DK168330B1 - Fremgangsmåde til fremstilling af transparente, uklarhedsfrie tinoxidbelægninger - Google Patents
Fremgangsmåde til fremstilling af transparente, uklarhedsfrie tinoxidbelægninger Download PDFInfo
- Publication number
- DK168330B1 DK168330B1 DK013687A DK13687A DK168330B1 DK 168330 B1 DK168330 B1 DK 168330B1 DK 013687 A DK013687 A DK 013687A DK 13687 A DK13687 A DK 13687A DK 168330 B1 DK168330 B1 DK 168330B1
- Authority
- DK
- Denmark
- Prior art keywords
- tin oxide
- substrate
- cloudless
- glass
- oxide coating
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/407—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
- B05D5/12—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain a coating with specific electrical properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2453—Coating containing SnO2
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
DK 168330 81 i
Den foreliggende opfindelse angår en fremgangsmåde til fremstilling af en transparent, uklarhedsfri tinoxidbelægning, ved hvilken man fordamper en organisk tinforbindelse og i en oxy-genholdig atmosfære bringer dampen i kontakt med et substrat 5 ved en forhøjet substrattemperatur, og derefter om ønsket afsætter en tinoxidbelægning på underlagsfilmen.
Tinoxid er meget anvendt som et belægningsmateriale i optiske instrumenter. Tinoxidbelægningen skal være transparent og uklarhedsfri for at undgå forstyrrelse af apparatets optiske 10 ydeevne. En tinoxidbelægning anvendes også til at reducere eller fjerne iriseren i glasvindueskonstruktioner. Selv om sådanne tinoxidbelægninger virker effektivt til de påtænkte formål, indfører de uklarhed i systemet, med mindre de dannes under meget restriktive og ufordelagtige afsætningsbetingelser.
15 Det foreslås derfor at undgå tintetrachlorid eller en hvilken som helst anden tilsvarende forbindelse, som indeholder et halogenid, der kan danne en syredamp på den varme glasoverflade.
Opfindelsen angår derfor en fremgangsmåde til fremstilling af transparente, uklarhedsfrie tinoxidbelægninger af den indled-20 ningsvis nævnte art, hvilken fremgangsmåde er ejendommelig ved, at den organiske tinforbindelse er monophenyltintrichlo-rid.
Det anvendte flydende monophenyltintrichlorid har lav korrosi-vitet og lav toksicitet og dekomponeres hurtigt i luft ved en 25 forhøjet substrattemperatur til tilvejebringelse af transparente, uklarhedsfrie tinoxidbelægninger. Disse tinoxidbelægninger har typisk mindre end 1% uklarhed og en transmission af synligt lys på mere end 80% og opnås i en tykkelse på op til 250 nm i eh af sætnings tid på mindre end 25 sek. ved en glas-30 temperatur på ca. 450-650°C.
Som et andet træk ved opfindelsen kan den uklarhedsfrie tinoxidbelægning anvendes som en underlagsfilm. Derved vil en overlagsfilm af tinoxid, dannet derpå, antage underlagsfilmens DK 168330 B1 2 egenskaber, nemlig manglende uklarhed.
Endnu et andet træk ved opfindelsen er anvendelsen af det uklarhedsfrie lag til at reducere iriseren i en reflekterende giaskonstruktion, som omfatter en transparent, ledende tin-5 oxidbelægning.
Figuren er et skematisk diagram af et apparat til udførelse af belægningsfremgangsmåden ifølge opfindelsen.
