DED0017035MA - - Google Patents
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- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 25
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 25
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 22
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims description 5
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N Chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 claims description 4
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N dichloro(phenyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N fluorine atom Chemical group [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 3
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N Trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005466 alkylenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011737 fluorine Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052731 fluorine Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 claims description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims 5
- NBWIIOQJUKRLKW-UHFFFAOYSA-N chloro(phenyl)silane Chemical class Cl[SiH2]C1=CC=CC=C1 NBWIIOQJUKRLKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K Aluminium chloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims 2
- XRBZWUQAUXLFDY-UHFFFAOYSA-N Cl[SiH](Cl)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound Cl[SiH](Cl)CC1=CC=CC=C1 XRBZWUQAUXLFDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N Silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 claims 2
- PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N Phenylsilane Chemical class [SiH3]C1=CC=CC=C1 PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 claims 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 4
- -1 fluorodichlorosilane Chemical compound 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- YGHUUVGIRWMJGE-UHFFFAOYSA-N Chlorodimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)Cl YGHUUVGIRWMJGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N Dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N Dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N HCl Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282941 Rangifer tarandus Species 0.000 description 1
- 229910003691 SiBr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- IBOKZQNMFSHYNQ-UHFFFAOYSA-N Tribromosilane Chemical compound Br[SiH](Br)Br IBOKZQNMFSHYNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPAIXTZQWAGRPZ-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-phenylsilicon Chemical compound C[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 IPAIXTZQWAGRPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing Effects 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJSWREDVRQAZFT-UHFFFAOYSA-N dichloro(octadecyl)silicon Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)Cl CJSWREDVRQAZFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAQCYFVZKUAIEU-UHFFFAOYSA-N dichloro-fluoro-methylsilane Chemical compound C[Si](F)(Cl)Cl HAQCYFVZKUAIEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atoms Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained Effects 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N tin hydride Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
Tag der Anmeldung: 13. Februar 1954 Bekanntgemacht am 13. Dezember 1956
PATENTANMELDUNG
KLASSE 12o GRUPPE 2603 INTERNAT. KLASSE C07f
D 17035 IVb/12 ο
Arthur John Barry, Midland, Mich. (V. St. A.)
ist als Erfinder genannt worden
Dow Corning Corporation, Midland, Mich. (V. St. A.)
Vertreter: L. F. Drissl, Rechtsanwalt, München 23, Clemensstr. 26
Verfahren zur Herstellung von Phenylhalogensilanen durch Umsetzung
von Benzol mit einem Halogensilan
Die Priorität der Anmeldung in den V. St. v. Amerika vom 27. Februar 1953 ist in Anspruch genommen
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Phenylhalogensilanen.
Bisher wurden Phenylhalogensiläne in technischem Maßstab vor allem durch Umsetzung von
Benzol mit Halogensilan hergestellt. Die Herstellung kann dabei nach zwei verschiedenen Arten
erfolgen, einmal, indem man das Benzol mit einem Silan umsetzt, das noch mindestens ein Wasserstoffatom
am Silicium aufweist, und zum anderen, ίο indem man die Reaktion mit einem Halogensilan
ohne Wasserstoff am Silicium durchführt. Im letzteren Fall erfolgt die Umsetzung in Gegenwart
eines Halogenwasserstoffakzeptors. Bei beiden Herstellungsarten entwickelt sich Wasserstoff.
Gegenstand der Erfindung ist nun ein Verfah- i,
ren, durch welches Phenylhalogensiläne in besserer Ausbeute durch Umsetzung von Benzol mit einem
Halogensilan hergestellt werden können.
Dabei wird Benzol mit einem Halogensilan der Formel Rn Hm SiX4 _(„ + m) umgesetzt, wobei R ein
Alkyl- oder Phenylrest ist, no, ι oder 2, m eine
ganze Zahl von ο bis 3 bedeutet, die Summe von
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D 17035 IVb/12 ο
η + m nicht größer als 3 ist und X Chlor, Brom
oder Fluor bedeutet. Die Umsetzung erfolgt bei Überdruck und einer Temperatur von 150 bis
:"'."'-;S'5oo, und erfindurigsgemäß wird der bei der Reaktion
entstehende Wasserstoff kontinuierlich oder diskontinuierlich aus dem Reaktionsgemisch entfernt.
