EA009791B1 - Кремниевое исходное сырьё для солнечных элементов - Google Patents
Кремниевое исходное сырьё для солнечных элементов Download PDFInfo
- Publication number
- EA009791B1 EA009791B1 EA200601259A EA200601259A EA009791B1 EA 009791 B1 EA009791 B1 EA 009791B1 EA 200601259 A EA200601259 A EA 200601259A EA 200601259 A EA200601259 A EA 200601259A EA 009791 B1 EA009791 B1 EA 009791B1
- Authority
- EA
- Eurasian Patent Office
- Prior art keywords
- silicon
- ingot
- amd
- type
- boron
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/037—Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B11/00—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/06—Silicon
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
Настоящее изобретение относится к кремниевому исходному сырью для производства получаемых направленной кристаллизацией слитков, тонких листов или лент кремния для изготовления кремниевых пластин для ФЭ солнечных элементов, причем это кремниевое исходное сырье содержит от 0,2 до 10 амд бора и от 0,1 до 10 амд фосфора, распределенных в данном материале. Изобретение также относится к полученному(ой) направленной кристаллизацией слитку кремния, или тонкому листу, или ленте кремния для изготовления пластин для солнечных элементов, содержащим от 0,2 до 10 амд бора и от 0,1 до 10 амд фосфора, распределенных в слитке, причем указанный слиток имеет изменение типа от p-типа к n-типу или от n-типа к p-типу в положении от 40 до 99% высоты слитка или толщины листа или ленты и имеет профиль удельного сопротивления, описываемый экспоненциальной кривой с начальным значением в интервале от 0,4 до 10 Ом∙см и с повышением значения удельного сопротивления в направлении к точке изменения типа. И, наконец, настоящее изобретение относится к способу производства кремниевого исходного сырья для получения методом направленной кристаллизации слитков, тонких листов или лент кремния для производства кремниевых пластин для ФЭ солнечных элементов.
Description
В последние годы фотоэлектрические (ФЭ) солнечные элементы производились из особо чистого исходного поликристаллического кремния электронной чистоты (ΕΟ-δί) с добавлением подходящих ломов, обрезков и отходов производства интегральных схем. В результате недавнего спада, который пережила электронная промышленность, простаивающие мощности по производству поликристаллического кремния были приспособлены для того, чтобы сделать доступными более дешевые марки поликристаллического кремния, подходящие для производства ФЭ солнечных элементов. Это привело к временному снижению напряженности на рынке кремниевого исходного сырья солнечного качества (8οΟ-8ί). При возврате спроса на электронные устройства на нормальный уровень большая часть мощностей по производству поликристаллического кремния, как ожидается, будет снова направлена на снабжение электронной промышленности, при снижении поставок в фотоэлектрическую промышленность. Отсутствие дешевого исходного сырья, специально предназначенного для производства 8οΟ-8ί, и возникающее в результате этого развитие дефицита снабжения в настоящее время рассматриваются как одно из наиболее серьезных препятствий для дальнейшего роста фотоэлектрической промышленности.
В последние годы было сделано несколько попыток разработки новых источников 8οΟ-8ί, которые являются независимыми от производственно-бытовой цепи электронной промышленности. Эти попытки включают внедрение новой технологии в применяемые в настоящее время технологические маршруты по производству поликристаллического кремния для значительного снижения его стоимости, а также разработку металлургических способов рафинирования, позволяющих очищать имеющийся в достаточной степени металлургический кремний (ΜΟ-δί) до необходимой степени чистоты. Однако до настоящего времени ни одна из этих попыток не достигла успеха в отношении значительного снижения стоимости производства при одновременном обеспечении ожидаемой чистоты кремниевого исходного сырья, которая будет необходима для соответствия техническим характеристикам ФЭ солнечных элементов, производимых в настоящее время из традиционного кремниевого исходного сырья.
При производстве ФЭ солнечных элементов загрузку исходного сырья 8οΟ-8ί подготавливают, плавят и подвергают направленной кристаллизации в специализированной плавильной печи с получением слитка квадратного сечения. Перед плавлением загрузку, содержащую исходное сырье δοΟ-δί, легируют либо бором, либо фосфором для производства слитков р-типа или η-типа соответственно. За некоторым исключением коммерческие солнечные элементы, производимые в настоящее время, основаны на материале слитков кремния р-типа. Добавление единственной легирующей примеси (например, бора или фосфора) точно контролируется для получения предпочтительного электрического удельного сопротивления данного материала, например, в интервале 0,5-1,5 Ом-см. Это соответствует добавлению 0,02-0,2 амд (атомных миллионных долей, от англ. ррта) бора, когда желателен слиток р-типа и используется исходное сырье 8οΟ-8ί с качеством на уровне собственной проводимости (фактически чистый кремний с незначительным содержанием легирующих примесей). Методика легирования предполагает, что содержание другой легирующей примеси (в случае данного примера - фосфора) является пренебрежимо малым (Р < 1/10 В).
