DK168107B1 - Apparat og fremgangsmaade til fjernelse af smaa partikler fra et substrat - Google Patents

Apparat og fremgangsmaade til fjernelse af smaa partikler fra et substrat Download PDF

Info

Publication number
DK168107B1
DK168107B1 DK217688A DK217688A DK168107B1 DK 168107 B1 DK168107 B1 DK 168107B1 DK 217688 A DK217688 A DK 217688A DK 217688 A DK217688 A DK 217688A DK 168107 B1 DK168107 B1 DK 168107B1
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
carbon dioxide
mixture
approx
substrate
liquid carbon
Prior art date
Application number
DK217688A
Other languages
English (en)
Other versions
DK217688A (da
DK217688D0 (da
Inventor
Walter H Whitlock
Jr William R Weltmer
James D Clark
Original Assignee
Boc Group Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Boc Group Inc filed Critical Boc Group Inc
Publication of DK217688D0 publication Critical patent/DK217688D0/da
Publication of DK217688A publication Critical patent/DK217688A/da
Application granted granted Critical
Publication of DK168107B1 publication Critical patent/DK168107B1/da

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C1/00Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
    • B24C1/003Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods using material which dissolves or changes phase after the treatment, e.g. ice, CO2
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/30Mixing gases with solids
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/40Static mixers
    • B01F25/42Static mixers in which the mixing is affected by moving the components jointly in changing directions, e.g. in tubes provided with baffles or obstructions
    • B01F25/43Mixing tubes, e.g. wherein the material is moved in a radial or partly reversed direction
    • B01F25/433Mixing tubes wherein the shape of the tube influences the mixing, e.g. mixing tubes with varying cross-section or provided with inwardly extending profiles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/40Static mixers
    • B01F25/42Static mixers in which the mixing is affected by moving the components jointly in changing directions, e.g. in tubes provided with baffles or obstructions
    • B01F25/43Mixing tubes, e.g. wherein the material is moved in a radial or partly reversed direction
    • B01F25/433Mixing tubes wherein the shape of the tube influences the mixing, e.g. mixing tubes with varying cross-section or provided with inwardly extending profiles
    • B01F25/4335Mixers with a converging-diverging cross-section
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C3/00Abrasive blasting machines or devices; Plants
    • B24C3/32Abrasive blasting machines or devices; Plants designed for abrasive blasting of particular work, e.g. the internal surfaces of cylinder blocks
    • B24C3/322Abrasive blasting machines or devices; Plants designed for abrasive blasting of particular work, e.g. the internal surfaces of cylinder blocks for electrical components
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S134/00Cleaning and liquid contact with solids
    • Y10S134/902Semiconductor wafer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Extraction Or Liquid Replacement (AREA)

