DE8325320U1 - Vorrichtung zur erzeugung eines ueberschusses von negativen ionen in geschlossenen raeumen bzw. einem luftstrom - Google Patents

Description

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Vorrichtung zur Erzeugung eines Überschusses von negativen Ionen in geschlossenen Räumen bzw. in einem Luftstrom

Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Überschusses von negativen Ionen in ge schlossenen Räumen bzw. in einem Luftstrom.

Ein Überschuß an negativen Ionen hat viele Vorteile. Die erzeugten Kleinione lagern sich in der Luft sofort an Stäube, Geruchsmoleküle, Wässerdämpf und andere geladenen Teilchen an, bilden Cluster und Aerosole und fallen aus der Luft aus. Sie lagern sich auch an Bakterien und Viren sowie allen Arten von Keimen an und entwickeln hierdurch keimtötende Wirkung. Außer der luftreinigenden Wirkung kann durch die Herstellung eines ständigen Überschusses negativer Ionen der Luftkeimgehalt um 60 bis 85 % reduziert werden.

Durch die fortlaufende Erzeugung negativer Kleinionen in den Räumen, stellt sich auch eine sehr günstige biologische Wirkung ein. Während positiv gelandene Luftionen Im wesentliehen aus geladenen Kohlendioxid bestehen, die das Reiz hormon Serotonin aus dem Gewebe freisetzen, sind negativ geladene Luftionen überwiegend geladener Sauerstoff, der durch Beeinflussung eines Ferments, den Abbau des Serotonins beschleunigt.

Darüber hinaus ist die Schaffung eines ständigen Überschusses negativer Sauerstoffionen zweckmäßig, denn sie können ähnlich einem Katalysator, Sauerstoffmangen, z.B. durch Veränderung barometrischen Drucks, ausgleichen.

Derartige Vorrichtungen zur Erzeugung negativer Ionen sind bekannt. Sie sind z.B. an den Decken angeordnet, um grofl-

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flächig möglichst viel Ionen zu erzeugen. Dabei werden auch Ionisierungsspitzen verwandt, die sich in den Geräten befinden. Bei derartigen Ionisierungsspitzen ist das elektrostatische Feld in der Nähe der Spitze am größten und baut dann langsam ab. Der Raum wird sehr ungleichmässig mit negativen Ionen gefüllt. Es ist auch nicht möglich, in einfacher Weise sich verschieden großenRäumen bzw. sich gewünschten Ionenzahlen pro Kubikzentimeter anzupassen. Man kann z.B. feststellen, daß in 50 cm Abstand von einer Ionisierungssptize 220 000 Ionen pro ecm anfallen, in 100 cm Abstand sind es nur noch 120 000 Ionen pro ecm und bei 150 cm Abstand nur noch 35 000 Ionen pro ecm.

Aufgabe der Erfindung ist es, einen Raum mit einer möglichst gleichmässigen Dichte an Ionen auszustatten. Im übrigen sollen die Einrichtungen billig und leicht herstellbar sein, baukastenartig sich erweitern lassen und im übrigen sehr betriebssicher arbeiten.

Die Lösung der Aufgabe nach der Erfindung besteht darin, daß in einem vom Luftstrom durchsetzten Konvektionsschacht in Luftströmungsrichtung weisende Ionisierungsspitzen angeordnet sind und der Konvektionsschacht innen eine elektrisch hochisolierende und außen eine elektrisch hochleitende Beschichtung aufweist.

Mit dieser Maßnahme wird ein vollkommen neuer Weg beschritten. Will man elektrische Überschläge von Ionisierungsspitzen vermeiden, dann muß in der Nähe dieser Spitzen ein hoher elektrischer Widerstand vorhanden sein, damit ein "Elektronenwind" sich ausbildet. Diese Maßnahme reicht aber noch nicht, denn es müssen Maßnahmen und Vorrichtungen auf der Außenwand so gestaltet werden, daß die Außenwand eine höhere Leitfähigkeit als innen aufweist, damit die Ladung abfließt, denn nur bei entsprechend hoher Ladungsdifferenz zwischen dem U-Profil und dem Ionisations-

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band eine Ionenerzeugung möglich 1st. Die Wirksamkeit dieser Ionenschiene ist dabei vom Elektronenwind abhängig, deshalb ist bei einer besonderen Ausführung die Rückseite mit einem Lochanteil versehen.

