DE7707767U1 - Halterung fuer substratplaettchen - Google Patents

Halterung fuer substratplaettchen

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    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders

Description

BALZERS HOCHVAKUUM GMBH," Stemenssträsse 11, 6200 Wiesbaden-Noraenstadt ■
Halterung für Substratplättchen
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Halterung für Substratplättchen (engl. wafer), vorzugsweise für die Behandlung in einer Vakuumbedampfungsanlage. An solche Halterungen werden verschiedene Anforderungen gestellt. Sie sollen betriebss'ivzr sein und aus wenigen einzelnen Bauteilen bestehen. Innige d?r beim Betrieb unvermeidlich eintretenden Verschmutzung dt nämlich eine regelmässige Reinigung erforderlich und die damit verbundene Arbeit ist umso grosser, aus je mehr einzelnen Teilen die Halterung besteht (Zerlegung, Wiederzusammenbau, Reinigung der Einzelteile).
Weiter sollen die Halterungen so konstruiert sein, dass das Einlegen der Plättchen vor der Behandlung und das Wiederherausnehmen nach der Behandlung nicht nur von Hand sondern auch mit automatischen Ladevorrichtungen bewerkstelligt werden kann. Die Be-
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Schickung von Hand ist nicht nur langsamer sondern hat den Nachteil, dass die Plättchen, wenn sie z.B. mit Pinzetten am Rand angefasst werden, leicht beschädigt werden können. Bei automatischen Beschickungseinrichtungen dagegen lässt sich dies weitgehend vermeiden und damit die Ausschussquote niedriger halten.
Die vorliegende Erfindung hat sich zur Aufgabe gestellt, eine Haltevorrichtung für Substratplättchen ju schaffen, welche mit einer geringen Zahl von Handgriffen das Einsetzen eines Plättchens in die Halterung und das Wiederherausnehmen ermöglicht, eine grosse Haltesicherheit auch bei grösseren Abmessungen der Plättchen bietet und sich besonders für die Anwendung in Verbindung mit automatischen Beschickungs- und Entnahmevorrichtungen eignet.
Diese erfindungsgemässe Halterung für Substratplättchen besteht aus einer Grundplatte mit einem in einer Oeffnung der Grundplatte drehbaren Haltering mit einer Schulter für die Auflage-des zu behandelnden Plättchens und ist dadurch gekennzeichnet, dass der Haltering mehrere parallel zur Ringebene verlaufende Schlitze aufweist, denen Je ein am äusseren Umfang des Halterings an der Grundplatte befestigter, durch den Schlitz hindurchragender und das zu haltende Plättchen übergreifender Haltestab zugeordnet ist.
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In einer besonderen Ausführungsform werden am Umfang des Halteringes 4 Schlitze mit zugeordneten Haltestäben vorgesehen, wobei die Haltestäbe durch die Enden von V-förmigen Federn gebildet werden. Dieses Ausführungsbeispiel wird nachfolgend an Hand der anliegenden Zeichnung näher beschrieben.
Die Figur 1 zeigt einen Radialschnitt durch die Haltevorrichtung, die Figur 2 eine Ansicht von oben,
die Figur 3 einen Schnitt nach der Linie AA der Figur 2 und die Figur 4 einen Schnitt nach der Linie BB von Figur 1.
