DEG0014815MA - - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 18
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 claims description 11
- 239000004927 clay Substances 0.000 claims description 11
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 239000008107 starch Substances 0.000 claims description 10
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 claims description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 7
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 5
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 5
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 4
- 230000001808 coupling Effects 0.000 claims description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001888 polyacrylic acid Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 claims description 3
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L Zinc chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N AI2O3 Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 230000001235 sensitizing Effects 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 231100000202 sensitizing Toxicity 0.000 description 5
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N Resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N iso-propanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 4
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 4
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N Thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 3
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 3
- 239000005031 sulfite paper Substances 0.000 description 3
- DYRDKSSFIWVSNM-UHFFFAOYSA-N Acetoacetanilide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1 DYRDKSSFIWVSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002301 Cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 229920002261 Corn starch Polymers 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M Potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N azane;dihydrofluoride Chemical compound [NH4+].F.[F-] KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008120 corn starch Substances 0.000 description 2
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L sodium carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- AHCDXLAGLYNTIA-UHFFFAOYSA-N 1-N-ethyl-2-methylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CCNC1=CC=C(N)C=C1C AHCDXLAGLYNTIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKTOLZVEWDHZMU-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylphenol Chemical compound CC1=CC=C(C)C(O)=C1 NKTOLZVEWDHZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCIYKQSGEUKDSZ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylphenyl)-1H-pyrazol-5-one Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N1N=C(O)C=C1 YCIYKQSGEUKDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUZRRICLUFMAQD-UHFFFAOYSA-N 2-(methylamino)ethanesulfonic acid Chemical compound CNCCS(O)(=O)=O SUZRRICLUFMAQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYEMGAFJOZZIFP-UHFFFAOYSA-N 3,5-Dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC(O)=C1 UYEMGAFJOZZIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNGVNLMMEQUVQK-UHFFFAOYSA-N 4-N,4-N-diethylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(N)C=C1 QNGVNLMMEQUVQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDFBOKSIVYNZSI-UHFFFAOYSA-N 4-N-benzyl-4-N-ethylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1N(CC)CC1=CC=CC=C1 NDFBOKSIVYNZSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKIBELYSXFYZPS-UHFFFAOYSA-N 4-N-ethylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CCNC1=CC=C(N)C=C1 SKIBELYSXFYZPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APRRQJCCBSJQOQ-UHFFFAOYSA-N 4-amino-5-hydroxynaphthalene-2,7-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(O)=C2C(N)=CC(S(O)(=O)=O)=CC2=C1 APRRQJCCBSJQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPUHXNRAGDKQRD-UHFFFAOYSA-N 4-octylbenzene-1,3-diol Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1O JPUHXNRAGDKQRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJISHJVIRFPGGN-UHFFFAOYSA-N 5-[5-[3,4-dihydroxy-6-(hydroxymethyl)-5-methoxyoxan-2-yl]oxy-6-[[3,4-dihydroxy-6-(hydroxymethyl)-5-methoxyoxan-2-yl]oxymethyl]-3,4-dihydroxyoxan-2-yl]oxy-6-(hydroxymethyl)-2-methyloxane-3,4-diol Chemical compound O1C(CO)C(OC)C(O)C(O)C1OCC1C(OC2C(C(O)C(OC)C(CO)O2)O)C(O)C(O)C(OC2C(OC(C)C(O)C2O)CO)O1 YJISHJVIRFPGGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTKWYSNDTXDBIZ-UHFFFAOYSA-N 9,10-dioxoanthracene-1,2-disulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(S(O)(=O)=O)C(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 PTKWYSNDTXDBIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H Aluminium sulfate Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N Ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N Boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYOUMDCQGMQQO-UHFFFAOYSA-L Cadmium chloride Chemical compound Cl[Cd]Cl YKYOUMDCQGMQQO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-M DODECANESULFONATE ION Chemical compound CCCCCCCCCCCCS([O-])(=O)=O LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-XIXRPRMCSA-N Mesotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-XIXRPRMCSA-N 0.000 description 1