Idet der nu henvises til figuren, er der angivet en fremstilling i diagramform af et apparat, som er egnet til udøvelse af 10 fremgangsmåden ifølge den foreliggende opfindelse. En bærergas 10, som omfatter oxygen, fødes således gennem en fødelinie 11 med en forud bestemt strømningshastighed gennem et lufttørre-tårn 12 til tilvejebringelse af en strøm 13 af tør luft. En separat luftstrøm kan føres gennem et befugtningsapparat 14 15 indeholdende en passende mængde vand 15 til tilvejebringelse af en våd luftstrøm 16 med en ønsket relativ fugtighed. En luftstrøm 17, enten tør eller våd, kan derved føres gennem er fordamper 18 indeholdende beholder 19 til opbevaring af flydende monophenyltintrichlorid. Væsken føres til fordamper 18 ved 20 hjælp af sprøjtepumpe 20 og sprøjte 21. Luftstrømmen opvarmes fra et oliebad (ikke vist) til en ønsket fordampninqstempera-tur.
Det fordampede, flydende monophenyltintrichlorid i luftstrømmen 22 vandrer til et afsætningskammer 23 med en belægnings-25 dyse 24, hvori et glassubstrat 25 er monteret på en plade 26, der er opvarmet til en forud bestemt temperatur. Efter afsætning af tinoxidbelægningen på glassubstratet udsuges de gas-formige biprodukter fra afsætningen.
I overensstemmelse med opfindelsen kan der fremstilles trans-30 parente, uklarhedsfrie tinoxidbelægninger over et bredt interval af procesbetingelser som beskrevet i det følgende.
DK 168330 B1 3
Glassubstratet holdes således hensigtsmæssigt ved en temperatur på ca. 450 til 650°C, fortrinsvis 500 til 600°C.
Fordampningstemperaturen af flydende monophenyltintrichlorid i fremgangsmåden varierer hensigtsmæssigt fra ca. 100 til 250°C, 5 fortrinsvis ca. 120 til 175°C.
Bærergassen er en oxygenholdig gas, som hensigtsmæssigt kan være luft eller en blanding af oxygen og en inert gas, og er fortrinsvis luft.
Bærergassen kan være tør eller våd. Vanddampkoncentrationen er 10 fortrinsvis mindre end 10 mol vand per mol monophenyltintrichlorid.
Bærergashastigheden varierer hensigtsmæssigt fra ca. 0,1 til ca. 10 m/s.
Koncentrationen af monophenyltintrichlorid i bærergassen va-15 rierer hensigtsmæssigt fra ca. 10~5 til 10-2 mol monophenyltintrichlorid per mol bærergas.
Sædvanligvis tilvejebringes ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen transparente, uklarhedsfrie tinoxidbelægninger, som har mindre end 1% uklarhed og en transmission af synligt lys på 20 mere end 80%, og de opnås i en tykkelse på op til 250 nm i løbet af en afsætningstid på mindre end 25 sek.
Uklarhedsindholdet af tinoxidbelægningerne fremstillet ifølge opfindelsen blev bestemt ud fra Gardner-uklarhedsmåleapparats-målinger på objektglas, der var belagt med tinoxid afsat fra 25 monophenyltintrichlorid i overensstemmelse med ASTM D1003-61 (godkendt igen 1977) metode A.
Transmissionen af synligt lys blev målt på et UV/synligt lys-spekt rof ot ometer over området 400-800 nm mod luft, og % Tv^s blev taget som et gennemsnit over bølgelængderne.
DK 168330 B1 4
Filmtykkelsen blev målt ved hjælp af β-tilbagekastningsmetoden i overensstemmelse med British Standards Institution metode BS5411: del 12, 1981, ISO 3543-1981.
Fordelene ved opfindelsen kan lettere vurderes ved henvisning 5 til de følgende specifikke eksempler, hvori % uklarhed af tinoxidbelægninger på glas opnået fra monophenyltintrichlorid sammenlignes med % uklarhed af tinoxidbelægninger fremstillet ud fra monobutyltintrichlorid (tabel I) , og af % uklarhed i belægninger fra monophenyltintrichlorid over et interval af 10 procesbetingelser (tabel II).