Description

DK 168107 B1 o
Den foreliggende opfindelse angår et apparat og fremgangsmåder til fjernelse af ganske små partikler fra et substrat under anvendelse af en strøm indeholdende fast og gasformigt carbondioxid. Apparatet ifølge op-5 findelsen er især egnet til fjernelse af kontaminanter på under en pm fra halvledersubstrater.
Fjernelse af fin, partikelformet overfladekontaminering har været emnet for adskillige undersøgelser, især inden for halvlederindustrien. Store partikler, d.v.s.
10 over 1 pm, fjernes let ved gennemblæsning med en tør nitrogenstrøm. Imidlertid er partikler på under 1 pm særdeles modstandsdygtige mod fjernelse ved hjælp af gasfor-mige strømme, fordi sådanne partikler er stærkere bundet til overfladen af substratet. Dette skyldes først og frem-15 mest elektrostatiske kræfter og binding af partiklerne af overfladelag indeholdende absorberet vand og/eller organiske forbindelser. Desuden er der et grænselag med næsten stillestående gas på overfladen, hvilket grænselag er relativt tykt i forhold til partikler på under 1
OD
pm. Dette lag afskærmer partikler på under 1 pm fra kræfter, som gasstrømme i bevægelse ellers ville udøve på dem i større afstande fra overfladen.
Man tror almindeligvis, at den høje grad af vedhæftning af partikler på under 1 pm til et underlag 25 skyldes partiklernes relativt store overfladeareal, som giver bedre kontakt med substratet. Eftersom sådanne partikler ikke rækker langt ud fra overfladearealet og derfor har mindre overfladeareal eksponeret for gasstrømmen eller væsken, fjernes de ikke let ved hjælp af aero-30 dynamiske sugevirkninger,som godtgjort ved studier af bevægelsen af sand og andre små partikler, jf. Bagnold, R.
The Physics of Sand and Desert Dunes, Chapman and Hall,
London (1966), og Corn, M. "The Adhesion of Solid Particles to Solid Surfaces", J. Air. Poll. Cart. Assoc.
35 Bd. 11, nr. 11 (1961).
0 DK 168107 B1 2
Halvlederindustrien har anvendt højtryksvæsker alene eller i kombination med børster med fine børstehår for at fjerne fine, partikelformede kontaminanter fra halvlederoblater. Skønt sådanne fremgangsmåder med noget 5 held er blevet anvendt til fjernelse af kontaminanter, er de ufordelagtige, fordi børsterne ridser overfladen af substratet, og højtryksvæskerne har en tilbøjelighed til at erodere de sarte overflader og kan endog generere en uønskelig elektrisk udladning,som bemærket af 10 Gallo, C.F. og Lama, VI.C., "Classical Electrostatic Description of the Work Function and Ionization Energy of Insulators", IEEE TRANS. IND. APPL. Bd. 1A-12, nr. 2 (Jan/Feb 1976). En anden ulempe ved børste-og højstryksvæskesystemerne er, at væskerne ikke let kan opsamles 15 efter anvendelse.
Ifølge den foreliggende opfindelse har det overraskende vist sig, at en blanding af i det væsentlige rent fast og gasformigt carbondioxid er effektivt til fjernelse af partikler på under 1 yum fra overflader af substra-20 ter uden de ulemper, der er knyttet til de ovenfor beskrevne børste-og højstryksvæskesystemer.
Nærmere bestemt er rent carbondioxid (99,99+%) til rådighed og kan ekspanderes fra væskestadium til fremstilling af tør is-sne, som virkningsfuldt kan blæses 25 hen over en overflade til fjernelse af partikler på under 1 ^um uden at ridse overfladen af substratet. Desuden fordamper carbondioxidsneen, når den udsættes for omgivelsernes temperaturer,uden at efterlade sig nogen rest og fjerner dermed problemet med væskeopsamling.
on
Man har beskrevet is og tøris som sliberensemidler. Eksempelvis er der fra US patentskrift nr.
2.699.403 kendt et apparat til fremstilling af isflager fra vand til rensning af automobilers udvendige overflader. Fra US patentskrift nr. 3.074.822 er kendt et appa-35 rat til dannelse af en fluidiseret frossen dioxan- og 0 DK 168107 B1 3 tørisblanding til rensning af overflader, såsom gasturbineblade. I ovennævnte patentskrift er angivet, at dioxan sættes til tørisen fordi den sidstnævnte ikke viser god slibende og opløsende virkning.
5 I den senere tid er der beskrevet et apparat til fremstilling af carbondioxidsne og til at lede en blanding af fast og gasformig carbondioxid til et substrat, jf. Hoenig, Stuart A., "The Application of Dry Ice to the Removal of Particulates from Optical Apparatus, Space-10 craft, Semiconductor Wafers, and Equipment Used in Contaminant Free Manufacturing Processes" (Compressed Air Magazine, august, 1986, s. 22-25). Ved hjælp af denne anordning sænkes trykket over flydende carbondioxid gennem et langt cylindrisk rør med ensartet diameter til til-15 vejebringelse af en blanding af fast og gasformigt carbondioxid, som derpå ledes til overfladen af substratet.
Der anvendes et koncentrisk anbragt rør til at tilsætte en strøm af tør nitrogengas for derved at hindre opbygning af kondensation.
20 På trods af, at man er i stand til at fjerne nogle partikler under 1 μπι, lider den ovennævnte anordning af adskillige ulemper. Eksempelvis er rensningsvirkningen begrænset først og fremmest på grund af den lave gashastighed og af, at det faste carbondioxid består af 25 flager og fnug. Desuden gør det lange cylindriske rørs geometri det vanskeligt at kontrollere carbondioxidfødehastigheden og den hastighed, med hvilken snestrømmen kommer i kontakt med overfladen af substratet.
Ifølge den foreliggende opfindelse er der nu 30 tilvejebragt et nyt apparat til fjernelse af partikler på under 1 Mm fra et substrat, hvilket apparat overvinder de ovennævnte ulemper. Apparatet ifølge opfindelsen producerer en blanding af fast og gasformigt carbondioxid med en kontrolleret strømningshastighed, som effektivt 35 fjerner partikler pa under 1 μπι fra overfladen af et sub- 0 DK 168107 B1 4 strat.
Den foreliggende opfindelse angår et apparat til fjernelse af partikler på under 1 μιη fra et substrat, og dette apparat er ejendommeligt ved, at det om-5 fatter: (1) en flydende carbondioxidkilde, (2) midler til at gøre det muligt for det flydende carbondioxid at ekspandere til dele bestående af henholdsvis fine flydende smådråber og gasformigt carbondioxid, 10 (3) midler til at få de fine flydende smådråber til at forene sig til store flydende smådråber, (4) midler til at omdanne disse store flydende smådråber til faste carbondioxidpartikler i nærværelse af ovennævnte gasformige carbondioxid for derved at danne 15 en blanding af fast og gasformigt carbondioxid, og (5) midler til at lede denne blanding af fast· stof og gas til substratet.
Nærmere bestemt anvendes der i den foreliggende opfindelse en åbning, hvorved der tilvejebringes en vej 20 for strømningen af flydende carbondioxid til et koales-censkammer, hvor de fine flydende smådråber først dannes og derpå forener sig til store flydende smådråber, som er forløberen for de ganske små faste carbondioxidpartikler, som ikke normalt kan opløses af det menneskelige 25 øje. De store smådråber formes til faste partikler, idet fødestrømmen passerer fra koalescenskammeret gennem en anden åbning og ud af udgangsåbningen mod overfladen af substratet.
Den følgende tegning og de udførelsesformer, 30 der er beskrevet deri, hvori ens referencetal angiver ens dele, er belysende for den foreliggende opfindelse, og det er ikke meningen, at de skal begrænse opfindelsens ramme som angivet i kravene, der udgør en del af ansøgningen.
35 0 DK 168107 B1 5 På tegningen vises der i fig. 1 et tværsnit af apparatet ifølge opfindelsen, idet der anvendes en nåleventil til at styre hastigheden for dannelsen af fine smådråber af carbondioxid, 5 I fig. 2 vises der et tværsnit af en anden ud førelsesform ifølge opfindelsen, som omfatter midler til generering af en tør nitrogenstrøm, som omgiver blandingen af fast og gasformigt carbondioxid ved kontaktpunktet med substratet, 10 I fig. 3 vises der et tværsnit af en udførelses form ifølge opfindelsen, som tillader rensning af et bredt område i sammenligning med de udførelsesformer, der er vist i fig. 1 og 2, I fig. 4 fremstilles udførelsesformen, vist i 15 fig. 3, set ovenfra,
Fig. 5 er et tværsnit af en udførelsesform ifølge opfindelsen, der kan anvendes til rensning af cylindriske strukturers indvendige overflade.
Idet der henvises til tegningen, og især til 20 fig. 1, omfatter apparatet 2 ifølge opfindelsen en åbning 4 til modtagelse af flydende carbondioxid, som er forbundet med et anlæg til opbevaring af flydende carbondioxid (ikke vist) via forbindelsen 6. Forbindelsen 6 kan være en stålforstærket Teflonslange eller hvilken som 25 helst anden passende forbindelse, som gør det muligt for det flydende carbondioxid at strømme fra denne kilde til modtageråbningen 4.