- -1 N, N-disubstituted p-phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- VPUVJSYUOHKTOC-UHFFFAOYSA-N NC1=CC(=C(N(CC)CC)C=C1)OCC Chemical compound NC1=CC(=C(N(CC)CC)C=C1)OCC VPUVJSYUOHKTOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L Nickel(II) sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960001553 Phloroglucinol Drugs 0.000 description 1
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N Phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L Sodium thiosulphate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J Tin(IV) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229940100445 WHEAT STARCH Drugs 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- GPUMPJNVOBTUFM-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,3-trisulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(O)(=O)=O)=C(S(O)(=O)=O)C(S(=O)(=O)O)=CC2=C1 GPUMPJNVOBTUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940053662 nickel sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atoms Chemical group N* 0.000 description 1
- 150000004989 p-phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- 230000037074 physically active Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 229920001592 potato starch Polymers 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 239000004627 regenerated cellulose Substances 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 239000001187 sodium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic Effects 0.000 description 1
- 229960001367 tartaric acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
Tag der Anmeldung: 6. Juli 1954 Bekanntgemacht am 14. Juni 1956
DEUTSCHES PATENTAMT
Die vorliegende Erfindung betrifft Diazotypiematerialien, die eine hohe Lichtempfindlichkeit besitzen
und Bilder hoher Dichte ergeben, und sie befaßt sich insbesondere mit derartigen Materialien, bei
denen sich die lichtempfindliche Komponente auf dem Schichtträger in einer Schicht aus einer wasserlöslichen
Polyvinylverbindung oder einer wasserlöslichen bis wasserdispergierbaren Stärke befindet, in der fein
zerkleinerte Tonerde dispergiert ist.
Von den Benutzern des Diazo typieverfahrens und
der hierfür verwendeten lichtempfindlichen Materialien werden vielfach schneller kopierende Schichten
verlangt, die gleichzeitig Bilder höherer Dichte auf einem klaren weißen Untergrunde ergeben. Da das
Diazotypieverfahren in der technischen «Anwendung ein positives Ausbleichverfahren ist, lassen sich diese
Forderungen jedoch nur schwierig erfüllen. Wenn beispielsweise
eine gegebene Diazoverbindung einer gewissen Empfindlichkeit gegenüber ultraviolettem Licht
benutzt wird, so kann natürlich durch eine Verringerung der Konzentration der Diazoverbindung eine
höhere Empfindlichkeit erreicht werden, da in diesem
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Falle nur eine geringere Menge Diazoverbindung zerstört werden muß, um das Bild zu erhalten. Diese Art
der Erhöhung der Kopiergeschwindigkeit wird jedoch dann offensichtlich nur durch eine Verringerung der
Farbdichte des durch die Entwicklung erzeugten Bildes erhalten. Die von der Technik gewünschten Forderungen
sind daher nicht so einfach zu erfüllen, wie es den Anschein hat.
Diese Schwierigkeiten sind auch bekannt, und es
ίο sind in der Industrie auch schon viele Versuche unternommen
worden, sie zu beheben. Einige davon haben auch große Erfolge gebracht, während andere nur geringe
Wirkung gehabt haben. Trotz des Fortschrittes, der in der Technik erzielt worden ist, ist es bisher jedoch
noch nicht gelungen, ein Produkt mit besten Eigenschaften zu erzeugen... -;
Die einfachste Lösung des in Frage stehenden Problems
besteht offensichtlich in der Auswahl einer Diazoniumverbindung, die eine so hohe Lichtempfindlichkeit
besitzt, daß sie in einer Konzentration benutzt werden kann, in der sie die erforderliche Bilddichte
ergibt und dennoch eine vollständige Zerstörung an den weißen Stellen in der gewünschten Zeit ermöglicht.
Zu diesem Zwecke sind zahlreiche Diazoverbindungen der verschiedensten chemischen Zusammensetzung
vorgeschlagen, synthetisch hergestellt und im Diazotypieverfahren geprüft worden. Von diesen Verbindungen
scheinen die stabilisierten Diazoverbindungen, die sich von N, N-disubstituierten p-Phenylendiäminen
ableiten, den besten Kompromiß zwischen hoher Lichtempfindlichkeit und größerer Farbdichte einerseits und den übrigen erforderlichen
Merkmalen, wie Wasserlöslichkeit in den Überzugslösungen, Stabilität gegenüber Zersetzung und/oder
Vorkupplung, sowie Echtheitseigenschaften u.dgl. andererseits zu ergeben.