Tabel I
Uklarheds indhold af tinoxidbelægninger opnået ud fra monophenyltintrichlorid (MPTC) og monobutyltintrichlorid (MBTC)
Eksempel Koncentration Substrat- % uklarhed 15 (mol/1) tempera- MPTC MBTC Ubelagt glas tur (°C) 0,75 la 0,079 600 0,90 lb* " " 5,5 20 2a " 550 0,75 2b* " " 2,7 3a " 500 0,75 3b* " " 1,1 »n* sammenligningseksempel.
25 Tabel II
Uklarheds indhold af tinoxidbelægninger opnået ud fra monophenyltintrichlorid under forskellige procesbetingelser DK 168330 B1 5
Eksempel Koncentration Substrattem- % uklarhed _(mol/1)_peratur (°C) MPTC Ubelacrt glas 0,75 4 0,119 600 0,90 55 " 550 0,75 6 » 500 0,75 7 0,159 600 0,75 8 " 500 0,75
Dugpunkt, eks. 1-3, 2,4,- eks. 4-8, 12,0; fordampnings tempe-10 ratur, eks. 1-8, 157°C; tykkelse af belægninger, eks. 1-8, 190 nm,· afsætningstider, eks. 1-8, MPTC 6-22 sek., eks. 1-3 MBTC
7-9 sek.,· transmission af synligt lys, eks. 1-8, MPTC 80%, eks. 1-3, MBTC 75%.
Dataene i tabellerne viser, at tinoxidbelægninger opnået ud 15 fra monophenyl tint ri chl orid udviser en uklarhed på mindre end 1% over et bredt interval af procesbetingelser og viser ved visse substrattemperaturer en værdi, som er lig med den for ubelagt glas. På den anden side er tinoxidbelægninger fremstillet ud fra monobutyltintrichlorid uklare under alle pro-20 cesbetingelser. Desuden viser belægninger, der er fremstillet under anvendelse af tintetrachlorid, ethyltintribromid, dibu-tyltindichlorid, dimethyltindichlorid, methyltintrichlorid, dibutyltindiacetat, tributyltinchlorid og tetrabutyltin alle uklarhed, som svarer til eller er mere alvorlig end monobu-25 tyltintrichlorid. Desuden gav monophenyltintrichlorid under et bredt interval af dampafsætningsbetingelser fremragende uklarhedsfrie belægninger.
Grunden til, at uklarhedsfrie tinoxidbelægninger kan fremstilles ud fra monophenyltintrichlorid, som er en organotintriha-30 logenidforbindelse, er ikke rigtigt forstået på nuværende tidspunkt. Denne fordelagtige egenskab kan imidlertid relateres til det minimale antal overfladehulrum eller -porer, der observeres i tinoxidbelægninger fremstillet ud fra denne forbindelse.
DK 168330 B1 6
Som et andet træk ved opfindelsen kan den uklarhedsfrie tin-oxidbelægning, fremstillet ud fra monophenyl tint ri chl orid, anvendes som en underlagsfilm mellem glas og en overlagstinoxid-belægning, hvorved overlagstinoxidbelægningen antager under-5 lagsfilmens egenskaber, nemlig manglende uklarhed. Overlagsfilmen kan afsættes fra enhver tinforbindelse, som danner tin-oxidbelægninger. Om ønsket kan der dannes en ledende overlags-tinoxidbelægning ved at inkludere et doteringsmiddel sammen med tinforbindelsen. Der kan f.eks. anvendes sådanne forbin-10 delser som tintetrachlorid, monoalkyltintrichlorider, f.eks. monobutyltintrichlorid, dibutyltindiacetat, dimethyltindichlo-rid og lignende. Monobutyltintrichlorid er en foretrukket kildeforbindelse .
Et doteringsmiddel, som bibringer ledningsevne til tinoxid-15 overlaget, kan om ønsket inkluderes i tinbelægningsmaterialet. Sådanne doteringsmidler omfatter trifluoreddikesyre, trifluor-eddikesyreanhydrid, ethyltrifluoracetat, pentafluorpropionsyre, difluordichlormethan, monochlordifluormethan, 1,1-difluor-ethanol og lignende.