Claims (4)
1. Кремниевое исходное сырье для производства получаемых направленной кристаллизацией Чохральского, зонной плавкой поликристаллических слитков, тонких листов или лент кремния для изготовления кремниевых пластин для ФЭ солнечных элементов, отличающееся тем, что оно содержит от 0,3 до 5,0 амд бора и от 0,5 до 3,5 амд фосфора, менее 50 амд элементов-металлов и менее 100 амд углерода.
2. Кремний для изготовления пластин солнечных элементов, представляющий собой полученные методом направленной кристаллизации Чохральского, методом зонной плавки поликристаллические слиток, тонкий лист или ленту, отличающийся тем, что слиток, тонкий лист или лента кремния содержит от 0,2 до 10 амд бора и от 0,1 до 10 амд фосфора, распределенных в слитке, причем указанный слиток кремния имеет изменение типа от р-типа к η-типу или от η-типа к р-типу в положении от 40 до 99% высоты слитка или толщины листа или ленты и имеет профиль удельного сопротивления, описываемый кривой с начальным значением в интервале от 0,4 до 10 Ом-см и с повышением значения удельного сопротивления в направлении к точке изменения типа.
3. Кремний по п.2, отличающийся тем, что начальное значение удельного сопротивления находится в интервале от 0,7 до 3 Ом-см.
4. Способ производства кремния для изготовления получаемых методом направленной кристаллизации Чохральского, методом зонной плавки поликристаллических слитка, тонкого листа или ленты, используемых для изготовления пластин солнечных элементов, отличающийся тем, что металлургический кремний, полученный в электродуговой печи с помощью печи карботермического восстановления и содержащий вплоть до 300 амд бора и вплоть до 100 амд фосфора, подвергают следующим стадиям рафинирования:
a) обработка металлургического кремния шлаком силиката кальция для снижения содержания бора в кремнии до уровня от 0,2 до 10 амд;
b) кристаллизация обработанного шлаком кремния со стадии а);
c) выщелачивание кремния со стадии Ь) по меньшей мере на одной стадии выщелачивания кислотным выщелачивающим раствором для удаления примесей;
б) плавление кремния со стадии с);
е) кристаллизация расплавленного кремния со стадии б) в форме слитка направленной кристаллизацией;
ί) удаление верхней части закристаллизованного слитка со стадии е) для получения слитка кремния, содержащего от 0,2 до 10 амд бора и от 0,1 до 10 амд фосфора;
д) измельчение и/или классификация по размеру кремния со стадии ί).
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NO20035830A NO333319B1 (no) | 2003-12-29 | 2003-12-29 | Silisiummateriale for fremstilling av solceller |
PCT/NO2004/000003 WO2005063621A1 (en) | 2003-12-29 | 2004-01-12 | Silicon feedstock for solar cells |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
EA200601259A1 EA200601259A1 (ru) | 2007-02-27 |
EA009791B1 true EA009791B1 (ru) | 2008-04-28 |
Family
ID=34738092
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
EA200601259A EA009791B1 (ru) | 2003-12-29 | 2004-01-12 | Кремниевое исходное сырьё для солнечных элементов |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7381392B2 (ru) |
EP (2) | EP2607308A1 (ru) |
JP (1) | JP4580939B2 (ru) |
CN (1) | CN100457613C (ru) |
AU (1) | AU2004308879B2 (ru) |
BR (1) | BRPI0417807B1 (ru) |
CA (1) | CA2548936C (ru) |
EA (1) | EA009791B1 (ru) |
ES (1) | ES2441725T3 (ru) |
NO (1) | NO333319B1 (ru) |
WO (1) | WO2005063621A1 (ru) |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NO322246B1 (no) * | 2004-12-27 | 2006-09-04 | Elkem Solar As | Fremgangsmate for fremstilling av rettet storknede silisiumingots |