Es ergibt sich also, daß durch die Verwendung einer U-Schiene,die innen hoch isoliert und außen hoch leitfähig in Bezug auf elektrische Ströme ausgebildet ist, sich die Aufgabe nach der Erfindung lösen läßt, wenn man auf einem schmalen Kupferband diese Ionisierungsspitzen derart festigt, daß sie in dem sich bildenden "Elektronenwind" oder Konvektionsstrom liegen und dadurch daß Bänder vorhanden sind, der ganze Raum gleichmäßig mit negativen Ionen angefüllt werden kann.

Die weiteren, der Erfindung dienenden, Merkmale sind in den Ansprüchen wiedergegeben.

Die Zeichnung zeigt ein Ausführungsbeispiel der Erfindung. Es gehen aus der Zeichnung der Beschreibung weitere Erfindungsmerkmale hervor.

Figur 1 zeigt im Schnitt ein elektrisch leitendes Band 11; Figur 2 ist die Seitenansicht der Figur 1;

Figur 3 zeigt im Schnitt längs der Linie II-II der Figur 4 das U-Profil gemäß einer bevorzugten Ausführung;

Figur 4 ist die Seitenansicht der Figur 3 längs des Schnittes I-I;

Figur 5 zeigt perspektivisch ein Ausführungsbeispiel der Ionotron-Bandschiene;

Figur 6 zeigt perspektivisch einen Generator zur Erzeugung der negativen Gleichspannung.

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Pigur 7 zeigt schematisch eine andere Möglichkeit um auch bei geschlossenem ü-Profil eine Ionenerzeugung zu erreichen.

In den Figuren ist die Vorrichtung 1 wie Figur 5 und 6 zeigt, gebildet von dem Generator und der ü-förmigen Schiene. Wird durch das U-Profil 14 dieser Schiene ein Luftstrom 2 in Pfeilrichtung geleitet, dann ist in dem so gebildeten Konvektionsschacht 3 eine Luftströmung vorhanden, die unten bei den Bohrungen 22 eintritt und oben durch die Rasteröffnungen 17 dieses U-Profil verlässt.

Die lonisierungsspltzen 4 liegen parallel zu diesem Luftstrom. Sie liegen an negativer Hochspannung 5 die etwa 6000 bis 10000 Volt betragen kann. Innerhalb dieses U-Profiles ist eine hoch isolierende Schicht 6 vorhanden, um Überschläge von den Ionisierungsspitzen zu verhindern. Außen ist das U-Profil mit einer elektrisch hochleitenden Schicht 7 versehen, um ein Abfließen der Ladung zu ermöglichen bzw. um eine entsprechend hohe Ladungsdifferenz zwischen dem U-Profil und dem Ionisonsband herzustellen.

Der Steg 8 des Konvektionsschachtes 3 kann, wenn durch Ventilation ein Luftstrom erzeugt wird, geschlossen sein, oder aber wie beim Ausführungsbeispiel mit Löchern 22 versehen sein, die im Abstand 23 voneinander angeordnet sind. Die offene Seite 9 des Konvektionsschachtes 3, der im Amsführungsbeispiel von einem U-Profil 14 gebildet ist, Ast durch elektrisch hoch isolierende Raster 10 abgedeckt. Die Abdeckung der Ionenband-Schiene muß zur Vermeidung der Ablenkung des Ionenstromes mit einem nicht leitfähigen, den Luftstrom nicht einengenden Raster erfolgen.