20 Et foretrukket ledende tinoxidoverlagsmateriale er monobutyltintrichlorid og trifluoreddikesyre, hensigtsmæssigt i et materialeinterval på 70-99 vægt% af organotinforbindelsen og 1-30 vægt% af tilsætningsmidlet.
Underlagstinoxidfilmen har hensigtsmæssigt en tykkelse på 25 mindst 10 nm, fortrinsvis 30 nm. Tinoxidoverlagsbelægningen kan have en hvilken som helst ønsket tykkelse og den er sædvanligvis for ledende belægninger på glas cirka 150-250 nm.
Tinoxidbelægningerne, opnået under anvendelse af monophenyl-tintrichlorid som et underlag, er uklarhedsfrie under et bredt 30 interval af procesbetingelser, og viser ved visse substrattemperaturer en værdi, som i det væsentlige er lig med den for ubelagt glas. På den anden side er tinoxidbelægninger, fremstillet ud fra monobutyltintrichlorid direkte på glas, uklare DK 168330 B1 7 under alle procesbetingelser.
Der tilvejebringes heri også ikke-iriserende, uklarhedsfrie glaskonstruktioner, der reflekterer infrarødt lys, og som omfatter en transparent, ledende tinoxidbelægning, som re-5 flekterer infrarød stråling, og en transparent, uklarhedsfri tinoxidbelægning fremstillet ud fra monophenyltintrichlorid, som er til stede for at reducere iriseren i nævnte konstruktion. Sådanne tinoxidbelægninger omtales heri også som interferensmaskerende film.
10 I en udførelsesform påføres belægningerne på modsatte overflader af en glasplade, og tykkelsen af den uklarhedsfrie tinoxidbelægning, fremstillet ud fra monophenyltintrichlorid, forudbestemmes i forhold til tykkelsen af den ledende tinoxidbelægning til tilvejebringelse af en i alt væsentligt ikke-15 iriserende, uklarhedsfri konstruktion.
Som beskrevet ovenfor kan den uklarhedsfrie tinoxidbelægning fremstillet ud fra monophenyltintrichlorid påføres som et enkelt lag, eller den kan danne et underlag for efterfølgende lag derpå, som antager underlagets egenskaber som værende 20 uklarhedsfrie. Den ledende tinoxidbelægning dannes ved hjælp af konventionelle metoder, f.eks pyrolyse, kemisk dampafsætning, pulverbelægning og katodeforstøvning, og ud fra konventionelle kilder for doteret tinoxid, f.eks. dibutyltindifluo-rid, dibutyltindiacetat, monobutyltintrichlorid etc. og hvor 25 det er nødvendigt, et doteringsmiddel, såsom et fluordoteringsmiddel .
Der tilvejebringes ligeledes en glasvinduesartikel med dob-beltglas, som er transparent og uklarhedsfri.
De interferensmaskerende (iriseringsreducerende) film er tin-30 oxidfilm fremstillet ud fra monophenyltintrichlorid. Sådanne interferensmaskerende film er farveløse tinoxidfilm med en refleksion af synligt lys, som er stor nok til at maskere in- DK 168330 B1 8 terferenseffekten af synligt lys hos tinoxidfilmen, der reflekterer infrarødt lys. Tykkelsen af den maskerende tinoxid-film vælges i overensstemmelse med kendte kriterier, som er etableret til tilvejebringelse af den ønskede iriseringsreduk-5 tionseffekt.
I én udførelsesform af disse konstruktioner påføres en belægning, som reflekterer infrarødt lys, på en overflade af en glasplade, og en maskerende film, som reflekterer mere synligt lys, afsættes på den modsatte overflade af glaspladen. Dette 10 belagte produkt kan anvendes monolitisk eller kan fortrinsvis monteres i en enhed med flere lag glas.