Der findes ligeledes et kammer 8, som modtager det flydende carbondioxid, når det strømmer gennem modta-30 geråbningen 4. Dette kammer 8 er forbundet via en første åbning 10 til en dyse 12. Dysen 12 omfatter et koalescens-kammer 14, en anden åbning 16, og en sprøjtetud 18, der slutter ved en udgangsåbning 20.
Den første åbning 10 omfatter vægge 22, som 35 spidser til hen mod en åbning 24 ind til koalescenskamme- 0 DK 168107 B1 6 ret 14. Den første åbning 10 er dimensioneret til at afgive fra ca. 7,8 til ca. 21,2 1 carbondioxid pr. min. ved standardbetingelser. Bredden af den første åbning 10 er hensigtsmæssigt fra 0,762 til 1,720 mm og spidser lidt 5 til (eksempelvis ca. 1°), idet strømningen af det flydende carbondioxid således yderligere accelereres og bidrager til det trykfald, der resulterer i dannelse af de fine flydende små væskedråber i koalescenskammeret 14.
I en udførelsesform ifølge opfindelsen, vist i 10 fig. 1, kan den første åbning 10 være udstyret med en standardnåleventil 26 med en konisk spids 28, som kan bevæges i den første åbning 10 til styring af tværsnitsarealet deraf og derved styring af denne carbondioxidstrøm. I en alternativ udførelsesform kan den første åb-15 ning 10 anvendes uden en nåleventil. I dette tilfælde er bredden eller diameteren af åbningen 10 hensigtsmæssigt fra ca. 0,025 mm til ca. 1,270 mm. Nåleventilen 26 foretrækkes imidlertid, fordi man får kontrol over den første åbning 10's tværsnitsareal. Nåleventilen 26 kan 20 manipuleres med fremgangsmåder, der sædvanligvis anvendes inden for teknikken, såsom anvendelsen af en elektronisk fjernsensor.
Koalescenskammeret 14 omfatter et bagtil liggende afsnit 30, der støder op til den første åbning 10 og 25 o star i forbindelse hermed via åbningen 24. Koalescenskammeret 14 omfatter ligeledes et fortil liggende afsnit 34. Længden af det koalescerende kammer er hensigtsmæssigt fra ca. 3,175 mm til ca. 50,8 mm, og diameteren er hensigtsmæssigt fra ca. 0,762 mm til 3,175 mm. Det skal 30 imidlertid forstås, at dimensionerne kan variere i overensstemmelse med størrelsen af arbejdet, eksempelvis størrelsen af den genstand, der skal renses. Skønt et koalescerende kammer 14 med en større diameter vil give tættere partikler og derfor større rensningsintensitet, har 35 det vist sig, at for stor en diameter kan resultere i 0 DK 168107 B1 7 frysning af fugt på overfladen af substratet, hvilket hæmmer rensningen. Dette problem kan lettes ved at nedsætte omgivelsernes fugtighedsgrad. På den anden side kan rensningsanvendelser, der inddrager særdeles sarte 5 overflader på substrater, drage fordel af et anvende et koalescerende kammer 14 med en lille diameter.
Diameteren af den første åbning 10 kan ligeledes variere. Imidlertid bliver den, hvis diameteren er for lille, vanskelig at fremstille ved den sædvanlige 10 fremgangsmåde med at bore i stangmaterialer. Almindelig-vist er tværsnitsarealerne for den første åbning 10 og den anden åbning 16 mindre end tværsnitsarealet for det koalescerende kammer 14.
Den carbondioxidkilde, der anvendes i den fore-15 liggende opfindelse, er en flydende kilde, som opbevares ved en temperatur og et tryk, der ligger over det, der er kendt som "tripelpunktet", hvilket er det punkt, hvor hverken en væske eller en gas vil blive til et fast stof ved fjernelse af varme. Det vil forstås, at med mindre 20 det flydende carbondioxid ligger over tripelpunktet, vil det ikke passere åbningerne i det her omhandlede apparat.
Den carbondioxidkilde, der er omfattet af den foreliggende opfindelse, er i et flydende stadium, d.v.s. væs- 25 ké-, gasformigt eller en blanding deraf, ved et tryk o 5 pa mindst trykket ved frysepunktet, eller ca. 4,48 x 10 5
Pa og fortrinsvis mindst ca. 20,68 x 10 Pa. Det flydende carbondioxid skal være under tilstrækkeligt tryk til at regulere strømmen gennem den første åbning 10. Ty-30 pisk opbevares det flydende carbondioxid ved omgivelser- 5 nes temperatur og ved et tryk fra ca. 20,68 x 10 til ca.
5 ς 68,95 x 10 Pa, fortrinsvis ved ca. 51,71 x 10 Pa. Det er nødvendigt, at enthalpien af den flydende carbondio- xidfødestrøm under de ovennævnte tryk er under 35 ca. 314,4 kJ/kg, baseret på en enthalpi på 0 ved et tryk DK 168107 Bl 0 8 på 10,34 x 10^ Pa for en mættet væske. Dette enthalpikrav er essentielt uden hensyn til, om det flydende carbondioxid er i en væske-, gasformig eller, mere almindeligt, en blandingsform, som typisk er overvejende væskefor-5 mig. Hvis det her omhandlede apparat er dannet af egnet metal, såsom stål eller wolframcarbid, kan enthalpien åf det opbevarede flydende carbondioxid ligge fra ca.
45,6 kJ/kg til ca. 314,4 kJ/kg. I det tilfælde, at det her omhandlede apparat er konstrueret af et harpiksmate-10 riale, såsom polypropylen med høj slagstyrke, har det vist sig, at enthalpien kan ligge fra ca. 256,1 kJ/kg til ca. 314,4 kJ/kg. Disse værdier gælder uden hensyn til andelen af væske og gas i den flydende carbondioxidkilde.
15 Under drift forlader det flydende carbondioxid opbevaringstanken og fortsætter gennem forbindelsen 6 til modtageråbningen 4, hvor det derpå kommer ind i opbevaringskammeret 8. Det flydende carbondioxid strømmer derpå gennem den første åbning 10, hvis størrelse eventuelt 20 kan være reguleret ved tilstedeværelsen af nåleventilen 26.
Idet det flydende carbondioxid, strømmer gennem den første åbning 10 og ud af åbningen 24, udvider det sig 5 langs en konstant-enthalpilinie til fra ca. 5,52 x 10 QC 5
Pa til ca. 6,89 x 10 Pa, idet det kommer ind i det bagtil liggende afsnit 30 af det koalescerende kammer 14.
Som et resultat omdannes en del af det flydende carbondioxid til fine smådråber. Det vil forstås, at tilstanden af den flydende carbondioxidfødestrøm vil bestemme 30 den grad af ændring, der sker i det første koalescerende kammer 14. Eksempelvis vil mættet gas eller rent væskeformigt carbondioxid i kildebeholderen gennemgå en proportionalt større ændring end væske/gasblandinger. Ligevægtstemperaturen i det bagtil liggende afsnit 30 ligger typisk 35 på ca. - 49°c, og hvis kilden er væskeformigt carbon- 0 DK 168107 B1 9 dioxid ved stuetemperatur, omdannes carbondioxidet i det bagtil liggende afsnit 30 til en blanding af ca. 50 % fine små væskedråber og 50 % carbondioxiddamp.
Blandingen af fine små væskedråber og gas fort-5 sætter at strømme gennem det koalescerende kammer 14 fra det bagtil liggende afsnit 30 til det fortil liggende afsnit 34. Som et resultat af yderligere udsættelse for trykfald i det koalescerende kammer 14 forener de fine små væskedråber sig til større væskedråber. Blandingen 10 af større væskedråber og gas omdannes til en blanding af fast stof og gas, når den fortsætter.gennem den anden åbning 16 og ud af strålespidsen 18's udgangsåbning 20.
Væggene 38 , der danner strålespidsen 18 og afsluttes ved udgangsåbningen 20, er hensigtsmæssigt konis-15 ke med en spredningsvinkel fra ca. 4 til ca. 8°, fortrinsvis ca. 6°. Hvis spredningsvinklen er for stor (d.v.s. over ca. 15°) reduceres intensiteten af strømmen af fast og gasformigt carbondioxid ned til under det, der er nødvendigt for at rense de fleste substrater.
20
Det koalescerende kammer 14 tjener til at forene de fine små væskedråber, der dannes i det bagtil liggende afsnit 30 deraf til større væskedråber i det fortil liggende afsnit 34. De større væskedråber danner ganske små, faste carbondioxidpartikler, idet carbondioxi- 25 det ekspanderer og bevæger sig hen mod substratet via udgangsåbningen 20. Ifølge den foreliggende opfindelse underkastes blandingen af fast og gasformigt carbondioxid med den fornødne enthalpi som ovenfor beskrevet de ønskede trykfald fra den første åbning 10 via det koa-30 lescerende kammer 14, den anden åbning 16 og strålespidsen 18.
Skønt den foreliggende udførelsesform inkorporerer to ekspansionsstadier, erkender fagfolk, at dyser med tre eller flere ekspansionsstadier ligeledes kan anvendes .
o DK 168107 B1 10
Det her omhandlede apparat kan eventuelt være udstyret med et middel til at omgive blandingen af fast carbondioxid og gas med et svøb af nitrogengas, idet den kontakter substratet, for derved at minimere konden-5 sation på overfladen af substratet.
Idet der henvises til fig. 2yindeholder det ovenfor beskrevne apparat som vist i fig. 1 en åbning 40 til modtagelse af nitrogengas, hvilken åbning tilvejebringer en vej til nitrogenstrømmen fra en nitrogenkil-10 de (ikke vist) til en cirkulær kanal 42, afgrænset af væggene 44. Den ringformede kanal 42 har en udgangsåbning 46, gennem hvilken nitrogenet strømmer mod substratet, idet det omgiver blandingen af fast og gasformigt carbondioxid, der kommer ud ved udgangsåbningen 20.
15 Nitrogenet kan blive leveret til den ringformede kanal 42 ved et tryk, der er tilstrækkeligt til at give brugeren den nødvendige omsluttende strømning ved omgivelsesbetingelser.