Ein anderer Weg bestand in der Verwendung von Zusatzstoffen für die Diazotypie-Überzugslösung, um
die Empfindlichkeit der Diazoverbindung gegen Zerstörung in den vom Licht getroffenen Flächen zu erhöhen.
Für diesen Zweck sind.,Verbindungen, wie
Anthrachinondisulfonsäure, organische Ketoyerbindungen u. dgl., vorgeschlagen worden. Es ist klär,
daß diese Arbeitsweise, wenn sie erfolgreich wäre, es
ermöglichen würde, daß größere Mengen der Diazoverbindung in der lichtempfindlichen Schicht benutzt
werden können, so daß in den Bildflächen eine höhere Dichte, ohne Benachteiligung der Empfindlichkeit,
erhalten wird. Unglücklicherweise hat diese Arbeitsweise jedoch nur wenig Erfolg gehabt, da die erhaltenen
Resultate hinsichtlich der Qualität sowie der Kosten technisch nicht befriedigt haben.
Ein weiterer Weg bestand darin, die Bildeigenschaften
durch Verwendung einer mehr oder weniger diskontinuierlichen Schicht eines chemisch inerten,
aber physikalisch wirksamen, fein zerkleinerten Stoffes, z. B. Kieselsäure, zu verbessern. Für diese
Arbeitsweise wurde vorgeschlagen, eine solche Schicht entweder durch Vorbehandlung der Unterlage oder
gleichzeitig mit der Überzugslösung aufzutragen. So wird nach der USA.-Patentschrift 2433 515 die Bildung
einer besonderen kieselsäurehaltigen Schicht aus einer kolloidalen flüssigen Kieselsäuredispersion als Vorbehandlung
für Papier vorgeschlagen, das dann mit einer Lösung für Blaudruck sensibilisiert wird. Es
wird dort angegeben, daß die Lebhaftigkeit und Klarheit sowie die Dichte in der erhaltenen Kopie auf diese
Weise verbessert werden. Im Gegensatz hierzu wird nach der USA.-Patentschrift 2 566 709 vorgeschlagen,
dieselbe Verbesserung im Diazotypieverfahren für Lichtpausen dadurch zu erzeugen, daß kolloidale
Kieselsäure im dispergierten Zustand der Sensibilisierlösung für das Diazotypiematerial einverleibt wird.
Das letztgenannte Verfahren hat den sehr wesentlichen zusätzlichen wirtschaftlichen Vorteil, daß eine besondere
Stufe für das Auftragen beider Schichten in Wegfall kommt.
In der Praxis hat sich jedoch ergeben, daß diese beiden Verfahren gewisse Nachteile besitzen, und
zwar sind die schwerwiegendsten 1. der Abrieb, 2. die
Wirkung der Kieselsäureschicht als chromatografischer Scheider und 3. die Kosten.
Unter Abrieb oder Abblättern ist hierbei, wie der Name besagt, die Erscheinung zu verstehen, daß die
Kieselsäureteilchen während der Herstellung und der Verwendung des Diazotypiematerials sich vom Schichtträger
leicht ablösen.Diese Wirkung ist nicht nur sehr lästig, sondern sie kann gegebenenfalls auch gesundheitsschädlich
sein.
Es wurde ferner festgestellt, daß die Kieselsäureschicht auf die in einer typischen Diazotypie-Überzugslösung
vorhandenen verschiedenen Bestandteile als chromatografischer Scheider wirkt. Auf diese
Weise wird jedoch die Stabilität sowie auch die Beständigkeit gegen Verblassen verschlechtert, und im
Falle der Herstellung von Kopien in schwarzen Linien (wobei mehrere Kupplungskomponenten benutzt werden)
wird auch der schwarze Farbton verschlechtert.
In den obigen Patentschriften ist angegeben, daß durch die Verwendung der Kieselsäureschichten Klarheit
und Bilddichte verbessert werden. Wird jedoch das Ausmaß der Verbesserung gegen die vorstehend
genannten Nachteile, die erhöhten Kosten und die zusätzlichen Arbeitsmaßnahmen abgewogen, so ist sie
äußerst gering.