I en anden udførelsesform påføres en film, som reflekterer infrarødt lys, til overfladen af en glasplade, mens en maskerende film, som reflekterer mere synligt lys, påføres til én 15 overflade af en anden glasplade. De to belagte glasplader samles i en vinduesenhed med flere lag glas, fortrinsvis med begge belægninger ind mod enhedens indre rum. Den foretrukne orientering for enheden med flere lag glas i en bygning er med den film, som reflekterer infrarødt lys på den indre glaspla-20 de.
I endnu en anden udførelsesform belægges begge plader af en enhed med dobbelt glas på begge sider, nemlig med tinoxidfilm, som reflekterer infrarødt lys, på de indre overflader, og farveløse maskerende tinoxidfilm på de ydre overflader. De to be-25 lægninger kan påføres samtidigt.
I en anden udførelsesform af en vindueskonstruktion med dobbeltglas reflekterer den indre overflade af et glas infrarødt lys, og den indre overflade af det andet glas, som vender mod hinanden, er iriseringsreducerende og fremstillet ud fra mo-30 nophenyltintrichlorid.
Sådanne emner er effektive til anvendelser med passiv solopvarmning, fordi den høje transmission tillader solenergi (lys DK 168330 B1 9 og varme) i en konstruktion, mens den høje refleksion af infrarødt lys og lave emissivitet forhindrer, at varme inde i konstruktionen tabes.
I en udførelsesfora af glaskonstruktionerne belægges er glas-5 plade, typisk en glasvinduesrude, på en hovedoverflade deraf med en interferensmaskerende tinoxidbelægning dannet ved kemisk dampafsætning af monophenyltintrichlorid. Denne belægning er ikke-ledende, eftersom dens funktion i konstruktionen blot er at maskere eller reducere iriseren uden at indføre uklarhed 10 over et bredt interval af ønskelige procesbetingelser og inden for en hurtig afsætningshastighed. Denne belægning er i alt væsentlig uklarhedsfri, dvs. har en procentvis uklarhed på mindre end 1% og er faktisk ca. lig med % uklarhed for ubelagt glas.
15 En ledende tinoxidbelægning, som reflekterer infrarødt lys, tilvejebringes på den modsatte overflade af pladen. Denne belægning kan fremstilles ud fra enhver konventionel doteret tinoxidkilde, f.eks. dibutyltintrichlorid, dibutylditinacetat, monobutyltintrichlorid og et egnet doteringsmiddel, f.eks.
20 fluor, fra sådanne kilder som trifluoreddikesyre og ethyltri-fluoracetat.
Det uklarheds frie, interferensmaskerende tinoxidlag kan også anvendes i en vindueskonstruktion med dobbeltglas, hvori er indelukket et isolerende luftrum mellem en indre transparent 25 plade og en ydre transparent plade. Disse plader er dannet af glas, og de ledende tinoxidbelægninger er til stede på de indre overflader af glasset, med oversiden mod hinanden.
I en typisk udførelsesfora er der en forskel på ca. 1/4 bølgelængde mellem de ledende og maskerende belægninger, og den 30 ledende belægning er f.eks. ca. 0, 2 μτη, mens den maskerende belægning er ca. 0,27 μπι, idet forskellen er 0,07 μτη.
Claims (11)
1. Fremgangsmåde til fremstilling af en transparent, uklarhedsfri tinoxidbelægning, ved hvilken man fordamper en orga-5 ni sk tinforbindelse og i en oxygenholdig atmosfære bringer dampen i kontakt med et substrat ved en forhøjet substrat-temperatur, og derefter om ønsket afsætter en tinoxidbelægning på underlagsfilmen, kendetegnet ved, at den organiske tinforbindelse er monophenyltintrichlorid.
2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at substrattemperaturen er ca. 450 til 600°C.
3. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at substratet er glas.
4. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at 15 man danner den transparente, uklarhedsfri tinoxidunderlagsfilm på substratet og derefter afsætter den ønskede tinoxidbelægning derpå, hvorved tinoxidoverlaget antager underlagets egenskaber som værende uklarhedsfri.
