DE976458C - Verfahren zum Reinigen von Germanium - Google Patents
Verfahren zum Reinigen von GermaniumInfo
- Publication number
- DE976458C DE976458C DEN6063A DEN0006063A DE976458C DE 976458 C DE976458 C DE 976458C DE N6063 A DEN6063 A DE N6063A DE N0006063 A DEN0006063 A DE N0006063A DE 976458 C DE976458 C DE 976458C
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- germanium
- melt
- breakdown voltage
- impurities
- volts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B41/00—Obtaining germanium
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C1/00—Dental machines for boring or cutting ; General features of dental machines or apparatus, e.g. hand-piece design
- A61C1/08—Machine parts specially adapted for dentistry
- A61C1/14—Tool-holders, i.e. operating tool holders, e.g. burr holders
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C3/00—Dental tools or instruments
- A61C3/06—Tooth grinding or polishing discs; Holders therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Dentistry (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Description
AUSGrEGEBENAM 12. SEPTEMBER 1963
N 6063 VIaI40 a
ist in Anspruch genommen
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entfernen von Spuren von Verunreinigungen durch
feste Stoffe, wie z. B. Arsen, Antimon und Wismut, welche die elektrischen Eigenschaften, insbesondere
die Durchschlagsspannung,, beeinträchtigen, aus Germanium. Der Ausgangsstoff für asymmetrisch
leitende Halbleitervorrichtungen muß sehr rein sein, da schon sehr geringe Spuren solcher Verunreinigungen
die elektrischen Eigenschaften, insbesondere die Durchschlagsspannung, beeinträchtigen.
Es ist bekannt, Germanium in Stickstoff oder Helium bei einem Druck über 2 cm Hg und Temperaturen
bis 10500 C zu erhitzen oder zu schmelzen
und dann durch die unterkühlte Schmelze Stickstoff oder Ammoniakgas hindurchzuführen.
Bei diesen Gasdrucken und Temperaturen wird aber ein hinreichendes Ausdampfen nachteiliger
Verunreinigungen nicht erhalten.
Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung ao von Einkristallen aus Metallen, wie Kupfer, Silber
und Gold, wird die Schmelze vor dem Abkühlen kurze Zeit überhitzt, um möglichst alle gelösten
Gase zu entfernen, die die Bildung von Kristallfehlern verursachen können. Eine solche Entgasung
ist bei der Herstellung von Germanium-Einkristallen für Halbleiterkörper auch notwendig. Die bekannte
kurzzeitige Überhitzung, die zur Entfernung der in der Schmelze gelösten Gase führt, reicht
jedoch nicht aus, um sehr geringe Spuren der genannten Verunreinigungen auszutreiben, zumal bei
den obengenannten Entgasungsverfahren sorg-
309 682/18
fältig eine Wirbelung der Schmelze vermieden werden muß, welche die Verdampfung der Verunreinigungen
beschleunigen könnte:
Die Erfindung hat sich zur Aufgabe gestellt, diese Nachteile zu vermeiden und ist dadurch gekennzeichnet,
daß das Germanium in einem Vakuum unter ι cm Hg, vorzugsweise von io~4 bis
io~5 cm Hg, auf eine Temperatur zwischen 1200
und 15000 C, vorzugsweise etwa 13000 C, erhitzt
wird und dabei die Schmelze umgerührt wird.
Die Erhitzung wird in einem Gefäß aus einem feuerfesten, nicht mit dem Germanium reagierenden
Material, z. B. Kohle, durchgeführt. Durch das Umrühren kommt möglichst viel Material der
Schmelze an die Oberfläche der Schmelze, von wo aus die Verunreinigungen besser abgedampft werden
können. Wird eine Hochfrequenzerhitzung verwendet, so wird das geschmolzene Germanium bereits
infolge des Hochfrequenzfeldes ausreichend in
ao Bewegung gehalten.
Nach der Erfindung ergibt sich ein Germanium, welches nach der Erhitzung bis oberhalb des
Schmelzpunktes in einem schützenden Gasstrom und Überführung in den körnerförmigen Zustand
eine höhere Durchschlagsspannung sowie eine bessere Sperrcharakteristik aufweist.
Zum Beispiel wird 50 g Germanium in einem Kohlebecher von 3 cm Durchmesser und 4 cm Höhe
durch Hochfrequenzerhitzung in einem Vakuum von io~5 bis io~4 cm Hg 100 Minuten lang auf
einer Temperatur von 13000 C gehalten. Nachdem
das Material noch einige Minuten lang bei iooo0 C
in einem Strom von Stickstoff mit io°/o Wasserstoff erhitzt und darauf granuliert worden ist,
weist es eine Durchschlagsspannung von 175 bis 300 Volt und bei 100 Volt in der Sperrichtung
einen Sperrstrom von 50 bis 500 Mikroampere auf.