In der USA.-Patentschrift 2 662 013 ist angegeben,
daß die obigen-Nachteile behoben werden können, wenn für die Kieselsäureteilchen Bindemittel benutzt
werden. Als derartige Bindemittel sollen solche benutzt werden, die chemisch gebundenen Stickstoff
enthalten, und zwar entweder in Form von natürlich vorkommenden, eiweißhaltigen Stoffen oder von synthetischen
Harzen. Es wurde dabei festgestellt, daß das richtige, experimentell bestimmte Verhältnis von
Kieselsäure zu Bindemittel von entscheidender Bedeutung ist. Es wurde nämlich gefunden, daß bei dem
richtigen Verhältnis von Kieselsäure und Bindemittel eine synergistische Wirkung eintritt, d. h., die Erhöhung der Dichte stand in keinem Verhältnis zu der,
die erhalten wurde, wenn jede Komponente allein benutzt wurde oder wenn die beiden zusammen in anderen
Konzentrationen als den besten angewandt wurden.. Durch weitere Untersuchungen wurde festgestellt,
daß Kieselsäureteilchen in der Größe 1 bis 5 Mikron eine wesentlich größere Dichteverbesserung ergaben
als die in den genannten Patentschriften emp-
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fohlenen kleineren Teilchen. Teilchen einer Größe über io Mikron wurden jedoch vermieden, da sie in
dem für den Vorstrich benutzten Bad schwierig in Suspension zu halten waren und in dem getrockneten
Überzug eine unerwünschte Rauheit der Oberfläche ergaben.
Das Verfahren des obigen Patentes bedeutete einen wesentlichen technischen Fortschritt. Es hatte jedoch
den einen Nachteil, daß die vorgeschlagenen Bindemittel mit den erforderlichen Stoffen der Sensibilisierlösung
,nicht verträglich waren. Infolgedessen mußte, wenn nach dem obigen Patent gearbeitet wurde, die
Kieselsäurebindemitteldispersion in einer besonderen .Stufe als Vorstrich aufgetragen werden. Durch die
Anwendung von zwei Arbeitsstufen für den Aufstrich und der damit verbundenen weiteren Behandlung der
Produkte werden jedoch die Herstellungskosten erhöht.
Es wurde nun gefunden, daß die Vorteile des obigen
Verfahrens erzielt werden können, dabei aber die zusätzliche Beschichtungsstufe in Wegfall kommen kann,
wenn an Stelle von Kieselsäure Tonerde als Pigment und als Bindemittel für die Tonerde eine wasserlösliche
Polyvinylverbindung oder eine wasserlösliche bis wasserdispergierbare Stärke benutzt wird, die mit
den Bestandteilen der Sensibilisierlösung verträglich sind. ·
Sensibilisierlösungen, welche die genannten Bindemittel zusammen mit fein zerkleinerter Tonerde enthalten,
sowie die aus diesen Präparaten hergestellten lichtempfindlichen Diazotypiematerialien und das Verfahren
zur Herstellung dieser Diazotypiematerialien bilden somit den Gegenstand der vorliegenden Erfindung.
Die Bindemittel, die erfindungsgemäß benutzt werden, können aus einer Stärkeart, wie Maisstärke,
Weizenstärke, Kartoffelstärke oder methylierter Stärke, chlorierter Stärke, carboxylierter Stärke u. dgl.,
oder aus einer wasserlöslichen Polyvinylverbindung, wie Polyvinylalkohol, Polyacrylsäure, Polymethacrylsäure
od. dgl., bestehen. Alle diese Produkte sind in der Technik bekannt, und die Herstellung der synthetischen
Produkte ist in der Literatur beschrieben. Mit Ausnahme der Stärkearten sind die angeführten Produkte
wasserlöslich. Die wäßrigen Lösungen oder Dispersionen der Bindemittel enthalten das Bindemittel
in einer Menge von etwa 45 bis 55 Gewichtsprozent.