Es wurde gefunden, daß man wesentlich bessere Ausbeuten an Phenylhalogensilanen erhält, wenn
der entstehende Wasserstoff während der Umsetzung aus dem System entfernt wird. Zweckmäßig
entfernt man den Wasserstoff kontinuierlich bei seiner Entstehung; gegebenenfalls kann die
Entfernung auch diskontinuierlich erfolgen. Man kann sich dabei jeder-v-be-liebigenArbeitsweise.be--.·
dienen. Zum Beispiel-kann man das.Reaktionsgefäß
auf Raumtemperatur abkühlen, den Wasserstoff-
entfernen und das Gefäß erneut auf die Reaktions-1
temperatur bringen. Eine andere Möglichkeit besteht darin, den Wasserstoff durch ein geeignetes
Metall, wie Palladium, Platin und Eisen, abdiffundieren zu lassen, wobei die anderen Reaktionsstoffe
jedoch zurückgehalten werden. Ferner kann der Wasserstoff auf geeignete Weise, z. B. in einem abgekühlten
Teil des Reaktionsgefäßes, abgesondert und hierauf, z.B. mittels eines durch Wärme oder
Dichte regulierbaren Ventils, entfernt werden. Besonders die beiden letzteren Methoden eignen sich
für die kontinuierliche^'Herstellung von Phenylhalogensilanen in technischem Maßstab.
Geeignete Halogensilane sollen zumindest ein Fluor-,- Chlor- oder ■ Bromatom pro· Siliciumatom
aufweisen. Beispiele solcher Halogensilane sind Verbindungen der Formel RnSi.X4_„, worin M die
obige Bedeutung hat, wie SiCl4, SiBr4ZSiFCl3,
SiClBr3, Phenyltrichlorsilan, Dimethyldichlorsilan,
Octadecyltrichlorsilan,, Methylfluordichlorsilan, sowie Silane der Formel R„HmSiX4_(„ + m), worin m
einen Wert von 1 bis 3 und η die obige Bedeutung
haben, wie Tribromsilan, Dichlorsilan, Fluordichlorsilan, Methyldichlorsilan, Methylphenylchlorsilan,
Monochlbrsilan, Dimethylchlorsilan,. Octadecyldichlorsilan, Methylmonochlorsilan (CH3H2''1
SiCl) und Phenyldichlorsilan. . . ....
Die erfindungsgemäße Umsetzung' erfolgt bei
Temperaturen von 150 bis 5500. Die vorteilhafteste Arbeitstemperatur kann verschieden sein und
hängt davon ab, welches Silanausgangsmaterial verwendet wird und ob ein Katalysator vorhanden
ist oder nicht. Enthält das Silan Wasserstoff am Si-Atom, so beträgt die Reaktionstemperatur
zweckmäßig 150 bis 3000 bei Verwendung eines Katalysators: und ohne ■Katalysator. 30.0"; bis- 5'5O.°.
Enthält ;däs Chlorsilan keinen Wasserstoff, am
Silicium,';', so . beträgt ' die · Reaktipnstemperatur
■:: zweckmäßig 275 bis-400° bei'Verwendung eines
Katalysator^ und ohne Katalysator. 400 bis 550°.
Geeignete.K.atalysatoren sind Borhalogenide,-wie
BCl3 oder <-B F8.,' und Aluminiumhalogenide, wie
-AlCl3-'und AlBr3. Die Katalysatoren : werden im
C-. allgemeinen, in ;einer-; Menge, von etwa 0,1 bis etwa
15' Mplprozent: der ■ Gesamtausgangsstoffe verwendet.·
-:■■;.'. :.';- ,· ::>■}.!<- ! / :-.' '■ ■ J' ; '■■■'■" -'■■■■
Um bessere- Ausbeuten-an- Phenylhalogensilanen-;;."
