DE847012C - Reinigungsfluessigkeit fuer Tieftemperatur-Apparate - Google Patents
Reinigungsfluessigkeit fuer Tieftemperatur-ApparateInfo
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- DE847012C DE847012C DEP47502A DEP0047502A DE847012C DE 847012 C DE847012 C DE 847012C DE P47502 A DEP47502 A DE P47502A DE P0047502 A DEP0047502 A DE P0047502A DE 847012 C DE847012 C DE 847012C
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J3/00—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
- F25J3/08—Separating gaseous impurities from gases or gaseous mixtures or from liquefied gases or liquefied gaseous mixtures
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Description
Zur Verflüssigung und fraktionierten Zerlegung von Gasgemischen benutzt man an sich bekannte
Gegenst rom wärmeaustauscher, Waschsäulen, Trennsäulen und Fraktionierapparate, in denen die flüssig
5 oder gasförmig isolierten Gasbestandteile ihren Kälteinhalt auf die zu verarbeitenden Gase übertragen.
In dieser Weise wird in großem Umfang Luft und Koksofengas verflüssigt und in Einzelbestandteile
zerlegt. Trotz guter Vorreinigung enthalten die eintretenden Gase stets noch geringe
Mengen von gasförmigen Verunreinigungen, wie Kohlendioxyd, Stickoxyde, Acetylen usw., die sich
bei tiefen Temperaturen von bis zu —i8o° verfestigen
und auf den Wärmeaustauschflächen niederschlagen.
Zur Vermeidung von Verstopfungen müssen diese Niederschläge von Zeit zu Zeit entfernt
werden. Dies kann ■/.. Ii. durch Auftauung der
Verflüssigungs- und Gaszerlegungsapparatur geschehen. Wenn sich z. B. Acetylen oder Stickoxyde
in fester Form auf den Wärmeaustauschflächen niedergeschlagen haben, ist diese Arbeitsweise mit
großen Gefahren verbunden, weil dabei Explosionen eintreten können. Man bevorzugt daher eine Auswaschung
der Wärmeaustausch- bzw. Trennapparate mit Lösungsmitteln, die sowohl einen tiefen Erstarrungspunkt aufweisen als auch geeignete
Chemikalien, wie z.B. Ätznatron, lösen, um die verfestigten Gasbestandteile durch Neutralisation
oder andere Umsetzungen unschädlich zu machen. Wenn man diese Lösungsmittel in kaltem
Zustand in die zu reinigenden Apparate einführt, braucht deren Kälteinhalt nicht verloren gegeben
zu werden. Im allgemeinen fand unter diesem Gesichtspunkt zur Auswaschung von Gasverflüssigungs-
und -trennapparaten eine Mischung von
0O0Zo Methanol und 100Zo Natronlauge Verwendung,
die ihrerseits annähernd 7%) NaOTf enthält. Auch Mischungen von Äthylalkohol und Natronlauge
oder Kalilauge sind für diesen Zweck verwendbar. Der Erstarrungspunkt einer aus 90% Methanol
und 100Zo Natronlauge (7°/oig) bestehenden Mischung
liegt bei ungefähr —ito bis —1150. Bei der Zerlegung
von Koksofengas weisen die Wärmeaustauscher und Trennapparate teilweise Tempenituren
auf. die bei —150° und noch tiefer liegen. Wenn diese Apparate in kaltem Zustande mit einer
Mischung aus 901Vo Methanol und 10% Natronlauge
gefüllt oder gewaschen werden, besteht die Gefahr, daß das Lösungsmittel in der Apparatur
teilweise erstarrt und die verfestigten Gasbestandteile nicht restlos entfernt, so daß nach kurzer
Betriebszeit bereits eine neue Auswaschung erforderlich ist.
Es wurde gefunden, daß diese Schwierigkeiten
nicht auftreten, wenn zur Auswaschung von Apparaten, die sich auf tiefer Temperatur befinden,
alkoholische Alkalilauge benutzt wird, die leichtsiedende Kohlenwasserstoffe enthält. Am besten
verwendet man eine Mischung von annähernd 900Zo -Methanol und 100Zo verdünnter Natronlauge (etwa
711ZoIg). die vorher mit leichtsiedenden Kohlenw
asserstoffen. vorzugsweise mit Gasolkohlenwasserstoffen gesättigt wurde, deren Molekülgröße unterhalb
von C3 liegt. Eine derartige Mischung hat einen Stockpunkt von —1450, so daß bei ihrer
Anwendung die Gefahr vermieden wird, daß das Lösungsmittel innerhalb der ausgewaschenen Tieftemperatur-Apparatur
erstarrt oder zähflüssig wird. Die Anwendung der erfindungsgemäßen Reinigungsflüssigkeit
ist in der Zeichnung am Betriebsschema einer Koksofengas-Zerlegungsanlage näher erläutert.
Das mit —40° eintretende Koksofengas wird in
zwei Gegenstromapparaten durch zurücklaufende Gase bis auf —1500 abgekühlt. Darauf wird der
Äthylengehalt der Gase flüssig abgeschieden. Das abgetrennte Äthylen wird teilweise entspannt und
teilweise in einem besonderen Gegenstromapparat mit flüssigem Stickstoff noch weiter abgekühlt. Das
vom Äthylen befreite Gasgemisch durchströmt noch einen weiteren Gegenstromwärmeaustauscher, bevor
es im Vcrdampfungsgefäß mit angeschlossener Waschsäule rektifiziert wird.