Wie die Figuren 3 und 4 erkennen lassen, ist sin Band 11, im AusfUhrungsbeispiel aus Kupfer bestehend, zwischen den Abschlußdeckeln 12 und 13 mittels Spannbacken 15 gespannt. Auf diesem Band sind z.B. durch gut leitende Schweißung die lonisierungsspltzen 4 befestigt, deren freie Länge 19, wie die Figur 4 zeigt, das Band überragt, damit sich eine

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entsprechende Ionisierungsspitze ausbildet, über extra Buchsen 16 wird dann dem Band und damit den lonenspitzen die negative Gleichspannung z.B* in der Mitte zugeführt, wobei diese Buchsen gleichzeitig durch entsprechendes Einstecken von Stäben der Verbindung der Schienen miteinander sowohl mechanisch als auch elektrisch dienen können.

Außen, auf der elektrisch gut leitenden Seite, ist ein Gegenpol 18 angebracht, der dann mit dem Pluspol der gleichstromerzeugenden Hochspannungsquelle verbunden ist. Der Abstand 20 der Spitzen ist so gewählt, daß entsprechend der aufgewandten Spannung ein möglichst gleichmäßiger lonenstrom aus den Rasteröffnungen austritt. Die Höhe des Bandes ist so gewählt, daß eine ausreichend mechanische Befestigung der Ionisierungsspitzen möglich ist und beim Verspannen eine ausreichende Stabilität erreicht wird.

Figur 6 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer derartigen Spannungsquelle. Dabei ist dem Regelknopf 24 die Spannung einstellbar.

Insbesondere ist darauf hinzuweisen, daß wie die Figur zeigt, auch durch Sogwirkung z.B. durch vorbeistreichende Luft in Pfeilrichtung 27 Sogwirkung am offenen Ende 28 in Pfeilrichtung 26 erfolgt. In diesem Fall ist das U-Profil 25 geschlossen. Wesentlich ist immer nur, daß an den Nadelspitzen sich Luft in Pfeilrichtung 26 vorbeibewegt, wie das im einzelnen erreicht wird, ist in Bezug auf die Erfindung nebensächlich.

Als Anwendungsgebiet der Erfindung sind alle Möglichkeiten zu bezeichnen, um Ionisierungsspitzen in einem Konvektionskanal sicher und wirtschaftlich befestigen zu können, wobei dieser Konvektionskanal neben der Erzeugung eines Luftstromes gleichzeitig der Erzeugung eines Elektronenwindes dient.

Claims (1)

1. PATENTANWÄLTE I . .". '.

   DR.-ING. G. RIEBLING DR.-ING. P. RIEBLING

   Dipl.-Ing., Ing. (grad.) Dipl.-Ing.

   Zugelassene Vertreter beim Europaischen Patentamt

   Professional Representatives before European Patent Office

   Mandataires agrees pres !'Office europäen des brevets

   Mein Zeichen

   G 1064-31ku

   Bitte in der Antwort wiederholen

   FACSiaiLE/TELECOPIEB

   POST LINDAU

   (03382) 24244

   Group 1&2

   -J

   Hi» Nachricht vom D-8990 Lindau (Bodensee)

   Rennerle 10 - Pastfach 316C

   11. November 1983 amtl.A.Z.: G 83 25 320.3
   Anmelder: Gesellschaft für Ionentechnik mbH,

   Wilhelm-Haspel-Str. 63, 7032 Sindelfingen

   Schutzansprüche

   1. Vorrichtung zur Erzeugung eines Überschusses von negativen Ionen in geschlossenen Räumen bzw. in einem Luftstrom, dadurch gekenn zeichnet, daß in einem vom Luftstrom (2) durchsetzten Konvektionsschacht (3) in Luftströmungsrichtung (2) weisende Ionisierungsspitzen (4) angeordnet sind und der Konvektionsschacht innen eine elektrisch hochisolierende (6) und außen eine elektrisch hochleitende (7) Beschichtung (6,7) aufweist.

   2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der Konvektionsschacht (3) ein U- bzw. Trapezprofil (14) ist, dessen Steg (8) mit einem Lochanteil von mindestens 20% perforiert und dessen offene Seite durch eivi elektrisch hochisolierendes Raster (10) abgeschlossen ist.