5. Fremgangsmåde ifølge krav 4, kendetegnet ved, at 20 tinoxidoverlaget er en ledende tinoxidbelægning.
6. Fremgangsmåde ifølge krav 5, kendetegnet ved, at det ledende tinoxidoverlag er dannet ud fra et monoalkyltin-trichlorid og et fluordoteringsmiddel.
7. Fremgangsmåde ifølge krav 6, kendetegnet ved, at 25 den ledende tinoxidbelægning afsættes fra monobutyltintrichlo- rid og trifluoreddikesyre. 1 Fremgangsmåde ifølge krav 4, kendetegnet ved, at underlaget har en tykkelse på mindst 10 nm. DK 168330 B1 11
9. Fremgangsmåde ifølge krav 1 til fremstilling af en transparent, ikke-iriserende glasvindueskonstruktion, som reflekterer infrarødt lys, og som omfatter en glasplade, en tinoxidbelægning, som reflekterer infrarødt lys, på én hovedoverflade 5 af pladen, og en iriseringsreducerende tinoxidbelægning på den modsatte overflade af pladen, kendetegnet ved, at den iriseringsreducerende tinoxidbelægning er uklarhedsfri og er fremstillet ved at bringe pladen ved en forhøjet temperatur i kontakt med monophenyltintrichlorid i en oxygenholdig atmos-10 fære.
10. Fremgangsmåde ifølge krav 9, kendetegnet ved, at laget, som reflekterer infrarødt lys, omfatter et underlag, et uklarhedsfrit tinoxidlag fremstillet ud fra monophenyltintrichlorid, og et tinoxidoverlag, som reflekterer infrarødt 15 lys, idet overlaget antager underlagets egenskaber som værende uklarhedsfri.
11. Fremgangsmåde ifølge krav 9 til fremstilling af en glasvindueskonstruktion med dobbeltglas, som omfatter mindst to transparente, ikke-iriserende glasvindueskonstruktioner, som 20 reflekterer infrarødt lys, kendetegnet ved, at konstruktionen samles således, at overfladerne af tinoxidlagene, der reflekterer infrarødt lys, vender mod hinanden.
12. Fremgangsmåde ifølge krav 11, kendetegnet ved, at man inkluderer et glas med et transparent lag, som reflek- 25 terer infrarødt lys, på den indre overflade deraf, og et iriseringsreducerende lag på den indre overflade af det andet glas.
Applications Claiming Priority (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/733,997 US4600654A (en) | 1985-05-14 | 1985-05-14 | Method of producing transparent, haze-free tin oxide coatings |
US73399785 | 1985-05-14 | ||
US79302385A | 1985-10-30 | 1985-10-30 | |
US79302385 | 1985-10-30 | ||
US80255185 | 1985-11-27 | ||
US06/802,551 US4737388A (en) | 1985-05-14 | 1985-11-27 | Non-iridescent, haze-free infrared reflecting coated glass structures |
US8600890 | 1986-04-25 | ||
PCT/US1986/000890 WO1986006658A1 (en) | 1985-05-14 | 1986-04-25 | Method of producing transparent, haze-free tin oxide coatings |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DK13687A DK13687A (da) | 1987-01-12 |
DK13687D0 DK13687D0 (da) | 1987-01-12 |
DK168330B1 true DK168330B1 (da) | 1994-03-14 |
Family
ID=27419186
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DK013687A DK168330B1 (da) | 1985-05-14 | 1987-01-12 | Fremgangsmåde til fremstilling af transparente, uklarhedsfrie tinoxidbelægninger |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0225342B1 (da) |
KR (1) | KR920007956B1 (da) |
CN (1) | CN1015185B (da) |
AU (1) | AU576676B2 (da) |
BR (1) | BR8606673A (da) |
CA (1) | CA1268673A (da) |
DE (1) | DE3673612D1 (da) |
DK (1) | DK168330B1 (da) |
ES (1) | ES8800365A1 (da) |
FI (1) | FI83416C (da) |
IE (1) | IE58959B1 (da) |