Fig. 3, 4 og 5 belyser yderligere udførelses-20 former ifølge den foreliggende opfindelse. Den struktur, der er vist i fig. 3 og 4, har en flad konfiguration og frembringer en flad sprøjteforstøvning, der er ideel til rensning af flade overflader i et enkelt gennemløb. Denne konfiguration er især egnet til overfladerensning af 25 siliciumoblater under bearbejdning, når gængse rensningsmetoder, anvendt på ubehandlede oblate^ikke kan anvendes på grund af eventuelle skadelige virkninger på de strukturer, der er afsat på oblatoverfladen. Betegnelserne i fig. 3, 4 og 5 er de samme som anvendt i fig.
30 . r\ 1 og 2.
I fig. 3 er udførelsesformen med flad sprøjteforstøvning illustreret i tværsnit, og det samme udstyr er vist vinkelret på i fig. 4. Flydende carbondioxid fra opbevaringstanken (ikke vist) kommer ind i apparatet via 35 forbindelsen 6 gennem den første åbning 10. Det koales- DK 168107 B1 11 o cerende kammer består af et bagtil værende afsnit 30 og et fortil værende afsnit 34, som udgør det koalescerende kammer 14. Et enkelt koalescerende kammer 14 med den samme bredde som udgangsåbningen 20 vil være hensigtsmæssigt.
5 Imidlertid kræver trykket i anordningen, at der skal være mekanisk støtte hen over bredden af det koalescerende kammer 14. Følgelig er der med indbyrdes afstand anbragt et antal mekaniske støtter 48 tværs over det koalescerende kammer 14 som vist i fig. 4. Antallet af kanaler, danne-10 de i det koalescerende kammer 14, er udelukkende afhængigt af det antal støtter 48, der kræves til at stabilisere en udgangsåbning 20 med en given bredde. Det vil forstås, at antallet og størrelsen af de fremkomne kanaler skal være således, at de ikke skadeligt påvirker kon-15 sistensen og kvaliteten af det carbondioxid, der ledes til indgangen til den anden åbning 16.
Blandingen af større væskedråber og gas, der dannes i det fortil liggende afsnit 34 i det koalescerende kammer, omdannes til en blanding af fast stof og gas, 20 idet den fortsætter gennem den anden åbning 16 og ud af udgangsåbningen 20, hvilke begge har forlængede åbninger for at tilvejebringe en flad, bred sprøjteforstøvning. Højden af åbningerne i den anden åbning 16 er hensigtsmæssigt fra ca. 0,025 mm til ca. 0,127 mm. Skønt 25 højden af åbningen kan være mindre, er 0,025 mm en praktisk grænse, eftersom det er vanskeligt at bevare en ensartet forlænget åbning, som er væsentligt mindre end 0,025 mm i højden. Modsat kan højden af den anden åbning 16 gøres større end 0,127 mm, hvilket giver intens rens-30 ning. Imidlertid stiger ved højder på over 0,127 mm den mængde af carbondioxid, der kræves til at forbedre rensningen, væsentligt. Disse dimensioner er angivet til belysning, eftersom der ikke er nogen fundamental grænse for hverken bredden eller højden af den anden åbning 16.
35
Spredningsvinklen for udgangsåbningen 20 er lille, d.v.s.
0 DK 168107 B1 12 fra ca. 4 til ca. 8°, fortrinsvis ca. 6°. De apparater, der er vist i fig. 3 og 4, har vist sig at give fortrinlig rensning af plane overflader, såsom siliciumoblater.
Udførelsesformen for den foreliggende opfindel-δ se, vist i fig. 5, er tiltænkt til rensning af indersiden af cylindriske strukturer. Den monteres typisk på enden af en lang rørforbindelse 6, gennem hvilken flydende carbondioxid transporteres fra en opbevaringsbeholder (ikke vist). Under drift indskydes den anordning, 10 der er vist i fig. 5, i den cylindriske struktur, der skal renses, det flydende carbondioxid sluttes til, og anordningen fjernes langsomt fra strukturen. Den paraplyformede stråle, der dannes af strukturen, fejer hen over indersiden af den cylindriske struktur, og det dampfor-15 mige carbondioxid bærer frigjorte overfladepartikler med sig, idet det forlader røret foran den fremadskridende stråle.
I den udførelsesform, der er vist i fig. 5, kommer flydende carbondioxid fra en kilde, der ikke er 20 vist, ind i anordningen gennem forbindelsen 6, Det flydende carbondioxid kommer ind i apparatet gennem indgangsåbningen 4 til et kammer 8. Kammeret 8 er forbundet via en første åbning 10 til en dyse 12. Dysen 12 omfatter en åbning 50, som fører til et koalescerende kammer 14 25 og en udgangsåbning 20. I den udførelsesform, der er vist i fig. 5, er udgangsåbningen 20 og den anden åbning 16 forenede.
I det apparat, der er vist i fig. 5, er der ikke nogen divergens i den forenede anden mundings/ud-30 gangsåbning 20, eftersom selve åbningen er divergent af naturen på grund af dens voksende areal med voksende radius. Hældningsvinkel af den anden åbning/udgangsåbning 20 skal være således, at carbondioxidet bliver stødt tilbage fra overfladen, der skal renses, med tilstrækkelig 35 kraft til at bære fjernede partikler fra overfladen ud 0 DK 168107 B1 13 af strukturen foran den paraplyformede stråle« På den anden side kan vinklen ikke være for spids således, at den hindrer strålens rensende evne. Almindeligvis hælder den anden åbning/udgangsåbning 20 i en vinkel fra ca.
5 30 til ca. 90°, fortrinsvis ca. 45° fra aksen i appara- tets renseretning.
Rent carbondioxid kan være acceptabelt til mange anvendelser, eksempelvis inden for optik, herunder rensning af teleskopspejle. Til visse anvendelser kan 10 der imidlertid kræves ultrarent carbondioxid (99,99 % eller renere), idet det forstås, at renheden skal tolkes med hensyn til uønskelige forbindelser til en bestemt anvendelse. Eksemplevis kan mercaptaner være på listen over urenheder for en given anvendelse, medens 16 nitrogen kan være til stede. Anvendelser, som kræver ul-trarent carbondioxid, omfatter rensningen af siliciumoblater til halvlederfabrikation, disc drives, hybride kredsløbselementer og compact discs.
Por anvendelser, der kræver ultrarent carbon-20 dioxid, har det vist sig, at sædvanlige dysematerialer er utilfredsstillende på grund af dannelsen af partikelformet forurening. Især kan rustfrit stål danne partikler af stål, og nikkelovertrukket messing kan danne nikkel. For at fjerne uønskelig partikeldannelse i om-25 rådet omkring åbningerne foretrækkes de følgende materialer: safir, varmebehandlet siliciumdioxid, kvarts, wol-framcarbid og poly(tetrafluorethylen). De her omhandlede dyser kan bestå helt af disse materialer eller kan have et overtræk deraf.
30
Opfindelsen kan effektivt fjerne partikler, carbonhydridfilm, partikler, indlejret i olie, og fingeraftryk. Anvendelser omfatter, men er ikke begrænset til, rensning af optisk apparatur, rumfartøjer, halv- lederoblater og udstyr til kontaminantfrie fremstillings-35 processer.
DK 168107 B1 14 o
Eksempel 1
Apparat ifølge den foreliggende opfindelse konstrueres som følger. En cylinder af "Airco" carbondioxid (kvalitet 4) udstyret til en væskefjernelse, forbindes via en 5 1,83 m fleksibel ståltrådsforstærket poly(tetrafluorethy- len) slange til opbevaringskammeret 8 (jf. fig. 1). Den første åbning 10, som forbinder opbevaringskammeret 8 og det koalescerende kammer 14, udstyres med en fin justeringsventil 26 (Nupro S-SS-4A) .
10 Ventilen 12 er konstrueret af et messingstang materiale med en ydre diameter på 6,35 mm. Det koalescerende kammer 14 har en diameter på 1,59 mm, målt 50,8 mm fra åbningen 24 til den anden åbning 16 med en længde på 5,08 mm og en indre diameter på 0,787 mm. Strålespidsen 15 18 spidser til med en spredningsvinkel på 6° fra enden af den anden åbning 16 til udgangsåbningen 20 gennem en længde på ca. 10,2 mm.
Prøveoverflader fremstilles under anvendelse af siliciumoblater med en diameter på 50,8 mm, der med 20 vilje er kontamineret med en spray af materiale indeholdende pulveriseret zink ("Sylvania material nr. 2284") suspenderet i ethylalkohol. Oblaterne sprøjtebestøves derpå med "Freon" fra en aerosolbeholder.
Ved forberedelsen til rensning af det ovenfor 25 beskrevne substrat i overensstemmelse med den foreliggende opfindelse indstilles Nupro-ventilen 26 til at give en carbondioxidstrømningshastighed på ca. 9,43 1/min ved standardbetingelser. Dysen 12 arbejder i ca. 5 sek. for at få den korrekte carbondioxidpartikelstrøm og an-30 bringes derpå ca. 38,1 mm fra substratet i en vinkel på ca. 75° med hensyn til substratoverfladen.
Rensningen foretages ved at bevæge dysen manuelt fra den ene side til den anden side af oblaten. Renseprocessen afbrydes et øjeblik ved det første tegn på 35 fugtkondensering på oblatoverfladen. Ultraviolet lys an- 0 15 DK 168107 B1 vendes til at lokalisere groft forurenede områder, som blev overset i det indledende renseforløb. Disse områder renses derpå som beskrevet ovenfor.
Den fremkomne rensede oblat undersøges under 5 et elektronmikroskop for automatisk at opdage udvalgte partikler indeholdende zink. Resultaterne er vist i tabel I.
Tabel I
10
Partikelstørrelse Fjernede partikler 1,0 yxm 99,9 + % 0,1 - 1,0 ^,um 99,5 % 15 20 25 30 35