In den Figuren 1, 2 und 3 ist die Haltevorrichtung mit eingelegtem Substratplättchen in geschlossenem, in Figur 4 dagegen in offenem Zustand dargestellt. 1 bezeichnet die Grundplatte, deren Grosse und Form der jeweiligen Einspannvorrichtung der Anlage, in der die Behandlung der Plättchen durchgeführt werden soll, angepasst ist. Bei Vakuumaufdampfanlagen z.B. kann die Grundplatte die Form einer Kalotte aufweisen, die der Dampfquelle gegenüber angeordnet ist. Die Grundplatte besitzt eine oder mehrere Oeffnungen 2 für die Aufnahme drehbarer Halteringe 3· Die Halteringe weisen ihrerseits eine ringförmige Schulter 4 für die Auflage der zu halternden Plättchen 5 auf. Der im Ausführungsbeispiel gezeigte Ring ist mit vier parallel zur Ringebene verlaufenden Schlitzen 6 versehen, wobei jedem
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der Schi ,ze ein Haltestab "( zugeordnet ist. Die Hsltestäbe sind ausserhalb des Ringes 3 an der Grundplatte bei 8 befestigt unj ragen in Schliessposition der Halterung durch die Schlitze 6 hindurch in den Innenraum des Ringes hinein, wobei sie das zu halternde Plättchen übergreifen, wie aus den Figuren 1 bis 3 zu ersehen ist.
Dieses Hineinragen ist jedoch nur bei einer bestimmten Position des drehbaren Halteringes möglich. In dieser wird ein eingelegtes Substratplättchen durch die übergreifenden Stäbe festgehalten, die Halterung ist dann geschlossen. Wird der Haltering aus dieser Schliessposition heraus um einen bestimmten Winkel verdreht, dann werden dadurch die Haltestäbe mehr oder weniger nach aussen gedruckt, wie die Figur 4 erkennen lässt, bis sie das Substratplättchen nicht mehr übergreifen; der Verschluss ist dann geöffnet und das Plättchen kann aus der Halterung herausgenommen werden.
Die beschriebene Einrichtung eignet sich insbesondere für die Br Schickung mittels automatischer Ladevorrichtungen, weil das Schliessen und Oeffnen mit einem definierten Drehwinkel betriebssicher bewerkstelligt werden kann. Es ist dann auch zweckmässig, den Haltering als Kupplungselement für die Uebertragung einer Drehbewegung von der Ladevorrichtung auf den Haltering zum Zwecke des Schliessens und Oeffnens auszubilden. Im einfachsten Falle genügt hiefür eine
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konische Andrehung, wie sie in Figur 1 gezeigt ist. Auch könnte der Rand des Ringes zu diesem Zweck mit einem Zahnkranz als Kupplungselement versehen werden.
In der Figur 1 ist mit 9 das Dispenserrohr einer Ladevorrichtung angedeutet,, welches nach Aufsetzen auf den konischen Rand des Laderinges 3 ein Substratplättchen an diesen abgibt, wobei dann durch Drehen um einen festen Winkel die zuvor offene Haltevorrichtung geschlossen wird. Beim Entladen erfolgt derselbe Vorgang in umgekehrter Weise.
Bei dem Ausführungsbeispiel dienen die Haltestäbe gleichzeitig noch dazu, den Haltering an der Grundplatte festzuhalten. Zu diesem Zweck sind sie relativ zum Haltering so angeordnet,dass zwei der Haltestäbe auch in geöffnetem Zustand nur soviel nach aussen gespreizt sind, dass sie zwar das Substratplättchen nicht mehr übergreifen, wohl aber noch im Eingriff mit den ihnen zugeordneten Schlitzen bleiben. Diese beiden Haltestäbe - in Figur 4 mit 7' bezeichnet - klemmen dann auch in geöffnetem Zustand den Haltering, der an seiner anderen Seite 3' wie ein Flansch ausgebildet ist, an der Grundplatte fest.
Die Erfindung ist nicht natürlich auf die Halterung kreisförmiger Substratplättchen beschränkt. Der Innenraum des Rin<?e~ 3 und die Schulter 4 können auch anderen Formen von Substratplättchen ange-
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passt werden (z.B. quadratischen Plättchen), solange nur die Haltestäbe und Schlitze so angebracht werden können, dass sie das Plättchen im Schliesszustand der Haltevorrichtung übergreifen.