Die in den Dispersionen zu verwendende Torierde kann entweder kolloidaler Natur oder auch grobkörniger
sein, d. h. eine Korngröße von etwa 1 bis 5 Mikron besitzen. Es wurde gefunden, daß die besten
Resultate mit den gröberen Teilchen erhalten werden, und daher wird deren Verwendung bevorzugt.
Als lichtempfindliche Diazoniumverbindungen können die üblicherweise benutzten verwendet werden,
in welchem Zusammenhang auf die Verbindungen hingewiesen wird, die in der USA.-Patentschrift 2 501874
und in dem Aufsatz von van der Grinten »Photographic Journal«, Bd. 92 B (1952), Seite 46,
erwähnt sind. Sehr vorteilhaft sind die stabilisierten Diazoverbindungen, die sich von N, N-disubstituierten
p-Phenylendiaminen ableiten. Beispiele derartiger Diazoverbindungen sind solche, die sich von
N, N-Diäthyl-p-phenylendiamin; N-Benzyl-N-äthylp
- phenylendiamin; N-Äthyl-p-phenylendiamin;
N - Phenyl - ρ - phenylendiamin; N, N - Diäthyl - 2 äthoxy-p-phenylendiamin;
N-Äthyl-2-methyl-p-phenylendiamin; N, N - Bis - (/3 - oxyäthyl) - ρ - phenylendiamin
; N-/3-Oxyäthyl-N~methyl-p-phenylendiamin
u. dgl. ableiten. Dem üblichen Verfahren entsprechend werden diese Diazoverbindungen in Form von
Salzen benutzt, die mit Zinkchlorid, Zinnchlorid, Cadmiumchlorid u. dgl. stabilisiert worden sind.
Die mit Bezug auf die Diazoniumverbindungen gemachten Ausführungen gelten auch für die Kupplungskomponenten,
d. h., es können beliebige der üblichen Verbindungen für die vorliegenden Zwecke benutzt
werden. Beispiele derartiger Kuppler sind: 2,5- Xylenol; 2,3- Dioxynaphthalin; 1,8- Dioxynaphthalin;
Resorcin; Octylresorcin; p-Methyl-N-phenyl-pyrazolon;
das Amid von a-Resorcylsäure; 2-Oxynaphthalin-3, 6-disulfonsäure; H-Säure; Acetylacetanilid;
2,3-Dioxynaphthalin-6-sulfonsäure u. dgl. Weitere Kuppler sind in dem obengenannten
Aufsatz von van der Grinten erwähnt. ,
Außer dem polymeren Produkt, der Tonerde und der lichtempfindlichen Diazoverbindung kann die
Überzugslösung auch die verschiedensten Zusatzstoffe enthalten, die bei der Herstellung von lichtempfindlichen
Diazotypiematerialien üblicherweise benutzt werden. Derartige Zusatzstoffe sind beispielsweise
Metallsalze für die Verstärkung des.Farbstoffbildes, wie Ammoniumsulfat, j Nickelsulfat, Zinkchlorid
u. dgl.; Stabilisiermittel, wie Thioharnstoff, Thiosinamin, Naphthalintrisulfonsäure u. dgl., Säuren
zur Verzögerung der Vorkupplung, wie Essigsäure, Borsäure, Weinsäure u. dgl.; hygroskopische Stoffe,
wie Glykol, Glycerin u. dgl., und Netzmittel, wie Saponin, Laurylsulfonat, Kerylbenzolsulfonat, das 01-säureamid
von N-Methyltaurin u. dgl.
Zweckmäßig werden auch Stoffe benutzt, die die Fähigkeit besitzen, die Entwicklung des Azofarbstoffes,
insbesondere unter Bedingungen geringerer Ammoniakkonzentration, zu beschleunigen. Für diesen
Zweck werden Thioharnstoffverbindungen benutzt, und insbesondere solche, bei denen entweder
ein oder beide Stickstoffatome durch einen aliphatischen Rest substituiert sind. Beispiele derartiger
Verbindungen sind i-Allyl-3-^?-oxyäthyl-2-thioharnstoff;
i-Allyl-2-thioharnstoff u. dgl.