Claims (20)

1. Apparat til fjernelse af små partikler fra et substrat, kendetegnet ved, at det omfatter: (a) en kilde til flydende carbondioxid under tryk og med 5 en enthalpi på under ca. 314,4 kJ/kg, beregnet på en c enthalpi på 0 ved et tryk på 10,34 x 10 Pa for en mættet væske, således at der vil dannes en fast fraktion ved ekspansion af det flydende carbondioxid til substratets omgivelsestryk, 10 (b) et første ekspansionsmiddel til ekspandering af en del af det flydende carbondioxid, der fås fra kilden, til en første blanding indeholdende gasformigt carbondioxid og fine smådråber af væskeformigt carbondioxid, 15 (c) et koalescerende middel, der operativt er forbundet til det første ekspansionsmiddel til omdannelse af den første blanding til en anden blanding indeholdende gasformigt carbondioxid og større smådråber af carbondioxid, 20 (d) et andet ekspansionsmiddel, der operativt er forbun det til det koalescerende middel, til omdannelse af den anden blanding til en tredie blanding indeholdende faste partikler af carbondioxid og gasformigt carbondioxid, 25 (e) midler, forbundet til det andet ekspansionsmiddel, til at lede den tredie blanding mod substratet.
2. Apparat ifølge krav 1, kendétegnet ved, at det endvidere omfatter midler til at lede en nitrogengasstrøm mod underlaget, idet denne strøm omgiver 30 den tredie blanding, idet den tredie blanding kommer i kontakt med substratet.
3. Apparat ifølge krav 1, kendetegnet ved yderligere at omfatte midler til at kontrollere strømningshastigheden for flydende carbondioxid ind i det første eks- 3. pans ionsmiddel.
4. Apparat ifølge krav 3, kendetegnet DK 168107 B1 17 ved, at de kontrollerende midler omfatter en nåleventil.
5. Apparat ifølge krav 1, kendetegnet ved, at det første ekspansionsmiddel omfatter en første munding med en første åbning i forbindelse med den fly- C dende carbondioxidkilde og en anden åbning, der leder til det koalescerende middel, idet det koalescerende middel omfatter et koalescerende kammer med et bagtil liggende afsnit i forbindelse med den anden åbning, idet det bagtil liggende afsnit har et tværsnitsareal, der 10 er større end den første mundings tværsnitsareal, for derved at gøre det flydende carbondioxid i stand til at strømme gennem den første munding for at gennemgå en trykmindskning, idet det flydende carbondioxid kommer ind i det bagtil liggende afsnit i det koalescerende kammer for derved at danne den første blanding.
6. Apparat ifølge krav 5,kendetegnet ved, at det koalescerende kammer endvidere omfatter et fortil liggende afsnit, der støder op til det bagtil lig- ^ gende afsnit, og som har en åbning, der fører til en anden munding, hvori den første blanding gennemgår koales-cering af de fine dråber til større dråber af væskeformigt carbondioxid, idet den passerer fra det bagtil liggende til det fortil liggende afsnit for derved at danne en anden blanding.
7. Apparat ifølge krav 6, kendetegnet ved, at det andet ekspansionsmiddel omfatter den anden munding med en åbning i den ene ende, som fører til det fortil liggende afsnit af det koalescerende kammer, og en åbning ved den anden ende til midlet, der leder den tredie blanding, idet denne munding har et tværsnitsareal, som er mindre end tværsnitsarealet for det koalescerende kammers fortil liggende afsnit.
8. Apparat ifølge krav 7,kendeteg-net ved, at midlet til at lede den tredie blanding omfatter en divergent konisk kanal, forbundet med den ene ende til den anden åbning og med en udgangsåbning, gennem DK 168107 B1 18 hvilken den tredie blanding kommer ud og kommer i kontakt med substratet.
9. Apparat ifølge krav 5, kendetegnet ved, at det koalescerende kaminer har en længde på ca. 3,175 5 mm til 50,8 mm og en diameter på ca. 0,762 mm til 3,175 mm.
10. Apparat ifølge krav 5, kendetegnet ved, at den første åbning har en bredde på ca. 0,025 mm til ca. 1,270 mm.
11. Apparat ifølge krav 8, kendetegnet 10 ved, at den sig konisk udvidende kanal har en spredningsvinkel på op til 15e.
12. Apparat ifølge krav 11, kendetegnet ved, at spredningsvinklen er ca. 4° til 8e.
13. Apparat ifølge krav 1, kendetegnet 15 ved, at det andet ekspansionsmiddel og midlet til at lede den tredie blanding mod substratet er kombineret.
14. Apparat ifølge krav 5, kendetegnet ved, at det fortil liggende afsnit af det koalescerende middel og det ledende middel har forlængede 20 åbninger, hvorved der tilvejebringes en bred flad sprøjteforstøvning .
15. Fremgangsmåde til fjernelse af partikler fra overfladen af et underlag, kendetegnet ved, at den omfatter: 25 (a) omdannelse af flydende carbondioxid til en første blanding af fine smådråber af væskeformigt carbondioxid og gasformigt carbondioxid, (b) omdannelse af den første blanding til en anden blanding indeholdende større smådråber af væskeformigt carbondioxid og gasformigt carbondioxid, (c) omdannelse af den anden blanding til en tredie blanding indeholdende faste carbondioxidpartikler og gasformigt carbondioxid, og (d) at man leder den tredie blanding mod substratet, hvor-5 k ved den tredie blanding fjerner partiklerne fra substratet. DK 168107 B1 19
16. Fremgangsmåde ifølge krav 15, kendetegnet ved yderligere at omfatte lagring af den flydende carbondioxid ved et tryk på ca. 20,68 x 105 til ca. 68,95 x 105 Pa.
17. Fremgangsmåde ifølge krav 16, k endeteg net ved, at trin (a) omfatter ekspansion af det flydende carbondioxid langs en konstant enthalpilinie fra ca. 5,52 x 10^ Pa til 6,89 x 10^ Pa.
18. Fremgangsmåde ifølge krav 15, kendeteg-10 net ved, at den første blanding omfatter ca. 50% fine smådråber og ca. 50% carbondioxid damp.
19. Fremgangsmåde ifølge krav 15, kendetegnet ved, at den første blanding omfatter ca. 11% fine smådråber og ca. 89% damp.
20. Fremgangsmåde ifølge krav 15, kendeteg net ved, at mængden af carbondioxid, der benyttes til dannelse af den første blanding udgør ca. 7,8 til 21,2 1 pr. min. ved standardbetingelser.
DK217688A 1987-04-22 1988-04-21 Apparat og fremgangsmaade til fjernelse af smaa partikler fra et substrat DK168107B1 (da)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US4116987A 1987-04-22 1987-04-22
US4116987 1987-04-22
US11619487 1987-11-03
US07/116,194 US4806171A (en) 1987-04-22 1987-11-03 Apparatus and method for removing minute particles from a substrate