Claims (1)

  1. SCHUTZANSPRUECHE
    1. Halterung für Substratplätcchen bestehend aus einer Grundplatte mit einem in einer Oeffnung der Grundplatte drehbaren Haltering mit einer Schulter für die Auflage des zu behandelnden Plättchens, dadurch gekennzeichnet, dass der Haltering mehrere parallel zur Ringebene verlaufende Schlitze aufweist, denen je ein am äusseren Umfang des Halteringes an der Grundplatte befestigter, durch den Schlitz hindurchragender und das zu haltende Plättchen übergreifender Haltestab zugeordnet ist und dass der Haltering gleichzeitig als Betätigungseinrichtung für die Haltestäbe ausgebildet ist.
    2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennz eichret, dass die Haltestäbe durch die Enden von V-förmigen Federn gebildet sind.
    J). Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Haltering als Kupplungselement für eine Drehbewegung ausgebildet ist.
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    4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzei chnet, dass die Grundplatte eine Mehrzahl von üeffnungen mit Halteringen besitzt.
    5· Vorrichtung nach Anspruch h, dadurch gekenn zeichnet, dass die Grundplatte als Kalotte einer Auf dampfanlage ausgebildet ist.
    PR 7766
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DE7707767U 1977-03-14 1977-03-14 Halterung fuer substratplaettchen Expired DE7707767U1 (de)

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CH237578A CH631638A5 (de) 1977-03-14 1978-03-06 Halterungsvorrichtung fuer substratplaettchen.
GB9912/78A GB1562273A (en) 1977-03-14 1978-03-13 Holders for wafers
FR7807091A FR2384151A1 (fr) 1977-03-14 1978-03-13 Dispositif de fixation pour plaquettes de substrat
US05/886,353 US4182265A (en) 1977-03-14 1978-03-14 Wafer support

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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3028536C2 (de) * 1980-07-28 1983-01-05 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Vorrichtung zur Halterung von kreisförmigen Substratscheiben und ihre Verwendung
US5074736A (en) * 1988-12-20 1991-12-24 Texas Instruments Incorporated Semiconductor wafer carrier design
DE4116392C2 (de) * 1991-05-18 2001-05-03 Micronas Gmbh Halterung zur einseitigen Naßätzung von Halbleiterscheiben
US5259579A (en) * 1992-04-08 1993-11-09 Prince Corporation Container holder for a vehicle
DE4232902C2 (de) * 1992-09-30 2001-06-28 Leybold Ag Substrathalter
US5799913A (en) * 1996-03-26 1998-09-01 Preston, Sr.; Frederick Byron Beverage holding and locking device
US6041938A (en) * 1996-08-29 2000-03-28 Scp Global Technologies Compliant process cassette
US5840124A (en) * 1997-06-30 1998-11-24 Emcore Corporation Wafer carrier with flexible wafer flat holder
DE10044419C1 (de) * 2000-09-08 2002-05-02 Infineon Technologies Ag Abschattungsring für Plasmabeschichtungsanlagen und dessen Verwendung
US6848458B1 (en) 2002-02-05 2005-02-01 Novellus Systems, Inc. Apparatus and methods for processing semiconductor substrates using supercritical fluids
US6885206B2 (en) * 2003-02-11 2005-04-26 Strasbaugh Device for supporting thin semiconductor wafers
DE10355679B4 (de) * 2003-11-28 2008-08-14 Singulus Technologies Ag Substratträger, Vorrichtung und Verfahren zum Handhaben des Substratträgers und Verwendung in Beschichtungsprozessen
CN103934171B (zh) * 2013-12-31 2016-06-01 浙江吉利控股集团有限公司 一种打胶台

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3675624A (en) * 1970-08-06 1972-07-11 Singer Co Apparatus for rotating work for thin film deposition
US3699917A (en) * 1970-10-02 1972-10-24 Cogar Corp Vapor deposition apparatus
US3918756A (en) * 1973-12-26 1975-11-11 Fluoroware Inc Wafer holder
US4096023A (en) * 1976-05-06 1978-06-20 Bivens Carl F Lens sealing clamp
SE7710800L (sv) * 1976-10-05 1978-04-06 Western Electric Co Forfarande for astadkommande av ett epitaxiellt skikt pa ett substrat
US4068814A (en) * 1976-10-18 1978-01-17 General Electric Company Semiconductor body holder

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Publication number Publication date
FR2384151A1 (fr) 1978-10-13
US4182265A (en) 1980-01-08
CH631638A5 (de) 1982-08-31
FR2384151B1 (de) 1983-11-18
GB1562273A (en) 1980-03-12

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