Das Mengenverhältnis von Tonerde zu Bindemittel ist bei dem vorliegenden Verfahren nicht so ausschlaggebend
wie bei dem Verfahren der USA.-Patentschrift 2 662 013. Die Menge des Bindemittels kann
somit etwa x/e bis 1 Gewichtsteil je Gewichtsteil Tonerde
betragen. Andererseits beträgt die Menge der Tonerde, berechnet auf das Gewicht- der lichtempfindlichen
Diazoniumverbindung, etwa 1 Teil Diazoniumverbindung
je 1 bis 4 Teile Tonerde.
Als Schichtträger für die neue Überzugslösung kann irgendeiner der Träger benutzt werden, die bereits für
Diazotypiematerial vorgeschlagen worden sind. Beispiele dafür sind hochwertige Papiere, wie Sulfitpapiere,
Seiden- oder Baumwollstoffe, stärkeappretierte Stoffe, Filme aus ■' teilweise hydrolysiertem
Celluloseacetat, regeneriertem Celluloseacetat u. dgl.
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Einer der wesentlichsten Vorteile der vorliegenden Erfindung ist der, daß sie nicht nur bei dem Trockenentwicklungsverfahren,
sondern auch bei dem Einkomponenten-Naßverfahren benutzt werden kann. Wird das letztgenannte Verfahren angewendet, so
empfiehlt sich der Zusatz einer kleinen Menge eines Fluorids, um die Löslichkeit der Diazo verbindung in
der Überzugslösung zu verbessern. Für diesen Zweck können Ammoniumbifluorid, Natriumfluorid, Kaliumfluorid
u. dgl. benutzt werden. Im allgemeinen werden diese Salze in einer Menge von 0,5 bis 4 g je 100 ecm
Überzugslösung zugesetzt.
Die Herstellung der lichtempfindlichen Schichten wird durchgeführt, indem in Wasser die verschiedenen
Bestandteile des Sensibilisierungsgemisches gelöst und in dieser Lösung dann die gewünschten Mengen Tonerde
und polymeres Produkt dispergiert werden. Für die Herstellung der Dispersionen kann irgendeine der
üblichen Vorrichtungen benutzt werden. Der Schichtträger wird dann mit der Suspension überzogen, getrocknet
und entweder nach dem Trocken- oder Naßverfahren verarbeitet, je nachdem, ob das Sensibilisierungsgemisch
eine Zwei- oder Einkomponentenlösung enthielt.
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher veranschaulicht, in denen die Teile Gewichtsteile sind.
Hochwertiges Sulfitpapier wird mit einem Gemisch der folgenden Zusammensetzung beschichtet und getrocknet
:
Wasser .'. 60,0 ecm
Äthylenglykol oder Glycerin 5,0 ecm
Isopropylalkohol 1,0 ecm
Zitronensäure 5,0 g
Zinkchlorid 5,0 g
N-/3-Oxyäthyl-N'-allyl-thioharnstoff 2,5 g
2, 3-Dioxynaphthalin-6-sulfonsäure 4,0 g
4-N, N-Diäthylamino-benzol-diazoniumchlorid-zinkchlorid-doppel-
4-N, N-Diäthylamino-benzol-diazoniumchlorid-zinkchlorid-doppel-
salz 2,0 g
feinzerkleinerte Tonerde einer
Korngröße von 1 bis 5 Micron ... 6,0 g
wäßrige Lösung von Polyvinylalkohol mit 50 % Feststoffen .... 3,0 ecm
wäßrige Lösung von Polyvinylalkohol mit 50 % Feststoffen .... 3,0 ecm
Saponin 0,1 g
Wasser aufgefüllt auf 100,0 ecm
Kopien, die auf einer aus dieser Lösung .gebildeten Schicht hergestellt werden, zeigen eine wesentliche
Verbesserung in der Dichte im Vergleich zu Kopien, die auf Papier erhältlich ist, das mit der gleichen Überzugslösung,
aber ohne Tonerde und Bindemittel hergestellt worden ist. Werden die Kopien mit solchen
auf Schichten verglichen, die aus einer Lösung hergestellt worden sind, die alle die obigen Bestandteile, abgesehen
vom Polyvinylalkohol, enthält, so besaßen die ersteren eine wesentlich größere Farbdichte und Klarheit,