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DK217688D0 DK217688D0 (da) 1988-04-21
DK217688A DK217688A (da) 1988-10-23
DK168107B1 true DK168107B1 (da) 1994-02-14

Family

ID=26717872

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK217688A DK168107B1 (da) 1987-04-22 1988-04-21 Apparat og fremgangsmaade til fjernelse af smaa partikler fra et substrat

Country Status (10)

Country Link
US (1) US4806171A (da)
EP (1) EP0288263B1 (da)
JP (1) JPH079898B2 (da)
AU (1) AU594236B2 (da)
CA (1) CA1310188C (da)
DE (1) DE3876670T2 (da)
DK (1) DK168107B1 (da)
ES (1) ES2036263T3 (da)
IE (1) IE62500B1 (da)
TR (1) TR23759A (da)

Families Citing this family (125)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3844648C2 (da) * 1987-06-23 1992-02-20 Taiyo Sanso Co. Ltd., Osaka, Jp
JPH02130921A (ja) * 1988-11-11 1990-05-18 Taiyo Sanso Co Ltd 固体表面洗浄装置
US4962891A (en) * 1988-12-06 1990-10-16 The Boc Group, Inc. Apparatus for removing small particles from a substrate
US5018667A (en) * 1989-02-08 1991-05-28 Cold Jet, Inc. Phase change injection nozzle
EP0423259A1 (en) * 1989-02-08 1991-04-24 Cold Jet, Inc. Phase change injection nozzle
US5001873A (en) * 1989-06-26 1991-03-26 American Air Liquide Method and apparatus for in situ cleaning of excimer laser optics
US5062898A (en) * 1990-06-05 1991-11-05 Air Products And Chemicals, Inc. Surface cleaning using a cryogenic aerosol
US5125979A (en) * 1990-07-02 1992-06-30 Xerox Corporation Carbon dioxide snow agglomeration and acceleration
US5111984A (en) * 1990-10-15 1992-05-12 Ford Motor Company Method of cutting workpieces having low thermal conductivity
US5222332A (en) * 1991-04-10 1993-06-29 Mains Jr Gilbert L Method for material removal
US5599223A (en) * 1991-04-10 1997-02-04 Mains Jr.; Gilbert L. Method for material removal
US5108512A (en) * 1991-09-16 1992-04-28 Hemlock Semiconductor Corporation Cleaning of CVD reactor used in the production of polycrystalline silicon by impacting with carbon dioxide pellets
US5315793A (en) * 1991-10-01 1994-05-31 Hughes Aircraft Company System for precision cleaning by jet spray
US5613509A (en) * 1991-12-24 1997-03-25 Maxwell Laboratories, Inc. Method and apparatus for removing contaminants and coatings from a substrate using pulsed radiant energy and liquid carbon dioxide
US5782253A (en) * 1991-12-24 1998-07-21 Mcdonnell Douglas Corporation System for removing a coating from a substrate
JPH07508686A (ja) * 1992-06-22 1995-09-28 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー フロプティカル媒体からの廃棄物の除去方法及び装置
WO1995027591A1 (en) * 1992-07-08 1995-10-19 Cold Jet, Inc. Method and apparatus for producing carbon dioxide pellets
US5409418A (en) * 1992-09-28 1995-04-25 Hughes Aircraft Company Electrostatic discharge control during jet spray
US5294261A (en) * 1992-11-02 1994-03-15 Air Products And Chemicals, Inc. Surface cleaning using an argon or nitrogen aerosol
US5545073A (en) * 1993-04-05 1996-08-13 Ford Motor Company Silicon micromachined CO2 cleaning nozzle and method
US5472369A (en) * 1993-04-29 1995-12-05 Martin Marietta Energy Systems, Inc. Centrifugal accelerator, system and method for removing unwanted layers from a surface
US5354384A (en) * 1993-04-30 1994-10-11 Hughes Aircraft Company Method for cleaning surface by heating and a stream of snow
US5486132A (en) * 1993-06-14 1996-01-23 International Business Machines Corporation Mounting apparatus for cryogenic aerosol cleaning
US5377911A (en) * 1993-06-14 1995-01-03 International Business Machines Corporation Apparatus for producing cryogenic aerosol
US5366156A (en) * 1993-06-14 1994-11-22 International Business Machines Corporation Nozzle apparatus for producing aerosol
US5364474A (en) * 1993-07-23 1994-11-15 Williford Jr John F Method for removing particulate matter
US5730806A (en) * 1993-08-30 1998-03-24 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics & Space Administration Gas-liquid supersonic cleaning and cleaning verification spray system
US5390450A (en) * 1993-11-08 1995-02-21 Ford Motor Company Supersonic exhaust nozzle having reduced noise levels for CO2 cleaning system
US5514024A (en) * 1993-11-08 1996-05-07 Ford Motor Company Nozzle for enhanced mixing in CO2 cleaning system
US5405283A (en) * 1993-11-08 1995-04-11 Ford Motor Company CO2 cleaning system and method
US5378312A (en) * 1993-12-07 1995-01-03 International Business Machines Corporation Process for fabricating a semiconductor structure having sidewalls
US5637027A (en) * 1993-12-23 1997-06-10 Hughes Aircraft Company CO2 jet spray system employing a thermal CO2 snow plume sensor
US5779523A (en) * 1994-03-01 1998-07-14 Job Industies, Ltd. Apparatus for and method for accelerating fluidized particulate matter
US5931721A (en) 1994-11-07 1999-08-03 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Aerosol surface processing
US5967156A (en) * 1994-11-07 1999-10-19 Krytek Corporation Processing a surface
US6173916B1 (en) 1994-12-15 2001-01-16 Eco-Snow Systems, Inc. CO2jet spray nozzles with multiple orifices
DE69510025T2 (de) * 1994-12-15 1999-12-09 He Holdings Inc., Los Angeles CO2-Sprühdüse mit Mehrfachöffnung
US5611491A (en) * 1995-02-27 1997-03-18 Hughes Aircraft Company Modular CO2 jet spray device
US5706842A (en) * 1995-03-29 1998-01-13 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Balanced rotating spray tank and pipe cleaning and cleanliness verification system
US5679062A (en) * 1995-05-05 1997-10-21 Ford Motor Company CO2 cleaning nozzle and method with enhanced mixing zones
US5765578A (en) * 1995-09-15 1998-06-16 Eastman Kodak Company Carbon dioxide jet spray polishing of metal surfaces
DE69614627T2 (de) * 1995-09-25 2001-12-06 Eco-Snow Systems, Inc. System und Verfahren zum Polieren von Weichmetallflächen mittels CO2-Schnee
US5846338A (en) * 1996-01-11 1998-12-08 Asyst Technologies, Inc. Method for dry cleaning clean room containers
US5616067A (en) * 1996-01-16 1997-04-01 Ford Motor Company CO2 nozzle and method for cleaning pressure-sensitive surfaces
US5810942A (en) * 1996-09-11 1998-09-22 Fsi International, Inc. Aerodynamic aerosol chamber
US6039059A (en) * 1996-09-30 2000-03-21 Verteq, Inc. Wafer cleaning system
US5942037A (en) * 1996-12-23 1999-08-24 Fsi International, Inc. Rotatable and translatable spray nozzle
US5989355A (en) * 1997-02-26 1999-11-23 Eco-Snow Systems, Inc. Apparatus for cleaning and testing precision components of hard drives and the like
US5853128A (en) * 1997-03-08 1998-12-29 Bowen; Howard S. Solid/gas carbon dioxide spray cleaning system
FR2764215B1 (fr) * 1997-06-04 1999-07-16 Carboxyque Francaise Lance et appareil de production d'un jet de c02 liquide, et son application a une installation de nettoyage de surfaces
US5961732A (en) * 1997-06-11 1999-10-05 Fsi International, Inc Treating substrates by producing and controlling a cryogenic aerosol
US6036786A (en) * 1997-06-11 2000-03-14 Fsi International Inc. Eliminating stiction with the use of cryogenic aerosol
US5789505A (en) * 1997-08-14 1998-08-04 Air Products And Chemicals, Inc. Surfactants for use in liquid/supercritical CO2
FR2771953B1 (fr) * 1997-12-05 2000-01-14 Carboxyque Francaise Dispositif de distribution de co2 et procedes de traitement d'un effluent et de nettoyage de surface l'utilisant
US6048369A (en) * 1998-06-03 2000-04-11 North Carolina State University Method of dyeing hydrophobic textile fibers with colorant materials in supercritical fluid carbon dioxide
DE19860084B4 (de) * 1998-12-23 2005-12-22 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Strukturieren eines Substrats
US6740247B1 (en) 1999-02-05 2004-05-25 Massachusetts Institute Of Technology HF vapor phase wafer cleaning and oxide etching
WO2000046838A2 (en) * 1999-02-05 2000-08-10 Massachusetts Institute Of Technology Hf vapor phase wafer cleaning and oxide etching
DE19950016C5 (de) * 1999-10-18 2012-05-24 Linde Ag CO2-Partikel-Düse
NL1013978C2 (nl) * 1999-12-29 2001-07-02 Huibert Konings Inrichting voor het bewerken van oppervlakken met koolzuurkristallen in een koolzuurgasstraal.
US6327872B1 (en) 2000-01-05 2001-12-11 The Boc Group, Inc. Method and apparatus for producing a pressurized high purity liquid carbon dioxide stream
US6261326B1 (en) 2000-01-13 2001-07-17 North Carolina State University Method for introducing dyes and other chemicals into a textile treatment system