zu erhalten^ wird die Umsetzung von Benzol und
Halogensilanen der Formel R„SiX4_„ zweckmäßig
in Gegenwart eines Halogenwasserstoffakzeptors durchgeführt. Als Halogenwasserstoffakzeptoren
eignen sich Silicium und Metalle, welche in der elektrochemischen Spannungsreihe der Metalle
oberhalb Wasserstoff .stehen, wie.z. B...,ILisen,_Zink,
Zinn und Aluminium. ' Der. Halo'genwässerstoffakzeptor
kann in beliebiger Menge verwendet werden, zweckmäßig kommt jedoch mindestens 1 Gewichtsäquivalent
des Akzeptors auf 1 Gewichtsäquivalent des während der Umsetzung entstandenen
HCl.
.Wenn.-.die· Umsetzung mit Benzol und Wasserstoff
.:,am Silicium enthaltenden .Silanen durchgeführt
"wird, ist zur Gewinnung von technisch brauchbaren Ausbeuten an Phenylhalogensilanen
kein Halogenwasserstoffakzeptor nötig. Ist jedoch ein solcher, vorhanden, so stört er den Reaktionsablauf nicht und kann gegebenenfalls von. Vorteil
Die Umsetzung erfolgt bei Überdruck. Die Höhe des Druckes ist nicht von besonderer Bedeutung,
zweckmäßig liegt er jedoch zwischen 28 und über 105 kg/cm2. .-■■·■··
Beispiele von erfindungsgemäß erhaltenen phenylierten Silanen sind Monophenyldihalogensilane,
Monophenyltrihalogensilane, Phenylmethyl- -dihalögensilane, Diphenyldihalogensilane und Pheny!halogensilane,
welche zwischen den Si-Atomen Phenylenbindungen aufweisen. Die Ausbeute an
den einzelnen Produkten ist verschieden und hängt von den Reaktionsbedingungen ab. Fest steht
jedoch, daß die Gesamtausbeute an phenylierten Silanen durch die Entfernung von Wasserstoff
während der Reaktion in jedem Falle verbessert wird. Da alle oben genannten phenylierten Produkte
zur Herstellung der allgemein bekannten Silikone von großem Wert sind, kommt der erfindungsgemäßen
Verbesserung , der-Ausbeute erhebliche technische Bedeutung zu.
B e i sp i el ι
Bei jedem der in der. folgenden Tabelle aufgeführten
Versuche wurden 5 Mol Benzol, 5 Mol Trichlorsilan und HgBCl3 in einem Autoklav auf
275° erhitzt. Die Umsetzung wird während der in der Tabelle angegebenen Zeit durchgeführt und. bei
den Versuchen 1, 2 und 3 der Wasserstoff nach den in der Tabelle angegebenen Zeiten abgelassen. Dies
erfolgte, indem man den Autoklav auf Zimmertemperatur abkühlte und den' Wasserstoff entweichen
ließ.. Sodann wurde der Autoklav wieder auf' 275°'erhitzt und die Umsetzung fortgeführt.
Bei jedem Versuch schwankte der Druck etwa zwischen 35 und 105 kg/cm2. Bei 2750 ließ der Druck
nach der jeweiligen Entfernung des Wasserstoffs nach. Der bei jedem Versuch- erhaltene Rückstand
enthielt alle über dem Siedepunkt des Phenyltrichlorsilans
siedenden Stoffe, wie Diphenyldichlorsilän und Polymere mit Phenylenbindungen zwisehen
den Siliciumatomen.
