей толщиной находятся между подложкой и одним или несколькими верхними слоями, подлежащими защите. Например, путем измерений было установлено, что при помощи обычных технологий катодного напыления необходимо нанести защитный слой δίΟ2 с физической толщиной примерно 50 нм для сохранения фотокаталитических свойств внешнего слоя ΤίΟ2 в пакете после того, как остекление было подвергнуто закалке при температуре порядка 620°С в течение 10 мин.
С учетом относительно низкой скорости нанесения таких слоев оксидов, нитрида или оксинитрида кремния оказалось, таким образом, что большой интерес представляют слои, обладающие усиленным защитным эффектом, которые, таким образом, могут при нанесении иметь меньшую толщину.
Объектом настоящего изобретения является такое остекление, снабженное защитным слоем, обладающим такими свойствами.
Более конкретно, настоящее изобретение относится к остеклению, которое включает в себя стеклянную подложку, имеющую по меньшей мере на одной части своей поверхности пакет слоев, один слой которого защищает от миграции ионов, содержащихся в указанной подложке, в частности, типа щелочных металлов Να' или К+, при этом указанный защитный слой находится в этом пакете между поверхностью указанной подложки и по меньшей мере одним верхним слоем, придающим указанному остеклению функциональность солнцезащитного, низкоэмиссионного, антиотражающего, фотокаталитического, гидрофобного или другого типа, при этом указанный защитный слой состоит главным образом из оксида кремния или оксинитрида кремния, причем указанное остекление отличается тем, что указанный оксид или оксинитрид кремния дополнительно содержит один или несколько элементов, выбранных из группы, состоящей из А1, Оа или В, и тем, что атомное отношение δί/Χ отчетливо меньше 92/8, при этом X представляет собой сумму атомов указанных элементов А1, Оа или В.
В соответствии с предпочтительными вариантами осуществления настоящего изобретения, которые в случае необходимости, конечно, можно комбинировать между собой атомное отношение δί/Χ меньше 92/8 и больше 70/30, предпочтительно больше 80/20, атомное отношение δί/Χ меньше 90/10, предпочтительно меньше 88/12, элемент X является алюминием, элемент X является галлием, элемент X является бором, защитный слой содержит по меньшей мере два элемента, выбранные из бора, галлия и алюминия, защитный слой является оксидом кремния, защитный слой является оксинитридом кремния, защитный слой является оксинитридом кремния, в котором атомное отношение Ν/Ο больше 10/90, предпочтительно больше 20/80.
Изобретение также относится к остеклению, дополнительно снабженному вторым слоем, идентич- 1 024228 ным первому защитному слою, такому как указано выше, но расположенному над указанным функциональным слоем.
В соответствии с возможными вариантами осуществления указанного второго слоя он состоит главным образом из оксида кремния или оксинитрида кремния и содержит один или несколько элементов, выбранных из группы, состоящей из А1, Са или В, и атомное отношение δί/Χ которого отчетливо меньше 92/8, атомное отношение δί/Χ указанного второго слоя меньше 90/10, предпочтительно меньше 88/12, его атомное отношение δί/Χ меньше 90/10, предпочтительно больше 88/12, его атомное отношение δί/Χ больше 80/20, элемент Χ является алюминием, элемент Χ является галлием, элемент Χ является бором, второй слой содержит по меньшей мере два элемента, выбранные из бора, галлия и алюминия, второй слой является оксидом кремния, второй слой является оксинитридом кремния, в котором, например, атомное отношение Ν/О больше 10/90, предпочтительно больше 20/80.
Примеры
Разные защитные слои, состоящие из оксида кремния, часть атомов кремния которого необязательно замещена А1 или В, наносят на подложки из натриево-кальциевого стекла толщиной 2 мм, выпускаемые под наименованием РЬАОТЬиХ® фирмой-заявителем. Обычно защитные слои получают в камерах катодного напыления в магнитном поле (магнетрон).
Две мишени, одной из которых является δίθ2, а другой А12О3 или В2О3, используют в качестве катодов и совместно напыляют при помощи плазмообразующего газа аргона в камере. Перед нанесением в камере создается вакуум до достижения остаточного значения 0,5 миллипаскаля (мПа) с использованием технологий, хорошо известных в этой области.
Расход и давление газов, служащих для напыления мишеней, а также мощность тока, подаваемая на каждую мишень, приведены в следующей табл. 1.
