DE879685C

DE879685C - Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Gasen und Daempfen

Info

Publication number: DE879685C
Application number: DESCH8411A
Authority: DE
Inventors: Hanns Hoellerer
Original assignee: Schumachersche Fabrik GmbH and Co KG
Current assignee: Schumachersche Fabrik GmbH and Co KG
Priority date: 1951-12-30
Filing date: 1951-12-30
Publication date: 1953-06-15

Description

Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Gasen und Dämpfen Die Behandlung von Gasen zwecks Entfernung gas- und dampfförmiger, flüssiger und fester Anteile wird nach zahlreichen Methoden durchgeführt.
Im vorliegenden Fall sind Verfahren und Vorrichtungen von Interesse, deren Wirkung mittels poroser Medien von zusammenhängender oder fester Struktur erreicht wird, wie z. B. solcher aus Textilien, hunststoffen, Metallen, silicatischem und kohlenstoffhaltigem Material usw. Die Wirksla,mkeit dieser Medien hängt unter anderem auch von der Beschaffenheit der abzuscheidenden Substanzen al, deren Ansammlung auf der Oberfläche un!d. in den Poren oder Öffnungen die Medien rasch und nachhaltig verstopfen kann. Die Entfernung der Abschneidungen ist umständlich und kostspielig; sie gelingt auch nicht immer in wünschenswertem Maße.
Das nachstehend beschriebene Verfahren und die Vorrichtungen zur Ausübung dies es Verfahrens zur Behandlung von Gasen und Dämpfen verhindern die Verstopfung poröser Medien von zusammenhängender oder fester Struktur und erlauben die Durchführung auch anderer als Reinigungsprozesse. Das Verfahren stellt einen wesentlichen Fortschritt in der Gasreinigungs- und chemischen Technik dar. Erfindungsgemäß leitet man die zu behandelnden Gase und Dämpfe durch eine oder mehrere. poröse Schichten von loser Struktur, welche vorteilhaft mittels eines Gasstromes auf eine poröse Schicht von zusammen- hängender oder fester Struktur aufgebracht wurden.
Die aufgebrachten porösen Schichten loser Struktur dienen der Behandlung von Gasen und Dämpfen, z. B. zum Zweck der Reinigung, der Trocknung, der Neutralisation, der Adsorption oder der Durchführung chemischer Reaktionen; sie schützen die darunterliegende poröse Schicht von zusammenhängender oder fester Struktur vor direkter Reanspruchung.
Die Ablagerung bzw. Haftung der auf ,die Oberfläche der porösen Medien von zusammenhänfender oder fester Struktur zu bringenden bzw. gebrachten losen Massen ist blei waagerechten oder nur wenig geneigten. Flächen, auch bei Betriebsunterbrechungen, gewährleistet, während sie bei schieven oder senkrechten Flächen nur durch einen ausreichenden Strömungsdruck des- Gases aufrechterhalten wird; die angeblasenen Massen fallen unter Umständen schon bei Druckschwankungen ganz oder teilweise ab. Es kann daher in weiterer Ausbildung des Verfahrens notwendig sein, der Schicht von loser Struktur einen Halt in einer der Oberfläche des festen Mediums angepraßten Form zu geben. Die Halte- oder Tragvorrichtung, im folgenden als Haltegerüst bezeichnet, kann aus einem für die lose Masse durchlässigen Drahtgewebe, aus Flachdrahtgestrick oder aus einem lamellenartig, wabenförmig oder sonst zweckmäßig gestalteten Gerüst vorzugsweise aus Metall bestehen. Die Stärke dieses Haltegerüstes hängt von der gewünschten Stärke der Schicht von loser Struktur ab. Das Haltegerüst kann fest mit dem festen Medium verbunden sein; in diesem Fall erfolgt die Entfernung der losen Schicht und der darauf bzw. darin abgelagerten Stoffe durch Rückstoß mit -Gas von der anderen Seite des festen Mediums her. Das. Traggerüst kann aber auch heweglich ausgebildet sein und dann beim Reinigungsvorgang nahe der Oberfläche des festen Mediums hin und her gleiten.
Bei Reinigungsvorgängen beeinträchtigt die sich auf der porösen Schicht von loser Struktur bildende Lage aus den abgeschiedenen festen Anteilen der Gase die mengenmäßige Leistung, wol>ei die lose Schicht als solche noch vollständig intakt sein kann. Es ist daher zweckmäßig, über dem Traggerüst für die losen Mittel einen dessen Form angepaßten und beweglichen Abstreifer anzubringen, mit dem man in gewissen Zeitabständen, auch während dies Betriebes, die gebildete Rückstandsschicht entfernen kann. Dieser Abstreifer stellt eine Verbesserung in der Ausübung des Verfahrens dar.