und sie neigten auch nicht zu einem Abrieb des Tonerdepigmentes, während die letzteren in allen drei
Eigenschaften wesentlich unterlegen waren. ·
Hochwertiges Sulfitpapier wurde mit einem Gemisch der folgenden Zusammensetzung beschichtet und getrocknet
:
Wasser 60,0 ecm
Äthylenglykol oder Glycerin ...... 5,0 ecm
Isopropylalkohol i,o ecm
Zitronensäure 10,0 g
Zinkchlorid 5,0 g
N-jS-Oxyäthyl-N'-allyl-thioharnstoff 2,5 g
Diresorcylsulfoxyd 1,3 g 7g
Acetoacetanilid 0,07 g
2, 3-Dioxynaphthalin-6-sulfonsäure 1,9 g 4-N, N-Diäthylamino-benzol-diazoniumchlorid-zinkchlorid-doppel-
salz... .: 3,0 g go
fein zerkleinerte Tonerde einer
Korngröße von 1 bis 5 Mikron ... 6,0 g 50 °/oige wäßrige Suspension von
Maisstärke 3,0 ecm
Saponin 0,01 g
Wasser aufgefüllt auf 100,0 ecm
Die auf einer aus diesem Gemisch gebildeten Schicht hergestellten Kopien ergaben bei den in gleicher Weise
wie im Beispiel 1 durchgeführten Vergleichsversuchen dieselben Verbesserungen.
Ein hochwertiges gut geleimtes Papier wurde mit dem folgenden Gemisch beschichtet und dann getrocknet
:
Wasser 60,0 ecm
Aluminiumsulfat 1,5 g
Thioharnstoff 0,5 g
Zitronensäure 0,5 g
Ammoniumbifluorid 0,75 g
4-N-Benzyl-N-äthyl-benzol-diazo-
niumchlorid-zinkchlorid-doppel-
salz 3,0 g
fein zerkleinerte Tonerde einer
Korngröße von 1 bis 5 Micron ... 6,0 g 50 %ige wäßrige Polyacrylsäure-
lösung 3,0 ecm
Wasser aufgefüllt auf 100,0 ecm
Kopien auf einer aus dieser Lösung hergestellten Schicht wurden in einer wäßrigen Lösung der folgenden
Zusammensetzung entwickelt:
Wasser 100,0 ecm
Natriumcarbonat 2,0 g
Natriumthiosulfat 5,0 g
Thioharnstoff 2,5 g
tert. Natriumphosphat 0,5 g
Natriumchlorid 4,0 g
Phloroglucin 1,0 g
Resorcin .; 0,5 g
Wurden diese Kopien mit in gleicher Weise hergestellten Kopien verglichen, deren lichtempfindliche
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Schichten aus einer Lösung ohne die vorgeschlagenen Zusatzstoffe gebildet wurden, so waren die ersteren in
der Dichte den letzteren wesentlich überlegen.
Claims (8)
1. Lichtempfindliche Mischung für die Herstellung von Diazotypiematerialien, bestehend aus
der wäßrigen Lösung einer lichtempfindlichen Diazoniumverbindung und der wäßrigen Lösung
oder Dispersion einer damit verträglichen wasserlöslichen Polyvinylverbindung oder einer wasserlöslichen
bis wasserdispergierbaren Stärke sowie fein zerkleinerter Tonerde.
2. Mischung nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet,
daß das polymere Produkt aus einer wasserlöslichen Polyvinylverbindung besteht.
3. Mischung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das polymere Produkt aus einer Stärkeart besteht.
4. Mischung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das polymere Produkt aus einem Polyvinylalkohol besteht.
5. Mischung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das polymere Produkt aus einer Polyacrylsäure bestehl.
6. Mischung nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Dispersion auch eine Azo-. kupplungskomponente enthält.
7. Mischung nach Anspruch 1 bis 6, dadurch ge» kennzeichnet, daß die Tonerde eine Teilchengröße
von ι bis 5 Mikron besitzt.
8. Lichtempfindliche Mischung nach Anspruch
ι bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß sie auf eine
hydrophile Unterlage aufgetragen ist.
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