Таблица 1
| Общее давление (мторр) | Расход Аг (с/см2) | Мишень | Мощность (Вт) | |
| 31А1О | 3 | 40 | 3ίΟ2 | 500 |
| А12О3 | 80 | |||
| 3ίΒΟ | 3 | 40 | 3ίΟ2 | 500 |
| В20з | 80 |
δίΑΙΟ обозначает защитный слой оксида кремния и алюминия, δίΒΟ обозначает защитный слой оксида кремния и бора. δίΧΟ обозначает защитный слой оксида кремния и элемента X, при этом X представляет собой алюминий и бор.
Отношение δί/Χ изменяется по всей длине подложки в связи с различием между каждой точкой поверхности этой подложки и каждой из двух мишеней (одной из δίΟ2 и другой из А12О3 или В2О3).
Время нанесения регулируют для получения слоя толщиной примерно 100 нм.
На этот первый защитный слой в камере катодного напыления в магнитном поле (магнетрон) традиционными технологиями наносят функциональный слой прозрачного электропроводящего оксида (ТСО) типа А2О, состоящего из 2пО. легированного алюминием (2 мас.%, оксида алюминия). Толщина этого функционального слоя составляет примерно 200 нм.
Ниже в табл. 2 резюмируется выполнение разных примеров.
Таблица 2
| Пример | Пакет | X | Зт/Х (атомное) | 3ί/Χ (массовое) |
| 1 | Стекло/δίΧΟ/ΑΖΟ | - | - | - |
| 2 | Стекло/ΑΖΟ/ΞίΧΟ | А1 | 96/4 | 96/4 |
| 3 | Стекло/Аго/51ХО | А1 | 82/18 | 82/18 |
| 4 | 0τθκπο/ΑΖ0/5ίΧ0 | В | 95,5/4,5 | 98,5/1,5 |
| 5 | Стекло/АгО/ЗтХО | В | 87/13 | 95,5/4,5 |
Подложки с такими покрытиями из пакетов, состоящих из защитного слоя и слоя ТСО, затем подвергают термообработке, заключающейся в нагревании при 600°С в течение 1 ч для эталонирования технических характеристик разных синтетических защитных слоев.
- 2 024228
Во всех примерах традиционными методами масс-спектрометрии вторичных ионов (δΙΜδ) измеряют профили концентрации ионов натрия в разных образцах, начиная с поверхности до стеклянной подложки в соответствии с последовательностью поверхность/ΑΖΟ (200 \ι\ι)/δίΧΘ (100 нм)/стекло.
Результаты, полученные по разным образцам, иллюстрируются прилагаемыми фиг. 1 (Χ=Α1) и 2 (Χ=Β).
На этих фигурах видно, что слой ΑΖΟ, находящийся на поверхности пакета, гораздо лучше защищен от щелочных металлов в случае, если защитный слой оксида кремния содержит большое количество алюминия или бора по изобретению, в частности, атомное содержание алюминия или бора составляет более 8, 9 или даже 10%, отнесенных к сумме атомов кремния, присутствующих в указанных защитных слоях. В частности, на основании кривых, полученных по настоящим примерам и в отношении защитных слоев δίΟ2, используемых в настоящее время, можно считать, что концентрацию натрия в функциональном слое ΑΖΟ можно разделить на коэффициент 10 благодаря использованию защитного слоя по изобретению.
Такие же дополнительные опытные испытания, но проведенные с защитными слоями, состоящими из оксинитрида кремния (с атомным отношением Ν/Ο, близким 1), легированного таким же образом, дали по существу такие же результаты.
Настоящее изобретение описано выше в качестве примера. Предполагается, что специалист может осуществить разные варианты изобретения, не выходя при этом за рамки притязаний, таких как определены в формуле изобретения.
Claims (12)
- ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ1. Остекление, включающее стеклянную подложку, имеющую по меньшей мере на одной части своей поверхности пакет слоев, включающий слой, защищающий от миграции ионов, содержащихся в указанной подложке, в частности, типа щелочных металлов Να' или К', при этом указанный защитный слой находится в этом пакете между поверхностью указанной подложки и по меньшей мере одним верхним слоем, придающим указанному остеклению функциональность солнцезащитного, низкоэмиссионного, антиотражающего, фотокаталитического или гидрофобного, при этом указанный защитный слой состоит главным образом из оксинитрида кремния, причем указанное остекление отличается тем, что указанный оксинитрид кремния дополнительно содержит один или несколько элементов, выбранных из группы, состоящей из Α1, Оа или Β, и тем, что атомное отношение δί/Χ в указанном защитном слое строго меньше 92/8, при этом X представляет собой сумму атомов указанных элементов Α1, Оа или Β.