US6719613B2 (en) * 2000-08-10 2004-04-13 Nanoclean Technologies, Inc. Methods for cleaning surfaces substantially free of contaminants utilizing filtered carbon dioxide
US6543462B1 (en) 2000-08-10 2003-04-08 Nano Clean Technologies, Inc. Apparatus for cleaning surfaces substantially free of contaminants
US6530823B1 (en) 2000-08-10 2003-03-11 Nanoclean Technologies Inc Methods for cleaning surfaces substantially free of contaminants
US6500758B1 (en) 2000-09-12 2002-12-31 Eco-Snow Systems, Inc. Method for selective metal film layer removal using carbon dioxide jet spray
US6676710B2 (en) 2000-10-18 2004-01-13 North Carolina State University Process for treating textile substrates
FR2820665A1 (fr) * 2001-02-12 2002-08-16 Kaddour Raissi Buse a jet plat pour le traitement de surface par impact particulaire
US6578369B2 (en) * 2001-03-28 2003-06-17 Fsi International, Inc. Nozzle design for generating fluid streams useful in the manufacture of microelectronic devices
NL1018280C2 (nl) * 2001-06-13 2002-12-16 Huibert Konings Straalelement voor het bewerken van oppervlakken met cryogene deeltjes.
JP4210045B2 (ja) * 2001-06-25 2009-01-14 横河電機株式会社 洗浄装置
TWI312067B (en) * 2002-01-22 2009-07-11 Praxair Technology Inc Method for analyzing impurities in carbon dioxide
FR2842123B1 (fr) * 2002-07-11 2004-08-27 Carboxyque Francaise Procede et dispositif d'injection de co2 diphasique dans un milieu gazeux en transfert
US7297286B2 (en) * 2002-07-29 2007-11-20 Nanoclean Technologies, Inc. Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants
US6764385B2 (en) * 2002-07-29 2004-07-20 Nanoclean Technologies, Inc. Methods for resist stripping and cleaning surfaces substantially free of contaminants
US7134941B2 (en) * 2002-07-29 2006-11-14 Nanoclean Technologies, Inc. Methods for residue removal and corrosion prevention in a post-metal etch process
US7101260B2 (en) * 2002-07-29 2006-09-05 Nanoclean Technologies, Inc. Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants
US7066789B2 (en) * 2002-07-29 2006-06-27 Manoclean Technologies, Inc. Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants
ES2260691T3 (es) * 2002-09-20 2006-11-01 Jens-Werner Kipp Procedimiento y dispositivo de limpieza por proyeccion.
US6889508B2 (en) * 2002-10-02 2005-05-10 The Boc Group, Inc. High pressure CO2 purification and supply system
US6960242B2 (en) * 2002-10-02 2005-11-01 The Boc Group, Inc. CO2 recovery process for supercritical extraction
DE10259132B4 (de) * 2002-12-18 2004-09-23 Messer Griesheim Gmbh Verfahren zur Strahlreinigung von Werkstoffoberflächen
US8192555B2 (en) * 2002-12-31 2012-06-05 Micron Technology, Inc. Non-chemical, non-optical edge bead removal process
US20050006310A1 (en) * 2003-07-10 2005-01-13 Rajat Agrawal Purification and recovery of fluids in processing applications
DE102004018133B3 (de) * 2004-04-08 2005-08-25 Frenzel-Bau Gmbh & Co. Kg Anordnung zur Erzeugung eines Trockeneispartikel-Strahls sowie deren Verwendung
KR20040101948A (ko) * 2004-05-31 2004-12-03 (주)케이.씨.텍 표면세정용 승화성 고체입자 분사용 노즐 및 이를 이용한 세정방법
US7385670B2 (en) * 2004-10-05 2008-06-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, cleaning system and cleaning method for in situ removing contamination from a component in a lithographic apparatus
TW200631666A (en) * 2004-11-12 2006-09-16 Fsi Int Inc Nozzle design for generating fluid streams useful in the manufacture of microelectronic devices
KR100740827B1 (ko) * 2004-12-31 2007-07-19 주식회사 케이씨텍 분사 노즐 및 이를 이용한 세정 시스템
US7389941B2 (en) * 2005-10-13 2008-06-24 Cool Clean Technologies, Inc. Nozzle device and method for forming cryogenic composite fluid spray
GB0522316D0 (en) * 2005-11-01 2005-12-07 Boc Group Plc Weld cooling
GB0522317D0 (en) * 2005-11-01 2005-12-07 Boc Group Plc Nozzle
DE102006019544A1 (de) * 2005-12-01 2007-06-06 Sms Demag Ag Verfahren und Vorrichtung zur Entzunderung von Dünnbrammen und Bändern in Warmbandstraßen, Bandbehandlungsanlagen oder dergleichen
JP2007160244A (ja) * 2005-12-15 2007-06-28 Itec Co Ltd ドライアイス噴射装置
US20070175232A1 (en) * 2006-01-30 2007-08-02 Honeywell International Inc. Ice build-up preventor for thermal chamber ports
US7784477B2 (en) * 2006-02-14 2010-08-31 Raytheon Company Automated non-contact cleaning
TWI352628B (en) * 2006-07-21 2011-11-21 Akrion Technologies Inc Nozzle for use in the megasonic cleaning of substr
US20080216870A1 (en) * 2007-01-19 2008-09-11 Air Liquid Industrial U.S. Lp Dry Ice Blasting With Ozone-Containing Carrier Gas
DE102007018338B4 (de) * 2007-04-13 2010-09-23 Technische Universität Berlin Vorrichtung und Verfahren zum Partikelstrahlen mittels gefrorener Gaspartikel
JP5065078B2 (ja) * 2008-02-19 2012-10-31 エア・ウォーター株式会社 ドライアイススノー洗浄装置および方法
JP5180679B2 (ja) * 2008-05-19 2013-04-10 昭和電工ガスプロダクツ株式会社 ドライアイス粒子の噴射装置
US20090307868A1 (en) * 2008-06-12 2009-12-17 Lee Tai-Cheung Cleaning assembly for a surface of a roller
US20100015354A1 (en) * 2008-07-16 2010-01-21 Lee Tai-Cheung Method of making rollers with a fine pattern
US8454409B2 (en) 2009-09-10 2013-06-04 Rave N.P., Inc. CO2 nozzles
JP5605939B2 (ja) * 2010-03-30 2014-10-15 昭和電工ガスプロダクツ株式会社 ドライアイス粒子の噴射装置
JP2011207664A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Showa Tansan Co Ltd ドライアイス粒子の噴射装置
CN102527660A (zh) * 2012-02-15 2012-07-04 上海鸣华化工科技有限公司 液态二氧化碳单独或与压缩气体混合作为清洗剂均匀稳定喷射的清洗方法
CN102580940A (zh) * 2012-02-15 2012-07-18 上海鸣华化工科技有限公司 均匀稳定喷射的液态二氧化碳清洗用喷枪
WO2014009583A1 (es) * 2012-07-10 2014-01-16 Consejo Superior De Investigaciones Científicas (Csic) Dispositivo y método para limpiar superficies con haz de gases en vacío y ultra alto vacío
US8920570B2 (en) * 2012-11-05 2014-12-30 Trc Services, Inc. Methods and apparatus for cleaning oilfield tools
US9272313B2 (en) * 2012-11-05 2016-03-01 Trc Services, Inc. Cryogenic cleaning methods for reclaiming and reprocessing oilfield tools
KR101305256B1 (ko) * 2012-12-18 2013-09-06 포항공과대학교 산학협력단 초고속 균일 나노 입자 생성 노즐, 생성 장치 및 생성 방법
US9931639B2 (en) 2014-01-16 2018-04-03 Cold Jet, Llc Blast media fragmenter
US20150354403A1 (en) * 2014-06-05 2015-12-10 General Electric Company Off-line wash systems and methods for a gas turbine engine
US10014191B2 (en) 2014-10-06 2018-07-03 Tel Fsi, Inc. Systems and methods for treating substrates with cryogenic fluid mixtures
US10625280B2 (en) 2014-10-06 2020-04-21 Tel Fsi, Inc. Apparatus for spraying cryogenic fluids
TWI678721B (zh) * 2014-10-06 2019-12-01 美商東京威力科創Fsi股份有限公司 以低溫流體混合物處理基板的系統及方法
US10081091B2 (en) 2015-06-12 2018-09-25 Postech Academy-Industry Foundation Nozzle, device, and method for high-speed generation of uniform nanoparticles
WO2018004678A1 (en) * 2016-06-29 2018-01-04 Tel Fsi, Inc. Systems and methods for treating substrates with cryogenic fluid mixtures
EP3648898B1 (en) 2017-04-04 2022-02-09 Hitachi High-Tech Corporation Passive electrostatic co2 composite spray applicator and corresponding method
US10738151B2 (en) 2017-06-23 2020-08-11 University Of Florida Research Foundation, Inc. Biorenewable, water-degradable polymers and co-polymers
KR20200066294A (ko) * 2017-08-18 2020-06-09 티이엘 매뉴팩처링 앤드 엔지니어링 오브 아메리카, 인크. 극저온 유체들을 분사하기 위한 장치
US11624556B2 (en) 2019-05-06 2023-04-11 Messer Industries Usa, Inc. Impurity control for a high pressure CO2 purification and supply system
US11441974B2 (en) 2019-08-01 2022-09-13 Applied Materials, Inc. Detection of surface particles on chamber components with carbon dioxide
CN115283369A (zh) * 2022-09-06 2022-11-04 林峡 一种二氧化碳状态控制系统及方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH134733A (de) * 1928-06-26 1929-08-15 Midden Europ Octrooimaatschapp Verfahren und Einrichtung zur Gewinnung von Kohlensäureeis auf direktem Wege aus flüssiger Kohlensäure.
CH141393A (de) * 1929-10-19 1930-07-31 Escher Wyss Maschf Ag Verfahren zur Herstellung von Kohlensäureeis aus flüssiger Kohlensäure durch Entspannung derselben.
US2699403A (en) * 1952-05-24 1955-01-11 Emmett J Courts Means and methods for cleaning and polishing automobiles
US3074822A (en) * 1960-04-22 1963-01-22 Dudley Develbiss C Method for cleaning gas turbines
JPS603555B2 (ja) * 1979-02-13 1985-01-29 株式会社島津製作所 物質表面除去方法
US4389820A (en) * 1980-12-29 1983-06-28 Lockheed Corporation Blasting machine utilizing sublimable particles
US4655847A (en) * 1983-09-01 1987-04-07 Tsuyoshi Ichinoseki Cleaning method

