DE813913C - Vakuumgefaess aus Metall - Google Patents

Vakuumgefaess aus Metall

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DE813913C
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DEZ85A
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Rudolf Dr Koops
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ZEISS OPTON
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ZEISS OPTON
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D3/00Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
    • B01D3/10Vacuum distillation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/006Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor

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Description

  • Vakuumgefäße aus Metall haben gegenüber solchen aus Glas den Vorteil geringerer Empfindlichkeit gegen Schlag oder Stoß und gegen Temperaturunterschiede. Außerdem können Metallgefäße in wesentlich größeren Abmessungen als Glasgefäße hergestellt werden. Die Metallgefäße besitzen jedoch insofern Nachteile, als ihre Oberfläche, selbst wenn sie mechanisch geschliffen und poliert ist, im Gegensatz zu Glas in ihre Mikrostruktur immer noch so rauh und porig ist, daß sie in hohem Maße Gase und andere Stoffe absorbiert und adsorbiert. Dadurch wird der Pumpvorgang erheblich verlängert, und zwar meistens in unkontrollierbarer Weise.
  • Die Erfindung betrifft ein Vakuumgefäß aus Metalls bei dem die Absorption von Fremdstoffen an der Innenwandung durch Verringerung der Mikrooberfläche weitgehend vermieden ist und die Pumpzeiten somit erheblich herabgesetzt werden içönnen. Das wird erfindungsgemäß dadurch erreicht, daß die Innenflächen des Vakuumgefäßes elektrolytisch poliert werden.
  • Die elektrolytische Politur, die in bekannter Weise durch anodische Behandlung des Metalles erfolgt, besteht im wesentlichen darin, daß alle Zacken und Spitzen der Metalloberfläche so weit abgetragen werden, bis das reine Kristallgitter freigelegt ist.
  • Im Gegensatz zur mechanischen Politur, bei der eine verschmierte Kristallfläche von relativ grober Mikrostruktur entsteht, die zudem durch Korrosion noch weiter aufgerauht wird, sind elektrolytisch polierte Oberflächen im wesentlichen so glatt wie Glasoberflächen. Auch ihre Beständigkeit gegen Korrosion ist die bestmögliche, die bei dem verwendeten Material überhaupt zu erhalten ist.
  • Als Material für die Gefäße können die bekannten Metalle in Frage kommen. Vorteilhaft sind korrosionsbeständige Stähle, insbesondere V 2 A-Stahl.
  • Die Erfindung kann mit Vorteil überall da Verwendung finden, wo große Metallgefäße als Vakuumgefäße vorhanden sind und diese gegebenenfalls auch häufig wieder mit Luft gefüllt und dann wieder ausgepumpt werden müssen. Dieses Problem liegt zum Beispiel bei Aufdampfapparaten vor, bei denen irgendwelche Teile im Hochvakuum mit einem metallischen oder unmetallischen Belag versehen werden sollen. Auch in der Elektronik, insbesondere bei Elektronenmikroskopen, kann die Erfindung von Bedeutung sein.
  • In der Zeichnung ist eine Aufdampfapparatur mit einem Vakuumgefäß aus Metall nach der Erfindung als Ausführungsbeispiel schematisch und im Schnitt -dargestellt.
  • Ein metallischer Rezipient I, z. B. aus V2 A-Stahl, ist unter Zwischenfügung einer Vakuumdichtung auf eine metallische Grundplatte 2 aufgesetzt.
  • Die Evakuierung erfolgt über die ebenfalls metalllische, vakuumdicht angeschweißte Rohrleitung 3.
  • Im Vakuumgefäß auf der Grundplatte 2 befestigt befindet sich der Trägerkörper 4, der zur Aufnahme der zu bedampfenden Teile, z. B. der Glaslinsen 5, dient. Die zu verdampfende Substanz befindet sich in der Schale 6, die nach der Evakuierung des Gefäßes durch Stromzufuhr über die Anschlüsse 7 elektrisch zum Glühen gebracht wird. Die Pumpzeit ist abhängig von den im Gefäß vorhandenen und an den inneren Oberflächen haftenden Gasen und Dämp fen. Die Innenflächen des Rezipienten I, der Grundplatte 2 und der Rohrleitung 3, sowie gegebenenfalls auch die Oberflächen anderer Metallteile im Gefäß, also z. B. des Trägerkörpers 4, sind erfindungsgemäß elektrolytisch poliert, so daß ihre Okklusionsfähigkeit für Gase und Dämpfe weitgehend herabgesetzt ist.
  • PATENTANSPROCHE: I. Vakuumgefäß aus Metall, dadurch gekennzeichnet, daß seine Innenflächen elektrolytisch poliert sind.

Claims (1)

  1. 2. Vakuumgefäß nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet, daß es aus rostfreiem Stahl besteht.
DEZ85A 1949-11-05 1949-11-05 Vakuumgefaess aus Metall Expired DE813913C (de)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2123782A5 (en) * 1971-02-01 1972-09-15 Delalande Sa Vacuum drying chamber - permits constant observation of chemical samples during drying process
EP0467392A1 (de) * 1990-07-20 1992-01-22 Kabushiki Kaisha Toshiba CVD-Anlage und Verfahren zum Herstellen geglühter Filme

Cited By (3)

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EP0467392A1 (de) * 1990-07-20 1992-01-22 Kabushiki Kaisha Toshiba CVD-Anlage und Verfahren zum Herstellen geglühter Filme
US5589421A (en) * 1990-07-20 1996-12-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of manufacturing annealed films

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