- 2. Остекление по п.1, в котором атомное отношение δί/Χ меньше 92/8 и больше 80/20.
- 3. Остекление по любому из пп.1 или 2, в котором атомное отношение δί/Χ меньше 90/10, предпочтительно меньше 88/12.
- 4. Остекление по любому из пп.1-3, в котором элемент X является алюминием.
- 5. Остекление по любому из пп.1-3, в котором элемент X является галлием.
- 6. Остекление по любому из пп.1-3, в котором элемент X является бором.
- 7. Остекление по любому из пп.1-3, содержащее по меньшей мере два элемента, выбранных из бора, галлия и алюминия.
- 8. Остекление по любому из пп.1-7, в котором защитный слой является оксинитридом кремния, в котором атомное отношение Ν/Ο больше 10/90, предпочтительно больше 20/80.
- 9. Остекление по любому из пп.1-8, дополнительно содержащее второй слой, расположенный над указанным функциональным слоем, состоящий главным образом из оксида кремния или оксинитрида кремния и содержащий один или несколько элементов, выбранных из группы, состоящей из Α1, Оа или Β, и атомное отношение δί/К которого отчетливо ниже 92/8.
- 10. Остекление по п.9, в котором атомное отношение δί/Κ меньше 90/10, предпочтительно меньше 88/12.
- 11. Остекление по любому из п.9 или 10, в котором второй слой является оксидом кремния.
- 12. Остекление по любому из п.9 или 10, в котором второй слой является оксинитридом кремния.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR1154698A FR2975989B1 (fr) | 2011-05-30 | 2011-05-30 | Couche barriere aux alcalins |
| PCT/FR2012/051166 WO2012164206A1 (fr) | 2011-05-30 | 2012-05-24 | Couche barriere aux alcalins |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| EA201391770A1 EA201391770A1 (ru) | 2014-03-31 |
| EA024228B1 true EA024228B1 (ru) | 2016-08-31 |
Family
ID=46420370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| EA201391770A EA024228B1 (ru) | 2011-05-30 | 2012-05-24 | Остекление |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8828564B2 (ru) |
| EP (1) | EP2714609B1 (ru) |
| JP (1) | JP2014516909A (ru) |
| KR (1) | KR101968777B1 (ru) |
| CN (1) | CN103619774A (ru) |
| BR (1) | BR112013029198B1 (ru) |
| EA (1) | EA024228B1 (ru) |
| FR (1) | FR2975989B1 (ru) |
| PL (1) | PL2714609T3 (ru) |
| WO (1) | WO2012164206A1 (ru) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR3018801A1 (fr) * | 2014-03-19 | 2015-09-25 | Saint Gobain | Substrat verrier a couche electroconductrice et rugosite diminuee |
| FR3018802A1 (fr) * | 2014-03-19 | 2015-09-25 | Saint Gobain | Substrat verrier a couche electroconductrice et tendance diminuee a la delamination |
| KR20210105884A (ko) * | 2018-12-26 | 2021-08-27 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 발수 발유층 형성 기재, 및 그 제조 방법 |
| GB201910988D0 (en) * | 2019-08-01 | 2019-09-18 | Pilkington Group Ltd | Touchenable coated substrate |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020172775A1 (en) * | 2000-10-24 | 2002-11-21 | Harry Buhay | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
| US20030165693A1 (en) * | 2002-03-01 | 2003-09-04 | Klaus Hartig | Thin film coating having transparent base layer |
| US20080241523A1 (en) * | 2004-02-24 | 2008-10-02 | Saint-Gobain Glass France | Substrate, Such As A Glass Substrate, With A Hydrophobic Surface And Improved Durability Of Hydrophobic Properties |
| US20100326817A1 (en) * | 2007-09-14 | 2010-12-30 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings |
| WO2011101444A1 (de) * | 2010-02-18 | 2011-08-25 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Wärmebehandelbares infrarotstrahlung reflektierendes schichtsystem und verfahren zu dessen herstellung |
| US20110203578A1 (en) * | 2010-02-19 | 2011-08-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Solar reflecting mirror and method of making same |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57100940A (en) * | 1980-12-10 | 1982-06-23 | Asahi Glass Co Ltd | Substrate coated with silicon oxide having high durability |