Demgegenüber wird, wenn die Vakuumbehandlung nach der Erfindung nicht angewendet, sondern
nur die weitere Behandlung wie oben angegeben durchgeführt wird, ein Material mit einer Durchschlagsspannung
von 100 bis 150 Volt und einem Sperrstrom von 500 bis 1000 Mikroampere bei
100 Volt in der Sperrichtung erhalten.
Bei der Erhitzung unter den oben angegebenen Verhältnissen wird je Viertelstunde etwa die
Hälfte der ausdampfbaren Verunreinigungen aus der Schmelze entfernt. Bei höherem Gasdruck vollzieht
sich das Ausdampfen wesentlich langsamer, so daß ι cm Hg übersteigende Gasdrucke in der
Praxis nicht mehr verwendbar sind.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH:Verfahren zum Entfernen von Spuren von Verunreinigungen durch feste Stoffe, wie z. B. Arsen, Antimon und Wismut, welche die elektrischen Eigenschaften, insbesondere die Durchschlagsspannung, beeinträchtigen, aus Germanium, dadurch gekennzeichnet, daß das Germanium in einem Vakuum unter 1 cm Hg, vorzugsweise von io~4 bis io~5 cm Hg, auf eine Temperatur zwischen 1200 und 15000 C, vorzugsweise etwa 1300 C, erhitzt wird und dabei die Schmelze umgerührt wird.In Betracht gezogene Druckschriften:
»Zeitschrift für Physik«, Bd. 67 (1931), S. 396; »Fernmeldetechnische Zeitschrift«, 1951, S. 103.I 309 682/18 9.63
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL163975 | 1951-09-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE976458C true DE976458C (de) | 1963-09-12 |
Family
ID=19750532
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEN6063A Expired DE976458C (de) | 1951-09-13 | 1952-09-12 | Verfahren zum Reinigen von Germanium |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
BE (1) | BE514120A (de) |
CH (1) | CH311304A (de) |
DE (1) | DE976458C (de) |
ES (1) | ES205320A1 (de) |
FR (2) | FR1062839A (de) |
GB (1) | GB703606A (de) |
NL (2) | NL163975B (de) |
-
0
- NL NL83988D patent/NL83988C/xx active
- BE BE514120D patent/BE514120A/xx unknown
- NL NL7606796.A patent/NL163975B/xx unknown
-
1952
- 1952-09-09 FR FR1062839D patent/FR1062839A/fr not_active Expired
- 1952-09-10 ES ES0205320A patent/ES205320A1/es not_active Expired
- 1952-09-10 GB GB2272752A patent/GB703606A/en not_active Expired
- 1952-09-11 FR FR1062889D patent/FR1062889A/fr not_active Expired
- 1952-09-11 CH CH311304D patent/CH311304A/de unknown
- 1952-09-12 DE DEN6063A patent/DE976458C/de not_active Expired
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
None * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE514120A (de) | |
FR1062839A (fr) | 1954-04-27 |
CH311304A (de) | 1955-11-30 |
NL163975B (nl) | |
ES205320A1 (es) | 1952-11-01 |
FR1062889A (fr) | 1954-04-28 |
GB703606A (en) | 1954-02-03 |
NL83988C (de) |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69803067T2 (de) | VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON GaN KRISTALLEN MIT HOHEM WIDERSTAND | |
DE1017795B (de) | Verfahren zur Herstellung reinster kristalliner Substanzen, vorzugsweise Halbleitersubstanzen | |
DE1719493A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von drahtfoermigen Koerpern (Haarkristallen) kreisfoermigen Querschnitts,die aus Siliciumcarbid-Einkristallen bestehen,und Gegenstaende aus Siliciumcarbid-Haarkristallen kreisfoermigen Querschnitts | |
DE2654063A1 (de) | Verfahren zum herstellen eines bandes aus polykristallinem halbleitermaterial | |
DE2251031B2 (de) | Verfahren zum entfernen einer saeuregaskomponente aus einem gasstrom | |
DE2122192C3 (de) | Verfahren zur Vorbehandlung von beim Züchten von halbleitenden Kristallen als Einschließungsmittel verwendetem Boroxid | |
DE3332447A1 (de) | Verfahren zur befreiung von siliciumbruchstuecken von verunreinigungen | |
DE112019006305T5 (de) | Verfahren zum produzieren eines einkristallsiliziumingots und siliziumeinkristallzieheinrichtung | |
DE976458C (de) | Verfahren zum Reinigen von Germanium | |
DE2831819C2 (de) | ||
DE1261839B (de) | Verfahren zur Herstellung von Nitriden des Yttriums und der Elemente der Lanthanreihe | |
EP0260424B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von kohlenstoffarmen Silicium | |
DE2533455A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von silizium | |
DE1137091B (de) | Material fuer Schenkel von Thermo- bzw. Peltierelementen | |
DE102019131592A1 (de) | Verfahren zum Aufreinigen von Siliciumcarbid | |
DE102007041803A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von polykristallinen Siliziumstäben und polykristalliner Siliziumstab | |
DD147118A1 (de) | Verfahren zur waermebehandlung von polykristallinem silium | |
DE1276331B (de) | Verfahren zur Herstellung eines homogenen halbleitenden Einkristalls | |
DE69330678T2 (de) | Verfahren zur herstellung von aktivkohle ausgehend von gebrauchten reifen | |
DE2441298C3 (de) | Verfahren zum Herstellen weicher hexagonaler Bornitridkristalle | |
DE3136302C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von U↓3↓O↓8↓-Pulver | |
DE895473C (de) | Verfahren zum Herstellen von elektrisch unsymmetrisch leitenden Systemen | |
DE1090646B (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Edelgasen | |
DE692461C (de) | Verfahren zum Herstellen von aus einem einzigen Kristall oder aus Grosskristallen bestehenden Koerpern aus hochschmelzenden Metallen | |
DE102021103795A1 (de) | Verfahren zum verhindern der kontamination einer grundplatte |