DE966879C - Verfahren zur Reinigung und/oder Abtragung von Halbleitermaterial, insbesondere von Germanium- und Siliziumsubstanz - Google Patents

Verfahren zur Reinigung und/oder Abtragung von Halbleitermaterial, insbesondere von Germanium- und Siliziumsubstanz

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DE966879C
DE966879C DES32280A DES0032280A DE966879C DE 966879 C DE966879 C DE 966879C DE S32280 A DES32280 A DE S32280A DE S0032280 A DES0032280 A DE S0032280A DE 966879 C DE966879 C DE 966879C
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Dr Phil Habil Karl Seiler
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