DE102005061690A1 (de) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Solmic Gmbh | Verfahren zur Herstellung solartauglichen Siliziums |
EP2024285B1 (en) * | 2006-04-04 | 2014-06-11 | Silicor Materials Inc. | Method for purifying silicon |
US7682585B2 (en) * | 2006-04-25 | 2010-03-23 | The Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona | Silicon refining process |
AU2007295860A1 (en) * | 2006-09-14 | 2008-03-20 | Silicium Becancour Inc. | Process and apparatus for purifying low-grade silicon material |
NO333757B1 (no) * | 2006-12-04 | 2013-09-09 | Elkem Solar As | Solceller |
US7651566B2 (en) * | 2007-06-27 | 2010-01-26 | Fritz Kirscht | Method and system for controlling resistivity in ingots made of compensated feedstock silicon |
US8968467B2 (en) * | 2007-06-27 | 2015-03-03 | Silicor Materials Inc. | Method and system for controlling resistivity in ingots made of compensated feedstock silicon |
UA97691C2 (ru) | 2007-09-13 | 2012-03-12 | Силисиум Беканкур Инк. | Способ получения твердого поликристаллического кремния высокой чистоты |
KR101247666B1 (ko) | 2007-10-03 | 2013-04-01 | 실리코르 머티리얼즈 인코포레이티드 | 실리콘 결정을 얻기 위한 실리콘 분말의 가공 방법 |
WO2009062117A1 (en) * | 2007-11-09 | 2009-05-14 | Sunpreme, Inc. | Low-cost solar cells and methods for their production |
US8758507B2 (en) * | 2008-06-16 | 2014-06-24 | Silicor Materials Inc. | Germanium enriched silicon material for making solar cells |
US7887633B2 (en) * | 2008-06-16 | 2011-02-15 | Calisolar, Inc. | Germanium-enriched silicon material for making solar cells |
ITMI20081085A1 (it) * | 2008-06-16 | 2009-12-17 | N E D Silicon S P A | Metodo per la preparazione di silicio di grado metallurgico di elevata purezza. |
CN101676203B (zh) | 2008-09-16 | 2015-06-10 | 储晞 | 生产高纯颗粒硅的方法 |
DE102009008371A1 (de) | 2009-02-11 | 2010-08-12 | Schott Solar Ag | Integraler Prozeß von Waferherstellung bis Modulfertigung zur Herstellung von Wafern, Solarzellen und Solarmodulen |
US20100213643A1 (en) * | 2009-02-26 | 2010-08-26 | Gadgil Prasad N | Rapid synthesis of polycrystalline silicon sheets for photo-voltaic solar cell manufacturing |
KR20120014011A (ko) * | 2009-04-29 | 2012-02-15 | 칼리솔라, 인코포레이티드 | 고순도화한 금속급 실리콘 재료 정제를 위한 공정 제어 |
WO2010127184A1 (en) * | 2009-04-29 | 2010-11-04 | Calisolar, Inc. | Quality control process for umg-si feedstock |
US8547121B2 (en) * | 2009-04-29 | 2013-10-01 | Silicor Materials Inc. | Quality control process for UMG-SI feedstock |
US8562932B2 (en) | 2009-08-21 | 2013-10-22 | Silicor Materials Inc. | Method of purifying silicon utilizing cascading process |
KR101180353B1 (ko) * | 2010-07-01 | 2012-09-06 | 연세대학교 산학협력단 | 태양전지용 실리콘제조를 위한 acid leaching을 이용한 MG-Si중 불순물의 정련방법 |
CN102021650B (zh) * | 2010-12-31 | 2012-06-06 | 常州天合光能有限公司 | 一种大型多晶锭的生产方法 |
CN102191562B (zh) * | 2011-04-25 | 2012-08-29 | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 | 一种n型晶体硅太阳电池的硼扩散方法 |
FR2978549B1 (fr) * | 2011-07-27 | 2014-03-28 | Commissariat Energie Atomique | Determination des teneurs en dopants dans un echantillon de silicium compense |
NO335110B1 (no) * | 2011-10-06 | 2014-09-15 | Elkem Solar As | Fremgangsmåte for fremstilling av silisiummonokrystall og multikrystalline silisiumingoter |
CN103014839B (zh) * | 2013-01-09 | 2016-07-27 | 英利集团有限公司 | 一种p型掺杂剂及其制备方法 |
CN103147118B (zh) * | 2013-02-25 | 2016-03-30 | 天津市环欧半导体材料技术有限公司 | 一种利用直拉区熔法制备太阳能级硅单晶的方法 |
NO339608B1 (no) | 2013-09-09 | 2017-01-09 | Elkem Solar As | Multikrystallinske silisiumingoter, silisiummasterlegering, fremgangsmåte for å øke utbyttet av multikrystallinske silisiumingoter for solceller |
