DK142625C - Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af halvlederstave ved termisk spaltning af en halvlederforbindelse - Google Patents

Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af halvlederstave ved termisk spaltning af en halvlederforbindelse

Info

Publication number
DK142625C
DK142625C DK163272A DK163272A DK142625C DK 142625 C DK142625 C DK 142625C DK 163272 A DK163272 A DK 163272A DK 163272 A DK163272 A DK 163272A DK 142625 C DK142625 C DK 142625C
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
semiconductor
rods
connection
thermal division
manufacturing semiconductor
Prior art date
Application number
DK163272A
Other languages
Danish (da)
English (en)
Other versions
DK142625B (da
Inventor
H Stut
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of DK142625B publication Critical patent/DK142625B/da
Application granted granted Critical
Publication of DK142625C publication Critical patent/DK142625C/da

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/24Deposition of silicon only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/021Preparation
    • C01B33/027Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
    • C01B33/035Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds in the presence of heated filaments of silicon, carbon or a refractory metal, e.g. tantalum or tungsten, or in the presence of heated silicon rods on which the formed silicon is deposited, a silicon rod being obtained, e.g. Siemens process
DK163272A 1971-04-06 1972-04-05 Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af halvlederstave ved termisk spaltning af en halvlederforbindelse DK142625C (da)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19712116746 DE2116746C3 (de) 1971-04-06 1971-04-06 Verfahren zum Herstellen von Halbleiterstäben durch thermische Zersetzung einer Halbleiterverbindung
DE2116746 1971-04-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DK142625B DK142625B (da) 1980-12-01
DK142625C true DK142625C (da) 1981-08-03

Family

ID=5804021

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK163272A DK142625C (da) 1971-04-06 1972-04-05 Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af halvlederstave ved termisk spaltning af en halvlederforbindelse

Country Status (12)

Country Link
JP (1) JPS5312358B1 (de)
AT (1) AT324429B (de)
BE (1) BE778746A (de)
CA (1) CA969839A (de)
CS (1) CS169753B2 (de)
DD (1) DD100404A5 (de)
DE (1) DE2116746C3 (de)
DK (1) DK142625C (de)
FR (1) FR2132404B1 (de)
GB (1) GB1378302A (de)
IT (1) IT950953B (de)
NL (1) NL7201633A (de)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2609564A1 (de) * 1976-03-08 1977-09-15 Siemens Ag Verfahren zum abscheiden von elementarem silicium aus der gasphase
DE102007041803A1 (de) * 2007-08-30 2009-03-05 Pv Silicon Forschungs Und Produktions Gmbh Verfahren zur Herstellung von polykristallinen Siliziumstäben und polykristalliner Siliziumstab
CN101224888B (zh) * 2007-10-23 2010-05-19 四川永祥多晶硅有限公司 多晶硅氢还原炉的硅芯棒加热启动方法
DE102009010086B4 (de) * 2009-01-29 2013-04-11 Centrotherm Sitec Gmbh Anordnung und Verfahren zur Messung der Temperatur und des Dickenwachstums von Siliziumstäben in einem Silizium-Abscheidereaktor
US20120322175A1 (en) * 2011-06-14 2012-12-20 Memc Electronic Materials Spa Methods and Systems For Controlling SiIicon Rod Temperature

Also Published As

Publication number Publication date
PL73356B1 (de) 1974-08-30
DD100404A5 (de) 1973-09-20
AT324429B (de) 1975-08-25
CA969839A (en) 1975-06-24
NL7201633A (de) 1972-10-10
FR2132404A1 (de) 1972-11-17
BE778746A (fr) 1972-05-16
FR2132404B1 (de) 1974-08-02
IT950953B (it) 1973-06-20
JPS5312358B1 (de) 1978-04-28
DE2116746B2 (de) 1978-04-13
DE2116746A1 (de) 1972-10-19
DE2116746C3 (de) 1978-12-07
DK142625B (da) 1980-12-01
GB1378302A (en) 1974-12-27
CS169753B2 (de) 1976-07-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK198076A (da) Fremgangsmade og apparat til fremstilling af fnugvarmetransfer og fnugvarmetransfer
NO145943C (no) Fremgangsmaate og apparat til fremstilling av byggelementer
DK301375A (da) Fremgangsmade og apparat til kontinuert fremstilling af vand-olie-emulsioner
NO140566C (no) Fremgangsmaate og apparat til fremstilling av et flerlags baneformet materiale
DK153223C (da) Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af siliciumstave med ensartet tvaersnit
DK146449C (da) Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af bulket og kruset multifilamentgarn
DK154551C (da) Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af laminatruder
DK137687B (da) Apparat til anbringelse af en af formstofroer bestaaende draenledning
DK560875A (da) Fremgangsmade og apparat til fremstilling af en flerlagsrude og rude fremstillet ved fremgangsmaden ifolge opfindelsen
DK137786B (da) Fremgangsmåde og apparat til fremstilling af metalblokke.
DK136109B (da) Fremgangsmåde og apparat til kontinuerlig sammenføjning af to fladeelementer ved gensidig sammenfalsning.
DK128723B (da) Fremgangsmåde og apparat til frembringelse af tværgående indbyrdes sammenføjning af oven over hinanden forløbende materialebaner.
DK144939C (da) Fremgangsmaade til fremstilling af cementprodukter med hoej styrke
DK148697C (da) Apparat til gennemfoerelse af en termisk reaktion imellem stroemme af stroemningsdygtige medier
DK138169B (da) Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af fortloebende lynlaaseledraekker af en skstruderet profilstreng
DK125970B (da) Fremgangsmåde og anlæg til elektroforetisk støbning af keramiske genstande.
DK142625C (da) Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af halvlederstave ved termisk spaltning af en halvlederforbindelse
DK144118C (da) Fremgangsmaade og maskine til fremstilling af fibercementroer
DK143654C (da) Fremgangsmaade til fremstilling af et fluoranderivat af triphenylmethan
DK145537C (da) Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af planglas
DK135762B (da) Fremgangsmåde og apparat til frembringelse af et lag af metaloxid på en glasoverflade.
DK341075A (da) Fremgangsmade og apparat til fremstilling af silicium
DK131763B (da) Fremgangsmåde og apparat til fremstilling af en støbeform.
DK133329C (da) Fremgangsmade og apparat til fremstilling af finneror med spiralsnoede finner
DK141784C (da) Fremgangsmaade og apparat til digelfri zonesmeltning af en halvlederstav

Legal Events

Date Code Title Description
PBP Patent lapsed