Also Published As

Publication number Publication date
EP0288263A3 (en) 1989-10-11
DK217688A (da) 1988-10-23
US4806171A (en) 1989-02-21
IE880853L (en) 1988-10-22
EP0288263A2 (en) 1988-10-26
TR23759A (tr) 1990-09-12
IE62500B1 (en) 1995-02-08
ES2036263T3 (es) 1993-05-16
AU1401488A (en) 1988-10-27
DK217688D0 (da) 1988-04-21
EP0288263B1 (en) 1992-12-16
JPH079898B2 (ja) 1995-02-01
DE3876670T2 (de) 1993-04-22
JPS63266836A (ja) 1988-11-02
AU594236B2 (en) 1990-03-01
CA1310188C (en) 1992-11-17
DE3876670D1 (de) 1993-01-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK168107B1 (da) Apparat og fremgangsmaade til fjernelse af smaa partikler fra et substrat
US6852173B2 (en) Liquid-assisted cryogenic cleaning
US6203406B1 (en) Aerosol surface processing
TWI681437B (zh) 以低溫流體混合物處理基板的系統及方法
US4962891A (en) Apparatus for removing small particles from a substrate
US20030188763A1 (en) Vapor-assisted cryogenic cleaning
JPH06224172A (ja) アルゴン又は窒素エーロゾルを用いる表面清浄方法
CN101473062A (zh) 改善pecvd不定形碳膜层的膜内缺陷的方法
US20080044568A1 (en) Anti-clogging nozzle for semiconductor processing
CN102754192A (zh) 基板清洗方法和基板清洗装置
JPH0719765A (ja) 熱交換機
JPH0716510A (ja) 低温エアロゾルを生成するための装置
WO2002079705A2 (en) Nozzle design for generating fluid streams useful in the manufacture of microelectronic devices
JP2501304B2 (ja) 低温エアロゾル洗浄用の取付装置
TW201925089A (zh) 用於清潔的設備及方法
JPH06140378A (ja) 円筒状基板用の二酸化炭素精密清掃システム
WO2006055345A1 (en) Nozzle design for generating fluid streams useful in the manufacture of microelectronic devices
JP4858331B2 (ja) ミストエッチング方法及び装置ならびに半導体装置の製造方法
EP1494821A1 (en) Fluid assisted cryogenic cleaning
EP0569708B1 (en) Apparatus to clean solid surfaces using a cryogenic aerosol
Sherman et al. Carbon dioxide snow cleaning—the next generation of clean
JPH0735368A (ja) クリーンエアー供給装置と供給方法
Banerjee Cryoaerosol cleaning of particles from surfaces
TWI278927B (en) Fluid assisted cryogenic cleaning
JPH06132273A (ja) ウエハ洗浄装置

Legal Events

Date Code Title Description
B1 Patent granted (law 1993)
PBP Patent lapsed

Country of ref document: DK