Zweckmäßig wird man die poröse Schicht von los er Struktur durch Anblasen von losen Massen in pulveriger und körniger Form mit dem zu behandelnden Gas auf die in einem geschlossenen Behälter befindliche poröse Schicht von zusammenhängender oder fester Struktur herstellen. Die lose Schicht kann jedoch auch auf andere Weise, z. B. außerhalb des. Behälters, auf das feste Medium aufgebracht werden, z. B. mit Hand oder mittels Spritzpistole, wobei sie unter Umständen mit Wasser oder anderer Flüssigkeiten angefeuchtet sein kann.
Je nach dem Charakter der durchzuführenden Prozesse können poröse Schichten von los er Struktur der verschiedensten Zusammensetzung auf die porösen Schichten von zusammenhängender oder fester Struktur aufgebracht werden. Zur Zurückhaltung flüssiger und fester Verunreinigungen in Gasströmen eignen sich Schichten aus faserigem Material, wie z. B. Textil- oder Asbestfasern, oder solche aus Sägespänen, Holzmehl, Korbgrieß, Kieselhur, Bleicherde u. dgl. Zum Trocknen von Gasen oder Dämpfen kann z. B.
Calciumoxyd, Calciumchloridgranulat oder Kieselsäure Verwendung finden; zur Entfernung saurer Anteile kann Calciumoxyd oder -carbonat benutzt werden; basisch reagierende Anteile lassen sich mit Schichten aus festen organischen Säuren neutralisieren, geruchlich störende Anteile, wie z. B.
Schwefelwasserstoff, durch Adsorption mit Aktivkohle entfernen. Gegebenenfalls kann die auf die poröse Schicht von zusammenhängender oder fester Struktur aufgebrachte Schicht von loser Struktur aus z. B. Korkgrieß auch mit Wasser, wäßrigen neutralen, sauren oder basischen Lösungen oder organischen Flüssigkeiten befeuchtet sein, um i h re Wirksamkeit zu erhöhen oder einen anderen beabsichtigten Zweck zu erfüllen. Das Verfahren und die Vorrichtungen dazu eignen sich erfindungsgemäß auch zur Durchführung biologischer und chemischer Vorgänge durch die Aufbringung einer oder mehrerer zur Durchführung dieser Vorgänge notwendigen Komponenten, z. B. Kontaktmassen, auf die feste Schicht. Bei allen diesen Vorgängen kann die äußere und innere Oberfläche der festen Schicht mit die Durchführung der Prozesse begümstigenden Substanzen versehen sein.
Gegebenenfalls kann man einzelne Teile der Einrichtung mit einer Kühl- oder Heizeinrichtung versehen.
Ein Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung zur Ausübung des Behandlungsverfahrens ist in der Zeichnung schematisch in einem Längsschnitt dargestellt.
In einem vorzugsweise hohlzylindrischen Gehäuse a mit Einlaß b und Auslaß c und einer Querwand q, welche die Eintrittskammer von der Austrittskammer trennt, ist der einseitig geschlossene Filterkörper d an sich bekannter Art untergebracht. Ihn umgibt mit Zwischenraum ein Haltegerüst e, das den Zutritt der zu behandelnden Gase oder Dämpfe zum Zwischenraum und der darin untergebrachten porösen Schicht f loser Struktur gestattet. Ein beweglicher Abstreifer g erlaubt es von Zeit zu Zeit, auch während des Betriebes, den sich bildenden Rückstand zu entfernen.

Claims

PATENTANSPRÜCHE: 1. Verfahren zur Behandlung vo Gasen und Dämpfen, dadurch gekennzeichnet, daß man die Gase und Dämpfe durch aneinanderliegende Schichten von zusammenhängen der und loser Struktur leitet.
2. Verfahren nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet, daß die porösen Schichten von loser Struktur durch ein Gas auf die porösen Schichten von zusammenhängender oder fester Struktur aufgebracht werden.
3. Vorrichtung zur Ausübung des Verfahrens nach Anspruch I oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß fiir die Schichten loser Struktur ein gegebenenfalls bewegliches Haltergerüst (e) vorgesehen ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Haltegerüst (e) für die porösen Schichten loser Struktur (f) mit einem Abstreifer (g) ausgerüstet ist.
5. Vorrichtung nach Anspruch 3 gekennzeichnet durch Kühl- oder Heizvorrichtungen in unmittelbarer Nähe der porösen Schichten (t, d) des Haltegerüstes (e) oder des Abstreifers (g).