Nach längerer Betriebszeit enthalten sämtliche Wärmeaustauschapparate (Gegenströmer) eine
dünne Schicht von verfestigten Gasbestandteilen. Zur Beseitigung dieser Niederschläge werden die
in Frage kommenden Apparate ohne vorherige Auftauung mit der erfindungsgemäßen Reinigungsflüssigkeit
gefüllt, ohne daß die Gefahr besteht, daß örtliche Verfestigungen oder Verdickungen dieser
Flüssigkeit das weitere Eindringen derselben in alle Apparateteile hindert.
Der Frfolg, der sich durch Anwendung der erfindungsgemäßen
Reinigungsflüssigkeit ergibt, besteht unter anderem darin, daß die behandelten Trennapparate erheblich länger, beispielsweise bis
zu 2000 Betriebsstunden arbeitsfähig sind, während man bisher im allgemeinen nach etwa 1000 Stunden
eine Reinigung vorzunehmen pflegte.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist nicht auf die Reinigung von Gasverflüssigungsanlagen und
-Zerlegungsanlagen beschränkt, sondern in allen Fällen verwendbar, wo eine Mischung von Alkohol
und Alkalilauge keinen ausreichend tiefen Stockpunkt besitzt. Eine Herabsetzung des Stockpunktes
von Alkohol enthaltenden Alkalilaugen besteht beispielsweise auch bei der Durchführung von
chemischen Reaktionen, die eine besonders tiefe Temperatur erfordern.
Mit zunehmendem Gehalt an wäßriger Alkalilauge, insbesondere au Natronlauge erfährt der
Stockpunkt von alkoholischer Alkalilauge eine erhebliche Steigerung. Eine Mischung, die beispielsweise
900Zo Äthylalkohol und 100Zo Kalilauge
(7°Zoig) enthält, erstarrt ■/.. B. bei —1300. Wenn
man diese Mischung mit gasförmigen Kohlenwasserstoffen z. B. mit Methan. Äthan, Tropan
oder den entsprechenden Olefinen oder ihren Mischungen sättigt, erniedrigt sich der Stockpunkt
auf bis zu —1450, so daß eine derartige alkoholische
Kalilauge bei wesentlich tieferen Temperaturen benutzt werden kann, als es bisher
üblich ist.
Ähnliche Verhältnisse gelten auch für I'ropvlalkohol.
Eine Mischung aus (JO0Zo Isopropylalkohol
und io%> Natronlauge (70ZoNaOH enthaltend1) erstarrt bei —T050. Nach dem Sättigen mit Gasol.
d.h. Cj- und ^-Kohlenwasserstoffen lag der Stockpunkt bei — 121°.
Claims (3)
- PAT E N T A N S P R Γ C II E:ι. Reinigungsflüssigkeit für Tieftemperatur-Apparate, insbesondere für Gasverflüssigungsund -Zerlegungsapparate, bestehend aus alkoholischer Alkalilaugt', die leichtsiedende Kohlenwasserstoffe gelöst enthält.
- 2. Reinigungsflüssigkeit nach Anspruch 1. bestehend aus einer leichtsiedenden Kohlenwasserstoffe enthallenden Mischung von annähernd 900Zo Methanol und 10"Zo Natronlauge, die ihrerseits annähernd 7 "Ό Xatriumhydroxvd enthält.
- 3. Reinigungsflüssigkeit nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie mit C1- no und/oder (.^-Kohlenwasserstoffen annähernd gesättigt ist.Hierzu 1 Blatt Zeichnungen509 529 7. 55
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEP47502A DE847012C (de) | 1949-07-01 | 1949-07-01 | Reinigungsfluessigkeit fuer Tieftemperatur-Apparate |
FR1105852D FR1105852A (fr) | 1949-07-01 | 1949-09-02 | Liquide de nettoyage pour appareil à basse température, en partioulier appareils à liquéfier et séparation des gaz |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEP47502A DE847012C (de) | 1949-07-01 | 1949-07-01 | Reinigungsfluessigkeit fuer Tieftemperatur-Apparate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE847012C true DE847012C (de) | 1955-07-25 |
Family
ID=7382438
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEP47502A Expired DE847012C (de) | 1949-07-01 | 1949-07-01 | Reinigungsfluessigkeit fuer Tieftemperatur-Apparate |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE847012C (de) |
FR (1) | FR1105852A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1037488B (de) * | 1955-12-15 | 1958-08-28 | Ruhrchemie Ag | Reinigungsfluessigkeit fuer Tieftemperaturapparate |
-
1949
- 1949-07-01 DE DEP47502A patent/DE847012C/de not_active Expired
- 1949-09-02 FR FR1105852D patent/FR1105852A/fr not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1037488B (de) * | 1955-12-15 | 1958-08-28 | Ruhrchemie Ag | Reinigungsfluessigkeit fuer Tieftemperaturapparate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR1105852A (fr) | 1955-12-08 |
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