| JP2696877B2 (ja) * | 1988-02-12 | 1998-01-14 | 日本板硝子株式会社 | 可視光透過性を有する熱線反射板 |
| JPH02217337A (ja) * | 1989-02-16 | 1990-08-30 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 膜付きガラス基板の製造方法 |
| FR2728559B1 (fr) * | 1994-12-23 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Substrats en verre revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
| FR2759362B1 (fr) * | 1997-02-10 | 1999-03-12 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent muni d'au moins une couche mince a base de nitrure ou d'oxynitrure de silicium et son procede d'obtention |
| US6495251B1 (en) * | 1997-06-20 | 2002-12-17 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Silicon oxynitride protective coatings |
| US6398925B1 (en) * | 1998-12-18 | 2002-06-04 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods and apparatus for producing silver based low emissivity coatings without the use of metal primer layers and articles produced thereby |
| DE60026157T2 (de) * | 1999-10-14 | 2006-11-09 | Glaverbel | Verglasung |
| US20020136905A1 (en) * | 1999-11-24 | 2002-09-26 | Medwick Paul A. | Low shading coefficient and low emissivity coatings and coated articles |
| JP4382943B2 (ja) * | 2000-01-13 | 2009-12-16 | 日本板硝子株式会社 | 真空容器型ディスプレイ用基板の製造方法 |
| US7267879B2 (en) * | 2001-02-28 | 2007-09-11 | Guardian Industries Corp. | Coated article with silicon oxynitride adjacent glass |
| US20030228476A1 (en) * | 2001-10-22 | 2003-12-11 | Harry Buhay | Methods of changing the visible light transmittance of coated articles and coated articles made thereby |
| CN100575068C (zh) * | 2002-02-11 | 2009-12-30 | Ppg工业俄亥俄公司 | 阳光控制涂层 |
| FR2861386B1 (fr) * | 2003-10-23 | 2006-02-17 | Saint Gobain | Substrat, notamment substrat verrier, portant une couche a propriete photocatalytique revetue d'une couche mince protectrice. |
| DE10356357B4 (de) * | 2003-11-28 | 2010-05-06 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Wärmebehandelbares Sonnen- und Wärmeschutzschichtsystem und Verfahren zu dessen Herstellung |
| US7153578B2 (en) * | 2004-12-06 | 2006-12-26 | Guardian Industries Corp | Coated article with low-E coating including zirconium silicon oxynitride and methods of making same |
| US8076571B2 (en) | 2006-11-02 | 2011-12-13 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
| US8808882B2 (en) * | 2010-09-17 | 2014-08-19 | Guardian Industries Corp. | Coated article having boron doped zinc oxide based seed layer with enhanced durability under functional layer and method of making the same |
| US8815420B2 (en) * | 2010-09-17 | 2014-08-26 | Guardian Industries Corp. | Coated article having zinc oxide seed layer with reduced stress under functional layer and method of making the same |
| US8530011B2 (en) * | 2010-12-13 | 2013-09-10 | Southwall Technologies Inc. | Insulating glass unit with crack-resistant low-emissivity suspended film |
| US8728636B2 (en) * | 2010-12-13 | 2014-05-20 | Southwall Technologies Inc. | Insulating glass unit with crack-resistant low-emissivity suspended film |
-
2011
- 2011-05-30 FR FR1154698A patent/FR2975989B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-05-24 KR KR1020137031462A patent/KR101968777B1/ko active IP Right Grant
- 2012-05-24 EA EA201391770A patent/EA024228B1/ru not_active IP Right Cessation
- 2012-05-24 WO PCT/FR2012/051166 patent/WO2012164206A1/fr active Application Filing
- 2012-05-24 BR BR112013029198-2A patent/BR112013029198B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2012-05-24 CN CN201280026810.3A patent/CN103619774A/zh active Pending
- 2012-05-24 US US14/119,564 patent/US8828564B2/en active Active
- 2012-05-24 EP EP12731054.8A patent/EP2714609B1/fr active Active
- 2012-05-24 PL PL12731054T patent/PL2714609T3/pl unknown
- 2012-05-24 JP JP2014513231A patent/JP2014516909A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020172775A1 (en) * | 2000-10-24 | 2002-11-21 | Harry Buhay | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