NO336720B1 (no) * | 2013-09-09 | 2015-10-26 | Elkem Solar As | Fremgangsmåte for forbedring av effektiviteten av solceller. |
FR3010721B1 (fr) * | 2013-09-17 | 2017-02-24 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fabrication d'un lingot de silicium presentant une concentration homogene en phosphore |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4247528A (en) * | 1979-04-11 | 1981-01-27 | Dow Corning Corporation | Method for producing solar-cell-grade silicon |
US5972107A (en) * | 1997-08-28 | 1999-10-26 | Crystal Systems, Inc. | Method for purifying silicon |
US20010020438A1 (en) * | 2000-02-25 | 2001-09-13 | President Of Shinshu University | Method for manufacturing dislocation-free silicon single crystal |
WO2002099166A1 (en) * | 2001-06-05 | 2002-12-12 | Sintef | Electrolyte and method for manufacturing and/or refining of silicon |
EP1338682A2 (en) * | 2002-02-20 | 2003-08-27 | Hemlock Semiconductor Corporation | Flowable chips and methods and apparatus for their preparation and use of same |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4195067A (en) * | 1977-11-21 | 1980-03-25 | Union Carbide Corporation | Process for the production of refined metallurgical silicon |
JPS5913444B2 (ja) * | 1977-11-21 | 1984-03-29 | ユニオン・カ−バイド・コ−ポレ−シヨン | 精製された金属シリコン製造方法 |
DE2933164A1 (de) * | 1979-08-16 | 1981-02-26 | Consortium Elektrochem Ind | Verfahren zum reinigen von rohsilicium |
US4612179A (en) * | 1985-03-13 | 1986-09-16 | Sri International | Process for purification of solid silicon |
JPH07206420A (ja) * | 1994-01-10 | 1995-08-08 | Showa Alum Corp | 高純度ケイ素の製造方法 |
NO180532C (no) * | 1994-09-01 | 1997-05-07 | Elkem Materials | Fremgangsmåte for fjerning av forurensninger fra smeltet silisium |
CN1083396C (zh) * | 1995-07-14 | 2002-04-24 | 昭和电工株式会社 | 高纯度硅的制造方法 |
US5961944A (en) * | 1996-10-14 | 1999-10-05 | Kawasaki Steel Corporation | Process and apparatus for manufacturing polycrystalline silicon, and process for manufacturing silicon wafer for solar cell |
JPH10251010A (ja) * | 1997-03-14 | 1998-09-22 | Kawasaki Steel Corp | 太陽電池用シリコン |
CN1207192C (zh) * | 1997-12-25 | 2005-06-22 | 新日本制铁株式会社 | 高纯硅的制造方法及装置 |
US6468886B2 (en) * | 1999-06-15 | 2002-10-22 | Midwest Research Institute | Purification and deposition of silicon by an iodide disproportionation reaction |
AU2001285142A1 (en) * | 2000-08-21 | 2002-03-04 | Astropower Inc. | Method and apparatus for purifying silicon |
FR2827592B1 (fr) * | 2001-07-23 | 2003-08-22 | Invensil | Silicium metallurgique de haute purete et procede d'elaboration |
JP4142332B2 (ja) * | 2002-04-19 | 2008-09-03 | Sumco Techxiv株式会社 | 単結晶シリコンの製造方法、単結晶シリコンウェーハの製造方法、単結晶シリコン製造用種結晶、単結晶シリコンインゴットおよび単結晶シリコンウェーハ |
-
2003
- 2003-12-29 NO NO20035830A patent/NO333319B1/no not_active IP Right Cessation
-
2004
- 2004-01-12 CA CA002548936A patent/CA2548936C/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-01-12 AU AU2004308879A patent/AU2004308879B2/en not_active Expired
- 2004-01-12 BR BRPI0417807-6A patent/BRPI0417807B1/pt active IP Right Grant
- 2004-01-12 CN CNB2004800394173A patent/CN100457613C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2004-01-12 ES ES04701439.4T patent/ES2441725T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2004-01-12 EP EP13159702.3A patent/EP2607308A1/en not_active Withdrawn
- 2004-01-12 JP JP2006546879A patent/JP4580939B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-01-12 WO PCT/NO2004/000003 patent/WO2005063621A1/en active Application Filing
- 2004-01-12 US US10/585,004 patent/US7381392B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-01-12 EA EA200601259A patent/EA009791B1/ru not_active IP Right Cessation