   3. Vorrichtung nach Anspruch 1,dadurch gekennzeichnet, daß die Ionisierungsspitzen (4)

   Fernsprecher: Fernschreiber: TelegramrrAdresse: Bankkonten: Postscheckkonto

   Lindau (08382) 054374(pat-d> ' tiqlri-nrfojau, · ·. ;■·· " '^avirfVeredrabank Lindau (B) Nr. 120857B(BLZ 73520074) München 29525-809

   ' ■ · Hypo-Bint Lindau (B) Nr. 6670-278920 (BLZ 73520642)

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   auf einem elektrisch hochleitendem, z.B. metallischen schmalen Band (11), elektrisch gut leitend senkrecht zur Bandlänge und das Band überragend befestigt sind.

   4.Vorrichtung nach Ansprüchen 1 -3, dadurch gekennzeichnet , daß das Band (11) ein Kupferband ist, welches im Abstand von den Wänden des U-Profiles (14) und des Rasters (10) isolierend im Ü-Profil parallel zu dessen Seitenflächen gespannt ist, wobei die Ionisierungsspitzen (4) auf die Rasteröffnungen (17) weisen.

   5. Vorrichtung nach Ansprüchen 1 -4, dadurch gekennzeichnet , daß die Stirnseiten des U-Profiles (14) Abschlußdeckel (12,13) aufweisen, welche die isolierenden Spannbacken für das Band (11) und die isolierende Spannungszuführung für das Band aufnehmen.

   6. Vorrichtung nach Ansprüchen 1 -5, dadurch gekennzeichnet , daß die isolierende Spannungszuführung von Buchsen (16) gebildet ist, die gleichzeitig als Steckverbindung für das Aneinanderreihen weiterer U-Profiie (14) ausgebildet sind.

   7. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Ionisierungsspitzen (4) nach der Rasteröffnung (17) hinweisen.

   8. Vorrichtung nach Ansprüchen 1-7, dadurch gekennzeichnet, daß der Gegenpol (18) an der elektrisch leitenden Fläche (7) des U-Profiles (14) liegt.

   9. Vorrichtung nach Ansprüchen 1-8, dadurch gekennzeichnet, daß das U-Profil (14)

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   elektrisch gut leitend, z.B. aus Aluminium ,ist und innen eine elektrisch hochisolierende Beschichtung (6) aufweist.

   10. Vorrichtung nach Ansprüchen 1 -8, dadurch gekennzeichnet , daß das ü-Profil (14) elektrisch gut isolierend , z.B. ein Kunststoffmaterial,ist und außen eine elektrisch gut leitende, z.B. aufgedampfte , Beschichtung aus Aluminium oder ähnlichem besitzt.

   11. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der Konvektionsschacht (3) einen geschlossenen Steg (8) aufweist.

   12. Vorrichtung nach Anspruch 1/ dadurch gekennzeichnet , daß die freie Länge (19) der Ionisierungsspit"en (4) ca. 6 bis 12 mm und der Abstand (20) voneinander ca. 110 bis 150 mm beträgt.

   13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet , daß die Höhe (21) des ca. 0,6 bis 1,2 mm starken Bandes (11) ca. 6 bis 10 mm beträgt.

   14. Vorrichtung nach Ansprüchen 1 - 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Lochdurchmesser (22) der Perforierung im Steg (8) ca. 6 bis 9 mm beträgt und der Abstand (23) der Löcher (22) ca. 18 bis 22 mm ist.

   15. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Rasteröffnungen (17) quadratisch mit einer lichten Öffnung von ca. 13 χ 13 mm ist.

   16. Vorrichtung nach Ansprüchen 1 - 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Befestigung der

   gegenüberliegenden Abschlußdeckel (12,13) mit dom U-Profil (14) kraftschlüssig durch den Spannungszug des Bandes (11) erfolgt.

   17. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der Konvektionsschacht (3) ein geschlossenes ü-Profil (25) aufweist.