IL (1) | IL78736A (da) |
IN (1) | IN170102B (da) |
MX (1) | MX163869B (da) |
TR (1) | TR23083A (da) |
WO (1) | WO1986006658A1 (da) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5102721A (en) * | 1987-08-31 | 1992-04-07 | Solarex Corporation | Textured tin oxide |
US4880664A (en) * | 1987-08-31 | 1989-11-14 | Solarex Corporation | Method of depositing textured tin oxide |
WO1989003114A1 (en) * | 1987-09-30 | 1989-04-06 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Transparent conductive ceramic-coated base, process for its production, and its use |
US5382383A (en) * | 1988-08-24 | 1995-01-17 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Coating solutions for forming transparent conductive ceramic coatings, substrates coated with transparent conductive ceramic coatings and process for preparing same, and uses of substrates coated with transparent conductive ceramic coatings |
JPH02258691A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-19 | Agency Of Ind Science & Technol | 透明導電膜の製造方法 |
US5233465A (en) * | 1992-05-27 | 1993-08-03 | The Dow Chemical Company | Visibly transparent infrared reflecting film with color masking |
JP2002520488A (ja) * | 1998-07-10 | 2002-07-09 | ジル、メリエンヌ | 化学蒸着プロセスに好適なフッ素ドープ酸化スズ層の製造用液体コーティング組成物 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3406085A (en) * | 1964-05-11 | 1968-10-15 | Corning Glass Works | Photochromic window |
US3420693A (en) * | 1964-06-05 | 1969-01-07 | Ball Brothers Co Inc | Glass having dual protective coatings thereon and a method for forming such coatings |
US3949146A (en) * | 1973-08-24 | 1976-04-06 | Rca Corporation | Process for depositing transparent electrically conductive tin oxide coatings on a substrate |
US4265974A (en) * | 1976-11-01 | 1981-05-05 | Gordon Roy G | Electrically conductive, infrared reflective, transparent coatings of stannic oxide |
US4440822A (en) * | 1977-04-04 | 1984-04-03 | Gordon Roy G | Non-iridescent glass structures |
US4459789A (en) * | 1982-05-20 | 1984-07-17 | Ford Donald F | Window |
US4590096A (en) * | 1984-12-28 | 1986-05-20 | M&T Chemicals Inc. | Water vapor, reaction rate and deposition rate control of tin oxide film by CVD on glass |
US4547400A (en) * | 1985-02-25 | 1985-10-15 | Ford Motor Company | Method of making infrared reflective glass sheet-I |
US4548836A (en) * | 1985-02-25 | 1985-10-22 | Ford Motor Company | Method of making an infrared reflective glass sheet-II |
-
1986
- 1986-04-25 DE DE8686903044T patent/DE3673612D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1986-04-25 BR BR8606673A patent/BR8606673A/pt not_active IP Right Cessation
- 1986-04-25 KR KR1019870700025A patent/KR920007956B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1986-04-25 EP EP86903044A patent/EP0225342B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-04-25 WO PCT/US1986/000890 patent/WO1986006658A1/en active IP Right Grant
- 1986-04-25 AU AU58103/86A patent/AU576676B2/en not_active Ceased
- 1986-04-29 IN IN384/DEL/86A patent/IN170102B/en unknown
- 1986-05-08 MX MX2429A patent/MX163869B/es unknown
- 1986-05-08 IL IL78736A patent/IL78736A/xx not_active IP Right Cessation
- 1986-05-13 ES ES554900A patent/ES8800365A1/es not_active Expired
- 1986-05-13 CA CA000509005A patent/CA1268673A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-05-13 IE IE126186A patent/IE58959B1/en not_active IP Right Cessation