- 2004-01-12 EP EP04701439.4A patent/EP1699737B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2008
- 2008-04-23 US US12/108,254 patent/US7931883B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4247528A (en) * | 1979-04-11 | 1981-01-27 | Dow Corning Corporation | Method for producing solar-cell-grade silicon |
US5972107A (en) * | 1997-08-28 | 1999-10-26 | Crystal Systems, Inc. | Method for purifying silicon |
US20010020438A1 (en) * | 2000-02-25 | 2001-09-13 | President Of Shinshu University | Method for manufacturing dislocation-free silicon single crystal |
WO2002099166A1 (en) * | 2001-06-05 | 2002-12-12 | Sintef | Electrolyte and method for manufacturing and/or refining of silicon |
EP1338682A2 (en) * | 2002-02-20 | 2003-08-27 | Hemlock Semiconductor Corporation | Flowable chips and methods and apparatus for their preparation and use of same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2005063621A1 (en) | 2005-07-14 |
NO333319B1 (no) | 2013-05-06 |
US7931883B2 (en) | 2011-04-26 |
AU2004308879B2 (en) | 2008-01-03 |
EP1699737A1 (en) | 2006-09-13 |
BRPI0417807B1 (pt) | 2014-09-23 |
ES2441725T3 (es) | 2014-02-06 |
JP4580939B2 (ja) | 2010-11-17 |
BRPI0417807A (pt) | 2007-04-10 |
AU2004308879A1 (en) | 2005-07-14 |
EP1699737B1 (en) | 2014-01-01 |
EP2607308A1 (en) | 2013-06-26 |
US20080206123A1 (en) | 2008-08-28 |
CN100457613C (zh) | 2009-02-04 |
US20070128099A1 (en) | 2007-06-07 |
NO20035830L (no) | 2005-06-30 |
CA2548936A1 (en) | 2005-07-14 |
JP2007516928A (ja) | 2007-06-28 |
EA200601259A1 (ru) | 2007-02-27 |
CN1902129A (zh) | 2007-01-24 |
US7381392B2 (en) | 2008-06-03 |
CA2548936C (en) | 2009-08-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EA009791B1 (ru) | Кремниевое исходное сырьё для солнечных элементов | |
AU2005333767B2 (en) | Method for producing directionally solidified silicon ingots | |
CN102119444B (zh) | 用于制造太阳能电池的锗富集的硅材料 | |
WO2005123583A1 (ja) | 多結晶シリコンの製造方法およびその製造方法によって製造される太陽電池用多結晶シリコン | |
CN101999013A (zh) | 通过添加掺杂杂质制造光伏级晶体硅的方法及光伏电池 | |
Kraiem et al. | High performance solar cells made from 100% UMG silicon obtained via the PHOTOSIL process | |
US9352969B2 (en) | Process for manufacturing silicon-based nanoparticles from metallurgical-grade silicon or refined metallurgical-grade silicon | |
Geerligs et al. | solar-grade silicon by a direct route based on carbothermic reduction of silica: requirements and production technology. | |
CN103952753A (zh) | 一种用于太阳能电池的多晶硅制作方法 | |
KR20090048474A (ko) | 금속 실리콘과 그 제조 방법 | |
JP2006036628A (ja) | 多結晶シリコンの製造方法およびその製造方法によって製造される太陽光発電用多結晶シリコン | |
KR20130115296A (ko) | 태양 전지용 게르마늄 농축형 실리콘 | |
WO2013051940A1 (en) | Method for producing silicon mono-crystals and multi-crystalline silicon ingots | |
US20240044019A1 (en) | A method of producing silicon | |
CN118773737A (zh) | 一种n型单晶硅的制备方法及n型单晶硅 | |
Wan et al. | Low-Cost Multicystalline Silicon Wafers by Purifying Metallurgical Grade Silicon with Tin Solution | |
CN105755538A (zh) | 一种掺锡冶金多晶硅铸锭的制备方法 | |
Rustioni et al. | Solar silicon from directional solidification of MG silicon produced via the silicon carbide route | |
JP2013220957A (ja) | 太陽電池用シリコン、多結晶シリコン材料、多結晶シリコン太陽電池および太陽電池用シリコンの製造方法 | |
NO320217B1 (no) | Silisiumsubstratmateriale for epitaksibelegning for fremstilling av solceller |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s) |
Designated state(s): AM AZ BY MD TJ TM |
|
MM4A | Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s) |
Designated state(s): KZ KG |
|
PC4A | Registration of transfer of a eurasian patent by assignment |