| US20030165693A1 (en) * | 2002-03-01 | 2003-09-04 | Klaus Hartig | Thin film coating having transparent base layer |
| US20080241523A1 (en) * | 2004-02-24 | 2008-10-02 | Saint-Gobain Glass France | Substrate, Such As A Glass Substrate, With A Hydrophobic Surface And Improved Durability Of Hydrophobic Properties |
| US20100326817A1 (en) * | 2007-09-14 | 2010-12-30 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings |
| WO2011101444A1 (de) * | 2010-02-18 | 2011-08-25 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Wärmebehandelbares infrarotstrahlung reflektierendes schichtsystem und verfahren zu dessen herstellung |
| US20110203578A1 (en) * | 2010-02-19 | 2011-08-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Solar reflecting mirror and method of making same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BR112013029198A2 (pt) | 2017-04-18 |
| US20140199552A1 (en) | 2014-07-17 |
| EP2714609A1 (fr) | 2014-04-09 |
| US8828564B2 (en) | 2014-09-09 |
| KR20140026539A (ko) | 2014-03-05 |
| EA201391770A1 (ru) | 2014-03-31 |
| EP2714609B1 (fr) | 2018-01-10 |
| KR101968777B1 (ko) | 2019-04-12 |
| WO2012164206A1 (fr) | 2012-12-06 |
| CN103619774A (zh) | 2014-03-05 |
| FR2975989A1 (fr) | 2012-12-07 |
| FR2975989B1 (fr) | 2014-04-25 |
| PL2714609T3 (pl) | 2018-06-29 |
| JP2014516909A (ja) | 2014-07-17 |
| BR112013029198B1 (pt) | 2020-09-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN112130233B (zh) | 硬质抗反射涂层及其制造和用途 | |
| Okuhara et al. | Near-infrared reflection from periodically aluminium-doped zinc oxide thin films | |
| US20090260678A1 (en) | Glass substrate bearing an electrode | |
| US8303856B2 (en) | Conductive laminated body and method for preparing the same | |
| JP5725481B2 (ja) | 誘電体層を含有する低放射ガラスおよびその製造方法 | |
| EA024228B1 (ru) | Остекление | |
| TW201347009A (zh) | 使用ｔｃｏ及可移除之保護膜製造經熱處理之經塗覆物件的方法 | |
| ES2560834T3 (es) | Acristalamiento de control solar que comprende una capa de una aleación Ni/Cu | |
| Bhavanasi et al. | Structural, optical and light scattering properties of post etched RF sputtered ZnO: Al thin films deposited at various substrate temperature | |
| Tutsch et al. | Integrating transparent conductive oxides to improve the infrared response of silicon solar cells with passivating rear contacts | |
| CA2815511A1 (en) | Tco coating and coated substrate for high temperature applications | |
| RU2008151050A (ru) | Стеклоизделие с покрытием из оксида цинка и способ его изготовления | |
| Gao et al. | Variation of passivation behavior induced by sputtered energetic particles and thermal annealing for ITO/SiOx/Si system | |
| Huang et al. | Preparation, characterization and performance of Ti1− xAlxN/Ag/Ti1− xAlxN low-emissivity films | |
| US20130319523A1 (en) | Conductive transparent glass substrate for photovoltaic cell | |
| KR20160082995A (ko) | 광촉매 재료를 얻는 방법 | |
| Qiu et al. | Effect of oxygen and hydrogen flow ratio on indium tin oxide films in rear-junction silicon heterojunction solar cells | |
| KR20160067169A (ko) | 열 제어 글레이징 | |
| WO2014164434A1 (en) | Solar cell with selectively doped conductive oxide layer and method of making the same | |
| RU2420607C1 (ru) | Способ нанесения теплозащитного покрытия на полимерный материал | |
| JP2014516909A5 (ru) | ||
| US20090308445A1 (en) | Photovoltaic cell and photovoltaic cell substrate | |
| Fischer et al. | A setup for arc-free reactive DC sputter deposition of Al-ON | |
| ES2640109T3 (es) | Acristalamiento de control solar que comprende una capa de una aleación de cinc y de cobre | |
| He et al. | Properties of ITO thin films prepared by APS-assisted EB evaporation |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s) |
Designated state(s): AM AZ BY KZ KG TJ TM |
|
| MM4A | Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s) |
Designated state(s): RU |