- 1986-05-14 CN CN86103417A patent/CN1015185B/zh not_active Expired
- 1986-05-14 TR TR267/86A patent/TR23083A/xx unknown
-
1987
- 1987-01-09 FI FI870078A patent/FI83416C/fi not_active IP Right Cessation
- 1987-01-12 DK DK013687A patent/DK168330B1/da not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IE861261L (en) | 1986-11-14 |
FI870078A (fi) | 1987-01-09 |
IN170102B (da) | 1992-02-08 |
FI83416B (fi) | 1991-03-28 |
EP0225342A4 (en) | 1987-08-12 |
DK13687A (da) | 1987-01-12 |
FI870078A0 (fi) | 1987-01-09 |
EP0225342B1 (en) | 1990-08-22 |
CA1268673A (en) | 1990-05-08 |
AU5810386A (en) | 1986-12-04 |
KR920007956B1 (ko) | 1992-09-19 |
ES8800365A1 (es) | 1987-11-01 |
TR23083A (tr) | 1989-03-13 |
DK13687D0 (da) | 1987-01-12 |
MX163869B (es) | 1992-06-29 |
BR8606673A (pt) | 1987-08-11 |
FI83416C (fi) | 1991-07-10 |
CN86103417A (zh) | 1986-11-12 |
KR870700415A (ko) | 1987-12-29 |
IE58959B1 (en) | 1993-12-01 |
ES554900A0 (es) | 1987-11-01 |
IL78736A (en) | 1989-03-31 |
AU576676B2 (en) | 1988-09-01 |
CN1015185B (zh) | 1991-12-25 |
IL78736A0 (en) | 1986-08-31 |
WO1986006658A1 (en) | 1986-11-20 |
DE3673612D1 (de) | 1990-09-27 |
EP0225342A1 (en) | 1987-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DK175462B1 (da) | Fremgangsmåde til afsætning en en tinoxidfilm med lav emissionsevne på et kontinuerligt glassubstrat | |
US4172159A (en) | Process for coating a glass sheet with a semi-reflective film of tin oxide | |
US10333009B2 (en) | Coated glasses having a low sheet resistance, a smooth surface, and/or a low thermal emissivity | |
US4857361A (en) | Haze-free infrared-reflecting coated glass | |
NO144140B (no) | Fremgangsmaate ved fremstilling av gjennomsiktige filmer av fireverdig tinnoxyd | |
RU2447032C2 (ru) | Стеклоизделие с покрытием из оксида цинка и способ его изготовления | |
DK168330B1 (da) | Fremgangsmåde til fremstilling af transparente, uklarhedsfrie tinoxidbelægninger | |
JP2017122012A (ja) | ガラス部材 | |
JPH0530907B2 (da) | ||
GB2275692A (en) | Coated glass having a substratum comprising oxides of aluminium titanium and vanadium | |
US4788079A (en) | Method of making haze-free tin oxide coatings | |
EP0745605B1 (en) | Liquid methyltin halide compositions | |
EP0158399B1 (en) | Liquid coating composition for producing high quality, high performance fluorine-doped tin oxide coatings | |
US4737388A (en) | Non-iridescent, haze-free infrared reflecting coated glass structures | |
US5417757A (en) | Liquid precursor for the production of fluorine doped tin oxide coatings and corresponding coating process | |
US4775552A (en) | Nebulizable coating compositions for producing high quality, high performance fluorine-doped tin oxide coatings | |
KR920001372B1 (ko) | 흐림현상이 없는 적외선반사 도장 유리 | |
NO170198B (no) | Fremgangsmaate ved fremstilling av transparente, klare tinnoksydbelegg | |
JPS61586A (ja) | 高品質高性能フツ素ド−プ酸化錫コ−チング製造用の液体コ−チング組成物 | |
US4954367A (en) | Vapor deposition of bis-tributyltin oxide | |
JPS58125613A (ja) | 酸化錫膜の形成方法 | |
DK156998B (da) | Fremgangsmaade til fremstilling af transparente film af stannioxid paa et underlag | |
MXPA96002106A (en) | Liquid compositions of metilest halide |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
B1 | Patent granted (law 1993) | ||
PBP | Patent lapsed |