■603.736/374
Claims (1)
- D 17035 IVb/12 ο
Versuch Gesamt
reaktionszeit
in StundenStunden, nach
denen Wasserstoff
abgezogen wurdeC6H5SiCl3
in GewichtsprozentRückstand
in GewichtsprozentAlle phenylierten
Chlorsilane
in GewichtsprozentI
2
3
4HHHH
tO K) Oi to3, 6, 9
6, 9, 12
.655,6
47,i
33,5
37,217,2
13,0
I8,5
10,472,8
6o,I
52,0
47,6In der Tabelle beziehen sich die Gewichtsprozente an phenylierten Chlorsilanen auf das Gewicht des Gesämtreaktionsproduktes, d. h. auf alle nach Beendigung des Versuches im Autoklaven verbliebenen Stoffe. Der Versuch 4 ist zu Vergleichszwecken angeführt.Beispiel 2468 g Benzol, 690 g Methyldichlorsilan und 12 g B Cl3 wurden in einem Autoklav 8 Stundenauf 205° bei einem Druck von 28 bis 63 kg/cm2 erhitzt. Jeweils nach 2, 4 und 6 Stunden wurde der Wasserstoff nach der Verfahrensweise des Beispiels ι abgelassen. Die Ausbeute an Phenylmethyldichlorsilan betrug 34,9 Gewichtsprozent des erhaltenen Reaktionsproduktes und die an phenyliertem Rückstand 7,3 Gewichtsprozent, so : daß eine Gesamtausbeute von 42,2 Gewichtsprozent Phenylsilanen erhalten wurde.Der Versuch wurde wiederholt, wobei jedoch der Wasserstoff nicht entfernt wurde, und ergab eine Ausbeute von 25,3% Phenylmethyldichlorsilan und 9,1 °/oRückstand, d.h. eine Gesamtausbeute von 34,4 Gewichtsprozent, berechnet auf das Gewicht des Reaktionsproduktes.B ei sp i el 3234 g Benzol und 407 g Trichlorsilan wurden gemischt und 12 Stunden bei einem Druck von 61 bis 112 kg/cm2 auf 4250 erhitzt. Der Wasserstoff wurde nach der zweiten, vierten und sechsten Reaktionsstunde wie in Beispiel 1 entfernt. Es wurden 3,5 Gewichtsprozent Phenyldichlorsilan, 32,9 Gewichtsprozent Phenyltrichlorsilan und 22,4 Gewichtsprozent höher siedende Phenylchlorsilane erhalten. Die Gesamtausbeute an Phenylchlorsilanen betrug 58,8 Gewichtsprozent, berechnet auf das Gewicht des Reaktionsproduktes.Eine Wiederholung des Versuches, jedoch ohne Entfernung des Wasserstoffs während der Umsetzung, ergab 4,5 °/o Phenyldichlorsilan, 32 Gewichtsprozent Phenyltrichlorsilan und 10,3 Gewichts-prozent höher siedende Phenylchlorsilane, also eine Gesamtausbeute von 46,8 Gewichtsprozent, berechnet auf das Reaktionsprodukt.B ei sp i e1 43 Mol Siliciumtetrachlorid, 3 Mol-Benzol, 40 Mol pulverförmiges Silicium und 0,056 Mol Aluminiumchlorid wurden in einem Autoklav insgesamt 115 Stunden bei einem maximalen Druck von 79 kg/cm2 auf 3500 erhitzt. Bei kontinuierlicher Entfernung des Wasserstoffs während der Umsetzung erhielt man eine höhere Ausbeute an Phenylchlorsilanen als bei Durchführung des Versuches ohne Abführung des Wasserstoffs.Beispiels3 Mol Siliciumtetrachlorid, 3 Mol. Benzol und 45,1 Mol pulverförmiges Silicium wurden 18 Stunden miteinander in einem Autoklav bei einem maximalen Druck von 133 kg/cm2 auf 4500 erhitzt. Man erhielt eine bessere Ausbeute an Phenylchlorsilanen, wenn der Wasserstoff alle 3 Stunden aus der Reaktionsmischung entfernt wurde.■ Patentanspruch:Verfahren zur Herstellung von Phenylhalogensilanen durch Umsetzung von Benzol mit einem Halogensilan der Formel R„HmSiX4_(n + m;, worin R ein Alkyl- oder Phenylrest ist, X Brom, Chlor oder Fluor bedeutet, wo 1 oder 2, m eine ganze Zahl von ο bis 3 und die Summe von n + m nicht größer als.3 ist, bei einer Temperatur von 150 bis 5500 bei Überdruck mit oder ohne Katalysator oder Halogenwasserstoffakzeptor, dadurch gekennzeichnet, daß der bei der Reaktion entstehende Wasserstoff kontinuierlich oder diskontinuierlich aus dem Reaktionsgemisch entfernt wird.In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 871 302.i 609 736/374 12. 56
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